DE68917044T2

DE68917044T2 - Elektrophotographische Druckplatte als Ausgangsmaterial für eine lithographische Druckplatte und Verfahren zu deren Herstellung.

Info

Publication number: DE68917044T2
Application number: DE68917044T
Authority: DE
Inventors: Chiaki C O Fuji Photo Kawamoto; Sho C O Fuji Photo Film Nakao; Takao C O Fuji Photo Nakayama; Chikashi C O Fuji Photo Ohishi; Hidefumi C O Fuji Photo F Sera
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1988-07-01
Filing date: 1989-06-30
Publication date: 1994-11-24
Anticipated expiration: 2009-07-01
Also published as: EP0349345B1; JP2561713B2; DE68917044D1; US4994342A; EP0349345A2; JPH02132464A; EP0349345A3

Description

Hintergrund der Erfindung

1. Gebiet der Erfindung

Diese Erfindung betrifft einen elektrophotographischen, lithograpischen Druckplattenvorläufer bzw. ein Ausgangsmaterial für eine solche Platte und ein Entwicklungsverfahren für denselben und insbesondere einen elektrophotographischen, lithographischen Druckplattenvorläufer, der nicht nur für gewöhnliche Entwicklungsverfahren, sondern auch für Entwicklungsverfahren des direkten Elektroneninjektionssystems geeignet ist und der imstande ist, ein nadellochfreies Bild zu erhalten, und ein Entwicklungsverfahren für diesen.

