DE69505352T2 - Verfahren zum herstellen von optischen isolatoren - Google Patents

Verfahren zum herstellen von optischen isolatoren

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Description

    Technisches Gebiet
  • Diese Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren des Herstellens eines optischen Isolators, der zur Benutzung in optischer Kommunikation, optischer Messung und ähnlichem dient und der den Faradayeffekt benutzt, und insbesondere auf ein Verfahren des Herstellens eines optischen Isolators, der hervorragend in der Umweltwiderstandsfähigkeit ist.
  • Hintergrundtechnik
  • Kürzlich sind ein optisches Kommunikationssystem, das einen Halbleiterlaser als Lichtquelle benutzt, und ein optisches Gerät, das einen Halbleiterlaser verwendet, weitverbreitet benutzt worden und mehr und mehr im Umfang und im Maße der Anwendungen ausgedehnt worden.
  • Zum Verbessern der Genauigkeit und der Stabilität des optischen Kommunikationssystemes und des optischen Gerätes des Types, wie er beschrieben wurde, wird ein optischer Isolator für den Zweck des Entfernens eines zurückkehrenden Lichtes zu dem Halbleiterlaser benutzt.
  • Der optische Isolator weist optische Elemente einschließlich eines Polarisators, eines Analysators und eines Faradayrotators, eines Permanentmagnetes zum Erzeugen eines Magnetfeldes auf.
  • Ein organischer Klebstoff ist bei einem herkömmlichen Verfahren zum Befestigen und Ankleben eines jeden optischen Elementes an dem Halter benutzt worden. Der organische Klebstoff ist jedoch schlecht in der Langzeitstabilität der Klebekraft und wird in der Eigenschaft insbesondere aufgrund der Änderung der Umweltbedingung wie die Temperatur und die Feuchtigkeit verschlechtert.
  • Im Hinblick auf das obige ist für den optischen Isolator, der z. B. in einem optischen Kommunikationszwischenverstärker benutzt wird, von dem verlangt wird, daß er eine hohe Zuverlässigkeit über eine lange Zeitdauer aufweist, vorgeschlagen worden, den optischen Isolator durch Benutzung eines Metallschmelzverbindungsverfahrens anstelle des herkömmlichen Befestigungsverfahrens und der Benutzung des organischen Klebstoffes herzustellen.
  • Das Ankleb- und Befestigungsverfahren, das das Metallschmelzverbindungsverfahren benutzt, ist eine Technologie, die in den praktischen Gebrauch gebracht wurde und in weiten Anwendungen wie bei Gasturbinenblättern, einem Vakuumfenster eines Magnetrons oder einer Mikrowellenelektronenröhre und einer Ausbreitungssenderröhre hoher Leistung und hoher Frequenz benutzt wird. Bei dem optischen Isolator wird auf mindestens einem Umfangsbereich mit Ausnahme eines Lichtdurchlaßabschnittes der optischen Elemente eine metallisierte Schicht zur Befestigung durch Metallschmelzverbinden gebildet. Der Halter und jedes optische Element werden miteinander durch Löten verbunden.
  • Jene Materialien, die beim Bilden der metallisierten Schicht benutzt werden, sind in Abhängigkeit von Materialien unterschiedlich, die anzukleben sind. Damit allgemein eine Klebekraft sichergestellt wird, wird eine Schicht, die aus Cr, Ta, W, Ti, Mo, Ni oder Pt besteht, oder eine Schicht, die aus einer Legierung besteht, die mindestens eines der oben erwähnten Metalle enthält, als eine unterliegende Schicht gebildet. Au, Ni, Pt oder ähnliches wird als oberste Schicht benutzt. Eine Zwischenschicht aus Ni oder Pt kann zwischen der unterliegenden Schicht und der obersten Schicht gebildet sein.
  • Als Schmelzverbindungsmetall wird Benutzung gemacht von Lötmaterialien wie Au-Sn-Legierung, Pb-Sn-Legierung und Au-Ge-Legierung oder verschiedene Arten von Hartlötmaterialien. Unter jenen wird die Au-Sn-Legierung als Lötmaterial mit einer hohen Klebestärke und einer relativ niedrigen Schmelztemperatur zur Benutzung bei der Befestigung durch Metallschmelzverbinden bevorzugt, da sie hervorragend in der Klebestärke und der Arbeitseffektivität ist.
