DE69118147T2

DE69118147T2 - Verfahren zur Herstellung eines Siebes mit geringer interner Spannung, sowie auf diese Weise hergestelltes Sieb

Info

Publication number: DE69118147T2
Application number: DE69118147T
Authority: DE
Inventors: Petrus Henricus Maria Delmee; Weperen Karst Jan Van
Original assignee: Stork Screens BV
Current assignee: Stork Screens BV
Priority date: 1990-12-24
Filing date: 1991-12-19
Publication date: 1996-09-05
Anticipated expiration: 2011-12-20
Also published as: KR920011591A; NL9002866A; CN1062772A; BR9105530A; DE69118147D1; JPH0791673B2; TW294729B; GR3020278T3; DK0492731T3; AU8979391A; PT99884B; FI916090A; FI916090A0; ATE135754T1; FI96873C; CA2058109C; NO914963D0; JPH04311594A; NZ241124A; KR0127832B1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Siebmaterials gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Ein solches Verfahren ist durch EP-A-0 347 167 offenbart.
Die genannte Veröffentlichung beschreibt ein Verfahren des erwähnten Typs, bei dem in dem Bad zum Verdicken des Skeletts eine Pyridiniumverbindung anwesend ist, die sowohl die Eigenschaften eines Glanzbildners der zweiten Klasse als auch eines Glanzbildners der ersten Klasse besitzt.
Für eine Beschreibung solcher chemischer Verbindungen wird auf Modern Electroplating, 3. Aufl., John Wiley & Sons, 1973, S. 296ff. und insbesondere auf S. 302ff. Bezug genommen.
Die oben genannte Anmeldung beschreibt, daß zur Verminderung der internen Spannung im Endprodukt vorzugsweise ein getrennt er Spannungsverminderer, wie Natriummetabenzoldisulfonat, zugegeben wird.
Die vorliegende Erfindung zielt darauf ab, ein Verfahren des beschriebenen Typs bereitzustellen, bei dem eine geringe interne Spannung im Endprodukt erreicht wird, ohne daß die Zugabe eines getrennten Spannungsverminderers notwendig ist.
Erfindungsgemäß wird dieses Ziel durch Anwendung der im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 angegebenen Maßnahmen erreicht.
Speziell wird, wie Anspruch 1 beschreibt, das angestrebte Ergebnis durch geeignete Wahl der Anfangskonzentration der chemischen Verbindung(en) mit den Eigenschaften eines Glanzbildners sowohl der zweiten als auch der ersten Klasse im Bad zusammen mit einer geeigneten Zugaberate pro 10.000 Ah für diese erreicht.
Insbesondere wird bei dem Verfahren des beschriebenen Typs eine schwefelhaltige organische Verbindung mit wenigstens einer ungesättigten Bindung im Molekül in einer Anfangskonzentration von wenigstens 0,75 mmol/Liter der Badflüssigkeit und einer Zugaberate von wenigstens 3 mol/10.000 Ah Ladung verwendet.
Die hier genannten Erfinder haben erkannt, daß eine Verminderung der Zugspannung durch Verwendung einer bestimmten Mindestmenge einer Verbindung mit den Eigenschaften eines Glanzbildners sowohl der ersten als auch der zweiten Klasse erreicht werden kann; wobei der Bereich verwendbarer Verbindungen die Pyridiniumverbindungen, wie erwähnt, und eine große Vielfalt äquivalenter Verbindungen, wie nachfolgend beschrieben wird, umfaßt.
Beim Ausführen des erfindungsgemäßen Verfahrens ist die Verwendung eines Glanzbildners der zweiten Klasse (wie eine Sulfopyridiniumverbindung) und eines Glanzbildners der ersten Klasse (wie Natriummetabenzoldisulfonat) wie in der oben zitierten veröffentlichung nicht nötig.
Durch Verwendung der angegebenen Anfangskonzentration und Zugaberaten in einem Wert gleich oder über dem Mindestwert, wie erwähnt, ist die Zugabe von mehr als einer Verbindung aus Gründen der internen Spannung nicht mehr nötig. Anstelle einer Verbindung mit Mischcharakter (erste und zweite Klasse) kann natürlich auch eine Mischung solcher Verbindungen verwendet werden.
