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Gebiet der
Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher
Materialien und insbesondere ein Verfahren zur Herstellung fotothermographischer
Materialien mittels Wulst-Beschichten.
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Hintergrund
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Gleichzeitiges
Mehrfach-Wulst-Beschichten (multiple bead coating) wird zur Herstellung
eines lichtempfindlichen Materials verwendet, um mehrfache Schichten
eines lichtempfindlichen Materials auf eine Bahn aufzubringen. Ein
Mehrfach-Gleittrichter (multiple slide hopper), wie er im US-Patent
2,761,791 gezeigt wird, ist einer von bekannten Beschichtungsapparaturen
zur Herstellung einer gleichzeitigen Mehrfachbeschichtung durch
einen Wulst von mehrfachen Schichten, der sich zwischen der Lippe
des Mehrfach-Gleittrichters
und einer laufenden Bahn bildet, wo eine geschichtete Beschichtungsflüssigkeit
mittels der Gravitation auf einer geneigten Gleitoberfläche des
Trichters fließt.
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EP-A-883
022 beschreibt eine Beschichtungsmethode für ein fotothermographisches
bildgebendes Element.
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GB-A-2029733
beschreibt ein Wulst-Beschichtungsverfahren, worin der Gegendruck
des Wulstes durch eine Formel gegeben ist, welche die obere Meniskuskrümmung des
Wulstes beinhaltet.
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Dieses
Gleitwulst-Beschichten kann leicht die Beschichtungsdicke kontrollieren,
indem die Laufgeschwindigkeit der Bahn und die Zuflussrate der Beschichtungsflüssigkeit
angepasst wird, und es ist ein geeigneter Weg, um dünne Beschichtungslagen
zu bekommen, welche eine gute lichtempfindliche Auflösung geben,
und für
die Herstellung von gleichzeitigen Mehrfachbeschichtungen, welches
die Produktivität
erhöht
und die Möglichkeit
von Beschichtungsdefekten erniedrigt.
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Gleitwulstbeschichten
verursacht jedoch gelegentlich streifenförmige Beschichtungsdefekte,
welche in streifenförmiger
Unebenheit der optischen Dichte resultiert, wenn das beschichtete
lichtempfindliche Produkt verwendet wird. Es scheint häufiger in
der Beschichtung von fotothermographischen Materialien aufzutreten,
welches die Qualität
des Produktes erniedrigt.
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Zusammenfassung
der Erfindung
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Aufgabe
der Erfindung ist es, eine Beschichtungsmethode zur Herstellung
von lichtempfindlichen Materialien zur Verfügung zu stellen, insbesondere
zur Herstellung von fotothermographischen Materialien, die frei
von streifenähnlichen
Beschichtungsdefekten sind.
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Um
diese Aufgabe zu erfüllen,
wurden Untersuchungen durchgeführt,
und es wurde gefunden, dass wenn die äußere Schicht Materialien beinhaltet,
die in der Lage sind, die optische Dichte zu erhöhen, wie Toner, werden die
Streifen stärker
sichtbar und die streifigen Defekte werden unterdrückt, wenn
die Meniskuskrümmung
der oberen Seite des Wulsts weniger als einen spezifizierten Wert
annimmt. Genauer, das folgende sind Erfindungen, wie sie im Anspruch
beschrieben werden.
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Ein
Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen Materialien, umfassend
die Schritte: Bilden eines flüssigen
Mehrschichtenkomposits aus einer Vielzahl von verschiedenen Schichten
auf einem Gleittrichter; und Bilden eines Wulsts aus dem flüssigen Mehrfachschichtenkomposit
zwischen einer Lippe des Gleittrichters und einer laufenden Bahn,
so dass die obere Meniskuskrümmung
des Wulsts weniger als 7,2 mm–1 beträgt.
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Verfahren
gemäß dem oben
dargestellten, worin das flüssige
Mehrfachschichtenkomposit eine flüssige, lichtempfindliche Schicht
beinhaltet, enthaltend ein Silbersalz einer organischen Säure und
ein hydrophobes Polymerlatex, und eine flüssige, nicht-lichtempfindliche
Schicht enthaltend ein wasserlösliches
Polymer.
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Verfahren
gemäß den beiden
oben dargestellten, worin die obere Meniskuskrümmun des Wulsts weniger als
7,2 mm–1 beträgt, welches
durch das Auswählen
eines geeigneten Werts des Freiraums zwischen der Bahnoberfläche und
der Lippe des Gleittrichters und eines geeigneten Wertes des Druckes
in der unteren Seite des Wulsts erreicht wird.
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Der
geeignete Wert des Freiraums reicht von 0,10 mm bis zu 0,40 mm und
der geeignete Wert des Druckes reicht von –100 Pa bis zu –700 Pa.