  • Als Verfahren zum Bilden der oben erwähnten metallisierten Schicht sind ein Naßvorgang durch Plattieren und ein Trockenvorgang durch Vakuumabscheiden oder Sputtern bekannt. Unter jenen wird der Trockenvorgang oft benutzt zum Verhindern des Auftretens von Fehlern, und daß Staub auf einer optischen Oberfläche des optischen Elementes oder eines Antireflektionsfilmes anhaftet.
  • Wenn jedoch ein metallisierter Film durch Vakuumabscheiden oder Sputtern gebildet wird, gibt es ein ernstes Problem bei der Massenfertigung. Das herkömmliche Metallisierungsverfahren weist Schritte des Bildens des Antireflektionsfilmes auf der Oberfläche eines Blockes optischen Materiales, des Schneidens desselben in Stücke mit einer Größe eines einzelnen optischen Elementes; des Maskieren eines Lichtdurchlaßabschnittes des optischen Elementes 5 durch die Metallmaske 7 so, daß der metallisierte Film nur auf unmaskierten Abschnitten gebildet wird, wie in Fig. 1 gezeigt ist, auf, wobei das optische Element 5 und eine Metallmaske 7 gegenseitig durch einen Substrathalter 6 und eine Vorrichtung 8 fixiert sind, und weiter mit dem Ausführen des Trockenvorganges derart, wie das Vakuumabscheiden oder das Sputtern zum Herstellen des metallisierten Filmes.
  • Bei der oben erwähnten Tätigkeit wird, da die optischen Elemente gesäubert werden müssen und einzeln in die Vorrichtung gesetzt werden müssen, viel Arbeitskraft dafür benötigt, und somit ist es schwierig, eine große Zahl von optischen Elementen zu metallisieren.
  • Zum Verbessern der Massenherstellung wird nach dem Bilden des Antireflektionsfilmes (nicht gezeigt) auf dem Block optischen Materiales 1 mit einer Größe derart, daß einige zehn der optischen Elemente 5 getrennt werden können, der metallisierte Film 3 gebildet, wie in Fig. 2 gezeigt ist, und danach wird der Block optischen Materiales entlang der Linien geschnitten, die durch die gestrichelte Linie in der Figur bezeichnet sind. Nur ein optisches Element nach der Teilung ist in der Figur dargestellt. Es sind jedoch viele Produkte ohne ausreichende Klebestärke hergestellt worden, bei denen die Klebeabschnitte sich oft nach dem Schneiden oder nach dem Löten lösen. Dieses resultiert in einer niedrigen Ausbeute, und es ist daher unmöglich, die Verbesserung der Massenherstellung zu erzielen.
  • Es ist daher eine Aufgabe dieser Erfindung, einen hochzuverlässigen optischen Isolator vorzusehen, der mit Massenmetallisierung und hochzuverlässigem Löten ausgeführt werden kann und der für Massenherstellung ausgelegt ist.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Diese Ausgabe wird gelöst durch ein Verfahren des Herstellens eines optischen Isolators mit den Merkmalen des Anspruches.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen:
  • Fig. 1(a) und (b) sind eine perspektivische Ansicht und eine Schnittansicht zur Benutzung bei der Beschreibung eines Umrisses eines herkömmlichen Metallisierungsverfahren;
  • Fig. 2 ist eine Ansicht, die einen Umriß eines älteren Verfahrens des Herstellens eines optischen Elementes darstellt;
  • Fig. 3(a) und (b) sind eine Schnittansicht und eine Draufsicht zur Benutzung bei der schematischen Beschreibung eines Ablösezustandes nach Löten;
  • Fig. 4(a) bis (d) sind Ansichten, die Umrisse von Vorgängen gemäß einer Ausführungsform dieser Erfindung darstellen; (a) stellt einen Zustand eines Blockes optischen Materiales dar, bei dem Linienrillen gebildet sind, (b) stellt einen anderen Zustand dar, bei dem metallisierte Filme gebildet sind, (c) stellt einen Schneidezustand dar und (d) zeigt Schnittansichten der optischen Elemente nach dem Schneiden; und
  • Fig. 5 ist eine Ansicht, die einen Umriß eines Verfahrens des Testens einer Klebestärke der Lötung darstellt.
