DE60114527T2

DE60114527T2 - Beschichtungsmethode und Apparat für thermisch entwickelbares photoempfindliches Material

Info

Publication number: DE60114527T2
Application number: DE60114527T
Authority: DE
Inventors: Kenji Nakajima
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2000-09-04
Filing date: 2001-08-30
Publication date: 2006-06-08
Anticipated expiration: 2021-08-31
Also published as: CN1342526A; DE60114527D1; EP1184087B1; US20020028298A1; EP1184087A3; JP2002072409A; EP1184087A2; US6592946B2; CN1224466C

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Beschichtungsverfahren und eine Vorrichtung gemäß den Oberbegriffen der Ansprüche 1 und 2, für ein wärmeentwicklungslichtempfindliches Material.
Auf dem Gebiet des medizinischen Diagnosefilms und des fotomechanischen Films, sollten flüssige Abfälle vom Standpunkt des Umweltschutzes und des Raumsparens reduziert werden. Ein wärmeentwicklungs-lichtempfindliches Material kann effektiv durch einen Laserbilderzeuger oder einen Laserbildgeber belichtet werden, und es kann ein schwarzes Bild mit hoher Auflösung darauf erzeugt werden. Das wärmeentwickelungslichtempfindliche Material erfordert keine Lösungsmittelbehandlung von chemischen Substanzen, um ein einfaches, umweltschonendes, Wärmeentwicklungs-Entwicklungssystem zu schaffen.
Das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material wird derart hergestellt, dass eine lichtempfindliche Schicht und eine Schutzschicht auf einer Bahn ausgebildet werden. Die lichtempfindliche Schicht enthält organische Silberoxide, lichtempfindliche Silberhalogenide, und einen hydrophoben Polymerlatex oder dergleichen als Bindemittel, wobei die Schutzschicht mindestens ein wasserlösliches Polymer als Bindemittel enthält. Da die Viskositätsmerkmale der beiden Schichten merklich unterschiedlich sind, werden die Schichten sehr leicht uneben in ihrer Dicke und bekommen Streifen.
Da das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material ein neues Material ist, hat sich eine Technologie für eine effektive Ausbildung der Schichten auf der kontinuierlich durchlaufenden Bahn und eine Technologie zum Verhindern von dicken Unebenheiten der Schichten und von Streifen auf den Schichten noch nicht etabliert.
Da weiterhin die Beschichtungsflüssigkeiten für die Schichten organische Lösungsmittel enthalten, verdampfen die Lösungsmittel in den Schichten auf der Bahn im Wärmeentwicklungsschritt, was die Umgebung verschmutzt. Die organischen Lösungsmittel ver dampfen weiterhin auch bei der Herstellung des wärmeentwicklungs-lichtempfindlichen Materials.
Ein Verfahren und eine Vorrichtung gemäß den Oberbegriffen der Ansprüche 1 und 2 sind in der US-3.903.843 offenbart. Dieses Dokument beschreibt eine Beschichtungsvorrichtung mit einem Gleitwulst-Beschicker, der mit einem Zufuhrschlitz für jede der Beschichtungsflüssigkeiten versehen ist, der mit seiner einen Seite offen gegen eine Gleitfläche ist, und der mit seiner anderen Seite mit einem Verteiler verbunden ist, der sich entlang der vollständigen Breite des Schlitzes quer zur Beschichtungsrichtung erstreckt. Um eine gleichmäßig verteilte Beschichtungsflüssigkeit entlang der Breite des Zufuhrschlitzes quer zur Beschichtungsrichtung zu erreichen, ohne dass Schlitze von sehr geringer Breite in Beschichtungsrichtung verwendet werden müssen, schlägt dieses Dokument das Einsetzen eines Rohrs in den Verteiler vor, wobei das Rohr eine Wand aufweist, die für Beschichtungsflüssigkeit durchlässig ist, und das Zuführen der Beschichtungsflüssigkeit durch dieses Rohr. Es wurde festgestellt, dass mit diesem Rohr die Breite des Zufuhrschlitzes in Richtung der Beschichtung vergrößert werden kann, und demzufolge die Schlitze leichter herstellbar sind. Die Konstruktion und die Abmessung der Schlitze und des Verteilers entlang der Achse des Verteilers, d.h. quer zur Beschichtungsrichtung, ist gleich entlang der vollständigen Breite des Schlitzes.
Die US 4.313.980 beschreibt ein Verfahren und eine Vorrichtung für eine Mehrschicht-Beschichtung durch einen Gleitbeschicker, der ausgebildet ist, um die Ausbildung von Wulstkanten zu verhindern. Der Gleitbeschicker enthält eine Vielzahl von Zufuhrschlitzen, wobei die Breite der Schicht, die vom oberen Schlitz ausgegeben wird, größer ist als die Breite mindestens einer der anderen Schichten, und nicht von der Breite irgendeiner anderen Schicht übertroffen wird. Die Konstruktion und die Abmessungen jedes Schlitzes in einer Richtung quer zur Beschichtungsrichtung ist gleich.
Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein verbessertes Verfahren und eine verbesserte Vorrichtung für ein gleichmäßiges Verteilen der Beschichtungsflüssigkeiten quer zur Beschichtungsrichtung zu schaffen.
Im Hinblick auf das oben Gesagte ist es ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Beschichtungsverfahren und eine Vorrichtung für eine effektive Herstellung einer lichtemp findlichen Schicht und einer Schutzschicht zu schaffen, und ein wärmeentwicklungslichtempfindliches Material hoher Qualität zu erzeugen, ohne Dickenunebenheiten und Streifen. Es ist weiterhin ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Beschichtungsverfahren und eine Vorrichtung zu schaffen, die die Umwelt nicht verschmutzt.
Um die obigen Ziele zu erreichen, ist die vorliegende Erfindung gemäß Anspruch 1 auf ein Beschichtungsverfahren für ein wärmeentwicklungs-lichtempfindliches Material gerichtet, das derart erzeugt wird, dass mindestens eine lichtempfindliche Schicht, die mindestens ein organisches Silberoxid und mindestens ein hydrophobes Polymerlatex als Bindemittel enthält, und mindestens eine Schutzschicht, die mindestens ein wasserlösliches Polymer als Bindemittel enthält, auf einer Bahn ausgebildet sind, wobei die Beschichtungsflüssigkeiten für die fotosensitive Schicht und die Schutzschicht-Verteilern eines Gleitwulst-Beschickers zugeführt und durch Zufuhrschlitze, die mit den Verteilern verbunden sind, auf eine Gleitfläche ausgedrückt werden, um Schichten zu bilden, während sie die Gleitfläche hinunterfließen, und wobei die Bahn, die auf eine Stützrolle aufgewickelt wird und kontinuierlich durchläuft, mit den Schichten beschichtet wird, und wobei jede Beschichtungsflüssigkeit von einem ersten Ende jedes Verteilers zu einem zweiten Ende des Verteilers aufgebracht wird, und wobei der Druckabfall jeder Beschichtungsflüssigkeit, die durch jeden Zufuhrschlitz fließt, vom ersten Ende zum zweiten Ende geringer wird, um den Druckverlust der Beschichtungsflüssigkeit, die durch den Verteiler fließt, auszugleichen.