Die Beschichtungsflüssigkeit
der lichtempfindlichen Schicht hat eine derartige Thixotropie, dass
die Viskosität
der Flüssigkeit
von 300 mPa·s
bis 30.000 mPa·s
bei einer Scher-Rate von 0,1/s beträgt und von 1 mPa·s bis
100 mPa·s
bei einer Scher-Rate von 1000/s.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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1 ist
eine Teilansicht eines Mehrfachgleitbeschichtungsapparates.
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2 ist
eine vergrößerte Teilansicht
des Beschichtungswulsts.
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Ausführliche
Beschreibung der Erfindung
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Wie
in 1 gezeigt, beinhaltet ein Mehrfachgleitbeschichtungsapparat 10 einen
Mehrfachgleittrichter 20, der gleichzeitig Mehrfachflüssigschichten
auf eine laufende Bahn 12 durch einen Beschichtungswulst 44 aufbringt,
eine stützende
Laufwalze 40, um die Bahn 12 zu unterstützen, und
einen Vakuumraum 50, um einen reduzierten Druck auf den
Beschichtungswulst 44 aufzubringen. Der Mehrfachgleittrichter 20 wird
durch eine Vielzahl an Würfelblöcken 30, 31 und 32 gebildet,
welche miteinander befestigt sind. Der Mehrfachgleittrichter 20 hat
eine Gleitoberfläche 21 auf
seiner oberen Seite, welche nach unten zu der stützenden Laufwalze 40 geneigt
ist, über
welche die Beschichtungsflüssigkeit
mittels der Gravitation fließt.
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Im
Mehrfachgleittrichter 20 wird die erste Beschichtungsflüssigkeit 14A kontinuierlich
durch einen Zuflussschlauch 22a mit einer gegebenen Rate
in einen Hohlraum 23a gepumpt, von welchem sie durch ein
engen, vertikalen Schlitz 24a auf die nach unten geneigte
Gleitoberfläche 21 extrudiert
wird. Der Hohlraum 23a und der Schlitz 24a erstrecken
sich über
die Breite des Trichters 20, um die Beschichtungsflüssigkeit 14A,
die in den Hohlraum 23a gepumpt wird, zu veranlassen, sich über den
Trichter 20 auszubreiten und durch den engen, vertikalen
Schlitz 24a in der Form eines Bandes mit der Trichterbreite
gezwungen wird. Weitere Schlitze 24b und 24c und
die Hohlräume 23b und 23c des
Mehrfachgleittrichters 20 haben die gleiche Struktur und Funktion.
Die zweite Beschichtungsflüssigkeit 14B wird
in den Hohlraum 23b geführt
und die dritte Beschichtungsflüssigkeit 14C wird
in den Hohlraum 23c zugeführt. Die zweite Beschichtungsflüssigkeit 14B wird über die
erste Beschichtungsflüssigkeit 14A gelegt,
während
sie die geneigte Gleitoberfläche
hinabfließt
und in gleicher Weise wird die dritte Beschichtungsflüssigkeit 14C über die
zweite Beschichtungsflüssigkeit 14B gelegt. Diese übereinander
gelegten Schichten fließen
nach unten ohne sich miteinander zu mischen. Im Beispiel der Erfindung
wird die erste Beschichtungsflüssigkeit 14A aufgebracht,
um eine lichtempfindliche Schicht 14a zu bilden, die zweite
Beschichtungsflüssigkeit 14B wird
aufgebracht, um eine Zwischenschicht 14b (nicht-lichtempfindliche
Schicht) zu bilden und die dritte Beschichtungsflüssigkeit 14C wird
aufgebracht, um eine Schutzschicht 14c (nicht-lichtempfindliche
Schicht) zu bilden, welche ein fotothermographisches Material bilden.
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Ein
Freiraum 42 wird zwischen der Bahn 12, die durch
die stützende
Laufwalze 40 gestützt
wird, und der Lippe 21a des Gleittrichters (der niedrigsten
Ecke der geneigten Gleitoberfläche)
gebildet. Die Beschichtungswulst 44 beinhaltet die drei
geschichteten Beschichtungsflüssigkeiten
und wird in einer überbrückenden Beziehung
zwischen der Oberfläche
der Bahn und der Lippe gehalten.
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Ein
Vakuumraum 50 zur Beibehaltung eines reduzierten Drucks
auf der unteren Seite des Beschichtungswulsts (im folgenden als
Gegendruck bezeichnet) ist auf der unteren Seite der stützenden
Laufwalze 40 lokalisiert und dadurch gebildet, indem er
von einem Teil der Laufwalze, einer Wand des Beschichtungstrichters,
die zu der Lippe führt,
und anderen bedeckenden Teilen umschlossen wird. Indem unterschiedliche
Drücke
auf die beiden Seiten des Beschichtungswulstes angelegt werden,
wird der Wulst stabil gehalten. Der Vakuumraum 50 ist mit
einer Vakuumlinie 52 verbunden, welche zu einer Vakuumpumpe
(nicht gezeigt) führt
und der Grad der Druckverminderung ist kontrollierbar. Der Vakuumraum 50 ist
auch mit der Beschichtungsflüssigkeitslinie 54 verbunden.