2. Beschreibung des Stands der Technik

Bis heute wurde im allgemeinen ein elektrophotographisches Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Druckplattenvorläufers verwendet, welches umfaßt das Unterwerfen der photoleitfähigen Schicht eines elektrophotographischen, lithographischen Druckplattenvorläufers (der nachstehend als "Masterplatte" bezeichnet wird) einer gleichmäßigen statischen Ladung, einer bildweisen Belichtung und dann einer Flüssigentwicklung mit einem flüssigen Toner, um ein Tonerbild zu erhalten, woraufhin dieses Tonerbild fixiert wird und mit einer Öldesensibilisierungslösung (Ätzlösung) bearbeitet wird, um einen von dem Tonerbild freien Nichtbildbereich hydrophil zu machen.
Als Grundlage für die vorstehend beschriebene Masterplatte wurde bis her elektrisch leitfähig gemachtes Papier verwendet, aber diese Papiergrundlage neigt dazu, von Wasser durchdrungen zu werden, was zu schlechten Einflüssen auf die Druckbarkeit und die photographischen Eigenschaften führt. Das heißt, die Papiergrundlage wird von der vorstehend beschriebenen Ätzlösung oder dem Anfeuchtungswasser während des Drucks durchdrungen und gedehnt, so daß sich die photoleitfähige Schicht manchmal von der Papiergrundlage abtrennt, wodurch die Druckhaltbarkeit verringert wird, und der Feuchtigkeitsgehalt der Papiergrundlage ändert sich mit den Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen bei der Durchführung der vorstehend beschriebenen statischen Ladung oder bildweisen Belichtung, so daß sich die elektrische Leitfähigkeit ändert, wodurch die photographische Leistung ungünstig beeinflußt wird.
Um diese Probleme zu lösen, wurde vorgeschlagen, eine oder beide Oberflächen einer Papiergrundlage mit beispielsweise einem Epoxyharz oder einem Ethylen-/Acrylsäure-Copolmer mit wasserbeständigen Eigenschaften zu überziehen (japanische offengelegte Patentveröffentlichungen 138904/1975, 105580/1980 und 68753/1974) oder sie mit einer laminierten Schicht aus Polyethylen oder dergleichen zu versehen (japanische offengelegte Patentveröffentlichung 57994/1983 und 64395/1984).
Andererseits wurde die vorstehend beschriebene Flüssigentwicklung im allgemeinen durchgeführt, indem es einer Entwicklungsflüssigkeit DL gestattet wird, zwischen Elektroden 10 und 11 zu fließen, und einer Masterplatte P, durch die Entwicklungsflüssigkeit DL hindurchgeführt zu werden, wie in Fig. 3 gezeigt.
Bei diesem Entwicklungssystem ist jedoch die Bewegung der negativen Ionen in dem flüssigen Toner, d.h. der Entwicklungsflüssigkeit (negative Ionen eines Polymers zugegeben, um die Ladung (+) eines Toners in der Entwicklungsflüssigkeit DL zu steuern, d.h. ein Ladungssteuerungsmittel) langsam und dementsprechend ist die Geschwindigkeit der negativen Ionen, die an der Oberfläche eines Substrats P2 zur Neutralisierung von dessen positiven Ladungen haften, auch langsam, so daß die Anhaftungsgeschwindigkeit des Toners (+) an der Oberfläche einer negativ geladenen photoleitfähigen bzw. photoelektrischen Schicht P1 langsam ist, und die Nasterplatte manchmal einem nächsten Schritt zugeführt wird, wobei ein Bereich mit nichtanhaftendem Toner verbleibt.
Insbesondere im Fall eines Bilds, welches das Anhaften eines Toners an einem großen Bereich, wie ein Bild oder Muster, erfordert, wird die Masterplatte oft einem nächsten Schritt zugeführt, während die gleichförmige Bildung eines sogenannten Volltonbildes nicht durchgeführt ist, da, wenn die Masterplatte den Entwicklungsschritt durchläuft, der Toner an nur einem Teil der photoleitfähigen Schicht P1 anhaftet, der einem Teil des Substrats P2 gegenüberliegt, der durch die Anhaftung der negativen Ionen neutralisiert wurde, und nicht an dem gesamten vorstehend beschriebenen großen Bereich anhaftet.
Bei diesem Entwicklungssystem haftet der Toner (+) weiterhin allmählich an der Elektrode (-) 11 an, die dem Substrat P2 gegenüber liegt, wodurch die Entwicklungsleistung verringert wird, und folglich ist es erforderlich, die Elektrode 11 periodisch zu reinigen.
Um die vorstehend beschriebenen Probleme zu lösen, haben die Erfinder ein Flüssigentwicklungsverfahren des direkten Zuführsystems vorgeschlagen, bei dem die Entwicklung durchgeführt wird unter Verwendung eines elastischen Leiters 12, wie gehärtetem Stahl mit einem Durchmesser von etwa 0,1 mm wie in Fig. 2 gezeigt, statt der vorstehend beschriebenen Elektrode 11 des Stands der Technik, wobei der Leiter 12 mit einem Substrat P2 einer Masterplatte P in Berührung gebracht wird, gegebenenfalls ein Schalter umgeschaltet wird und eine Spannung zwischen dem Leiter 12 und einer Elektrode 10 aus einer äußeren Energiequelle angelegt wird und Elektronen von dem Leiter 12 direkt dem Substrat P2 zugeführt werden [japanische offengelegte Patentveröffentlichung 260463/1989 (japanische Patentanmeldung 89373/1988)].