Um das oben beschriebene Ziel zu erreichen, ist die vorliegende Erfindung gemäß Anspruch 2 auf eine Beschichtungsvorrichtung für ein wärmeentwicklungs-lichtempfindliches Material gerichtet, das derart hergestellt wird, dass mindestens eine lichtempfindliche Schicht, die mindestens ein organisches Silberoxid und mindestens ein hydrophobes Polymerlatex als Bindemittel enthält, und mindestens eine Schutzschicht, die mindestens ein wasserlösliches Polymer als Bindemittel enthält, auf einer Bahn ausgeformt werden, wobei Beschichtungsflüssigkeiten für die lichtempfindliche Schicht und die Schutzschicht Verteilern eines Gleitwulst-Beschickers zugeführt werden, und durch Zufuhrschlitze, die mit den Verteilern verbunden sind, auf eine Gleitfläche ausgedrückt werden, um Schichten zu bilden, während sie die Gleitoberfläche hinunterfließen, und wobei die Bahn, die auf einer Stützrolle aufgewickelt ist und kontinuierlich durchläuft mit den Schichten beschichtet wird, und wobei jede Beschichtungsflüssigkeit vom ersten Ende jedes Verteilers bis zu einem zweiten Ende des Verteilers aufgebracht wird, und wobei die Länge jedes Zufuhrschlitzes zwischen dem Verteiler und der Gleitfläche zwischen dem ersten und dem zweiten Ende kürzer wird.
Da die Beschichtungsflüssigkeit für die lichtempfindliche Schicht nicht geliert und thixotrop ist, ist die Frage wichtig, wie man den Flüssigkeitsanteil entlang der Breite des Zufuhrschlitzes (Beschichtungsbreite), aus dem die Flüssigkeit herausfließt, gleichmäßig machen kann, um Dickenunebenheiten und die Streifen zu verhindern. Gemäß der vorliegenden Erfindung wird jede Beschichtungsflüssigkeit von einem ersten Ende jedes Verteilers bis zu einem zweiten Ende des Verteilers zugeführt, und der Druckverlust jeder Beschichtungsflüssigkeit, die durch jeden Zufuhrschlitz fließt, wird zwischen dem ersten und dem zweiten Ende geringer, um den Druckverlust der Beschichtungsflüssigkeit, die durch den Verteiler fließt, auszugleichen. Jeder Zufuhrschlitz wird zwischen dem ersten bis zum zweiten Ende kürzer. Das führt dazu, dass die Flüssigkeitsmenge entlang der Breite des Zufuhrschlitzes gleichmäßig wird, so dass die Schichten gut ausgeformt ohne Fehler sind. Es kann eine lichtempfindliche Schicht und eine Schutzschicht vorhanden sein, und es können zwei oder mehr lichtempfindliche Schichten und zwei oder mehr Schutzschichten vorgesehen sein. Es kann eine Zwischenschicht zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Schutzschicht vorgesehen sein.
Weiterhin können die Schichten gut ausgebildet werden, selbst wenn die Lösungsmittel der Schichten hauptsächlich aus Wasser bestehen. Demzufolge sind organische Lösungsmittel nicht erforderlich, und verschmutzen dadurch nicht die Umgebung. Wenn das Lösungsmittel Wasser ist, bedeutet dies, dass die Konzentration des Wassers im Lösungsmittel 30 % oder höher, bevorzugt 50 % oder höher, insbesondere bevorzugt 70 % oder höher auf Gewichtsbasis, ist. Der andere Bestandteil des Lösungsmittels ist ein wassermischbares, organisches Lösungsmittel, wie beispielsweise Methylalkohol, Ethylalkohol, Isopropylalkohol, Methyl-Cellosolve, Ethyl-Cellosolve, Dimethylformamid und Ethylacetat.
Kurzbeschreibung der Zeichnungen
Die Natur der vorliegenden Erfindung als auch ihre anderen Ziele und Vorteile werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen erläutert, in denen gleiche Bezugszeichen gleiche oder ähnliche Teile durchgängig durch die Figuren bezeichnen. Es zeigen:
1 einen Teilschnitt einer Beschichtungsvorrichtung für ein wärmeentwicklungslichtempfindliches Material;
2 einen Schnitt, der einen Verteiler und einen Zufuhrschlitz eines Gleitwulst-Beschickers zeigt;
3 eine perspektivische Darstellung, die den Verteiler und den Gleitschlitz des Gleitwulst-Beschickers zeigt; und
4(a) und 4(b) Seitenansichten, die Bahnen zeigen, die mit einem Klebestreifen aneinandergefügt sind.
Detaillierte Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
Die vorliegende Erfindung wird im Folgenden beispielhaft näher erläutert unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen.
1 ist ein Teilschnitt einer Beschichtungsvorrichtung für ein wärmeentwicklungslichtempfindliches Material unter Verwendung eines Gleitwulst-Beschickers 14. Das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material wird derart hergestellt, dass eine oder mehrere lichtempfindliche Schichten, die mindestens ein organisches Silberoxid und mindestens ein hydrophobes Polymerlatex als Bindemittel enthalten, und mindestens eine Schutzschicht, die mindestens ein wasserlösliches Polymer als Bindemittel enthält, auf einer Bahn 12 ausgebildet werden. In diesem Ausführungsbeispiel wird die Bahn 12 mit drei Beschichtungsflüssigkeiten beschichtet, um eine lichtempfindliche Schicht (Bodenschicht), eine Zwischenschicht und eine Schutzschicht (Oberschicht) zu bilden. Wie in 1 gezeigt, umfasst die Beschichtungsvorrichtung 10 einen Gleitwulst-Beschicker 14, eine Stützrolle 16, einen Bewegungsmechanismus 18, der den Gleitwulst-Beschicker 14 bewegt, und ein Corona-Entladungsgerät 20, das die Bahn 12 elektrostatisch auflädt.
Der Gleitwulst-Beschicker 14 besteht aus Metall- oder Keramikblöcken, die mit Schrauben oder dergleichen befestigt sind, und verteilt die Beschichtungsflüssigkeiten in Richtung der Beschichtungsbreite und drückt sie aus auf eine Gleitfläche. Drei Verteiler 22 entlang der Beschichtungsbreitenrichtung sind im Gleitwulst-Beschicker 14 parallel zueinander vorgesehen, und Zufuhrschlitze 30 sind zwischen den Verteilern 22 und der Gleitfläche 28, geneigt gegenüber der Stützrolle 16, ausgebildet. Die Beschichtungsflüssigkeiten, die den Verteilern 22 zugeführt werden, werden in Breitenrichtung der Beschichtung verteilt und auf die Gleitfläche 28 ausgedrückt. Die Beschichtungsflüssigkeiten bilden Schichten A auf der Gleitfläche 28 und fließen die Gleitfläche 28 hinunter. Die Schichten A bilden einen Wulst 36 am Spalt zwischen einem Ende 28A der Gleitfläche 28 und der Bahn 12, die kontinuierlich auf der Stützrolle 16 läuft, und die Bahn 12 wird mit den Schichten A beschichtet. Die Beschichtungsflüssigkeit für die lichtempfindliche Schicht wird dem linken Verteiler 22, und die Beschichtungsflüssigkeit für die Zwischenschicht wird dem mittleren Verteiler 22, und die Beschichtungsflüssigkeit für die Schutzschicht wird dem rechten Verteiler 22 zugeführt. Dies bildet Schichten B, die die lichtempfindliche Schicht, die Zwischenschicht und die Schutzschicht auf der Bahn 12 sind.