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Wie
in 2 gezeigt, hat der Beschichtungswulst 44,
welcher in überbrückener <verbindung zwischen der
laufenden Oberfläche
der Bahn und der Lippe des Trichters gehalten wird, eine konkave
Oberfläche 44a in
der oberen Seite, wo die Schutzschicht 14c im Beispiel
abgelegt ist. Die Form des Beschichtungswulstes 44 wird
durch eine obere Me niskuskrümmung κ dargestellt,
welche als 1/R definiert ist, worin R der Radius der Krümmung der
oberen Seite der konkaven Oberfläche 44a ist.
Die tatsächliche
konkave Krümmung
wird durch einen Bogen eines ungefähr angepassten Kreises dargestellt,
um κ zu
bestimmen. Es gibt eine Beziehung κ = 1/R = dΦ/ds, worin ds die Länge des
Bogens und dΦ der
zentrale Winkel davon ist. Es wurde gefunden, dass ein Beschichtungswulst,
in welchem κ weniger
als 7,2 mm–1 beträgt, eine
stabile Beschichtung ohne Streifendefekte in der Beschichtung ergibt.
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Es
ist möglich κ kleiner
als 7,2 mm–1 zu
machen, indem der Freiraum 42 und der Gegendruck kontrolliert
werden. Um dieses zu machen, wird der Beschichtungsfreiraum 42 bevorzugt
zwischen 0,10 mm und 0,40 mm gesetzt und der Gegendruck zwischen –100 Pa
und –700
Pa, bevorzugter wird der Freiraum zwischen 0,18 mm und 0,3 mm gesetzt
und der Gegendruck zwischen –200
Pa und –600
Pa. Es wurde gefunden, dass es nicht möglich ist, κ kleiner als 7,2 mm–1 zu
machen, ohne Rücksicht
auf die Kontrolle des Gegendrucks, wenn der Freiraum 42 weniger
als 0,10 mm oder mehr als 0,40 mm beträgt, und es ist fast unmöglich, κ kleiner als
7,2 mm–1 zu
bekommen, ohne Rücksicht
auf die Kontrolle des Freiraumes, wenn der Gegendruck außerhalb
des oben gegebenen Bereiches liegt.
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Das
folgende ist eine Beschreibung des fotothermographischen Materials,
das im Beispiel der Erfindung verwendet wird. Gewöhnlich beinhaltet
ein fotothermographisches Material eine lichtempfindliche Schicht und
eine Schutzschicht dafür.
Jede dieser Schichten kann jeweils aus einer Vielzahl von Schichten
bestehen und eine Zwischenschicht kann zwischen der lichtempfindlichen
Schicht und der Schutzschicht liegen. Diese Schichten werden für gewöhnlich gleichzeitig
auf einer unterstützenden
Bahn in einer übereinander
geschichteten Art und Weise aufgebracht.
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Die
lichtempfindliche Schicht enthält
im allgemeinen eine reduzierbare Silberquelle (z.B. ein organisches
Silbersalz), welche das Hauptmaterial zur Bildung eines Bildes ist,
eine katalytische Menge eines Fotokatalysators (z.B. ein Silberhalogenid),
einen Toner zur Kontrolle der Tonalität des Silbers, und ein reduzierendes
Agens, das typischer Weise in einer Bindemittelmatrix dispergiert
ist. Das organische Silbersalz (nicht-lichtempfindliches Silbersalz) und das
reduzierende Agens sind nicht notwendiger Weise in der lichtempfindlichen
Schicht enthalten.
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Die
reduzierbare Silberquelle kann jedes Material umfassen, welches
eine reduzierbare Quelle an Silberionen besitzt. Silbersalze von
organischen Säuren,
wie organische Carbonsäuren,
insbesondere langkettige (von 10 bis 30, bevorzugt 15 bis 28 Kohlenstoffatomen)
aliphatische Carbonsäuren
sind bevorzugt. Die Verbindung, welche Silber zur Verfügung stellt,
ist bevorzugt in einer Menge von ungefähr 5 bis 70 Gew.-% der bildgebenden
Schicht enthalten. Beispiele beinhalten Silbersalze von aliphatischen
Carbonsäuren
und Silbersalze von aromatischen Carbonsäuren, obwohl sie nicht darauf
beschränkt
sind. Bevorzugte Beispiele des Silbersalzes von aliphatischen Carboxylsäuren beinhalten
Silberbehenat, Silberarachidonat, saures Silberstearat, Silberoleat,
Silberlaurat, Silbercaproat, Silbermyristat, Silberpalmitat, Silbermaleat,
Silberfumarat, Silbertartrat, Silberlinolat, Silberbutyrat, Silbercamphorat
und Mischungen daraus. Die Form der Silbersalze von organischen
Säuren
ist auf keine bestimmte Form festgelegt. Die organischen Silbersalze,
wie sie hierin verwendet werden, sind bevorzugt entsalzt. Die Entsalzungsmethode
ist nicht entscheidend. Alle bekannten Filtrationsverfahren und
Wasserwaschverfahren können
verwendet werden, wie Zentrifugation, Saugfiltration, Ultrafiltration
oder Flockenbildung.