Aus Gründen der Härte kann es in manchen Fällen vorteilhaft sein, zusätzlich eine oder mehrere chemische Verbindung(en) mit überwiegend den Eigenschaften eines Glanzbildners der zweiten Klasse in das Bad aufzunehmen. Beispiele solcher Verbindungen sind Ethylencyanohydrin oder 1,4-Butindiol.
Vorteilhafterweise ist die zu verwendende chemische Verbindung mit den Eigenschaften eines Glanzbildners der ersten und der zweiten Klasse aus der Gruppe organischer Verbindungen ausgewählt, die in den kennzeichnenden Abschnitten der Ansprüche 4 und 5 aufgezählt sind.
In der großen Gruppe organischer Verbindungen mit sowohl Eigenschaften von Glanzbildnern der zweiten als auch der ersten Klasse nehmen die Verbindungen, in denen es einen heterocyclischen Ring gibt, der ein oder mehrere Stickstoffatome enthält, einen besonderen Platz ein. Die vielen möglichen Pyridin-, Pyrimidin- und Chinolin- oder Isochinolinverbindungen haben eine ausgezeichnete Wirkung; von diesen sind Pyridinverbindungen leicht kommerziell erhältlich.
Zusätzlich zu der Bedingung des bevorzugten Wachstums, das bei Verwendung chemischer Verbindungen mit den Eigenschaften eines Glanzbildners der zweiten Klasse bekannt ist, erreicht die Verwendung einer chemischen Verbindung, die eine Wirkung zur Verminderung der internen Spannung besitzt, das Ergebnis, daß ein gemäß dem Verfahren der Erfindung hergestelltes Siebmaterial ohne zusätzliche Temperbehandlung verwendet werden kann.
Die verringerte interne Spannung hat, was die Ebenheit des erhaltenen Siebmaterials und seine Dimensionsstabilität betrifft, einen vorteilhaften Effekt.
In dem obigen ist der Ausgangspunkt ein vorher geformtes, elektrisch leitendes Siebskelett, das seine Enddicke durch Verdicken erhält. zweckmäßigerweise wird ein solches Siebskelett dadurch gebildet, daß Metall auf einer geeigneten Matrix abgeschieden und dieses bei Erreichen einer bestimmten Dicke von ihr abgelöst wird, damit es in einem nachfolgenden Schritt der elektrolytischen Metallabscheidung verwendet werden kann.
Es ist klar, daß ein solches elektrisch leitendes Siebskelett auch auf andere Weise erzeugt werden kann, zum Beispiel durch Bereitstellen eines blechartigen Metallmaterials mit Lochungen in geeigneter Weise oder durch Bereitstellen eines nichtleitenden gelochten Materials mit einer elektrisch leitenden Oberflächenschicht.
Was die Feinheit des elektrisch leitenden Siebskelettmaterials betrifft, das als Ausgangsmaterial verwendet wird, gibt es keine besonderen Beschränkungen; es können Feinheiten von 10 bis 500 mesh verwendet werden (die Mesh-Zahl gibt die Anzahl der Lochungen pro linearen 2,54 cm (inch) an), wobei Materialien mit einer Feinheit, die von dem oben genannten Bereich verschieden ist, nicht ausgeschlossen sind.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann angewendet werden, um ein Siebmaterial jedes gewünschten Typs herzustellen, das heißt daher einer wie gewünscht zu wählenden Feinheit, Dicke, freien Oberfläche und Metallart.
Als Folge des Merkmals einer verminderten internen Spannung bietet das erfindungsgemäße Verfahren insbesondere die Möglichkeit, das Verfahren anzuwenden, um ein nahtloses zylindrisches Metallsiebmaterial herzustellen, bei dem von einem nahtlosen zylindrischen Siebskelett mit einer Dicke von 1 bis 250 µm ausgehend ein nahtloses zylindrisches Siebmaterial mit einer Dicke von bis zu 1500 µm durch Verdicken des Siebskeletts durch Abscheidung eines Metalls erzeugt wird.
Die Herstellung eines nahtlosen zylindrischen Siebskeletts ist an sich im Stand der Technik bekannt.
Als Folge des Merkmals einer merklich verminderten internen Spannung (Zugspannung) ist das erfindungsgemäße Verfahren insbesondere zur Herstellung eines zylindrischen Siebmaterials besonders geeignet. Mit Hilfe des Verfahrens der Erfindung erhält man ein Siebmaterial mit der Eigenschaft eines beträchtlichen bevorzugten Wachstums (das heißt mit einem Wachstumsverhältnis größer als 2), das außerdem eine hohe Dimensionsstabilität aufweist, die reproduzierbar ist.