Wie in den 2 und 3 gezeigt, wird eine der Beschichtungsflüssigkeiten einem Ende a eines der Verteiler 22 über eine Rohrleitung 28 zugeführt und fließt in Richtung auf das andere Ende b des Verteilers 22. Dies verteilt die Beschichtungsflüssigkeit in Richtung der Beschichtungsbreite. Eine Länge L des Zufuhrschlitzes 30 zwischen dem Verteiler 22 und der Gleitfläche 28 wird kleiner vom Ende a zum Ende b. Demzufolge wird der Druckverlust der Beschichtungsflüssigkeit, die durch den Zufuhrschlitz 30 fließt, vom Ende a zum Ende b kleiner, und dies gleicht den Druckverlust der Beschichtungsflüssigkeit, die durch den Verteiler 22 fließt, aus, um den Flüssigkeitsanteil entlang der Breite des Zufuhrschlitzes 30 gleichmäßig zu machen. Die Länge L kann sich linear vom Ende a zum Ende b verändern, verändert sich jedoch bevorzugt quadratisch, da der Anteil der Flüssigkeit auf einfache Weise entlang der Breite des Zufuhrschlitzes 30 gleichmäßig gemacht werden kann. Die Zwischenräume zwischen den Zufuhrschlitzen 30 betragen 0,1 bis 1 mm, bevorzugt 0,3 bis 0,6 mm. Eine Länge L₁ des Zufuhrschlitzes 30 am Ende a beträgt 30 bis 100 mm, und die Differenz L₁-L₂ zwischen der Länge L₁ und einer Länge L₂ des Zufuhrschlitzes 30 am Ende b beträgt 10 mm oder weniger, wenn die Beschichtungsbreite 1 m ist.
Wie 2 zeigt, steigt das Ende b des Verteilers 22 graduell nach rechts an, um die Flüssigkeit am Ende b sanft in den Zufuhrschlitz 30 zu leiten. Dies verhindert, dass sich die Flüssigkeit am Ende b aufstaut, und vergleichmäßigt weiterhin die Flüssigkeitsmenge entlang der Breite des Zufuhrschlitzes 30. Ein Stopfen 34 mit einer abgeschrägten oder gekrümmten Oberfläche 34A ist am Ende b vorgesehen, und die Oberfläche 34A ist bevorzugt gekrümmt, um die Flüssigkeit noch gleichmäßiger zu leiten.
Wie 3 zeigt, ist ein Verbreiterungsteil 33 am Ende 32 eines Zufuhrschlitzes ausgebildet. Eine Länge D des Verbreiterungsteils 33 von der Gleitoberfläche 28 beträgt 2 bis 10 mm, bevorzugt 4 bis 8 mm, wenn die Länge L des Zufuhrschlitzes 30 von 30 mm bis 100 mm beträgt. Die maximale Breite des Verbreiterungsteils 33 beträgt 1 bis 5 mm, bevorzugt 2 bis 4 mm. Dies reduziert die Geschwindigkeit (oder den Druck) der Flüssigkeit, die aus dem Zufuhrschlitz 30 auf die Gleitoberfläche 28 ausgedrückt wird. Demgemäss stört die Flüssigkeit vom stromabwärtigen Zufuhrschlitz 30 nicht die Flüssigkeit vom stromaufwärtigen Zufuhrschlitz 30, so dass die Schichten A glatt ausgebildet werden, und die Schichten A glatt auf der Gleitoberfläche 28 fließen.
Wie in 2 gezeigt, sind Regulatoren 40 und 42 jeweils an beiden Seiten des Zufuhrschlitzes 30 und der Gleitoberfläche 28 vorgesehen, um die Beschichtungsbreite zu regulieren. Oberflächen 42A der Regulatoren 42 sind abgeschrägt, so dass zwischen jeder Oberfläche 42 und der Gleitoberfläche 28 ein stumpfer Winkel α ausgebildet ist, wobei der Winkel α zwischen 110 bis 150 Grad beträgt. Dies verhindert, dass die Kanten der Schichten B dicker werden als der mittlere Bereich der Schichten B.
Ein Winkel zwischen der Gleitfläche 28 und einer senkrechten Ebene beträgt 60 bis 80 Grad. Wenn der Winkel kleiner als 60 Grad wird, wellen sich die Schichten A und werden instabil. Wenn der Winkel größer als 80 Grad wird, fließt die Flüssigkeit, die Thixotropy-Eigenschaften hat, für die lichtempfindliche Schicht nicht die Gleitfläche 28 hinunter.
Wie 2 zeigt, beträgt ein Winkel β zwischen einer Tangente 46 zur Bahn 12 und der Gleitfläche 28 an einem Beschichtungspunkt O, wo die Schichten A in Kontakt mit der Bahn 12 kommen, zwischen 55 bis 85 Grad. Wenn der Winkel β kleiner als 55 Grad wird, würde sich der Wulst 36 am Spalt zwischen dem Gleitwulst-Beschicker 14 und der Bahn 12 massiv verformen, und es würde eine sogenannte Verrippung auftreten, die Streifen an den Schichten B bildet. Wenn der Winkel β größer als 85 Grad wird, würde sich der Beschichtungspunkt O am oberen Teil der Stützrolle 16 befinden, und die Konstruktion der Beschichtungsvorrichtung 10 würde kompliziert. Weiterhin beträgt ein Winkel γ zwischen dem Ende 28A der Gleitfläche 28 und der Tangente 46 20 Grad oder weniger. Wenn der Winkel γ größer als 20 Grad wird, würde sich der Boden der lichtempfindlichen Schicht der Schichten A nicht vollständig in Kontakt mit einer Firstkante an der Oberseite des Endes 28A befinden. Dies würde die Dicke der lichtempfindlichen Schicht der Schichten B ungleichmäßig machen und würde Streifen in den Schichten B ausbilden.
Eine abgeglichene Oberflächenspannung und eine dynamische Oberflächenspannung der oberen Schicht sind kleiner als diejenigen der Zwischenschicht, und die Oberflächenspannungen der Zwischenschicht sind kleiner als jene der Bodenschicht. Dies verhindert ein sogenanntes Abstoßen, bei dem die Zwischenschicht über die obere Schicht und die Bodenschicht über die Zwischenschicht auf der Gleitoberfläche 28 oder der Bahn 12 kommt, um die Schichten A und B zu stabilisieren.
Eine Vakuumkammer 52, die im Gleitwulst-Beschicker 14 eingeschlossen ist, die Stützrolle 16 und ein Kammerteil 50 werden ausgebildet und mit einer Vakuumeinrichtung 53 oder einem Ansauggebläse verbunden. Der Druck in der Vakuumkammer 52 wird unter den Atmosphärendruck reduziert, um den Wulst 36 zu stabilisieren.
Der Gleitwulst-Beschicker 14 und die Vakuumkammer 52 sind an einem Träger 54 vorgesehen, und der Träger 54 wird durch die Stützrolle 16 nach rückwärts und weg von ihr durch den Bewegungsmechanismus 18 bewegt. Der Gleitwulst-Beschicker 14 bewegt sich mit dem Träger 54 im Ausführungsbeispiel, es kann sich jedoch auch die Stützrolle 16 anstelle des Gleitwulst-Beschickers 14 bewegen.
Bevor die Bahn 12 beschichtet wird, verleiht die Corona-Auflade-Einrichtung 20 mindestens der beschichteten Oberfläche der Bahn 12 eine elektrostatische Aufladung. Die Corona-Aufladeeinrichtung 20 besteht aus einer Ausgabeelektrode 68, einer geerdeten Walze 70, die der Ausgabeelektrode 68 gegenüberliegt, und einer Gleichstromquelle 72, die eine hohe Spannung zwischen der Ausgabeelektrode 68 und der geerdeten Walze 70 aufbringt für eine Corona-Entladung. Die beschichtete Oberfläche der Bahn 12 sammelt positive oder negative elektrische Ladungen und ein Potential. Die Corona-Entladeeinrichtung 20 wird im Ausführungsbeispiel verwendet, es kann jedoch auch eine hohe Gleichstromspannung auf die Stützwalze 16 aufgebracht werden, um auf den Wulst 36 ein elektrostatisches Feld aufzubringen. In diesem Falle ist die Stützrolle 16 nicht geerdet und ist mit einem Isolator beschichtet.