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Das
organische Silbersalz wird in eine feste, mikropartikuläre Dispersion
unter Verwendung eines dispergierenden Agens überführt, um feine Körner von
kleiner Größe und frei
von Flokkulation zur Verfügung
zu stellen. Eine feste, mikropartikuläre Dispersion des organischen
Silbersalzes kann hergestellt werden, indem das Salz mechanisch
in der Gegenwart von Dispergierhilfen mittels bekannter Zerkleinerungsmitteln,
wie Kugelmühlen,
vibrierenden Kugelmühlen,
Planetenkugelmühlen,
Sandmühlen,
Kolloidmühlen,
Jet-Mühlen, Walzenmühlen oder
Hochdruckhomogenisatoren zerkleinert wird. Ein Hochdruckhomogenisator
ist besonders bevorzugt zu diesem Zwecke. Das Dispergieragens, das
in der Herstellung einer festen, mikropartikulären Dispersion des organischen
Silbersalzes verwendet wird, kann aus synthetischen anionischen
Polymeren wie Polyacrylsäure,
Copolymeren von Acrylsäure,
Copolymeren von Maleinsäure,
Copolymeren von Maleinsäuremonoestern
und Copolymeren von Acryloylmethylpropansulfonsäure; halbsynthetischen anionischen
Polymeren wie Carboxymethylstärke
und Carboxymethylcellulose; anionischen Polymeren wie Alginsäure und
Pektinsäure;
anionischen oberflächenaktiven
Substanzen, wie sie in JP-A-92716/1977 und WO88/04794 beschrieben werden;
den Verbindungen beschrieben in der japanischen Patentanmeldung
Nr. 350753/1995; bekannten anionischen, nichtionischen und kationischen
oberflächenaktiven
Substanzen; und bekannten Polymeren wie Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon,
Carboxymethylcellulose, Hydroxypropylcellulose und Hydroxypropylmethylcellulose
aus gewählt
werden sowie aus natürlich
vorkommenden Verbindungen mit hohem Molekulargewicht wie Gelatine.
Diejenigen organischen Silbersalze werden bevorzugt verwendet, die
eine Silberbedeckung von 0,1 bis 5 g/m2,
bevorzugt von 1 bis 3 g/m2 zur Verfügung stellen.
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Lichtempfindliche
Silberhalogenide werden bevorzugt zusammen mit einem organischen
Silbersalz verwendet. Ein Verfahren zur Bildung eines lichtempfindlichen
Silbersalzes ist im Stand der Technik gut bekannt. Jedes der Verfahren,
die in Research Disclosure Nr. 17029 (Juni 1978) und US-Patent Nr.
3,700,458 offenbart werden, können
beispielsweise verwendet werden. Illustrative Verfahren, welche
hier verwendet werden können,
sind ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Silbersalzes
und Zufügen
einer halogenenthaltenden Verbindung zu dem organischen Silbersalz,
um einen Teil des Silbers des organischen Silbersalzes in ein lichtempfindliches
Silberhalogenid zu konvertieren und ein Verfahren vom Zufügen einer
Verbindung, die Silber zur Verfügung
stellt, und einer Verbindung, die ein Halogen zur Verfügung stellt,
zu einer Lösung
aus Gelatine oder eines anderen Polymers, um lichtempfindliche Silberhalogenidkörner zu
bilden, und Mischen der Körner
mit einem organischen Silbersalz. Die zuletzt genannte Methode ist
in der Ausführung
der Erfindung bevorzugt.
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Das
lichtempfindliche Silberhalogenid sollte bevorzugt eine kleinere
Korngröße haben,
für den
Zweck der Niedrighaltung der weißen Turbulenz nach der Bildformung.
Insbesondere beträgt
die Korngröße bevorzugt
bis zu 0,2 μm,
bevorzugter 0,01 μm
bis 0,15 μm,
noch bevorzugter 0,02 μm
bis 0,12 μm.