Obwohl im Prinzip alle elektrolytisch abscheidbaren Metalle bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zufriedenstellend sind, wird das Verfahren sehr oft in Verbindung mit häufig verwendeten Metallen, wie Nickel, Kupfer und Eisen, angewendet. Das erfindungsgemäße Verfahren ist nicht darauf beschränkt; andere Metalle, wie Chrom, Zink, Gold, und Metallegierungen, wie Nickel-Cobalt, Phosphornickel, Messing, usw. sind zufriedenstellend, wenn die chemischen Verbindungen gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet werden.
Die verwendbaren Feinheiten liegen im allgemeinen zwischen 10 und 500 mesh, das heißt, 10 bis 500 Lochungen pro 25,4 mm, wobei die Lochungen in einem regelmäßigen Muster angeordnet sind. Die Lochmuster müssen jedoch nicht notwendigerweise symmetrisch sein; es kann auch ein Muster mit zufällig angeordneten Lochungen mit wechselseitig unterschiedlicher Dimension und Gestalt in dem anfänglichen Siebskelett vorhanden sein, das unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens zu einer Enddicke verdickt wird.
Wie früher angegeben, kann das anfängliche Siebskelett auch aus einem nichtleitenden Material, wie einem Kunststoff, hergestellt sein, dessen Oberfläche mit einer elektrisch leitenden Schicht überzogen ist, so daß eine Metallabscheidung auf der Oberfläche möglich ist.
Bei dem oben beschriebenen Verfahren zur Herstellung eines zylindrischen Materials kann insbesondere ein Siebskelett von 20 bis 60 µm Dicke eingesetzt werden.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform des oben beschriebenen Verfahrens ist der Ausgangspunkt ein zylindrisches Siebskelett aus Nickel mit einer Dicke von 50 µm und einer freien Oberfläche von 70%, das mit Nickel in einem Schritt der Metallabscheidung verdickt wird, bis eine Dicke von 900 µm bei einer freien Oberfläche von 50% erreicht ist. Eine typische Feinheit in einem solchen Fall ist 22 mesh, das heißt 22 Löcher pro linearen 25,4 mm = 1 inch.
Bei einer weiteren attraktiven Ausführungsform des Verfahrens wird ein zylindrisches, nahtloses Siebmaterial hergestellt, indem von einem Siebskelett aus Eisen mit einer Dicke von 100 µm und einer freien Oberfläche von ungefähr 20% ausgegangen wird, das auf zwei Seiten mit Nickel verdickt wird, bis eine Dicke von 1200 µm bei einer Durchlässigkeit von 16% erreicht ist. Auf diese Weise wird ein Kernmaterial mit hoher Zugfestigkeit (Eisen) mit einer Oberflächenschicht aus Nickel beschichtet, wobei das Nickel die für viele Anwendungen erwünschte Korrosionsbeständigkeit für das Siebmaterial liefert.
Die oben speziell beschriebenen Siebmaterialien können natürlich mit dem gleichen Erfolg in ebener Form hergestellt werden.
Um den Effekt des bevorzugten Wachstums, das heißt das Erreichen von Wachstumsverhältnissen größer als 1, insbesondere größer als 2, weiter zu verstärken, kann bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wie hier beschrieben von einer der folgenden Maßnahmen Gebrauch gemacht werden:
- während wenigstens eines Teils der für das Verdicken erforderlichen Zeit wird die Strömung der Badflüssigkeit durch die Lochungen des Siebskeletts in einer Richtung bewirkt, die senkrecht zum Siebskelett ist,
- das Verdicken wird unter Anwendung eines pulsierenden Stroms durchgeführt, der Pulsstromperioden (T) und stromfreie oder entgegengesetzte Pulsstromperioden (T') umfaßt, wobei T und T' unabhängig voneinander auf bis zu 9900 ms gesetzt werden.