Die Schichten B sind dicker am Beginn des Beschichtungsprozesses als während des Beschichtens, da die Bahn 12 mit den Schichten A beschichtet wird, die die Gleitfläche 28 hinuntergeflossen sind. Wie in den 4(a) und 4(b) gezeigt, wird die gerade beschichtete Bahn 12 an ihrem rückwärtigen Ende mit der nächsten Bahn 12 verbunden (gespleißt), unter Verwendung von einem oder zwei Stücken eines Klebebandes für die Spleißverbindung 74. Wenn eine Spleißverbindung 80 durch den Spalt zwischen dem Gleitwulst-Beschicker 14 und der Stützrolle 16 hindurchtritt, bewegt sich der Wulst 36 zwischen dem Ende 28A und der Bahn 12 in größerem Umfang wegen einer drastischen Änderung des Spaltes zwischen dem Ende 28a und der Bahn 12. Dadurch kann die Bahn 12 nicht beschichtet werden oder sie kann überbeschichtet werden.
Um dieses Problem anzugehen, wird der Druck in der Vakuumkammer 52 verringert, oder die beschichtete Oberfläche der Bahn 12 wird mit einer elektrostatischen Aufladung unmittelbar vor dem Beschichten versehen, oder es wird eine Gleichstromspannung an der Stützrolle 16 angelegt, um den Wulst 36 einem elektrostatischen Feld auszusetzen.
Beim ersten Verfahren wird der Druck in der Vakuumkammer 52 vor dem Beschichten unterhalb desjenigen Drucks reduziert, wie er während des Beschichtens auftritt, und der Druck wird graduell erhöht, wenn der Wulst 36 beim Beginn des Beschichtens ausgebildet wird.
Wenn die Bahn 12 die Spleißstelle 80 aufweist, wird der Druck in der Vakuumkammer 52 unterhalb desjenigen Drucks reduziert, wie er während des Beschichtens auftritt, unmittelbar bevor die Spleißstelle 80 den Spalt zwischen dem Ende 28a und der Stützwalze 16 erreicht, und der Druck in der Vakuumkammer 52 wird graduell erhöht auf denjenigen Druck während des Beschichtens, nachdem die Spleißstelle 80 den Spalt passiert hat.
Gemäß einem dritten Verfahren beträgt das Potential der Oberfläche der Bahn 12 an der Stützrolle 16 zwischen 500 bis 2000 V. Die Stützrolle 16 muss ungeerdet und mit einer isolierenden Keramik, wie beispielsweise Aluminiumoxid beschichtet sein.
Um das Überbeschichten beim Beginn des Beschichtungsvorganges zu verhindern, wird der Gleitwulst-Beschicker 14 in Richtung auf die Stützrolle 16 relativ bewegt, nachdem die Schichten A auf der Gleitfläche 28 ausgebildet sind, und die Bewegungsgeschwindigkeit wird kurz vor dem Beschichten verringert.
Um die drastische Änderung des Spalts zwischen dem Gleitwulst-Beschicker 14 und der Bahn 12 zu verhindern, wenn die Spleißstelle 80 durch ihn hindurchtritt, wird der Gleitwulst-Beschicker 14 von der Stützrolle 16 um einen geringen Abstand (beispielsweise die Dicke des Klebestreifens, damit die Spleißstelle 24 nicht den Wulst 36 zerstört) relativ zurückbewegt, um den Spalt zu verbreitern unmittelbar bevor die Spleißstelle 80 durch den Spalt hindurchtritt, wobei der Gleitwulst-Beschicker 14 in Richtung auf die Stützwalze 16 relativ zurückbewegt wird, nachdem die Spleißstelle 80 den Spalt passiert hat.
Der Klebestreifen der Spleißstelle 74 verhindert, dass die Flüssigkeiten zwischen die Bahnen 12 eindringen. Der Klebestreifen für die Speißstelle 74 besteht aus einem Substrat 74A, das aus Kunststoff oder dergleichen hergestellt ist, und einem Klebstoff 74B. Der Klebestreifen für die Spleißstelle 74 weist eine Dicke von 100 μm oder kleiner und eine Länge von 100 mm oder kleiner auf. Wenn beide Seiten der Bahnen 12 beschichtet werden sollen, werden die zwei Stücke des Klebestreifens für die Spleißstelle 74 an den beiden Seiten der Bahnen 12 befestigt. Zusätzlich ist die Länge der beiden Stücke unterschiedlich, wie in 4(b) gezeigt, um drastische Änderungen der Dicke der Spleißstelle 80 zu verhindern.
Die lichtempfindliche Schicht des wärmeentwicklungs-lichtempfindlichen Materials wird nachfolgend erläutert.
Das organische Silberoxid ist eine organische Substanz, die eine Quelle enthält, die Silberionen reduzieren kann. Bevorzugt ist es ein Silbersalz einer organischen Carbon säure und insbesondere ein Silbersalz einer lang aliphatischen Carbonsäure (die Carbonzahl ist 10 bis 30, bevorzugt 15 bis 28). Die Konzentration der silberzuführenden Substanzen in der lichtempfindlichen Schicht beträgt 5 bis 70 Gew.-%. Das organische Silberoxid ist nicht auf das Silbersalz der aliphatischen Carbonsäure und das Silbersalz der aromatischen Carbonsäure beschränkt. Das Silbersalz der aliphatischen Carbonsäure ist Silberbehenat, Silberarachidonat, Silberstearat, Silberoleat, Silberlaurat, Silbercaproat, Silbermyristat, Silberpalmitat, Silbermaleat, Silberfumarat, Silbertartarat, Silberlinoleat, Silberbutyrat, Silbercamphorat oder eine Mischung von zwei oder mehreren dieser Stoffe.
Das organische Silberoxid ist nicht auf die oben beschriebenen Substanzen beschränkt.
Das organische Silberoxid wird demineralisiert durch Filtration, insbesondere Zentrifugalfiltration, Saugfiltration, Ultrafiltration und Flockenkondensationsverfahren. Das Verfahren zur Demineralisierung ist jedoch nicht auf diese beschränkt.
Das organische Silberoxid ist in einem Dispergiermittel dispergiert, um feste feine Körner ohne Ausflockung zu erzeugen. Das organische Silberoxid wird mechanisch dispergiert mit einer Kugelmühle, einer Vibrationskugelmühle, einer Planetenkugelmühle, einer Sandmühle, einer Colloidmühle, einer Strahlmühle, einer Walzenmühle, einem Hochdruck-Homogenisator oder dergleichen. Der Hochdruck-Homogenisator wird bevorzugt verwendet.
Gegenwärtig werden verwendet ein synthetisches, anionisches Polymer, wie beispielsweise Polyacrylsäure, Copolyacrylsäure, Copolymaleinsäure, Monoestercopolymaleinsäure und Acrylmethylpropansulfonsäure, ein semisynthetisches anionisches Polymer, wie beispielsweise Carboxymethylstärke und Carboxymethylcellulose, ein anionisches Polymer, wie beispielsweise Alginsäure und Pektinsäure, ein anionisches Oberflächenmittel, beschrieben in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 52-92716 und WO88/04794, eine Zusammensetzung, beschrieben in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 7-350753, anionische, nichtionische und kationische Oberflächenmittel, Polymere, wie beispielsweise Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose, Hydroxypropylcellulose und Hydroxypropylmethylcellulose, sowie natürlich vorkommende Polymere, wie beispielsweise Gelatine.
