DE60200154T2 - Metallischer Gegenstand mit mehrlagigem Belag - Google Patents
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Description
- Erfindungsgebiet
- Diese Erfindung betrifft Metallartikel, die für Lötbarkeit und Korrosionsschutz beschichtet sind. Insbesondere betrifft sie einen Artikel mit einem Mehrschichtüberzug, der eine Schicht aus Zinn oder Zinnlegierung und eine Metallaußenschicht umfasst, um das Wachstum von Zinn-Whiskern zu hemmen. Der Oberflächenüberzug ist besonders nützlich für elektrische Anschlussstücke und Leitungsrahmen von integrierten Schaltkreisen.
- Stand der Technik
- Hochwertige Anschlussstücke gewinnen in vielen unterschiedlichen Produkten an Bedeutung, einschließlich Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräteanwendungen, Computern, Kraftfahrzeugen, Telekommunikation, Robotern und Militärausrüstung. Anschlussstücke liefern die Wege, über die elektrischer Strom von einem Bauelement zum nächsten fließt. Hochwertige Anschlussstücke sollten in hohem Maße leitfähig, korrosionsbeständig, verschleißbeständig, leicht durch Lot zu verbinden und preisgünstig sein.
- Leider hat kein Einzelmaterial alle erwünschten Eigenschaften. Kupfer und viele seiner Legierungen sind in hohem Maße leitfähig, unterliegen in typischen Umgebungen jedoch der Korrosion, wodurch reaktive Oxide und Sulfide erzeugt werden. Die reaktiven Korrosionsprodukte verringern die Leitfähigkeit der Anschlussstücke und die Zuverlässigkeit der Zwischenverbindung. Die Korrosionsprodukte stören auch die Bildung und Zuverlässigkeit von Lötbindungen und können zu anderen elektronischen Komponenten migrieren, die sie nachteilig beeinflussen.
- Dünne Zinnschichten sind auf Kupferoberflächen aufgetragen worden, um Korrosionsbeständigkeit und Lötbarkeit zu liefern. Zinn lässt sich leicht auftragen, ist ungiftig, liefert Korrosionsschutz und hat eine hervorragende Lötbarkeit. Leider unterliegen Zinnbeschichtungen spontanem Wachstum von Metallfilamenten, die als Zinn-"Whisker" bezeichnet werden. Diese Whisker haben sich als eine Ursache für Kurzschlussversagen in Niederspannungsgeräten erwiesen. Zudem können sich Whisker-Fragmente lösen und in Bauelementpackungen ansammeln, was zu Kurzschlüssen an Stellen führt, die von ihrer Quelle entfernt sind, und der elektromechanische Betrieb kann gestört werden. Daher wäre es vorteilhaft, Metallartikel mit Whisker-freien Zinnbeschichtungen zu versehen.
- Kurzdarstellung der Erfindung
- Erfindungsgemäß wird ein Metallsubstrat mit einem Mehrschichtüberzug beschichtet, der eine Schicht aus Zinn oder Zinnlegierung und eine äußere Metallschicht umfasst. Eine optionale Metallunterschicht kann zwischen dem Substrat und dem Zinn angeordnet werden. In einer beispielhaften Ausführungsform umfasst das Metallsubstrat Kupferlegierung, die mit einer Nickelunterschicht, einer Schicht aus Zinn und einer äußeren Metallschicht aus Palladium beschichtet ist. Die resultierende Struktur ist besonders brauchbar als elektrisches Anschlussstück oder Leitungsrahmen.
- Kurzdarstellung der Zeichnungen
- Die Vorteile, die Natur und verschiedene zusätzliche Merkmale der Erfindung werden nach Betrachtung der beispielhaften Ausführungsformen deutlicher, die nun im Detail im Zusammenhang mit den angefügten Zeichnungen beschrieben werden:
-
1 ist ein schematischer Querschnitt eines erfindungsgemäß beschichteten Metallartikels; -
2 ist ein Blockdiagramm, das die Schritte zeigt, die an der Herstellung des beschichteten Metallartikels von1 beteiligt sind; -
3 zeigt ein Substrat zur Herstellung eines elektrischen Anschlussstücks unter Verwendung des Verfahrens von2 ; -
4A und4B sind Fotografien, die die Erfindung mit einem herkömmlich beschichteten Artikel vergleichen; und -
5 zeigt ein Substrat zur Herstellung eines Leitungsrahmens eines integrierten Schaltkreises. - Es sei darauf hingewiesen, dass diese Zeichnungen der Illustration der erfindungsgemäßen Konzepte dienen und nicht maßstabgerecht sind.