Der Begriff Korngröße bezeichnet
die Länge
einer Kante eines Silberhalogenidkorns, wenn die Silberhalogenidkörner regelmäßige Körner mit
kubischer oder oktaedrischer Form sind. Wenn die Silberhalogenidkörner tafelförmig sind,
ist die Korngröße der Durchmesser
eines entsprechendes Kreises mit der gleichen Fläche, wie die projizierte Fläche der
größten Oberfläche eines
tafelförmigen
Kornes. Die Form der Silberhalogenidkörner kann kubisch, oktaedrisch,
tafelförmig,
sphärisch,
stabähnlich
und kartoffelähnlich
sein, wobei die kubischen und tafelförmigen Körner bevorzugt verwendet werden.
Wo tafelförmige
Silberhalogenidkörner
verwendet werden, sollten sie bevorzugt ein mittleres Aspektverhältnis von
100:1 bis 2:1 aufweisen, bevorzugter von 50:1 bis 3:1.
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Die
Halogenzusammensetzung der lichtempfindlichen Silberhalogenide ist
nicht kritisch und kann jedes aus Silberchlorid, Silberchlorbromid,
Silberbromid, Silberiodbromid, Silberiodchlorbromid und Silberiodid sein.
Silberbromid und Silberiodibromid sind bevorzugt in der Ausübung der
Erfindung. Besonders bevorzugt ist Silberiodbromid, bevorzugt mit
einem Silberiodidgehalt von 0,1 bis 40 Mol-%, insbesondere 0,1 bis
20 Mol-%.
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Bevorzugt
enthalten die lichtempfindlichen Silberhalogenidkörner, die
hier verwendet werden, mindestens einen Metallkomplex ausgewählt aus
der Gruppe bestehend aus Rhodium, Rhenium, Ruthenium, Osmium, Iridium,
Kobalt, Quecksilber und Eisen. Die Metallkomplexe können allein
oder in einer Mischung aus zwei oder mehreren Komplexen eines gemeinsamen
Metalls oder verschiedener Metalle verwendet werden. Der Metallkomplex
ist bevorzugt in einer Menge von 1 nmol bis 10 mmol enthalten, bevorzugter
10 nmol bis 100 μmol
pro Mol Silber. Beispielhafte Metallkomplexstrukturen sind diejenigen,
die in JP-A 225449/1995 beschrieben werden. Bevorzugt unter den
Kobalt- und Eisenkomplexen sind Hexacyanometallkomplexe. Beispielhafte aber
nicht limitierte Beispiele beinhalten ein Ferricyanation, Ferrocyanation
und Hexacyanokobaltation. Die Verteilung des Metallkomplexes in
den Silberhalogenidkörner
ist nicht kritisch. Dies bedeutet, dass der Metallkomplex in den
Silberhalogenidkörner
enthalten sein kann, um eine einheitliche Phase zu bilden, oder
in einer hohen Konzentration entweder im Kern oder der Schale. Die
lichtempfindlichen Silberhalogenidkörner, die hierin verwendet
werden, sollten bevorzugt auf chemische Weise sensibilisiert worden
sein. Bevorzugte chemische Sensibilisierungsmethoden sind Schwefel-,
Selen- und Tellur-Sensibilisierungsmethoden, welche im Stand der
Technik gut bekannt sind. Ebenfalls nützlich sind Edelmetallsensibilisierungsmethoden
unter Verwendung von Gold-, Palladium- und Iridium-Verbindungen sowie
eine Reduktionssensibilisierungsmethode.
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Das
lichtempfindliche Silberhalogenid wird bevorzugt in einer Menge
von 0,01 Mol bis 0,5 Mol, bevorzugter 0,02 Mol bis 0,3 Mol, am bevorzugtesten
0,03 Mol bis 0,25 Mol pro Mol des nicht-lichtempfindlichen Silbersalzes,
typischer Weise einem organischen Silbersalz, verwendet.
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Das
reduzierende Agens für
das nicht-lichtempfindliche Silbersalz, typischer Weise einem organischen
Silbersalz, kann jede Substanz sein, bevorzugt organische Substanzen,
die Silberionen in metallisches Silber reduzieren. Konventionelle
photographische Entwicklungsagentien, wie Phenidone, Hydrochinone
und Catechol sind geeignet, obwohl sterisch gehinderte Phenole als
reduzierende Agentien bevorzugt sind. Das reduzierende Agens sollte
bevorzugt in einer Menge von 5 bis 50 Mol-%, bevorzugter 10 bis
40 Mol-% pro Mol an Silber in einer bildgebenden Schicht enthalten
sein. In einer Mehrschichtenausführungsform,
worin das reduzierende Agens zu einer anderen Schicht als der bildgebenden
Schicht zugefügt
wird, sollte das reduzierende Agens bevorzugt in einer leicht höheren Menge
von ungefähr
10 bis 50 Mol-% enthalten sein. Vorläufer, die in der Lage sind,
als reduzierende Agentien nur im Entwicklungsstadium zu fungieren,
können
anstelle des reduzierenden Agens benutzt werden.