Der Anteil des Silberoxids wird so bestimmt, dass der Anteil an Silber im Wärmeentwicklungsmaterial bei 0,1 bis 5g, bevorzugt bei 1 bis 3g pro Quadratmeter liegt. Der Anteil an Silberoxid ist jedoch nicht darauf beschränkt.
Ein lichtempfindliches Silberhalogenid wird mit dem organischen Silberoxid verwendet.
Das lichtempfindliche Silberhalogenid wird nach einem Verfahren erzeugt, das in der Research-Disclosure No. 17029 (Mai 1978) und dem US-Patent No. 3700458 beschrieben wurde. Die Halogenid-Zusammensetzung wird dem organischen Silberoxid hinzugefügt, um einen Teil des Silbers des organischen Silberoxids in das lichtempfindliche Silberhalogenid umzuwandeln, oder es werden eine Silberzufuhrkomponente und eine Halogenid-Zufuhrkomponente einer Gelatine oder einer Polymerlösung hinzugefügt. Das letztere Verfahren wird bevorzugt verwendet. Ein Korn des lichtempfindlichen Silberhalogenids muss klein sein, um zu verhindern, dass das lichtempfindliche Material wolkig wird, nachdem das Bild ausgebildet ist, und seine Korngröße beträgt 0,20 μm oder kleiner, bevorzugt 0,01 bis 0,15 μm, insbesondere bevorzugt 0,02 bis 0,12 μm. Die Korngröße ist eine Länge einer Gratlinie des Korns, wenn das Korn ein Würfel oder ein Oktaeder, und ist ein Durchmesser eines Kreises, der den gleichen Flächeninhalt wie seine Hauptfläche aufweist, wenn das Korn plattenförmig ist. Das Korn ist bevorzugt ein Würfel oder plattenförmig. Wenn das Korn plattenförmig ist, beträgt sein Seitenverhältnis 100:1 bis 2:1, bevorzugt 50:1 bis 3:1. Das lichtempfindliche Silberhalogenid ist Silberchlorid, Silberchlorbromid, Silberbromid, Silberjodbromid, Silberjodchlorbromid oder Silberjodid. Es ist bevorzugt Silberbromid oder Silberjodbromid, jedoch insbesondere bevorzugt Silberjodbromid. Die Konzentration des Silberjodbromid ist 0,1 bis 40 mol%, bevorzugt 0,1 bis 20 mol%.
Das lichtempfindliche Silberhalogenid hat mindestens eine Art eines Metallkomplexes wie beispielsweise Rhodium, Rhenium, Ruthenium, Osmium, Iridium, Kobalt, Quecksilber und Eisen. Es weist eine Art eines Metallkomplexes oder zwei oder mehrere Arten eines oder mehrerer Metalle auf. Der Anteil der Metallkomplexe beträgt 1 nmol bis 10mmol, bevorzugt 10nmol bis 100μmol, bezüglich Silber von 1mol. Die Struktur der Metallkomplexe ist beschrieben in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung No. 7-225449. Hexacyano-Metallkomplexe von Kobalt oder Eisen, wie beispielsweise Ferricyansäureionen, Ferrocyansäureionen und Hexacyanokobaltsäureionen können verwendet werden. Die Hexacyano-Metallkomplexe sind nicht auf diese beschränkt. Die Metallkomplexe sind gleichmäßig im Silberhalogenid enthalten oder in seinem Kern oder seiner Schale konzentriert.
Die Körner des lichtempfindlichen Silberhalogenids sind chemisch sensibilisiert durch Schwefelsensibilisierung, Selensensibilisierung oder Tellursensibilisierung. Edelmetallsensibilisierung mit Bestandteilen von Edelmetallen, wie beispielsweise Gold, Platin, Palladium oder Iridium oder Reduktionssensibilisierung können verwendet werden. Die Konzentration des lichtempfindlichen Silberhalogenids im organischen Silberoxid beträgt 1 bis 50 mol%, bevorzugt 2 bis 30 mol%, insbesondere bevorzugt 3 bis 25 mol%.
Das Reduktionsmittel für das organische Silberoxid kann jede Substanz sein, die ein Silberion in metallisches Silber umwandelt, und ist bevorzugt organisch. Lichtentwicklungsmittel, wie beispielsweise Phenidon, Hydrochinon und Catechin, können verwendet werden, ein gebremstes Phenolreduktionsmittel ist jedoch bevorzugt. Der Anteil des Reduktionsmittels liegt bei 0,05 bis 0,5 mol, bevorzugt 0,1 bis 0,4 mol, bezüglich Silber von 1 mol in der lichtempfindlichen Schicht. Das Reduktionsmittel kann jeder Schicht hinzugefügt werden. Wenn das Reduktionsmittel einer anderen Schicht als der lichtempfindlichen Schicht hinzugefügt wird, liegt sein Anteil bei 0,1 bis 0,5 mol bezüglich 1 mol Silber. Das Reduktionsmittel kann ein sogenannter Vorläufer sein, der nur beim Entwickeln funktioniert.
Verschiedene Reduktionsmittel sind beschrieben in den vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen mit den Nummern 46-6074, 47-1238, 47-33621, 49-46427, 49-115540, 50-14334, 50-36110, 50-147711, 51-32632, 51-1023721, 51-32327, 51-51933, 52-84727, 55-108654, 56-146133, 57-82828, 57-82829 und 6-3793, den US-Patenten Nr. 3667958, 3679426, 3751252, 3751255, 3761270, 3782949, 38390-48, 3928686 und 5464738, dem deutschen Patent Nr. 2321328 und dem europäischen Patent 692732.
Das Reduktionsmittel kann als Lösung, Pulver, dispergierten, festen, feinen Körnern oder dergleichen hinzugefügt werden. Die Dispersion wird durchgeführt mit einer Kugelmühle, einer Vibrationskugelmühle, einer Sandmühle, einer Colloidmühle, einer Strahlmühle, einer Walzenmühle oder dergleichen. Ein Dispersionsmittel kann dabei verwendet werden.
Ein Kolorierungsmittel zum Erhöhen der optischen Empfindlichkeiten wird weiterhin hinzugefügt, um die Bildqualität zu verbessern. Das Kolorierungsmittel ist wirksam zum Ausbilden eines schwarzen Silberbilds. Der Anteil des Kolorierungsmittels beträgt 0,001 bis 0,5 mol, bevorzugt 0,005 bis 0,2 mol, bezogen auf 1 mol Silber in der lichtempfindlichen Schicht. Das Kolorierungsmittel kann ein sogenannter Vorläufer sein, der nur beim Entwickeln funktioniert.
Verschiedene Kolorierungsmittel sind beschrieben in den vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 46-6077, 47-10282, 49-5019, 49-5020, 49-91215, 50-2524, 50-32927, 50-67132, 50-67641, 50-114217, 51-3223, 51-27923, 52-14788, 52-99813, 53-1020, 53-76020, 54-156524, 54-156525, 61-183642 und 4-56849, den japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 49-10727 und 54-20333, den US-Patent Nr. 3080254, 3446648, 3782941, 4123282 und 4510236, dem britischen Patent Nr. 1380795 und dem belgischen Patent Nr. 841910.
Das Kolorierungsmittel kann als Lösung, Pulver, dispergierten, festen, feinen Körnern oder dergleichen hinzugefügt werden. Die Dispersion wird durchgeführt mit einer Kugelmühle, einer Vibrationskugelmühle, einer Sandmühle, einer Colloidmühle, einer Strahlmühle, einer Walzenmühle oder dergleichen. Ein Dispersionsmittel kann dabei verwendet werden.