- Detaillierte Beschreibung
-
1 ist ein schematischer Querschnitt eines Metallsubstrats10 , das mit einem Mehrschichtüberzug11 beschichtet ist, einschließlich einer optionalen Metallunterschicht12 , einer Zwischenschicht13 aus Zinn oder einer Zinnlegierung, die Whisker-Bildung unterliegt, und einer äußeren Metallschicht14 aus Metall zur Hemmung der Whisker-Bildung in aufsteigender Reihenfolge von dem Substrat. Das Metallsubstrat ist in der Regel ein leitfähiges Metall, wie Kupfer, Kupferlegierung, Eisen oder Eisenlegierung, die in typischen Umgebungen der Korrosion unterliegen. Die optionale Unterschicht ist vorteilhaft ein Metall mit niedriger Porosität wie Nickel, Nickellegierung, Kobalt oder Kobaltlegierung. Es ist vorzugsweise eine amorphe Legierung. Nickel-Phosphor-Legierung mit Phosphor ≥ etwa 10 Gew.-% ist befriedigend für Substrate, die Kupfer oder Eisen umfassen. Nickel-Phosphor-Wolfram oder Kobalt-Phosphor können auch verwendet werden. Die Zwischenschicht13 ist Zinn oder eine Zinnlegierung, die Whisker-Wachstum unterliegt, wie Zinn-Kupfer, Zinn-Wismut, Zinn-Silber, Zinn-Nickel, Zinn-Zink oder Zinn-Kupfer-Silber. Die äußere Schicht (oder Schichten)14 ist bzw. sind aus Metall oder Legierung, das bzw. die die Whisker-Bildung hemmt. Es kann Palladium, Rhodium, Ruthenium, Platin, Kupfer, Silber, Iridium, Wismut oder eine Legierung aus einem oder mehreren dieser Metalle sein. Die optionale Unterschicht12 kann eine Dicke im Bereich von etwa 0 bis 10 μm haben. Die Zinnschicht13 hat in der Regel eine Dicke von etwa 0,5 bis 10 μm, und die äußere Metallschicht14 ist vorzugsweise etwa 5 bis 10 000 Å. - Die Erfindung wird durch Betrachtung der folgenden spezifischen Beispiele näher erläutert, die die erfindungsgemäße Fertigung beschichteter Metallartikel beschreibt.
- Beispiel 1
- Elektrisches Anschlussstück
-
2 ist ein Blockdiagramm der Schritte zur Herstellung eines elektrischen Anschlussstücks aus beschichtetem Metall. Der erste Schritt, der in Block A gezeigt ist, ist die Bereitstellung eines Metallsubstrats. Das Substrat kann zu einer gewünschten Konfiguration geformt werden, wie durch Stanzen oder Ätzen eines Metallrohlings. -
3 illustriert ein Substrat für ein elektrisches Anschlussstück30 mit einem Anschlussstückkörper31 und dazugehörigem Stift32 . Das Anschlussstück31 und der Stift32 sind aus Metall mit hoher Leitfähigkeit gefer tigt, wie Kupfer-Nickel-Zinn-Legierung Nr. 725 (88,2 Gew.-% Cu, 9,5 Ni, 2,3 Sn; ASTM Spezifikation Nr. B122). - Der nächste Schritt, der optional ist, ist das Beschichten des leitfähigen Substrats
11 mit einer Metallunterschicht12 , wie amorphem Nickel-Phosphor. Die Unterschicht12 kann eine Dicke von 0 bis etwa 5 μm haben. Es kann Ni-P mit einem P-Gehalt höher als etwa 10 Gew.-% galvanisch abgeschieden werden, um eine amorphe Struktur zu gewährleisten. Eine geeignete amorphe Ni-P-Schicht kann galvanisch unter Verwendung der folgenden Badzusammensetzung abgeschieden werden: -
- Der nächste Schritt, der in Block D gezeigt ist, besteht in der Auftragung der äußeren Metallschicht
14 über der Schicht13 . Es hat sich herausgestellt, dass durch die richtige Wahl der äußeren Metallschicht das Wachstum von Zinn-Whiskern gehemmt wird. Die äußere Metallschicht14 ist aus einem Edelmetall (Palladium, Iridium, Rhodium, Ruthenium, Platin oder deren Legierungen wie Palladium-Nickel oder Palladium-Kobalt) zusammengesetzt. Sie kann auch Kupfer, Silber, Wismut oder deren Legierungen sein. Die äußere Schichtdicke liegt im Bereich von etwa 5 bis 10 000 Å. Eine geeignete Palladiumschicht kann aus der Palladiumgalvanisierlösung abgeschieden werden, die inUS-A-4 911 799 US-A-4 911 798 US-A-5 976 344 - Um diesen neuen Überzug zu testen, wurde Kupfer mit unterschiedlichen Überzügen einschließlich Zinnschichten metallisiert und bei einer Temperatur von 50°C gealtert. Die gealterten Oberflächen wurden dann unter Verwendung eines Rasterelektronenmikroskops (SEM) mit hohen Vergrößerungen (bis zu 100 000-fach) auf Whisker untersucht. Es wurden in dem neuen Überzug nach zweimonatiger Alterung keine Whisker gefunden. Bei dem herkömmlichen Zinnüberzug ohne Deckbeschichtung wurden Whisker gefunden.