Gemäß diesem direkten Zuführungssystem werden positive Ladungen auf der Oberfläche des Substrats P2 schnell und sicher mit den Elektronen neutralisiert, die direkt von dem Leiter 12 zugeführt werden, so daß die Anhaftung von Toner an der Oberfläche einer photoleitfähigen Schicht P1 schnell und sicher durchgeführt werden kann und die Bildung eines sogenannten Volltonteils gleichmäßig und fein durchgeführt werden. Außerdem sind außer dem Fließenlassen einer Entwicklungsflüssigkeit DL zwischen der photoleitfähigen Schicht P1 und der Elektrode 10 keine weiteren Verarbeitungen notwendig, und folglich haftet der Toner (+) nicht an dem Leiter 12.
In dem Fall des vorstehend beschriebenen direkten Elektroneninjektionssystem können jedoch die Elektronen, falls das Substrat P2 einen hohen elektrischen Widerstand aufweist, nicht direkt von dem Leiter 12 zugeführt werden, und deshalb ist es notwendig, daß der Leiter 12 eine gewisse elektrische Leitfähigkeit aufweist.
Bei dem in Fig. 3 gezeigten Entwicklungssystem des Stands der Technik sind natürlich, falls die elektrische Leitfähigkeit des Substrats P2 in einem gewissen Ausmaß hoch ist, die Neutralisierungsgeschwindigkeit der negativen Ionen in der Entwicklungsflüssigkeit DL und die positiven Ladungen auf der Oberfläche des Substrats P2 etwas erhöht. Deshalb ist es von großer Bedeutung, den Widerstand des Substrats P2 in dem Bereich der Flüssigentwicklung zu verringern, und dies ist nicht nur für das vorstehend beschriebene direkte Elektroneninjektionssystem geeignet, sondern auch für das Entwicklungssystem des Stands der Technik. Außerdem ist es während der bildweisen Entwicklung für die Zwecke der Neutralisierung von negativen Ladungen auf einem belichteten Bereich der photoleitfähigen Schicht P1 mit positiven Ladungen auf der Oberfläche des Substrats P2 durch das Innere des Substrats P2 hindurch wichtig, daß das Substrat P2 einen geringen elektrischen Widerstand aufweist.
Um den elektrischen Widerstand des Substrats P2 zu verringern, ist es notwendig, eine Papiergrundlage selbst elektrisch leitfähig zu machen, um das Substrat P2 zu bilden, indem dazu ein elektrisch leitfähiges Material zugefügt wird oder um den Widerstand einer beschichteten Schicht, wie einer aus Polyethylen, die auf einer oder beiden Oberflächen einer Papiergrundlage vorgesehen ist, zu verringern, um die Wasserpermeabilität wie vorstehend beschrieben durch Hinzufügen eines elektrisch leitfähigen Materials zu der überzogenen Schicht zu verringern.
In dem Fall der überzogenen Schicht (nachstehend als "Grundierschicht" bezeichnet), die auf der photoleitfähigen Schichtseite einer Papiergrundlage vorgesehen ist, führt jedoch ein übermäßig niedriger Widerstand zu Nadellöchern (durch die Entladung verursachte Funkenmarkierungen, an denen der Toner nicht haftet), und dementsprechend ist es erforderlich, daß die Grundierschicht mindestens einen geringen Oberflächenwiderstand aufweist. Andererseits hat eine Rückschicht nichts damit zu tun, und es ist nicht notwendig, die untere Grenze des Oberflächenwiderstands zu spezifizieren.
Die EP-A-121 935 beschreibt ein elektrophotographisches Plattenherstellungsmaterial, das eine photoleitfähige Schicht auf einem Träger umfaßt. Der Träger umfaßt eine Papiersubstratschicht zwischen zwei Schichten des Polyolefinharzes, welches elektrisch leitfähigen Ruß enthält. Der Träger besitzt einen Volumenwiderstand von nicht mehr als 10¹&sup0;Ω.
Die DE-A-3 337 345 beschreibt einen Träger für ein elektrophotographisches Druckplattenherstellungsmaterial, das einen Papierträger, eine Polyolefinharzschicht (mit einem Volumenwiderstand von 10¹&sup0;Ω oder weniger) auf beiden Seiten des Papierträgers und eine ionomerische Schicht zwischen dem Papierträger und jeder Polyolefinharzschicht umfaßt. Das Ionomer wird hergestellt durch Vernetzen der Copolymere von mindestens einem α-Olefin und mindestens einer α,β-ethylenisch ungesättigten Carbonsäure mit einem einwertigen, zweiwertigen oder dreiwertigen Ions eines Metall aus der Gruppe I, II, III, IVA oder VIII des Periodensystems.
Die EP-A-349 249 (eine Entgegenhaltung gemäß Artikel 54(3) EPÜ) beschreibt eine elektrophotographische, lithographische Druckplatte, die eine Papiergrundlagenschicht umfaßt, die auf beiden Oberflächen α-Polyolefinschichten aufweist (die jeweils einen spezifischen Volumenwiderstand von nicht mehr als 10¹&sup0;Ω aufweisen), eine photoleitfähige Schicht auf einer der Polyolefinschichten und eine Rückschicht auf der anderen Polyolefinschicht. Die Rückschicht hat einen größeren Reibungskoeffizienten als die α-Polyolefinschicht und einen Oberflächenwiderstand von mehr als 10¹&sup0;Ω.

