DE668274C - Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Metallueberzuegen auf Gegenstaenden mit nicht leitender Oberflaeche - Google Patents

Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Metallueberzuegen auf Gegenstaenden mit nicht leitender Oberflaeche

Info

Publication number
DE668274C
DE668274C DEL91820D DEL0091820D DE668274C DE 668274 C DE668274 C DE 668274C DE L91820 D DEL91820 D DE L91820D DE L0091820 D DEL0091820 D DE L0091820D DE 668274 C DE668274 C DE 668274C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
copper
conductive surface
objects
metal coatings
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEL91820D
Other languages
English (en)
Inventor
Rudolf Laux
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Langbein Pfanhauser Werke AG
Original Assignee
Langbein Pfanhauser Werke AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Langbein Pfanhauser Werke AG filed Critical Langbein Pfanhauser Werke AG
Priority to DEL91820D priority Critical patent/DE668274C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE668274C publication Critical patent/DE668274C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/188Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by direct electroplating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1646Characteristics of the product obtained
    • C23C18/165Multilayered product
    • C23C18/1653Two or more layers with at least one layer obtained by electroless plating and one layer obtained by electroplating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

  • Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Metallüberzügen auf Gegenständen mit nicht leitender Oberfläche Es sind verschiedene Verfahren bekannt, um auf elektrolytischem Wege Metallüberzüge auf Gegenständen aus Isolierstoff bzw. mit nicht leitender Oberfläche zu erzeugen. Für die Durchführung solcher Verfahren muß zuerst die Oberfläche des Gegenstandes leitend gemacht werden, z. B. durch Graphitierung, durch Abscheidung eines Metallspiegels aus einer reduzierenden Lösung usw. Auf diesen ersten leitenden Oberflächenbelag wird dann gewöhnlich zunächst eine Kupferschicht auf elektrolytischem Wege aus cyankalischen oder aus sauren Kupferbädern niedergeschlagen und schließlich ein weiterer elektrolytischer Niederschlag eines anderen Metalls er-zeugt.
  • Die vorliegende, Erfindung bezieht sich insbesondere auf solche Verfahren, bei denen der erste leitende Oberflächenbelag des Gegenstandes aus einem hauchdürren Metallbelag, z. B. einem' Silberspiegel oder einem Kupferspiegel, besteht, der durch chemische Reduktion aus einer entsprechenden Metallsalzlösung abgeschieden ist. Es hat sich gezeigt, äaß .ein solcher hauchdünner Metallbelag beim Einhängen des Gegenstandes in diejenigen galvanischen Bäder, welche gewöhnlich - zur -elektrolytischen. Abscheidung von Kupfer dienen, nämlich saure galvanoplastische Kupferbäder oder auch cyankalische Kupferbäder, von diesen Bädern lösend angegriffen wird, so daß ein erheblicher Teil Ausschuß entsteht, weil die galvanoplastischen Kupferniederschläge dann unregelmäßig bzw. lückenhaft ausfallen.
  • Die Erfindung bezweckt, diese Übelstände zu beheben. Dies wird gemäß.der Erfindung dadurch erreicht, daß der z. B. .mit einem Silberspiegel versehene Gegenstand vor dem Einhängen in eines der üblichen galvanischen Verkupferungsbäder einige Zeit kathodisch in einer Kupfersulfatlösung behandelt wird, deren pri-Zahl etwa 3,q. ,bis z,8 beträgt. Dies entspricht wäßrigen Lösungen von Kupfersulfat; welche bis -zu etwa-x5;.g'freie Schwefelsäure im Liter enthalten. ..1,?ie . Konzentration -des Kupfersulfats beträgt la@ei" weckmäßig nur etwa 4o bis i oo g im Liter. In solchen Bädern wird eine einwandfreie elektrolytische Verkupferung des hauchdünnen Metallspiegels erzielt, ohne dessen teilweise Lösung oder sonstige Beschädigung beim Einhängen befürchten. zu müssen. Man kann Gegenstände mit einem Silberspiegel sogar mehrere Stunden ohne Strom in der Kupfersulfatlösung hängenlassen.
  • An sich sind Kupfergalvanoplastikbäder bekannt, die bei einem verhältnismäßig hohen Gehalt an: Kupfersulfat von mehr als 300 g nur 2 g Schwefelsäure im Liter enthalten. Es war jedoch nicht erkannt worden, daß diese bisher für graphische Zwecke angewandten Kupferbäder für die erste Verkupferung hauchdünner Metallspiegel auf nicht leitenden Stoffen besondere Vorteile bieten.
  • Nachdem der Metallspiegel in den gemäß der Erfindung ausgebildeten galvanischen Kupferbade gut mit Kupfer gedeckt ist, lmm die weitere Verstärkung des Kupferniederschlages in einem der üblichen galvanischen Verkupferungsbäder erfolgen, beispielsweise in einem in der Galvanoplastik üblichen Kupferbade, welches etwa Zoo bis 300 g Kupfersulfat und etwa 15 bis 40 g freie Schwefelsäure im Liter enthält und dessen pH-Zahl etwa i, i bis o,9 beträgt.