4A ist ein SEM-Bild des erfindungsgemäßen Überzugs nach zweimonatiger Alterung bei 50°C. Es sind keine Whisker vorhanden.4B ist ein SEM eines herkömmlichen Zinnüberzugs ohne Deckbeschichtung. Es sind Whisker vorhanden. - Beispiel 2
- Leitungsrahmen für einen integrierten Schaltkreis
- Ein Leitungsrahmen für einen integrierten Schaltkreis kann auch nach dem in
2 illustrierten Verfahren hergestellt werden. Die einzigen Unterschiede bestehen darin, dass das Substrat anders ist und die Dicke der äußeren Beschichtung größer sein kann (z. B. 0,5 bis 15 μm) . -
5 illustriert ein Substrat50 , das zur Konfiguration zur Verwendung als Leitungsrahmen für einen integrierten Schaltkreis (IC) gestaltet worden ist. Das Substrat50 schließt einen Ausleger52 , auf dem das IC montiert werden soll, und die Zuleitungen53 ein, an die das IC gebunden werden soll. Sperrschienen54 verbinden die Leitungen vor dem Verpacken miteinander. Nachdem der integrierte Schaltkreis eingebunden und ein Verpackungsmedium über einem Bereich aufgebracht worden ist, der in Phantomlinien55 gezeigt ist, werden die Sperrschienen54 weggeschnitten. - Das Substrat des Leitungsrahmens kann eine Kupferlegierung sein, wie Legierung Nr. 151 (99,9 Gew.-% Cu, 0,1% Zr) oder Legierung Nr. 194 (97,5 Gew.-% Cu, 2,35% Fe, 0,03% P, 0,12% Zn). Andere leitfähige Metalle und Legierungen, wie Legierung Nr. 42 (42 Gew.-% Ni, 58% Fe) können auch verwendet werden.
- Ein integrierter Schaltkreis
56 wird montiert und an das Substrat gebunden, und das Substrat wird nach dem in2 illustrierten Verfahren beschichtet.
Claims (7)
- Beschichteter Metallartikel, der ein Metallsubstrat (
10 ) umfasst, wobei über dem Substrat ein Mehrschichtoberflächenüberzug (11 ) liegt, der eine Schicht (13 ) aus Zinn oder Zinnlegierung und eine äußere Metallschicht (14 ) umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die äußere Metallschicht ein Metall ausgewählt aus Palladium, Iridium, Rhodium, Ruthenium, Platin, Kupfer, Silber, Wismut oder einer Legierung davon umfasst. - Artikel nach Anspruch 1, der des Weiteren eine Unterschicht (
12 ) aus Metall ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Nickel, Nickellegierung, Kobalt und Kobaltlegierung umfasst. - Artikel nach Anspruch 1, der des Weiteren eine Unterschicht umfasst, wobei die Unterschicht (
12 ) ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Nickel-Phosphor, Nickel-Phosphor-Wolfram und Kobalt-Phosphor. - Artikel nach Anspruch 1, bei dem das Metallsubstrat (
10 ) ein Metall ausgewählt aus Kupfer, Kupferlegierung, Eisen, Eisenlegierung, Nickel oder Nickellegierung umfasst. - Artikel nach Anspruch 1, bei dem die Schicht (
13 ) aus Zinn oder Zinnlegierung eine Dicke im Bereich von 0,5 bis 10 μm hat und die äußere Metallschicht (14 ) eine Dicke im Bereich von 5 bis 10 000 Å hat. - Elektrisches Anschlussstück (
30 ), das einen beschichteten Metallartikel nach Anspruch 1 umfasst. - Leitungsrahmen für einen integrierten Schaltkreis, der einen beschichteten Metallartikel nach Anspruch 1 umfasst.