Zusammenfassung der Erfindung

Die vorliegende Erfindung ergibt sich aus Untersuchungen, um eine elektrophotographische, lithogaphische Druckplatte oder Masterplatte aufzufinden, die nicht nur für gewöhnliche Entwicklungsverfahren, sondern auch für die Entwicklung durch ein direktes Elektroneninjektionssystem geeignet ist.
Unter ihrem breitesten Aspekt sieht die vorliegende Erfindung die Verwendung einer elektrisch leitfähigen Grundlage vor, die auf einer Seite mit einer Grundierschicht beschichtet ist und auf der Grundierschicht eine photoleitfähige Schicht aufweist, die Zinkoxid als Hauptbestandteil enthält, und auf der anderen Seite mit einer Rückschicht beschichtet ist, wobei die Grundierschicht einen Oberflächenwiderstand von 1x10&sup8; bis 1x10¹&sup4;Ω und die Rückschicht einen Oberflächenwiderstand von höchstens 2x10¹&sup0;Ω aufweist.
Insbesondere sieht die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Entwicklung einer elektrophotographischen, lithographischen Druckplatte vor, die umfaßt
a) Bereitstellen einer elektrisch leitfähigen Grundlage, die auf einer Seite mit einer Grundierschicht und auf der Grundierschicht mit einer photoleitfähigen Schicht, welche Zinkoxid als Hauptbestandteil enthält, beschichtet ist, und auf der anderen Seite mit einer Rückschicht beschichtet ist, wobei die Grundierschicht einen Oberflächenwiderstand von 1 x 10&sup8; bis 1 x 10¹&sup4;Ω und die Rückschicht einen Oberflächenwiderstand von höchstens 1x10¹&sup0;Ω aufweist, welche bildweise belichtet wurde,
b) Anordnen einer Elektrode, so daß sie der photoleitfähigen Schicht gegenüber liegt,
c) Bereitstellen einer Entwicklungsflüssigkeit zwischen der Elektrode und der photoleitfähigen Schicht,
d) Anbringen eines elektrischen Leiters in Kontakt mit der Rückschicht, und
d) gegebenenfalls Anlegen einer Spannung zwischen der Elektrode und dem elektrischen Leiter.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