Diese Maßnahmen sind an sich bekannt und unter anderem in EP- A1-0 049 022 bzw. EP-A1 0 079 642 beschrieben. In den genannten Veröffentlichungen ist der Effekt der Anwendung einer Strömung durch die Lochungen des Siebmaterials oder die Anwendung eines Pulsstroms während des Wachstums in Verbindung mit der Verwendung chemischer Verbindungen beschrieben, die die Eigenschaften eines Glanzbildners der zweiten Klasse besitzen. Als Folge der Verwendung der speziellen Glanzbildner der zweiten Klasse, die zu einer Verminderung der internen Spannung führen und die den Gegenstand der vorliegenden Erfindung bilden, wird ein Produkt erzeugt, das einerseits durch ein vorteilhaftes Wachstumsverhältnis, das heißt ein Wachstumsverhältnis größer als 1 und insbesondere größer als 2, gekennzeichnet ist, während das Material gleichzeitig direkt nach seiner Herstellung eine geringe interne Spannung aufweist, das heißt merklich geringer als die interne Spannung, die bei einem Siebmaterial gemessen wird, das unter Verwendung der bisher üblichen chemischen Verbindungen mit den Eigenschaften eines Glanzbildners der zweiten Klasse hergestellt wurde.
Die Erfindung betrifft weiterhin ein Siebmaterial, das unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens wie oben beschrieben hergestellt wurde, wobei das Siebmaterial ein ebenes oder ein nahtloses zylindrisches Siebmaterial ist.
Was die Wachstumseigenschaft betrifft, weist das Siebmaterial insbesondere ein Wachstumsverhältnis R≥2 und eine interne Spannung P auf, die kleiner oder gleich 2,0 kg pro mm² ist (interne Spannung; Zugspannung).
Mit Bezug auf die oben beschriebene Möglichkeit zur Herstellung eines ebenen oder zylindrischen nahtlosen Metallsiebmaterials, das sofort nach der Herstellung eine geringe interne Spannung hat, ohne ein irgendwie geartetes Temperverfahren anzuwenden, während andererseits als Folge zum Beispiel des Anwendens einer Strömung der Badflüssigkeit durch die Lochungen des Siebskeletts ein noch stärkeres Beeinflussen des Wachstumsverhältnisses erreicht wird, wird weiterhin auf das folgende hingewiesen.
Um ein einheitliches Siebmaterial herzustellen, findet die Strömung der Badflüssigkeit im allgemeinen in einer Richtung statt, die zu dem anfänglichen Siebskelett senkrecht ist; eine Strömung in der angegebenen Richtung ist jedoch nicht nötig. Wenn eine Strömungsrichtung angewendet wird, die von der angegebenen Richtung unterschiedlich ist, zum Beispiel eine Strömung, die einen Winkel mit der zum Siebskelett senkrechten Linie bildet, wird ein Wachstum beobachtet, das in einer Richtung bevorzugt ist, die der Strömungsrichtung entspricht. Es kann auch eine unterschiedliche Strömungsrichtung in verschiedenen Teilen des verwendeten Verdickungsbades angewendet werden, so daß im ebenen oder zylindrischen Zustand verschiedene Formen des bevorzugten Wachstums desselben Siebmaterials auftreten können.
Wenn eine Strömung angewendet wird, wird im allgemeinen eine laminare Strömung der Badflüssigkeit durch die Lochungen des Siebskeletts hergestellt, das als Kathode angeschlossen ist; die Reynoldszahl, die für eine solche Strömung angemessen ist, ist daher ≤ 2100.
Die Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die Zeichnung erläutert, in der:
- Fig. 1 eine Quersprosse eines Siebs im Querschnitt zeigt;
- Fig. 2-6 graphische Darstellungen zeigen, die die Wirkung der Anwendung von spannungsvermindernden chemischen Verbindungen darstellen.
In Fig. 1 ist das Siebskelett mit 1, das verdickende Wachstum mit 2 und das gesamte Siebmaterial mit 3 bezeichnet. In der Zeichnung sind a und b das Wachstum senkrecht zur Ebene des Siebskeletts am Punkt der maximalen Dicke, während c und d das seitliche Wachstum in der Grundebene des Skeletts sind. Das oben bereits häufig erwähnte Wachstumsverhältnis ist als
R = a+b/c+d