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---|---|---|---|
US09/853,800 US20020185716A1 (en) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | Metal article coated with multilayer finish inhibiting whisker growth |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE60200154D1 DE60200154D1 (de) | 2004-02-05 |
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---|---|---|---|
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DE (1) | DE60200154T2 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012213505A1 (de) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | Tyco Electronics Amp Gmbh | Schicht für ein elektrisches Kontaktelement, Schichtsystem und Verfahren zur Herstellung einer Schicht |
DE102014117410A1 (de) * | 2014-11-27 | 2016-06-02 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Elektrisches Kontaktelement, Einpressstift, Buchse und Leadframe |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1260614B1 (de) * | 2001-05-24 | 2008-04-23 | Shipley Co. L.L.C. | Zinn Platierung |
US7391116B2 (en) * | 2003-10-14 | 2008-06-24 | Gbc Metals, Llc | Fretting and whisker resistant coating system and method |
KR20070006747A (ko) * | 2004-01-21 | 2007-01-11 | 엔쏜 인코포레이티드 | 전자부품의 주석 표면에서 납땜성의 보존과 휘스커 증식의억제 방법 |
US20050249969A1 (en) * | 2004-05-04 | 2005-11-10 | Enthone Inc. | Preserving solderability and inhibiting whisker growth in tin surfaces of electronic components |
US20050249968A1 (en) * | 2004-05-04 | 2005-11-10 | Enthone Inc. | Whisker inhibition in tin surfaces of electronic components |
JP2005264261A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Oriental Mekki Kk | 電子部品材料 |
US20060266446A1 (en) * | 2005-05-25 | 2006-11-30 | Osenbach John W | Whisker-free electronic structures |
US7615255B2 (en) * | 2005-09-07 | 2009-11-10 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Metal duplex method |
JP4817095B2 (ja) * | 2005-10-03 | 2011-11-16 | 上村工業株式会社 | ウィスカ抑制表面処理方法 |
US20070287022A1 (en) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Honeywell International, Inc. | Intumescent paint coatings for inhibiting tin whisker growth and methods of making and using the same |
US20070295530A1 (en) * | 2006-06-07 | 2007-12-27 | Honeywell International, Inc. | Coatings and methods for inhibiting tin whisker growth |
US20070284700A1 (en) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Honeywell International, Inc. | Coatings and methods for inhibiting tin whisker growth |
US20070287023A1 (en) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Honeywell International, Inc. | Multi-phase coatings for inhibiting tin whisker growth and methods of making and using the same |
US10231344B2 (en) | 2007-05-18 | 2019-03-12 | Applied Nanotech Holdings, Inc. | Metallic ink |
US8404160B2 (en) | 2007-05-18 | 2013-03-26 | Applied Nanotech Holdings, Inc. | Metallic ink |
JP2009097053A (ja) * | 2007-10-19 | 2009-05-07 | Hitachi Ltd | 金属条、コネクタ、および金属条の製造方法 |
US8506849B2 (en) | 2008-03-05 | 2013-08-13 | Applied Nanotech Holdings, Inc. | Additives and modifiers for solvent- and water-based metallic conductive inks |
US9730333B2 (en) | 2008-05-15 | 2017-08-08 | Applied Nanotech Holdings, Inc. | Photo-curing process for metallic inks |
WO2010005088A1 (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-14 | 第一電子工業株式会社 | 電子部品およびその製造方法 |
CN102365713B (zh) | 2009-03-27 | 2015-11-25 | 应用纳米技术控股股份有限公司 | 增强光和/或激光烧结的缓冲层 |