Die beiliegenden Zeichnungen veranschaulichen detailliert das Prinzip und die Vorzüge der vorliegenden Erfindung.
Fig. 1 ist ein Querschnitt durch eine Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Masterplatte.
Fig. 2 ist eine schematische Ansicht, um das Prinzip einer Flüssigentwicklung durch das erfindungsgemäße direkte Zuführungssystem zu zeigen.
Fig. 3 ist eine schematische Ansicht, um daß Prinzip einer Flüssigentwicklung des Stands der Technik zu zeigen.

Detaillierte Beschreibung der Erfindung

Die Masterplatte der vorliegenden Erfindung umfaßt eine photoleitfähige Schicht 1, eine elektrisch leitfähige Grundlage 2, eine Grundierschicht 3, die auf einer Seite der Grundlage vorgesehen ist, und eine Rückschicht 4, die auf der entgegengesetzten Seite vorgesehen ist, wie dies in Fig. 1 gezeigt ist.
Die Grundierschicht 3 besitzt einen Oberflächenwiderstand von 1 x 10&sup8;Ω bis 1 x 10¹&sup4;Ω und die Rückschicht besitzt einen Oberflächenwiderstand von 1 x10¹&sup0;Ω oder weniger, wodurch die folgenden Wirkungen oder Leistungen gegeben sind.
i) Während der Belichtung nach dem statischen Laden, gehen negative Ladungen auf belichteten Bereichen der photoleitfähigen Schicht 1 schnell durch die Grundierschicht 3 und die Grundlage 2, und sie neutralisieren positive Ladungen auf der Oberfläche der Rückschicht 4.
ii) Da die elektrische Leitfähigkeit der Rückschicht 4 wie vorstehend beschrieben beträchtlich hoch ist, werden positive Ladungen auf der Rückschicht 4 schnell und korrekt während der Entwicklung neutralisiert, was zu der gleichmäßigen und korrekten Bildung eines sogenannten Volltonbilds frei von Nadellöchern führt.
iii) Gemäß dem Entwicklungsverfahren durch das erfindungsgemäße direkte Elektroneninjektionssystem fließen insbesondere Elektronen, die direkt von einem Leiter zugeführt werden, schnell in die Rückschicht 4, die eine beträchtlich hohe elektrische Leitfähigkeit aufweist, und die Neutralisierung positiver Ladungen der Rückschicht 4 kann korrekt mit einer großen Geschwindigkeit durchgeführt werden.
Falls der Oberflächenwiderstand der Grundierschicht 3 1x10¹&sup4; Ω übersteigt, wird der Fluß der Ladungen behindert, und die vorstehend beschriebene Wirkung i) kann nicht erzielt werden, während, falls er weniger als 1x10&sup8;Ω ist, Nadellöcher auftreten. Falls er im Bereich von 1x10¹&sup0; bis 1x10¹³Ω liegt, können die vorstehend beschriebenen Ergebnisse sicher erhalten werden, um bessere Ergebnisse zu erzielen.
Andererseits ist, falls der Oberflächenwiderstand der Rückschicht 4 1x10¹&sup0;Ω übersteigt, der Ladungsfluß behindert und die vorstehend beschriebenen Wirkungen ii) und iii) können nicht erzielt werden.
Bei der vorliegenden Erfindung können die vorstehend beschriebene Grundierschicht 3 und die Rückschicht 4 durch das gewöhnliche Laminierungs- oder Überzugsverfahren gebildet werden. Das heißt in dem Fall des Laminierungsverfahrens wird ein elektrisch leitfähiges Material einem Matrixharz einverleibt und auf herkömmliche Weise einer Laminierung unterworfen, während in dem Fall des Überzugsverfahrens ein elektrisch leitfähiges Material einem in einem Lösungsmittel gelösten Matrixharz einverleibt wird und dann auf herkömmliche Weise dem Überziehen unterworfen wird.
Als vorstehend beschriebenes Matrixharz können α-Polyolefine verwendet werden, von denen Polyethylen, Polypropylen und Ethylen- /Buten-Copolymere typisch sind. Vor allem wird Polyethylen in der Praxis verwendet.
Als dieses Polyethylen können vorzugsweise diejenigen mit einer Dichte von 0,92 bis 0,96 g/cm³, einem Schmelzindex von 1,0 bis 30 g/10 Min., einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 20.000 bis 50.000, einem Erweichungspunkt von 110 bis 130ºC und einer Zugfestigkeit von 130 bis 300 kg/cm² verwendet werden. Mehr bevorzugt wird eine Zusammensetzung verwendet, die 10 bis 90 Gew.-% eines Polyethylens niedriger Dichte mit einer Dichte von 0,915 bis 0,930 g/cm³ und einem Schmelzindex von 1,0 bis 30 g/10 Min. und 90 bis 10 Gew.-% eines Polyethylens hoher Dichte mit einer Dichte von 0,940 bis 0,970 g/cm³ und einem Schmelzindex von 1,0 bis 30 g/10 Min. aufweist, verwendet.
Diese Zusammensetzung kann eine normale und homogene wärmebeständige laminierte Schicht liefern, bei der ein nachstehend beschriebenes elektronenleitendes Material so dispergiert werden kann, daß elektrischer Strom leicht fließt.
Das bei dem Verfahren verwendete Überzugsmittel sollte geeigneterweise in Abhängigkeit von der Vielfalt des Matrixharzes ausgewählt werden.
Beispiele von elektronenleitendem Material sind Metalloxide von Zink, Magnesium, Zinn, Barium, Indium, Molybdän, Aluminium, Titan, Silicium und dergleichen, vorzugsweise feine Teilchen von kristallinen Oxiden oder gemischte Oxide davon und Ruß (FR Patent 2 277 136 und US Patent 3 597 272) vor allem wird elektrisch leitfähiger Ruß vorzugsweise verwendet, da er in geringer Menge eine elektrische Leitfähigkeit verleiht und mit verschiedenen Natrixharzen kompatibel ist.
Die Menge des zu verwendenden elektronenleitenden Materials kann in Abhängigkeit von den Arten des Matrixharzes und des elektronenleitenden Materials nicht uneingeschränkt bestimmt werden, aber sollte im allgemeinen so eingestellt werden, um jeder der Grundierschicht 2 und der Rückschicht 4 den vorstehend beschriebenen Oberflächenwiderstand zu verleihen. Bevorzugt ist dies 0 bis 20 Gew.-% im Fall der Grundierschicht 3 und 3 bis 15 Gew.-% im Fall der Rückschicht 4.
Die Dicke der Grundierschicht 3 oder der Rückschicht 4 liegt im allgemeinen im Bereich von 5 bis 50 um, vorzugsweise von 10 bis 30 um, da, falls sie zu dünn ist, die Wasserdichtigkeit unzureichend ist, während, falls sie zu dick ist, ihre Wirkung aufgrund der Dicke nicht vergrößert ist.
Für den Zweck der Verbesserung der Haftfestigkeit zwischen der Grundierschicht 3 oder der Rückschicht 4 und der Grundlage 2 wird, falls die Grundlage eine elektrisch leitfähige Papiergrundlage ist, bevorzugt, das Papier 2 mit einem Polyethylenderivat, wie einem Ethylen-/Vinylacetat-Copolymer, einem Ethylen- /Acrylsäureester-Copolymer, einem Ethylen-/Methacrylsäureester- Copolymer, einem Ethylen-Acrylsäureester, einem Ethylen- /Methacrylsäure-Copolymer, einem Ethylen-/Acrylnitril- /Acrylsäurecopolymer oder einem Ethylen-/Acrylnitril- /Methacrylsäurecopolymer zu überziehen oder die Oberfläche des Papiers einer Koronaentladungsbehandlung zu unterziehen. Weiterhin kann das Papier 2 auch verschiedenen Oberflächenbehandlungen wie beschrieben in den japanischen of fengelegten Patentveröffentlichungen 24126/1974, 36176/1977, 121683/1977, 2612/1978, 111331/1979 und der japanischen Patentveröffentlichung 25337/1976.