Die lichtempfindliche Schicht enthält das hydrophobe Polymerlatex im Bindemittel und die Konzentration des Polymerlatex-Bindemittel beträgt 50 Gew.-% oder mehr. Das Polymerlatex wird beschrieben in „Synthetische Harzemulsionen" (1978, verlegt bei Taira Okuda und Kann Inagaki, und publiziert durch die Macromolecule Publishing Association), „Anwendung von synthetischem Latex" (1993, verlegt bei Takaaki Sugimura, Yasuo kataoka, Soichi Suzuki und Keiji Kasahara und publiziert durch die Macromolecule Publishing Association), „Chemie des synthetischen Latex" (1970, geschrieben durch Soichi Muroi, und publiziert durch die Macromolecule Publishing Association) usw.
Der Polymerlatex ist ein homogener Polymerlatex oder ein Polymerlatex vom sogenannten Kern/Schale-Typ. Im Falle eines Polymerlatex vom Kern/Schale-Typ sollten die Glasübergangstemperaturen des Kerns und der Schale unterschiedlich sein.
Die Minimum-Filmbildungstemperatur (MFT) des Polymerlatex liegt bei –30 bis 90°C, bevorzugt bei 0 bis 70°C. Ein filmbildendes Mittel kann hinzugefügt werden, um die Minimum-Filmbildungstemperatur zu verringern, und ist bevorzugt eine organische Zusammensetzung (normalerweise ein organisches Lösungsmittel), das auch als Weichmacher bezeichnet wird. Das filmbildende Mittel wird beschrieben in „Chemie des synthetischen Latex" (1970 geschrieben durch Soichi Muroi und veröffentlicht durch die Macromolecule Publishing Association).
Das Polymer für den Polymerlatex ist ein Polyacrylharz, ein Polyvinylacetatharz, ein Polyesterharz, ein Polyurethanharz, ein Gummiharz, ein Polyvinylchloridharz, ein Polyvinylidenchloridharz, ein Polyolefinharz oder ein Copolymer aus zwei oder mehreren dieser Stoffe.
Das Polymer ist ein Geradkettenpolymer, ein verzweigtes Polymer oder ein quervernetztes Polymer. Das Polymer ist ein Homopolymer, zusammengesetzt aus Monomeren einer Art oder ein Copolymer, zusammengesetzt aus monomeren zwei oder mehrerer Arten.
Das Copolymer ist ein statistisches Copolymer oder ein Blockcopolymer. Das Moleculargewicht beträgt 5000 bis 1000000, bevorzugt 10000 bis 100000. Wenn das Moleculargewicht zu klein wird, könnte die Intensität der lichtempfindlichen Schicht nicht ausreichend sein. Wenn das Molekulargewicht zu groß wird, könnte der Film nicht gut hergestellt werden.
Der Feuchtigkeits-Gleichgewichtsgehalt des Polymers des Polymerlatex beträgt 2 Gew.-% oder weniger, bevorzugt 1 Gew.-% oder weniger, bei einer Temperatur von 25°C und der Feuchtigkeit von 60 %. Es gibt keinen minimlalen Gleichgewichtsfeuchtegehalt, er ist jedoch bevorzugt 0,01 Gew.-%, insbesondere bevorzugt 0,03 Gew.-%. Die Definition und die Messverfahren des Gleichgewichtsfeuchtigkeitsgehalts werden beschrieben in „Macromolecule Engineering Course No. 14, Macromolecule Materialunter suchungsverfahren (verlegt durch die Macromolecule Society, und publiziert durch Chijinshokan) usw.
Der Polymerlatex ist bevorzugt ein Methylmethacrylatlatex, ein Ethylacrylat- oder Methacrylatsäure-Copolymer, ein Methylmethacrylatlatex, 2-Ethylhexylacrylat, Styrol oder Acrylsäure-Copolymer, Styrollatex, Butadien- oder Acrylsäure-Copolymer, ein Latex aus Styrol, Butadien, Divinylbenzol oder Methacrylsäure-Copolymer, und ein Latex aus Methylmethacrylat, Ethylacrylat, Acrylnitril- oder Methacrylsäure-Copolymer.
Polymere von nur einer Art werden verwendet, oder Polymere von zwei oder mehreren Arten werden verwendet. Die Konzentration des Polymerlatex im Bindemittel der lichtempfindlichen Schicht beträgt 50 Gew.-% oder mehr, bevorzugt 70 Gew.-% oder mehr.
Wasserlösliche Polymere, wie beispielsweise Gelatine, Polyvinylalkohol, Methylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Carboxymethylcellulose und Hydroxypropylmethylcellulose, können der lichtempfindlichen Schicht zugefügt werden, so dass die Konzentration der wasserlöslichen Polymere im Bindemittel der lichtempfindlichen Schicht bei 50 Gew.-% oder weniger, bevorzugt 30 Gew.-% oder weniger liegt.
Der Anteil des Bindemittels in der lichtempfindlichen Schicht liegt bei 0,2 bis 30g, bevorzugt 1 bis 15g pro qm. Die lichtempfindliche Schicht ist thixotrop und ihre Viskosität bei der Scherrate von 0,1/s liegt bei 300 bis 30000 mPas, und ihre Viskosität bei der Scherrate von 1000/s liegt bei 1 bis 100 mPas. Gegenwärtig wird ein RFS-Fluids-Spektrometer, hergestellt durch die Rheometrix Co., Ltd. bei einer Temperatur von 25°C verwendet.
Ein lichtsensibilisierender Farbstoff, ein Reduktionsmittel, ein Kolorierungsmittel, ein Mittel zum Verhindern der Schleierbildung, und dergleichen können der lichtempfindlichen Schicht hinzugefügt werden. Auch kann ein Farbstoff zum Einstellen der Kolorierung, ein Quervernetzungsmittel, ein oberflächenaktives Mittel zum Verbessern der Beschichtung und dergleichen der lichtempfindlichen Schicht hinzugefügt werden.
Der lichtsensibilisierende Farbstoff spektro-sensibilisiert die Silberhalogenidkörner in einem gewünschten Wellenlängenbereich, wenn er durch die Silberhalogenidkörner ab sorbiert wird. Der lichtsensibilisierende Farbstoff ist beispielsweise ein Cyaninfarbstoff, ein Merocyaninfarbstoff, ein Cyaninkomplex, ein Merocyanin-Komplexfarbstoff, ein Holopolarcyaninfarbstoff, ein Styrylfarbstoff, ein Hemicyaninfarbstoff, ein Oxonolfarbstoff und ein Hemioxonolfarbstoff. Der lichtsensibilisierende Farbstoff wird beschrieben in Research Disclosure (Dezember 1978), Seite 23, Punkt 176431 V-A, Research Disclosure (August 1979), Seite 437, Punkt 1831X, und ihre Referenzen.
Polymere für die Zwischenschicht bewirken keine Zusammenballung und erhöhen die Viskosität drastisch, wenn sie mit dem organischen Silberoxid mit dem Polymerlatex als Bindemittel gemischt werden. Die Polymere für die Zwischenschicht sind bevorzugt nichtionische, wasserlösliche Polymere.
Die nichtionischen, wasserlöslichen Polymere sind beispielsweise Polyvinylalkohol, Polyvinylalkoholderivate, Polyacrylamid, Dextran, Polyethylenglycol und ein Block-Copolymer aus Polyethylenglycol und Polypropylenglycol. Polyvinylalkohol oder Polyvinylalkoholderivate sind bevorzugt, und besonders bevorzugt ist Polyvinylalkohol.