Claims (2)

  1. PATENTANSPRÜcHL: i. Verfahren zur elektrolytischen. Herstellung von Metallüberzügen auf Gegenständen aus Isolierstoffen bzw. finit nicht leitender Oberfläche, die zunächst eine leitende Oberfläche. in Form einer hauchdünnen Metallabscheidung, z. B. eines durch Reduktion gewonnenen Silberspiegels, erhalten, dadurch gekennzeichnet, daß der Gegenstand mit dem hauchdünnen Metallbelag katholisch in einer Kupfersulfatlösung mit einer pH-Zahl von etwa. 3,4 bis 1,8 behandelt und der Kupferniederschlag dann in einem der üblichen galvanischen Verkupferungshäder verstärkt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Kupfersulfatlösung neben einem Gehalt an freier Schwefelsäure bis zu etwa 2,5 g nur etwa 4o bis i oo g Kupfersulfat im Liter enthält.
DEL91820D 1937-01-13 1937-01-14 Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Metallueberzuegen auf Gegenstaenden mit nicht leitender Oberflaeche Expired DE668274C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEL91820D DE668274C (de) 1937-01-13 1937-01-14 Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Metallueberzuegen auf Gegenstaenden mit nicht leitender Oberflaeche

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE493485X 1937-01-13
DEL91820D DE668274C (de) 1937-01-13 1937-01-14 Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Metallueberzuegen auf Gegenstaenden mit nicht leitender Oberflaeche

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE668274C true DE668274C (de) 1938-11-30

Family

ID=25944636

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEL91820D Expired DE668274C (de) 1937-01-13 1937-01-14 Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Metallueberzuegen auf Gegenstaenden mit nicht leitender Oberflaeche

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE668274C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1274648B (de) * 1963-11-07 1968-08-08 Ibm Verfahren zur Herstellung eines Duennfilmspeicherelements und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1274648B (de) * 1963-11-07 1968-08-08 Ibm Verfahren zur Herstellung eines Duennfilmspeicherelements und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
DE1274648C2 (de) * 1963-11-07 1969-03-27 Ibm Verfahren zur Herstellung eines Duennfilmspeicherelements und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69211167T2 (de) Verfahren zum direkten Zinkelektroplattieren von Aluminiumband
DE2947998C2 (de)
DE3505473C1 (de) Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold-Indium-Legierungsueberzuegen
DE647334C (de) Elektrolyt zur Erzeugung elektrolytischer Niederschlaege von Ruthenium
DE1521097A1 (de) Verfahren zum Herstellen korrosionsfreier,oberflaechenbehandelter Stahlbleche
DE3211782A1 (de) Bad und verfahren zum anodisieren von aluminierten teilen
DE668274C (de) Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von Metallueberzuegen auf Gegenstaenden mit nicht leitender Oberflaeche
DE1771241A1 (de) Plattierte Gegenstaende
DE2254857B2 (de) Verfahren zur Herstellung von abnutzungsfesten Nickeldispersionsüberzügen
CH644158A5 (de) Verfahren zum galvanisieren von chromschichten dicker als 5 mikrometer.
DE3108467C2 (de) Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung
DE1801819A1 (de) Verfahren zum oertlich begrenzten galvanischen UEberziehen von Oberflaechen elektrisch nichtleitender Gegenstaende
DE2114543B2 (de) Verfahren zur herstellung einer elektrode zur verwendung in elektrolytischen verfahren
DE873478C (de) Verfahren zum Aufbringen von Hartchromschichten auf Leichtmetall
DE3108508A1 (de) Bad zur galvanischen abscheidung einer palladium/nickel-legierung
DE1496823B1 (de) Verfahren zum galvanischen Abscheiden von korrosionsbestaendigen,dreischichtigen Nickel- oder Nickel-Kobalt-Legierungsueberzuegen auf Metallen
DE692124C (de) Verfahren zur elektrolytischen Oxydation von Eisen und Stahl
DE3619386C2 (de)
DE1421960A1 (de) Verfahren zur Oberflaechenbehandlung eines niedrig kohlenstoffhaltigen Stahls fuer die Elektroplattierung
DE2014122A1 (de) Verfahren zum Herstellen elektrolytischer Rutheniumüberzüge und wässrige Elektrolysebäder zur Durchführung dieses Verfahrens
DE764419C (de) Verfahren zur Erzeugung festhaftender Metallueberzuege auf Aluminium und Aluminiumlegierungen
DE973986C (de) Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Indium, insbesondere Indiumueberzuegen
DE1260917B (de) Saures galvanisches Zinn-Nickel-Bad
DE667199C (de) Elektrolyt zur Erzeugung von Rhodiumablagerungen
DE2105626C3 (de) Galvanisches Palladiumbad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von glänzenden, rissfreien Palladiumschichten unter Verwendung dieses Bades