Bei der vorliegenden Erfindung werden als Papier 2 elektrisch leitfähige Trägerpapiere, die im allgemeinen für elektrophotographische, lichtempfindliche Materialien verwendet werden, beispielsweise Papiere, die mit dem vorstehend beschriebenen elektronenleitenden Materialien imprägniert sind, Papiere, denen elektronenleitende Materialien während der Papierherstellung zugegeben wurden und synthetische Papiere beschrieben in den japanischen Patentveröffentlichungen 4239/1977, 19031/1978 und 19684/1978. Vor allem ist es wünschenswert solche zu verwenden, die ein Flächengewicht von 50 bis 250 g/m², vorzugsweise 50 bis 200 g/m² und eine Dicke von 50 bis 250 um aufweisen.
Bei der vorliegenden Erfindung umfaßt die photoleitfähige Schicht 1 ein photoleitfähiges Material und ein Bindemittel. Beispiele des photoleitfähigen Materials sind anorganische leitfähige Materialien wie Zinkoxid, Cadmiumsulfid und Titanoxid und organische photoleitfähige Materialien wie Phthalocyaninfarbstoff. Beispiele der Bindemittel sind Siliconharze, Polystyrol, Polyacrylate, Polymethacrylate, Polyvinylacetat, Polyvinylchlorid, Polyvinylbutyral und deren Derivate. Das Verhältnis des photoleitfähigen Materials und des Bindemittels liegt vorzugsweise im Bereich von 3:1 zu 20:1, bezogen auf das Gewicht. Falls notwendig, können Sensibilisierungsmittel und zum Überziehen verwendete Überzugshilfsmittel zugegeben werden. Die photoleitfähige Schicht 1 besitzt eine Dicke von vorzugsweise 5 bis 30 um.
Zum Zweck der Verbesserung der Haftfestigkeit zwischen der photoleitfähigen Schicht 1 und der Grundierschicht 3, wird bevorzugt, die Oberfläche der Grundierschicht 3 vorher Oberflächenbehandlungen wie einer Koronaentladungsbehandlung, einer Glimmentladungsbehandlung, Flammenbehandlungen, einer Behandlung mit ultravioletten Strahlen, einer Ozonbehandlung, einer Plasmabehandlung und dergleichen, wie in dem US Patent 3 411 908 offenbart, zu unterziehen.
Die Masterplatte der vorliegenden Erfindung wird wie vorstehend veranschaulicht zu einer lithographischen Druckplatte mittels der üblichen Schritte der statischen Ladung, der bildweisen Belichtung und der Entwicklung umgewandelt. Während dieser Zeit kann die Entwicklung nicht nur mit Hilfe des Flüssigentwicklungsverfahrens des Stands der Technik wie in Fig. 3 gezeigt, sondern auch mit Hilfe des erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahrens durchgeführt werden, das auf dem Prinzip des Flüssigentwicklungsverfahrens des direkten Zuführsystems wie in Fig. 2 gezeigt, beruht, welches die Erfinder früher in der früheren Patentanmeldung vorgeschlagen haben. Das letztere Verfahren wird bevorzugt.
Bei dem erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahren wird der Leiter 12 von Fig. 2 mit der vorstehend beschriebenen Rückschicht 4 in Kontakt gebracht, und es wird der photoleitfähigen Schicht 1 gestattet, der Elektrode 10 von Fig. 2 gegenüberzuliegen oder ein Schalter S wird umgeschaltet und eine Spannung wird zwischen der Elektrode 10 und dem Leiter 12 angelegt, damit die Elektrode 10 eine positive Elektrode wird und der Leiter 12 eine negative Elektrode wird. Falls notwendig, wird die Rückschicht 4 durch den Leiter 12 elektrisch geerdet.
Die positiven Ladungen auf der Oberfläche der Rückschicht 4, die nicht neutralisiert wurden und in dem Schritt der bildweisen Belichtung verbleiben, werden so schnell mit den Elektronen neutralisiert, die direkt von dem Leiter 12 oder Erde zugeführt werden, so daß Toner (+) schnell an der photoleitfähigen Schicht 1 (-) anhaften und neutralisiert wird.
So kann ein gleichmäßiges Volltonbild ohne die Bildung von Bereichen, an denen kein Toner anhaftet, gebildet werden.
Es ist aus der vorstehenden detaillierten Veranschaulichung klar ersichtlich, daß erfindungsgemäß die Oberflächenwiderstände der Grundierschicht und der Rückschicht, die auf beiden Oberflächen einer elektrisch leitfähigen Grundlage vorgesehen sind, jeweils optimal aufrechterhalten werden und daß folglich die Neutralisierungsgeschwindigkeit von negativen Ionen (Ladungsteuerungsmittel) in einer Entwicklungsflüssigkeit oder von Elektronen, die direkt der Rückschicht mit positiven Ladungen auf der Oberfläche der Rückschicht zugeführt werden, erhöht wird, so daß die Flüssigentwicklung korrekt, fein und schnell sowohl bei der Entwicklung des Stands der Technik als auch derjenigen des direkten Elektroneninjektionssystems durchgeführt werden kann. So kann selbst in einem sogenannten Volltonteil, ein nadellochfreies, gutes Bild erhalten werden.
Da während der bildweisen Belichtung negative Ladungen auf belichteten Bereichen der photoleitfähigen Schicht schnell durch die Grundierschicht, die elektrisch leitfähige Grundlage und die Rückschicht gehen und schnell mit den positiven Ladungen auf der Oberfläche der Rückschicht neutralisiert werden, kann außerdem die bildweise Belichtung auch korrekt, fein und schnell durchgeführt werden.
Da bei der vorliegenden Erfindung die Entwicklung durchgeführt wird, indem der Rückschicht direkt Elektronen injiziert werden, kann die Neutralisierung der Ladungen auf der Schicht schnell und korrekt durchführt werden, und folglich kann die Haftung des Tones an der photoleitfähigen Schicht gut begünstigt werden, wodurch es ermöglicht wird, ein gleichförmiges Volltonbild zu bilden.
Gemäß der vorliegenden Erfindung kann deshalb ein elektrophotographischer, lithographischer Druckplattenvorläufer oder Masterplatte mit ausgezeichneten Eigenschaften erhalten werden.
Die vorliegende Erfindung wird jetzt detaillierter mit Hilfe von Beispielen veranschaulicht, aber es ist zu beachten, daß die vorliegende Erfindung nicht darauf beschränkt ist. In diesen Beispielen bedeuten Teile und Prozentsätze Gewichtsteile und Gewichtsprozentsätze, es sei denn es ist etwas anderes angegeben.