Die Verseifungsrate von Polyvinylalkohol liegt bei 80 bis 99,9 % und sein Polymerizationsgrad bei 300 bis 2400.
Der Anteil der Polymere für die Zwischenschicht liegt bei 0,1 bis 3,0g, bevorzugt bei 0,2 bis 2,0g, bezüglich des Wärmeentwicklungsmaterials von 1 m², wenn die Zwischenschicht trocken ist. Wenn der Anteil zu gering ist, kann die Zwischenschicht nicht die Zusammenballung des Polymerlatex oder des organischen Silberoxids in der lichtempfindlichen Schicht verhindern. Wenn der Anteil zu groß ist, würde die Adhäsion zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Schutzschicht schlecht sein.
Das Lösungsmittel der Beschichtungsflüssigkeit der Zwischenschicht ist Wasser, und etwas wassermischbares, organisches Lösungsmittel kann im Wasser enthalten sein. Die Konzentration des Wassers im Lösungsmittel liegt bei 30% oder mehr, bevorzugt 50 Gew.-% oder mehr, insbesondere bevorzugt 70 Gew.-% oder mehr. Die Konzentration der Polymere in der Flüssigkeit liegt bei 2 bis 20 Gew.-%, und der Anteil der Flüssigkeit liegt bei 2 bis 30 ml bezüglich des Wärmeentwicklungsmaterials von 1 m², wenn die Schicht nass ist, und die Viskosität der Flüssigkeit ist 5 bis 200 mPas. Die Viskosität wird gemessen mit einem Viskosemeter vom B-Typ, hergestellt durch Tokyo Keiki Co., Ltd. bei einer Temperatur von 40°C.
Verschiedene Zusatzmittel können der Zwischenschicht hinzugefügt werden. Die Zusatzmittel sind Kolorierungsmittel, Antischleiermittel und dergleichen, und sie können beispielsweise Phthalazin und Ammoniumphthalat sein.
Ein Bindemittel der Schutzschicht ist Gelatine, Polyvinylalkohol, Hydroxypropylcellulose, Methylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Carboxymethylcellulose, Polyacrylamid oder Dextran.
Gelatine wird bevorzugt verwendet, um Unebenheiten der Schicht zu verhindern, die durch den Trocknungswind verursacht werden, da die lichtempfindliche Schicht nicht geliert. Entkalkte Gelatine, die eine hohe Gelierungsgeschwindigkeit aufweist, ist besonders bevorzugt.
Zwei Schutzschichten können ausgebildet werden. In diesem Fall hat die untere Schutzschicht ein Ultraviolet-Absorptionsmittel und/oder ein hydrophobes Polymerlatex, und die obere Schutzschicht hat ein Mattierungsmittel. Ein Zusatzmittel, beispielsweise ein Kolorierungsmittel, ein Mittel zur Einstellung des pH-Werts der Schicht, und ein Härtungsmittel können den Schutzschichten zugefügt werden.
Der Anteil des Bindemittels in jeder Schutzschicht liegt bei 0,1 bis 3,0g, bevorzugt bei 0,2 bis 2,0g, bezüglich des Wärmeentwicklungsmaterials von 1 m². Die Viskosität jeder Flüssigkeit liegt bei 5 bis 100 mPas, bevorzugt bei 10 bis 50 mPas, bei einer Temperatur von 40°C.
Irgendein Antiadhäsionsmittel kann für die obere Schutzschicht verwendet werden. Das Antiadhäsionsmittel ist beispielsweise Wachs, Silicakörner, ein elastomeres Block-Copolymer mit Styrol (beispielsweise Styrol-Butadien-Styrol und Styrol-Isopren-Styrol), Celluloseacetat, Celluloseacetatbutylat, Cellulosepropionat und eine Zusammensetzung von zwei oder mehrerer dieser Stoffe.
Wenn das Lösungsmittel Wasser ist, bedeutet dies, dass die Konzentration des Wassers im Lösungsmittel bei 30 Gew.-% oder mehr, bevorzugt 50 Gew.-% oder mehr, insbesondere bevorzugt 70 Gew.-% oder mehr liegt. Der andere Bestandteil des Lösungsmittels ist ein wassermischbares, organisches Lösungsmittel, wie beispielsweise Methylalkohol, Ethylalkohol, Isopropylalkohol, Methylcellosolv, Ethylcellosolv, Dimethylformamid und Ethylacetat.
Wie oben beschrieben, gemäß den Beschichtungsverfahren und der Vorrichtung für wärmeentwickelbares, lichtempfindliches Material, können die lichtempfindliche Schicht und die Schutzschicht effektiv ausgebildet werden, und ein wärmeentwicklungs-lichtempfindliches Material hoher Qualität kann erzeugt werden, ohne eine Unebenheit in der Dicke der Schichten und Streifen in den Schichten.
Zusätzlich werden die Schichten gut ausgebildet, selbst wenn die Lösungsmittel der Schichten hauptsächlich Wasser ist. Demgemäss sind organische Lösungsmittel nicht erforderlich, was die Umwelt nicht verschmutzt.
Es soll jedoch darauf hingewiesen werden, dass es nicht geplant ist, die Erfindung auf die speziell offenbarten Ausführungsformen zu beschränken, sondern die Erfindung soll im Gegenteil alle Modifikationen, alternativen Ausführungsformen und Äquivalente abdecken, die in den Schutzbereich der Erfindung, ausgedrückt durch die beiliegenden Ansprüche, fallen.

Claims

Beschichtungsverfahren für ein wärmeentwicklungs-lichtempfindliches Material, das derart hergestellt wird, dass mindestens eine lichtempfindliche Schicht, die mindestens ein organisches Silberoxid und mindestens ein hydrophobes Polymerlatex als Bindemittel enthält, und mindestens eine Schutzschicht, die mindestens ein wasserlösliches Polymer als Bindemittel enthält, auf einer Bahn (12) ausgebildet werden, wobei: Beschichtungsflüssigkeiten für die lichtempfindliche Schicht und die Schutzschicht Verteilern (22) eines Gleitwulst-Beschickers (14) zugeführt und durch Zufuhrschlitze (30), die mit den Verteilern (22) verbunden sind, auf eine Gleitfläche (28) ausgedrückt werden, um Schichten (A) zu bilden, während sie die Gleitfläche (28) hinunterlaufen, und wobei die Bahn (12), die auf einer Stützrolle (16) aufgewickelt wird und kontinuierlich durchläuft, mit den Schichten (A) beschichtet wird; und wobei jede Beschichtungsflüssigkeit von einem ersten Ende (a) jedes Verteilers (22) zu einem zweiten Ende (b) des Verteilers (22) zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, dass der Druckverlust jeder Beschichtungsflüssigkeit, die durch jeden Zufuhrschlitz (30) fließt, geringer wird vom ersten Ende (a) zum zweiten Ende (b), um den Druckverlust der Beschichtungsflüssigkeit zu kompensieren, die durch den Verteiler (22) fließt.