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Beispiele
eines reduzierenden Agens, das geeignet ist für die Verwendung in photothermographischen Materialien
unter Verwendung von organischen Silbersalzen, sind in den japanischen
Patentanmeldungen Nr. 6074/1971, 1238/1972, 33621/1972, 46427/1974,
115540/1974, 14334/1975, 36110/1975, 147711/1975, 32632/1976, 1023721/1976,
32324/1976, 51933/1976, 84727/1977, 108654/1980, 146133/1981, 82828/1982, 82829/1982,
3793/1994, US-Patentanmeldungen Nr. 3679426, 3751252, 3751255, 3761270,
3782949, 3839048, 3928686, 5464738, Deutschem Patent Nr. 2321328
und Europäischem
Patent Nr. 692732 offenbart.
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Die
reduzierenden Agentien können
mittels jeder gewünschten
Methode in Form einer Lösung,
Pulvers oder festen, mikropartikulären Dispersion zugefügt werden,
obwohl sie bevorzugt in der Form einer festen mikropartikulären Dispersion
unter Verwendung eines Dispersgierungagens zugefügt werden.
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Eine
feste, mikropartikuläre
Dispersion der reduzierenden Agentien kann hergestellt werden, in
dem das Agens in Gegenwart von Dispergierhilfen mechanisch mittels
bekannter Zerkleinerungsmittel wie Kugelmühlen, vibrierenden Kugelmühlen, Sandmühlen, Kolloidmühlen, Jetmühlen, Walzenmühlen oder ähnliches dispergiert
wird.
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Es
ist manchmal vorteilhaft, einen Zusatz bekannt als "Toner" (toneinstellendes
Agens) zuzugeben, um die Bilder zu verbessern, zusätzlich zu
den vorstehend erwähnten
Komponenten. Der Toner, der zur Kontrolle der Tonalität des Silbers
verwendet wird, kann die optische Dichte erhöhen. Der Toner sollte bevorzugt in
einer Menge von 0,1 bis 50 Mol-%, bevorzugter 0,5 bis 20 Mol-% pro
Mol des Silbers in einer bildformenden Schicht enthalten sein. Vorläufer, die
in der Lage sind, als Toner nur im Entwicklungsstadium zu fungieren,
können
anstelle des Toners verwendet werden. Der Toner ist in der Photographierkunst
gut bekannt und Beispiele, die für
Photothermographien unter Verwendung von organischen Silbersalzen
verwendet werden, sind in den japanischen Patentanmeldungen Nr.
6077/1971, 10282/1972, 5019/1974, 5020/1974, 91215/1974, 2524/1975,
32927/1975, 67132/1975, 67641/1975, 114217/1975, 3223/1976, 27923/1976,
14788/1977, 99813/1977, 1020/1978, 76020/1978, 156524/1979, 156525/1979
und 183642/1986, 56848/1992, JP-B (geprüfte japanische Patentveröffentlichung)
10727/1974 und 20333/1979, US Patenten Nr. 3,080,254, 3,446,648,
3,782,941, 4,123,282 und 4,510,236, britischen Patent Nr. 1,380,795
und belgischen Patent Nr. 841,910 beschrieben. Toner können zur
lichtempfindlichen Schicht, zur Schutzschicht und/oder Zwischenschicht
mittels jeder gewünschten
Methode in der Form einer Lösung,
Pulvers oder festen, mikropartikulären Dispersion zugefügt werden,
obwohl sie bevorzugt in Form einer festen, mikropartikulären Dispersion
unter Verwendung eines Dispergier-Agens zugefügt werden.
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Eine
feste, mikropartikuläre
Dispersion der reduzierenden Agentien kann hergestellt werden, indem das
Agens mechanisch in Gegenwart von Dispergierhilfen mittels bekannter
Zerkleinerungsmittel wie Kugelmühlen,
vibrierenden Kugelmühlen,
Sandmühlen,
Kolloidmühlen,
Jetmühlen,
Walzenmühlen
oder ähnliches dispergiert
wird.
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Lichtempfindliche
Schichten, die in der Erfindung verwendet werden, beinhalten einen
hydrophoben Polymerlatex (im folgenden einfach als "Polymerlatex" bezeichnet), welcher
für gewöhnlich in
einer Menge von mehr als 50 Gew.-% aller Bindemittel in der lichtempfindlichen
Schicht enthalten ist. Im Hinblick auf den Polymerlatex wird Bezug
genommen auf Okuda und Inagaki Ed., "Synthetic Resin Emulsion", Kobunshi Kankokai, 1978;
Sugimura, Kataoka, Suzuki und Kasahara Ed., "Application of Synthetic Latex", Kobunshi Kankokai, 1993;
und Muroi, "Chemistry
of Synthetic Latex",
Kobunshi Kankokai, 1970. Der hierin verwendete Polymerlatex kann
entweder ein Latex der gewöhnlichen
einheitlichen Struktur oder ein Latex der sogenannten Kern/Schale-Art
sein. Im letzteren Fall werden manchmal bessere Ergebnisse erzielt,
wenn der Kern und die Schale verschiedene Glasübergangstemperaturen aufweisen.