Beispiel 1

Papier einer feinen Qualität mit einem Flächengewicht von 100 g/m² wurde mit einer 5%-igen wässerigen Lösung aus Calciumchlorid beschichtet, um eine Menge von 20 g/m² zu ergeben, und getrocknet, um ein elektrisch leitfähiges Trägerpapier 2 wie in Fig. 1 gezeigt zu erhalten.
Die Seite der Grundierschicht 3 und die Seite der Rückschicht 4 der sich ergebenden, elektrisch leitfähigen Papiergrundlage 2 wurden mit 10 Arten von Überzugsdispersionen überzogen die die folgenden Zusammensetzungen aufwiesen, um ein Trockenabdeckung von 10 g/m² und einen Oberflächenwiderstand wie in Tabelle 1 gezeigt zu ergeben, wodurch 100 Arten von erfindungsgemäßen Masterplatten erzeugt wurden.

Zusammensetzung der Überzugsdispersion zur Steuerung des Oberflächenwiderstands

Styrolbutadien-Latex (Feststoffgehalt: 50%) 100 Teile
Ruß 0-10,5
Ton (wässerige Lösung mit Feststoffgehalt von 45%) 100
Wasser 35 Tabelle 1 Überzugsdispersion Menge an zugegebenem Ruß (Teile) Oberflächenwiderstand der überzogenen und getrocketen Oberfläche (Ω)
Die Grundierschicht 3 wurde mit der folgenden Überzugszusammensetzung überzogen, um eine Trockenabdeckung von 20 g/m² zu erhalten, und zur Bildung der photoleitfähigen Schicht 1 getrocknet. Teile Photoleitfähiges Zinkoxid (Sazex 2000 - Handelsname - hergestellt von Sakai Kagaku Kogyo KK Siliconharz (KR-211 - Handelsname - hergestellt von Shinetsu Kagaku KK) Diodeosin Fluorescein Methanol Toluol
Die so erhaltenen Proben des elektrophotographischen, lithographischen Druckplattenvorläufers oder Masterplatte wurden einem statischen Aufladen, einer bildweisen Belichtung und dann einer Flüssigentwicklung durch das direkte Zuführsystem unter Verwendung einer Testvorrichtung auf der Grundlage des Prinzips von Fig. 2 unterzogen, bei dem der Leiter 12 aus gehärtetem Stahl mit einem Durchmesser von 0,1 mm mit der Rückschicht 4 in Kontakt gebracht wurde und der Schalter S umgeschaltet wurde, der Leiter 12 und die Elektrode 10 direkt ohne Verwendung einer äußeren Stromquelle kombiniert wurden.
Als Belichtungsbild wurde eine Kopie, in deren Mitte ein schwarzes, 185 x 257 mm großes Blatt (B5 Größe) geklebt wurde, verwendet, um die Gleichförmigkeit eines Volltonteils als einer erfindungsgemäßen Aufgabe zu prüfen. Eine Anzahl der sich ergebenden lithographischen Druckplattenproben wurde dann mit Bezug auf die Gleichmäßigkeit des Volltonteils, die Nadellöcher in dem Bild und die Haltbarkeit untersucht, wobei die in Tabelle 2 gezeigten Ergebnisse erhalten wurden.
Die Druckhaltbarkeit wurde durch den Schleier in dem Volltonteil nach Drucken von 3000 Blättern unter Standarddruckbedingungen unter Verwendung einer Offsetdruckmaschine Hamada 800 SX (Handelsname) beurteilt. Tabelle 2 1 - Volltondichte 2 - Nadellöcher 3 - Druckhaltbarkeit 4 - Schleier Rückschicht 4 Grundierschicht 3
Die Tabelle 2 gibt die Ergebnisse der Prüfung der Eigenschaften der Anzahl von lithographischen Druckplattenproben an unter Verwendung der Symbole o Δ x im Format 1 3 2 4
wobei 1 das Ergebnis der Prüfung der Volltondichte darstellt
2 das Ergebnis der Prüfung der Nadellöcher darstellt
3 das Ergebnis der Prüfung der Druckhaltbarkeit darstellt
und 4 das Ergebnis der Prüfung des Schleiers darstellt
Die Definition o Δ x der Nadellöcher ist wie folgt:
o: kein Nadelloch
Δ: 0 bis 10 Nadellöcher/m²
x: mehr als 10 Nadellöcher/m²
Die Definition von o Δ x Schleier ist wie folgt:
o: weniger als 0,06 bezogen auf die Reflektionsdichte
Δ: 0,06 bis 0,09 bezogen auf die Reflektionsdichte
x: mehr als 0,09 bezogen auf die Reflektionsdichte
Es ist aus Tabelle 2 ersichtlich, daß es, um Eigenschaften zu erzielen, die keine Probleme bezüglich der Volltondichte, der Druckhaltbarkeit, der Nadellöcher und des Schleiers durch das direkte Zuführsystem aufweisen, erforderlich ist, den Oberflächenwiderstand der Grundierschicht 3 mit 1x10&sup8; bis 1x10¹&sup4;Ω, vorzugsweise 1x10¹&sup0; bis 1x10¹³Ω und die der Rückschicht 4 mit höchstens 1x10¹&sup0;Ω zu spezifizieren.