definiert. Wenn das Siebskelett 1 ohne zusätzliche Maßnahmen einer Strömung der Badflüssigkeit und/oder eines pulsierenden Stroms verdickt wird, wird im allgemeinen ein Wachstumsverhältnis größer als 1 und insbesondere zum Beispiel zwischen 1,3 und 2,5 erreicht. Wenn ein solches Siebmaterial unter Verwendung eines herkömmlichen Glanzbildners der zweiten Klasse, wie Butindiol oder Ethylencyanohydrin, hergestellt wird, wird eine interne Spannung (Zugspannung) von ungefähr 4,5 kg/mm² beobachtet. Wenn eine der Verbindungen, die den Gegenstand der Erfindung bilden, verwendet wird, zum Beispiel eine Verbindung mit den Eigenschaften von Glanzbildnern der ersten und der zweiten Klasse, wie 1-(3-Sulfopropyl)pyridin oder 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)pyridin, wird eine interne Spannung von 1,5 kg/mm² gemessen. Die Messung der internen Spannung wird ausgeführt, indem ein Versuch durchgeführt wird, bei dem ein haftender Metallniederschlag unter Standardbedingungen auf einer Basis gebildet wird, und indem die Änderung der Länge des Substrates als Folge der Spannung in dem Niederschlag gemessen wird (Vorrichtung: IS*-Messer von Oxy Metal Finishing Corp.).
Das erfindungsgemäße Siebmaterial ist auch durch eine erhöhte Dehnung beim Bruch gekennzeichnet. Das folgende mag als Vergleich dienen. Ein Siebmaterial mit einer Feinheit von 305 mesh (305 Licher pro linearen 25,4 mm (inch)) zeigte vor einer Temperbehandlung eine Dehnung beim Bruch von 1 mm bei einer Last von 150 Newton und nach der Temperbehandlung eine Dehnung beim Bruch von 2,5 mm für 120 Newton. Das gleiche Siebmaterial mit der gleichen Dicke und durch das Verfahren der Erfindung hergestellt, zeigte ohne Anwendung einer irgendwie gearteten Temperbehandlung eine Dehnung beim Bruch von mehr als 1,2 mm bei einer Last von 250 Newton. In beiden Fällen wurde von einem Nickelskelett ausgegangen, das mit Nickel zu einer Enddicke verdickt worden war.
Die Dehnungsversuche für ein Ni-Siebmaterial werden gemäß einem Verfahren durchgeführt, das mit DIN 50125 verwandt ist. Ein Versuchsstab, der hinsichtlich der Gestalt einem in der DIN-Beschreibung verwendeten Versuchsstab entspricht, wird hergestellt; die Dicke hält den DIN-Standard nicht ein.
In Hinblick auf die Siebnatur des zu untersuchenden Materials, ist ein Versuchsstab immer in der gleichen Weise aus einer Materialplatte gestanzt, so daß die Orientierung des Musters in dem Versuchsstab immer die gleiche ist.
Hinsichtlich der Dehnung unter Spannung wird beobachtet, daß die Festigkeit aufgrund der Verwendung der erfindungsgemäßen organischen Verbindungen deutlich erhöht ist.
Im Falle eines erfindungsgemäß hergestellten Siebmaterials tritt die Reißdehnung bei deutlich höherer Spannung auf, als bei einem Siebmaterial, das mit einem Verfahren aus dem Stand * IS = interne Spannungder Technik hergestellt wurde. Das Elastizitätsmodul bleibt im wesentlichen unbeeinflußt.
Übrigens wird im Falle der erfindungsgemäß verwendeten chemischen Verbindungen zusätzlich zu der deutlichen Verminderung der internen Spannung weiterhin eine Anzahl von Vorteilen beobachtet, die unten beschrieben werden.
Zuerst wird darauf hingewiesen, daß weniger Auffüllen des Bades mit der verwendeten Verbindung nötig ist, um ein bestimmtes Wachsturnsverhältnis über die Zeit aufrechtzuerhalten. Es wird angenommen, daß die Zersetzungsprodukte, die als Folge der kathodischen Zersetzung des Additivs entstehen, auch eine Auswirkung auf das selektive Wachstum des Metalls haben, als Folge davon muß, über die Zeit gesehen, weniger Auffüllen mit diesem Mittel stattfinden.
Ein weiterer Vorteil ist, daß der Wirkungsgrad der Kathode 90 bis 95% beträgt, wenn die vorliegenden Mittel verwendet werden, während sie ungefähr 80% beträgt, wenn herkömmliche Verbindungen mit den Eigenschaften eines Glanzbildners der zweiten Klasse verwendet werden (der Wirkungsgrad der Kathode ist das Verhältnis der Anzahl an Coulomb, die theoretisch nötig ist, um einen bestimmten Metallniederschlag zu bilden, und der tatsächlich verwendeten Anzahl an Coulomb).