  • Beste Art der Ausführung der Erfindung:
  • Die vorliegenden Erfinder bildeten einen metallisierten Film auf der Oberfläche eines groß bemessenen Blockes optischen Materiales in einem Gebiet entsprechend einer Mehrzahl von optischen Elementen, trennten ihn in Stücke jeweils mit einer Größe eines einzelnen optischen Elementes, löteten zum Bilden von Proben, wobei bei einigen der metallisierte Film abgezogen war, und beobachteten die abgelösten Abschnitte im einzelnen in seinem ausgebrochenen Abschnitt. Als ein Resultat wurde offenbart, daß wie in Fig. 3(a) und (b) gezeigt der abgezogene Abschnitt 15 nicht von dem metallisierten Film 3, sondern von dem inneren des optischen Elementes, das durch das Bezugszeichen 14 bezeichnet ist, direkt unter dem metallisierten Film begann. Es wird daher angenommen, daß das Ablösen durch eine starke Spannung verursacht wurde, die in dem optischen Element aufgrund thermischen und mechanischen Auftreffens verursacht wurde, die zwischen einer Schneideklinge und dem optischen Element durch den metallisierten Film nach dem Schneiden auftrat.
  • Folglich muß in dem Fall, in dem das Schneiden in optische Elemente nach dem Bilden des metallisierten Filmes ausgeführt wird, der Schneideabschnitt von dem metallisierten Film so entfernt sein, daß das thermische und das mechanische Auftreffen nach dem Schneiden nicht die optischen Elemente beeinflußt.
  • Gemäß dem oben erwähnten Schluß werden Linienrillen 2 vorläufig in dem Block optischen Materiales 1 entlang der Schneidelinie gebildet oder eingeritzt, wie in Fig. 4(a) gezeigt ist, danach werden, wie in Fig. 4(b) gezeigt ist, ein Antireflektionsfilm (nicht gezeigt) und der metallisierte Film 3 gebildet.
  • Als nächstes wird, wie in Fig. 4(c) gezeigt ist, die Schneidetätigkeit unter Benutzung einer Klinge mit einer Schneidebreite 4 kleiner als die Breite der oben erwähnten Linienrillen 2 so ausgeführt, daß die Klinge und der metallisierte Film nicht miteinander in Kontakt gebracht werden (wie durch den schraffierten Abschnitt gezeigt ist, der durch die zwei gestrichelten Linien umgeben ist). Als Resultat werden die einzelnen optischen Elemente erhalten, wie in Fig. 4(d) gezeigt ist.
  • Mit dem oben erwähnten Vorgang ist es möglich, die Spannung zu minimieren, die in dem optischen Element direkt unter dem metallisierten Film erzeugt wird. Somit wird das optische Element daran gehindert, daß nach dem Löten es einem Ablösen unterliegt.
  • Eine Beschreibung wird nun in Hinblick auf eine Ausführungsform dieser Erfindung im Vergleich mit dem Stand der Technik als ein Vergleichsbeispiel gegeben.
  • (Ausführungsform)
  • Wie schematisch in Fig. 4(a) gezeigt ist, werden acht Linienrillen 2 jeweils mit einer Breite von 330 um und einer Tiefe von 350 um in einen Rotieleinkristall (Block optischen Materiales) 1 mit einer Abmessung von 11,0 · 11,0 · 1,0 (mm) in einer 4 · 4 Gitterweise mit einem Abstand von 1,82 mm eingeritzt, so daß der Einritzvorgang zum Erzielen von fünfundzwanzig optischen Elementen ' durchgeführt wurde. Als nächstes wurden der Antireflektionsfilm und der metallisierte Film 3 gebildet, wie in Fig. 4(b) gezeigt ist. Die Fig. 4(a) und Fig. 4(b) zeigen jedoch nur neun optische Elemente. Danach wurde, wie in Fig. 4(c) gezeigt ist, die Schneidetätigkeit entlang der Mitte einer jeden Rille mit einer Klinge mit einer Schneidebreite 4 von 200 um ausgeführt, und somit wurden fünfundzwanzig optische Elemente 5 eines 1,6 mm Quadrates mit den darauf gebildeten metallisierten Filmen erhalten, wie in Fig. 4(d) gezeigt ist.