Claims

1. Verwendung einer elektrisch leitfähigen Grundlage, die auf einer Seite mit einer Grundierschicht und, auf der Grundierschicht, mit einer photoelektrischen Schicht, welche Zinkoxid als überwiegende Komponente enthält, beschichtet ist, und auf der anderen Seite mit einer Rückschicht beschichtet ist, wobei die Grundierschicht einen Oberflächenwiderstand (surface resistivity) von 1 x 10&sup8; bis 1 x 10¹&sup4; Ω hat und die Rückschicht einen Oberflächenwiderstand von höchstens 1 x 10¹&sup0; Ω hat, als Ausgangsmaterial für eine elektrophotographische lithographische Druckplatte in einem direkten Elektroneninjektions-Entwicklungssystem.

2. Verfahren zum Entwickeln eines Ausgangsmaterials für eine elektrophotographische lithographische Druckplatte, umfassend

a) Bereitstellen einer elektrisch leitfähigen Grundlage, die auf einer Seite mit einer Grundierschicht und, auf der Grundierschicht, mit einer photoelektrischen Schicht, welche Zinkoxid als überwiegende Komponente enthält, beschichtet ist, und auf der anderen Seite mit einer Rückschicht beschichtet ist, wobei die Grundierschicht einen Oberflächenwiderstand von 1 x 10&sup8; bis 1 x 10¹&sup4; Ω hat und die Rückschicht einen Oberflächenwiderstand von höchstens 1 x 10¹&sup0; Ω hat, welche bildmäßig belichtet wurde,

b) Anordnen einer Elektrode, so daß sie der photoelektrischen Schicht gegenüberliegt,

c) Bereitstellen einer Entwicklungsflüssigkeit zwischen der Elektrode und der photoelektrischen Schicht,

d) Anbringen eines elektrischen Leiters in Kontakt mit der Rückschicht, und

e) gegebenenfalls Anlegen einer Spannung zwischen der Elektrode und dem elektrischen Leiter.

3. Verfahren nach Anspruch 2, worin die Rückschicht ein elektronenleitendes Material in einem Matrixharz umfaßt.

4. Verfahren nach Anspruch 3, worin das elektronenleitende Material gewählt wird aus feinen Metalloxidteilchen aus Zink, Magnesium, Zinn, Barium, Indium, Molybdän, Aluminium, Titan und Silicium, feinen Teilchen von kristallinen Metalloxiden und gemischten Metalloxiden davon und Rußen.

5. Verfahren nach Anspruch 2, 3 oder 4, worin die Grundierschicht oder Rückschicht eine Dicke von 5 bis 50 um hat.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5, worin die photoelektrische Schicht aus einem Bindemittel und photoelektrischem Material besteht.

7. Verfahren nach Anspruch 6, worin das Bindemittel gewählt wird aus Siliconharzen, Polystyrol, Polyacrylsäureestern, Polymethacrylsäureestern, Polyvinylacetat, Polyvinylchlorid, Polyvinylbutyral und Derivaten davon.

8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, worin das photoelektrische Material ein anorganisches photoelektrisches Material ist, das gewählt wird aus Zinkoxid, Cadmiumsulfid und Titanoxid.

9. Verfahren nach Anspruch 6, 7 oder 8, worin das photoelektrische Material und Bindemittel in einem Verhältnis von 3:1 bis 20:1, bezogen auf das Gewicht, vorliegen.

10. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 9, worin die photoelektrische Schicht eine Dicke von 5 bis 30 um hat.