Fig. 2-6 zeigen graphische Darstellungen, in denen die Auswirkungen der Verwendung der chemischen Verbindungen mit spannungsvermindernder Wirkung und herkömmmlicher chemischer Verbindungen verglichen werden.
Als Beispiel einer Verbindung mit spannungsvermindernder Wirkung wurde 1-(2-Hydroxy-3-sulfopropyl)pyridinbetain ausgewählt. Es ist ein Produkt der Raschig AG, Ludwigshafen (Deutschland) und wird unten PPS-OH genannt.
Als Beispiel einer herkömmlichen chemischen Verbindung zum Erhalt einer speziellen Wachstumseigenschaft beim Verdicken durch Galvanisieren wurde Hydroxypropionitril verwendet, auf das unten als HPN Bezug genommen wird.
Es wurde immer von einem Siebskelett aus Nickel mit einer Feinheit von 305 mesh (305 Lochungen pro linearen 2,54 cm (inch)) ausgegangen; das Verdicken fand mit Nickel in einem Bad statt, das PPS-OH oder HPN enthielt.
Fig. 2 zeigt die Auswirkung auf die interne Spannung für eine zunehmende Zahl vergangener Amperestunden als Funktion des verwendeten Additivs. Es ist deutlich, daß über den gesamten Ladungsbereich PPS-OH eine interne Spannung bewirkt, die in bezug auf die Situation merklich verringert ist, in welcher HPN verwendet wird. Die Konzentration von PPS-OH und HPN im Bad war in diesem Fall die gleiche.
Fig. 3 zeigt die Veränderung der Konzentration des Additivs im Bad als Funktion der Ladung. In diesem Fall wurde das Wachstumsverhältnis R konstant bei 4 gehalten.
Es ist deutlich, daß in diesem Fall die Konzentration von PPS-OH im Bad etwas niedriger gesetzt werden kann und mit anwachsender Ladung kein zusätzliches PPS-OH zugesetzt werden muß, um das gleiche Wachstumsverhältnis zu erzeugen, was tatsächlich für HPN der Fall ist. Es wird angenommen, daß bestimmte Zersetzungsprodukte von PPS-OH auch sowohl die Eigenschaft des bevorzugten Wachstums als auch eine spannungsvermindernde Wirkung haben.
In Fig. 4 ist die Dehnung beim Bruch über die Zugspannung aufgetragen, wobei gleiche Additivkonzentrationen von PPS-OH und HPN verwendet wurden.
Es ist deutlich, daß, wenn PPS-OH verwendet wird, in allen Fällen eine größere Zugspannung erzielt wird.
Fig. 5 zeigt die Beziehung zwischen der internen Spannung und der Additivkonzentration bei Verwendung von HPN und PPS-OH.
Es ist deutlich, daß die Verwendung von PPS-OH in allen Fällen zu einer geringeren internen Spannung führt.
Schließlich zeigt Fig. 6 die Situation, in der ein Siebskelett mit 305 mesh unter Verwendung von HPN und PPS-OH verdickt wurde, wobei das Wachstumsverhältnis konstant auf 4 gesetzt wurde.
Es werden Arbeitslinien gezeigt, bei denen die Additivkonzentration im Bad und die Strömungsgeschwindigkeit der Badflüssigkeit durch die Lochung des Siebs als Parameter genommen wurden. Es ist wieder zu sehen, daß, um ein bestimmtes Wachstumsverhältnis zu erreichen, eine PPS-OH-Konzentration nötig ist, die geringer ist als die für die gleiche Wirkung benötigte HPN-Konzentration.
In beiden Fällen sinkt die erforderliche Additivkonzentration mit zunehmender Strömungsgeschwindigkeit.
In allen obigen graphischen Darstellungen wurden die Skalen auf den Achsen der Klarstellung wegen abgestimmt, was in bestimmten Fällen eine Abweichung von der Linearität hervorruft; die in den Skalen angegebenen Zahlenwerte entsprechen völlig den tatsächlich gemessenen Werten.
In der beigefügten Tabelle 1 sind eine Anzahl relevanter Werte zusammengefaßt, die die Basis für die graphischen Darstellungen in Fig. 2-6 sind.
In den folgenden Beispielen sind einige Versuche mit dem erfindungsgemäßen Verfahren beschrieben.