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Der
Polymerlatex sollte bevorzugt eine minimale filmbildende Temperatur
(MFT) von ungefähr –30°C bis 90°C aufweisen,
bevorzugter ungefähr
0°C bis
70°C. Eine
filmbildende Hilfe kann zugesetzt werden, um die minimale Filmbildungstemperatur
zu kontrollieren. Die Filmbildungshilfe wird auch als Weichmacher
bezeichnet und beinhaltet organische Verbindungen (typischer Weise
organische Lösungsmittel),
um die minimale Filmbildungstemperatur eines Polymerlatex zu erniedrigen.
Sie werden in Muroi, "Chemistry
of Synthetic Latex",
Kobunshi Kankokai, 1970 beschrieben.
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Polymere
die im Polymerlatex verwendet werden, beinhalten Acrylharze, Vinylacetatharze,
Polyesterharze, Polyurethanharze, gummiartige Harze, Vinylchloridharze,
Vinyliden chloridharze, Polyolefinharze und Copolymere daraus. Die
Polymere können
linear, verzweigt oder vernetzt sein. Weiterhin kann das Polymer entweder
ein Homopolymer, resultierend aus der Polymerisation eines einzelnen
Monomers, oder ein Copolymer, resultierend aus der Polymerisation
von zwei oder mehreren Monomeren, sein. Das Copolymer kann entweder
ein zufälliges
Copolymer oder ein Blockcopolymer sein. Das Polymer hat bevorzugt
ein mittleres Zahlenmolekulargewicht von ungefähr 5.000 bis 1.000.000, bevorzugter
von ungefähr
10.000 bis 100.000. Ein Polymer mit einem niedrigeren Molekulargewicht
würde eine
lichtempfindliche Schicht mit unzureichender mechanischer Stärke zur
Verfügung
stellen, während
ein Polymer mit einem höheren
Molekulargewicht eher unwahrscheinlich einen Film formt.
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Das
Polymer des hierin verwendeten Polymerlatex sollte einen Gleichgewichtsfeuchtigkeitsgehalt
von ungefähr
2 Gew.-%, bevorzugt 0,01 bis 1 Gew.-%, bevorzugter 0,03 bis 1 Gew.-%
bei 25°C
und RH 60% aufweisen. In Bezug auf die Definition und die Messung
des Gleichgewichtsfeuchtigkeitsgehalts wird auf Kobunshi Gakkai
Ed., "Polymer Engineering
Series 14 – Polymeric
Material Tests",
Chijin Shokan K. K. verwiesen.
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Illustrative
Beispiele des Polymerlatex, welcher als Bindemittel der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen
Schicht verwendet werden kann, beinhalten Latices von Methylmethacrylat/Ethylacrylat/Methacrylsäure-Copolymeren,
Latices von Methylmethacrylat/2-Ethylhexylacrylat/Styrol/Acrylsäure-Copolymeren,
Latices von Styrol/Butadien/Acrylsäure-Copolymeren, Latices von
Styrol/Butadien/Divinylbenzol/Methacrylsäure-Copolymeren, Latices von
Methylacrylat/Vinylchlorid/Acrylsäure-Copolymeren und Latices
von Vinylidenchlorid/Ethylacrylat/Acrylonitril/Methacrylsäure-Copolymeren.
Die Polymerlatices können
allein oder in Mischungen aus zweien oder mehreren verwendet werden.
In der lichtempfindlichen Schicht bildet der Polymerlatex bevorzugt
mindestens 50%, insbesondere mindestens 70 Gew.-% des Gesamtbindemittels.
Falls gewünscht, kann
ein hydrophiles Polymer in einer Menge von weniger als 50%, bevorzugt
von weniger als 30 Gew.-% des Gesamtbindemittels zugefügt werden.
Das hydrophile Polymer kann ausgewählt werden aus Gelatine, Polyvinylalkohol
(PVA), Methylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Carboxymethylcellulose
und Hydroxypropylmethylcellulose.