  • (Vergleichsbeispiel)
  • Auf die Weise ähnlich wie bei der vorangehenden Ausführungsform wurde mit der Ausnahme, daß die gitterarigen Rillen nicht gebildet wurden, der Antireflektionsfilm und der metallisierte Film gebildet und die Schneidetätigkeit mit einer Klinge mit einer Schneidebreite von 200 um zum Herstellen von fünfundzwanzig optischen Elementen eines 1,6 mm Quadrates ausgeführt.
  • Jedes der optischen Elemente mit den metallisierten Filmen der Ausführungsform und des Vergleichsbeispieles wurden durch Löten an einem goldplattiertem Edelstahlhalter verbunden, an dem ein Klebetest zum Messen einer Klebestärke zwischen dem optischen Element und dem Halter ausgeführt wurde, und das in der Tabelle 1 gezeigte Resultat wurde erhalten. Wie in Fig. 5 gezeigt ist, wurde der Klebetest ausgeführt durch Befestigen des Halters 9 auf einem Tragtisch 12, Aufbringen des optischen Elementes 5 und Ablesen der Last bei dem Ablösen durch ein Schub-Zug-Meßgerät 13 als die Klebestärke. Tabelle 1
  • Wie aus der Tabelle 1 ersichtlich ist, ist zu verstehen, daß die Ausführungsform dieser Erfindung die guten Produkte vorsieht, von denen alle eine relativ starke Klebekraft nicht kleiner als 1kg aufweisen.
  • Bei der Ausführungsform wurden verschiedene Klingen für den Ritzvorgang und den Schneidevorgang vorbereitet. Die oben beschriebenen Ritz- und Schneidevorgänge können jedoch durch die Benutzung der gleichen Klinge ausgeführt werden. Das heißt, während des Ritzvorganges wird die Klinge mehrere Male für eine Rille hinübergeführt, während ihr Abstand jedesmal verschoben wird. Bei dem Schneidevorgang wird die Klinge nur einmal hinüber geführt.
  • Bei der Ausführungsform dieser Erfindung weisen die Linienrillen 2 einen rechteckigen Querschnitt auf, wie in Fig. 3(c) gezeigt ist. Der Schnitt kann jedoch ein Polygon sein wie ein Dreieck oder ein Trapez, ein Halbkreis oder eine Elipse, solange kein direkter thermischer und mechanischer Aufschlag aufgenommen wird, der durch die Klinge und den Block optischen Materiales während des Schneidevorganges verursacht wird.
  • Weiterhin werden in dem Fall, in dem der metallisierte Film auf beiden Oberfläche des Blockes optischen Materiales gebildet ist, die Linienrillen vorläufig in beiden Oberflächen gebildet. Somit ist diese Erfindung nicht auf die vorängehende Ausführungsform begrenzt.
  • Wie oben beschrieben wurde werden gemäß dieser Erfindung die Linienrillen vorläufig auf den optischen Elementen gebildet, wodurch es möglich ist, Massenmetallisierungen durchzuführen, Löten mit hoher Zuverlässigkeit durchzuführen und daher die optischen Isolatoren mit einer hohen Zuverlässigkeit durch Massenproduktion herzustellen.
  • Industrielle Anwendung
  • Wie oben beschrieben wurde, ist es bei dem Verfahren des Herstellens des optischen Isolators gemäß dieser Erfindung möglich, optische Isolatoren mit Massenproduktion herzustellen, die zur Benutzung bei optischer Kommunikation, optischer Messung oder ähnliches dienen und den Faradayeffekt benutzen. Der Isolator weist eine hohe Zuverlässigkeit auf und ist insbesondere hervorragend in der Umweltwiderstandsfähigkeit. Somit kann er auf verschiedene Arten optischer Isolatoren angewendet werden.

Claims (1)

  1. Verfahren des Herstellens eines optischen Isolators, mit
    Herstellens eines Blockes (1) optischen Materiales,
    Bilden von Linienrillen (2) in der Oberfläche des Blockes (1) entlang vorbestimmter Schneidelinien, die ein Gitter definieren, das eine Mehrzahl optischer Elemente (5) enthält,
    danach Bilden eines Antireflektionsfilmes und eines metallisierten Filmes (3) auf den ungerillten Flächen der Oberfläche des Blockes (I) und
    Ausschneiden der Elemente aus dem Block (I) durch Schneiden in den Linienrillen (2) mit einer Schneidebreite (4) schmaler als die Breite der Rillen (2).
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