Beispiel I

Elektrolyt: Sulfamat
Art des Siebs: 305 mesh; eben; R=4
PPS-OH-Konz.: 0,4 mmol/l
Zugaberate: 2,8 mol/10000 Ah
Stromdichte: 13 A/dm²
Interne Spannung: 1,2 kgf/mm².

Beispiel II

Elektrolyt: Watts.
Art des Siebs: 165 mesh; zylindrisch; R=8
PPS-OH-Konz.: 1 mmol/l
Zugaberate: 1,5 mol/10000 Ah
Stromdichte: 40 A/dm²
Interne Spannung: 1,4 kgf/mm².
In beiden Fällen zeigt sich, daß die interne Spannung im Vergleich mit einer Situation, in der ein herkömmlicher Glanzbildner der zweiten Klasse verwendet wird (vgl. Fig. 5) oder eine geringe Zugaberate für einen Glanzbildner mit den Eigenschaften eines Glanzbildners der ersten und der zweiten Klasse verwendet wird, gering ist.
Das Siebmaterial gemäß der vorliegenden Erfindung ist für eine Vielfalt von Zwecken geeignet, wie Siebdruck, Sieben usw.
Insbesondere können die nahtlosen zylindrischen Siebe für den Rotationsfilmdruck zum Zwecke des Bedruckens von Textilien, des Bedruckens von Papier, von Dämpfungsbodenbelägen usw. verwendet werden. Tabelle 1 Ladung, Ah Kraft (N) Strömungsgeschwindigkeit, cm/s Interne Spannung, kgf/mm² Dehnung beim Bruch

Claims

1. Verfahren zur Herstellung eines Siebmaterials (3) durch Verdicken (2) eines vorher geformten, elektrisch leitenden Siebskeletts (1) durch Abscheidung von Metall in einem Elektrolysebad, bis die Enddicke des Siebmaterials (3) erreicht ist, wobei eine oder mehrere chemische Verbindung(en) in dem zur Abscheidung von Metall verwendeten Bad die Eigenschaften eines Glanzbildners der zweiten Klasse und auch Eigenschaften eines Glanzbildners der ersten Klasse besitzt (besitzen), dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung in dem Bad in einer solchen Konzentration vorhanden ist und dem Bad in einer solchen Proportionalität zur Ladung in Ah zugegeben wird, daß die interne Spannung des fertigen Siebmaterials (3) in bezug auf ein Material, das unter Verwendung einer oder mehrerer Verbindungen mit überwiegend den Eigenschaften eines Glanzbildners der zweiten Klasse hergestellt wurde, verringert ist, wobei die wenigstens eine chemische Verbindung mit auch den Eigenschaften eines Glanzbildners der ersten Klasse eine Schwefel umfassende, organische Verbindung mit wenigstens einer ungesättigten Bindung im Molekül ist und in einer Anfangskonzentration von wenigstens 0,25 mmol/l der Badflüssigkeit und einer Zugaberate von wenigstens 1,5 mol/10000 Ah Ladung verwendet wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schwefel umfassende, organische Verbindung mit auch den Eigenschaften eines Glanzbildners der ersten Klasse in einer Anfangskonzentration von 0,75 mmol/l der Badflüssigkeit und einer Zugaberate von wenigstens 3 mol/10000 Ah Ladung zugegeben wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich eine oder mehrere chemische Verbindung(en) mit überwiegend Eigenschaften eines Glanzbildners der zweiten Klasse anwesend ist (sind).