Beschichtungseinrichtung (10) für ein wärmeentwicklungs-lichtempfindliches Material, das derart erzeugt wird, dass mindestens eine lichtempfindliche Schicht, die mindestens ein organisches Silberoxid und mindestens ein hydrophobes Polymerlatex als Bindemittel enthält, und mindestens eine Schutzschicht, die min destens ein wasserlösliches Polymer als Bindemittel enthält, auf der Bahn (12) ausgebildet sind, wobei: die Beschichtungsflüssigkeiten für die lichtempfindliche Schicht und die Schutzschicht Verteilern (22) eines Gleitwulst-Beschickers (14) zugeführt und durch Zufuhrschlitze (30), die mit den Verteilern (22) verbunden sind, auf eine Gleitfläche (28) ausgedrückt werden, um Schichten (A) zu bilden, während sie die Gleitfläche (28) abwärtsfließen, und wobei die Bahn (12), die auf einer Stützrolle (16) aufgewickelt ist und kontinuierlich durchläuft, mit den Schichten (A) beschichtet wird; und jede Beschichtungsflüssigkeit vom ersten Ende (a) jedes Verteilers (22) einem zweiten Ende (b) des Verteilers (22) zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Länge (L) jedes Zufuhrschlitzes (30) zwischen dem Verteiler (22) und der Gleitfläche (28) vom ersten Ende (a) zum zweiten Ende (b) kürzer wird.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 2, wobei ein Lösungsmittel jeder Beschichtungsflüssigkeit hauptsächlich Wasser ist.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 2, wobei das zweite Ende (b) des Verteilers (22) graduell entlang der Fließrichtung der Beschichtungsflüssigkeiten ansteigt.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 2, wobei Regulatoren (40) für den Zufuhrschlitz an beiden Seiten jedes Zufuhrschlitzes (30) vorgesehen sind, und wobei Regulatoren (42) für die Gleitfläche an beiden Seiten der Gleitfläche (28) vorgesehen sind, um eine Beschichtungsbreite zu regulieren.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 5, wobei Oberflächen (42A) der Gleitflächen-Regulatoren (42) abgeschrägt sind, so dass ein stumpfer Winkel zwischen jeder Oberfläche (42A) und der Gleitfläche (28) ausgebildet wird.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 2, wobei ein Ende jedes Zufuhrschlitzes (30) verbreitert ist.
Beschichtungsvorrichtung für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 2, die als Beschichtungsvorrichtung (10) vom Gleitwulsttyp ausgebildet ist, der eine Wulst (36) zwischen einem Ende (28A) der Gleitfläche (28) des Gleitwulst-Beschickers (14) und der Bahn (12) ausbildet.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 8, wobei ein Winkel zwischen der Gleitfläche (28) und einer senkrechten Ebene 60 bis 80° beträgt; und ein Winkel (β) zwischen einer Tangente (46) zur Bahn (12) und der Gleitfläche (28) an einem Beschichtungspunkt (O), wo die Schichten (A) in Kontakt mit der Bahn (12) kommen, bei 55 bis 85° liegt.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 8, wobei ein Winkel (γ) zwischen dem Ende (28A) der Gleitfläche (28) und einer Tangente (46) zur Bahn (12) an einem Beschichtungspunkt (O), wo die Schichten (A) in Kontakt mit der Bahn (12) kommen, nicht mehr als 20° beträgt.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 8, wobei eine Vakuumkammer (52) unterhalb der Wulst (36) vorgesehen ist.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 11, wobei: ein Druck in der Vakuumkammer (52) vor einer Beschichtung unter den Beschichtungsdruck reduziert wird; und der Druck graduell erhöht wird auf den Druck während der Beschichtung, wenn der Wulst (36) am Beginn des Beschichtens ausgebildet wird.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 11, wobei: die Bahn (12) eine Speißstelle (80) aufweist; ein Druck in der Vakuumkammer (52) unmittelbar bevor die Spleißstelle (80) einen Spalt zwischen dem Ende (28A) der Gleitfläche (28) und der Stützrolle (16) erreicht, unter den Beschichtungsdruck reduziert wird; und der Druck in der Vakuumkammer (52) graduell erhöht wird auf den Druck während des Beschichtens, nachdem die Spleißstelle (80) den Spalt passiert hat.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 13, wobei: die Bahn (12) am hinteren Ende gespleißt ist; und ein Stück eines Klebestreifens (74) zum Spleißen auf mindestens einer beschichteten Oberfläche der Bahn (12) befestigt wird.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 8, ferner umfassend einen Bewegungsmechanismus (18, 54), der den Gleitwulst-Beschicker (14) relativ zur Stützrolle (16) auf diese zu und von ihr weg bewegt.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 15, wobei: der Bewegungsmechanismus (18, 54) den Gleitwulst-Beschicker (14) relativ gesehen auf die Stützrolle (16) zu bewegt, nachdem die Schichten (A) auf der Gleitfläche (28) ausgebildet sind; und der Bewegungsmechanismus (18, 54) eine Bewegungsgeschwindigkeit verringert unmittelbar vor dem Beschichten.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 15, wobei: die Bahn (12) eine Spleißstelle (80) aufweist; der Bewegungsmechanismus (18, 54) den Gleitwulst-Beschicker (14) relativ von der Stützrolle (16) weg bewegt, um den Wulst (36) nicht zu zerstören, unmittelbar bevor die Spleißstelle (80) einen Spalt zwischen dem Ende (28a) der Gleitfläche (28) und der Stützrolle (16) erreicht, und der Bewegungsmechanismus (18, 54) den Gleitwulst-Beschicker (14) relativ gesehen zur Stützrolle (16) hin bewegt, nachdem die Spleißstelle (80) den Spalt passiert hat.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 17, wobei: die Bahn (12) am hinteren Ende gespleißt ist; und ein Stück eines Klebestreifens (74) für das Spleißen auf mindestens einer beschichteten Oberfläche der Bahn (12) befestigt ist.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 2, ferner umfassend ein Corona-Entladungsgerät (20), das der Bahn (12) eine elektrostatische Aufladung gibt.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 19, wobei die Corona-Entladungseinrichtung (20) die Bahn (12) elektrostatisch auflädt bei Beginn der Beschichtung.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 19, wobei: die Bahn (12) eine Spleißstelle (80) aufweist; und das Corona-Entladungsgerät (20) die Spleißstelle (80) elektrostatisch auflädt, bevor die Spleißstelle (80) mit den Beschichtungsflüssigkeiten beschichtet wird.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 21, wobei: die Bahn (12) an ihrem hinteren Ende gespleißt ist; und ein Stück eines Klebestreifens (74) für das Spleißen an mindestens einer beschichteten Oberfläche der Bahn (12) befestigt ist.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 2, wobei die Stützrolle (16) nicht geerdet ist und mit einem Isolator beschichtet ist.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 23, wobei: die Beschichtungsvorrichtung (10) eine Beschichtungsvorrichtung vom Gleitwulsttyp ist, die einen Wulst (36) zwischen einem Ende (28A) der Gleitfläche (28) des Gleitwulst-Beschickers (14) und der Bahn (12) ausbildet; und ein Gleichstrom hoher Spannung an der Stützrolle (16) anliegt, wenn die Wulst (36) ausgebildet wird.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 23, wobei: die Bahn (12) eine Spleißstelle (80) aufweist; und ein Gleichstrom hoher Spannung an der Stützrolle (16) anliegt, wenn die Spleißstelle (80) den Spalt zwischen einem Ende (28A) der Gleitfläche (28) und der Stützrolle (16) passiert.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 25, wobei: die Bahn (12) an ihrem hinteren Ende gespleißt ist; und ein Stück eines Klebstreifens (74) für das Spleißen an mindestens einer beschichteten Oberfläche der Bahn (12) befestigt ist.
Beschichtungsvorrichtung (10) für das wärmeentwicklungs-lichtempfindliche Material gemäss Anspruch 2, wobei eine abgeglichene Oberflächenspannung und eine dynamische Oberflächenspannung der oberen Schicht geringer sind als jene einer unteren Schicht.