US8422197B2 (en) | 2009-07-15 | 2013-04-16 | Applied Nanotech Holdings, Inc. | Applying optical energy to nanoparticles to produce a specified nanostructure |
JP5481282B2 (ja) * | 2010-06-07 | 2014-04-23 | 神鋼リードミック株式会社 | 電子部品材 |
DE102011078546A1 (de) * | 2011-07-01 | 2013-01-03 | Tyco Electronics Amp Gmbh | Elektrische Kontaktbeschichtung |
JP6046406B2 (ja) | 2011-07-26 | 2016-12-14 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 高温耐性銀コート基体 |
JP5086485B1 (ja) * | 2011-09-20 | 2012-11-28 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電子部品用金属材料及びその製造方法 |
JP2012046827A (ja) * | 2011-11-18 | 2012-03-08 | Fujitsu Ltd | めっき皮膜及びその形成方法並びに電子部品 |
JP5966506B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-08-10 | 山一電機株式会社 | 電気接点の製造方法 |
TWI448385B (zh) * | 2012-04-12 | 2014-08-11 | Juant Technology Co Ltd | 有色膜結構作為增加產品外觀之用途與用於增加產品外觀之有色膜結構之製造方法 |
WO2014011578A1 (en) | 2012-07-09 | 2014-01-16 | Applied Nanotech Holdings, Inc. | Photosintering of micron-sized copper particles |
JP2014182976A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-29 | Enplas Corp | 電気接触子及び電気部品用ソケット |
JP6085536B2 (ja) * | 2013-08-05 | 2017-02-22 | 株式会社Shカッパープロダクツ | 銅条、めっき付銅条、リードフレーム及びledモジュール |
US9070392B1 (en) | 2014-12-16 | 2015-06-30 | Hutchinson Technology Incorporated | Piezoelectric disk drive suspension motors having plated stiffeners |
US10121752B2 (en) | 2015-02-25 | 2018-11-06 | Intel Corporation | Surface finishes for interconnection pads in microelectronic structures |
WO2017003782A1 (en) | 2015-06-30 | 2017-01-05 | Hutchinson Technology Incorporated | Disk drive head suspension structures having improved gold-dielectric joint reliability |
JP6450300B2 (ja) * | 2015-10-20 | 2019-01-09 | 松田産業株式会社 | ルテニウムを含む積層めっき被覆材及びその製造方法 |
WO2018047913A1 (ja) * | 2016-09-12 | 2018-03-15 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
JP6852626B2 (ja) * | 2016-09-12 | 2021-03-31 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
MY192687A (en) * | 2016-10-24 | 2022-09-01 | Atotech Deutschland Gmbh | A method of depositing a tin layer on a metal substrate and a use of a structure comprising a nickel/phosphorous alloy underlayer and said tin layer with said method |
JP6649915B2 (ja) * | 2017-04-21 | 2020-02-19 | 松田産業株式会社 | ルテニウムを含む積層めっき被覆材 |
WO2019031549A1 (ja) * | 2017-08-08 | 2019-02-14 | 三菱マテリアル株式会社 | 銀皮膜付端子材及び銀皮膜付端子 |
JP7121881B2 (ja) * | 2017-08-08 | 2022-08-19 | 三菱マテリアル株式会社 | 銀皮膜付端子材及び銀皮膜付端子 |
CN109509731A (zh) * | 2017-09-14 | 2019-03-22 | 屏东科技大学 | 半导体的锡银接合结构及其制造方法 |
JP2023056185A (ja) * | 2021-10-07 | 2023-04-19 | Eeja株式会社 | PtRu合金めっき膜及び該PtRu合金めっき膜を備える積層構造 |
US20230304180A1 (en) | 2022-03-24 | 2023-09-28 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Method of inhibiting tarnish formation and corrosion |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4243570C1 (de) * | 1992-12-22 | 1994-01-27 | Heraeus Gmbh W C | Elektrischer Kontaktkörper |
DE4317950A1 (de) * | 1993-05-28 | 1994-12-01 | Siemens Ag | Beschichtetes Metallband als Halbzeug für elektrische Kontaktstücke und Verfahren zum Aufbringen derartiger Kontaktstücke auf einen Träger |
US5780172A (en) * | 1995-12-18 | 1998-07-14 | Olin Corporation | Tin coated electrical connector |
-
2001
- 2001-05-11 US US09/853,800 patent/US20020185716A1/en not_active Abandoned
-
2002
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