4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß die chemische(n) Verbindung(en) aus organischen Verbindungen ausgewählt wurde(n), wie:

- sulfonierten Arylaldehyden, zum Beispiel o-Sulfobenzaldehyd,

- sulfonierten Allyl- und Vinylverbindungen, zum Beispiel Allylsulfonsäure,

- sulfonierten Acetylenverbindungen, zum Beispiel 2-Butin-1,4-disulfonsäure, und Thionitrilen, wie β-Cyanoethylthioether,

- Thioharnstoff und Derivaten, zum Beispiel Allylthioharnstoff und o-Phenylenthioharnstoff (2-mercaptobenzimidazol).

5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß die chemische(n) Verbindung(en) aus organischen Verbindungen ausgewählt wurde(n), wie heterocydischen Verbindungen, die Sulfoalkyl-, Sulfoalkenyl-, Sulfoalkinyl-, Sulfoalkylaryl- und Sulfoarylalkylgruppen enthalten und ein oder mehrere N-Atome enthalten, wobei die Alkyl-, Alkenyl-, Alkinyl-, Alkylaryl- oder Arylalkylgruppen 1 bis 5 Kohlenstoffatome in der Kette enthalten, wie Sulfoalkylpyridin- und Sulfoalkylpyrimidinverbindungen, zum Beispiel 1-(3-Sulfopropyl)pyridin und 1- (2-Hydroxy-3-sulfopropyl)pyrimidin, und Sulfoalkylchinolin- und Sulfoalkylisochinolinverbindungen, wie 1-(3- sulfopropyl)chinolin oder 1-(3-Sulfopropyl)isochinolin.

6. Verfahren zur Herstellung eines nahtlosen, zylindrischen Metallsiebmaterials (3) unter Anwendung des Verfahrens nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß ausgehend von einem nahtlosen, zylindrischen Siebskelett (1) mit einer Dicke von 1 bis 250 µm durch Verdicken durch Abscheidung von Metall ein nahtloses, zylindrisches Siebmaterial (3) mit einer Dicke von bis zu 1500 µm erhalten wird.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Ausgangspunkt ein Siebskelett (1) mit einer Dicke von 20 bis 60 µm ist.

8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß ein Siebskelett (1) aus Nickel mit einer Dicke von 50 µm und einer freien Oberfläche von 70% in einem Schritt der Abscheidung von Metall mit Nickel verdickt wird, bis eine Dicke von 900 µm bei einer freien Oberfläche von 50% erreicht worden ist.

9. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß ein Siebskelett (1) aus Eisen, das 100 µm dick ist und eine freie Oberfläche von ungefähr 20% hat, auf beiden Seiten mit Nickel verdickt wird, bis eine Dicke von 1200 µm bei einer Durchlässigkeit von ungefähr 16% erreicht worden ist.

10. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß während des Verdickens eine oder mehrere der folgenden Bedingungen zutreffen:

- während wenigstens eines Teils der für das Verdicken benötigten Zeit wird eine Strömung der Badflüssigkeit durch die Lochungen des Siebskeletts (1) in einer Richtung bewirkt, die senkrecht zum Siebskelett (1) ist,

- das Verdicken wird unter Anwendung eines pulsierenden Stroms durchgeführt, der Perioden (T) des Impulsstromes und stromfreie oder Perioden (T') des entgegengesetzten Impulsstromes umfaßt, wobei T und T' unabhängig voneinander auf einen Wert von bis zu 9900 ms gesetzt sind.

11. Siebmaterial (3), das unter Anwendung des Verfahrens nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10 zu erhalten ist, in einer ebenen oder nahtlosen, zylindrischen Form mit einem Wachstumsverhältnis R≥2 und einer internen Spannung P≤2,0 kg/mm².