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Die
gesamte Menge an Bindemittel in der lichtempfindlichen Schicht,
die bevorzugt in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, liegt
zwischen 0,2 und 30 g/m2, bevorzugter zwischen
1 und 15 g/m2. Die Beschichtungsflüssigkeit
in der lichtempfindlichen Schicht hat eine derartige Thixotropie,
dass die Viskosität
der Flüssigkeit
300 mPa·s
bis 30.000 mPa·s
bei einer Scherrate von 0,1/s und 1 mPa·s bis 100 mPa·s bei
einer Scherrate von 1000/s aufweist. Die Viskositäten werden
bei 25°C
mittels eines RFS Fluid-Spektrometers,
hergestellt von Rheometric Fareast KK, gemessen.
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Der
sensibilisierende Farbstoff, das reduzierendes Agens, der Toner,
ein Antivernebelungsmittel und weitere geeignete Additive können der
lichtempfindlichen Schicht zugefügt
werden und der Farbstoff, ein Vernetzungsmittel und oberflächenaktive
Stoffe können
der bildgebenden Schicht zugefügt
werden. Es kann jeder sensibilisierender Farbstoff verwendet werden,
welcher Silberhalogenidkörner
in der gewünschten
Wellenlängenregion
spektral sensibilisieren kann, wenn er auf den Silberhalogenidkörnern adsorbiert
ist. Die sensibilisierenden Farbstoffe, die hierin verwendet werden,
beinhalten Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe, komplexe Cyaninfarbstoffe,
komplexe Merocyaninfarbstoffe, holopolare Cyaninfarbstoffe, Styrolfarbstoffe,
Hemicyaninfarbstoffe, Oxonolfarbstoffe und Hemioxonolfarbstoffe.
Geeignete sensibilisierende Farbstoffe, welche hierin verwendet
werden können,
sind in Research Disclosure, Item 17643 IVA (Dezember 1978, Seite
23), ibid., Item 1831 X (August 1979, Seite 437) und den darin zitierten
Referenzen beschrieben.
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Jedes
Polymer kann für
die Zwischenschicht verwendet werden, solange die Polymere eine
filmbildende Fähigkeit
aufweisen, ohne eine merkliche Zunahme der Viskosität oder Flockulierung
zu verursachen, wenn sie in Kontakt mit der flüssigen Schicht beinhaltend
die organischen Silbersäuresalze
und wässrige
Latexbindemittel gebracht werden. Wasserlösliche, nicht-ionische Polymere
werden hierfür
empfohlen. Beispiele von wasserlöslichen,
nicht-ionischen Polymeren sind Polyvinylalkohol, denaturierter Polyvinylalkohol,
Polyacrylamid, Dextran, Polyethylenglycol, Blockcopolymere von Polyethylenglycol
und Polypropylenglycol, obwohl die Polyvinylalkoholgruppe, insbesondere
Polyvinylalkohol, bevorzugt ist. Polyvinylalkohol, dessen Verseifungsgrad
zwischen 80 und 99,9 liegt und dessen Polymerisationsgrad zwischen
300 und 2.400 liegt, sind am meisten bevorzugt.
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Das
Beschichtungsgewicht (trocken) der Zwischenschicht ist bevorzugt
zwischen 0,1 und 3,0 g/m2, bevorzugter zwischen
0,2 und 2,0 g/m2. Diese Bereiche der Beschichtungsmenge
helfen, die Erscheinung der Beschichtungsoberfläche zu verbessern. Eine geringere
Beschichtungsmenge hilft nicht, das heißt, die Zwischenschicht funktioniert
nicht, und eine deutlich höhere
Beschichtungsmenge neigt dazu, Adhäsionsprobleme zu verursachen.
In anderen Worten, ein Überschuss
an der Zwischenschicht verhindert das Beschichten mit der Schutzschicht 14c in
einer geeigneten Form und die Zwischen schicht kann leicht vom Filmträger abgezogen
werden, zusätzlich
zu einer Vergrößerung der
Trockenbeladung. Weiterhin nimmt die Viskosität der Zwischenschicht zu. Daher
ist die Oberflächenerscheinung
oft beschädigt.
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Wasser
wird bevorzugt als ein Beschichtungslösungsmittel verwendet und wassermischbare
organische Lösungsmittel
können
in dem Beschichtungslösungsmittel
beinhaltet sein. Es ist erforderlich, dass mehr als 30 Gew.-% des
Beschichtungslösungsmittels
Wasser ist und bevorzugt mehr als 50 Gew.-%, bevorzugter sollten
mehr als 70 Gew.-% Wasser sein. Die Polymerkonzentration sollte
von 2 bis 20 Gew.-% der Beschichtungslösung betragen, das nasse Beschichtungsgewicht
sollte zwischen 2 und 30 ml/m2 liegen und
die Viskosität
der Beschichtungslösung
ist bevorzugt von 5 bis 200 mPa·s bei 40°C, gemessen mittels eines B-Typ-Viskometers
(hergestellt von Tokyo Keiki K. K.).
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Zu
der Zwischenschicht kann eine Vielzahl von Additiven, wie Toner
und Schleierbildungsagentien zugefügt werden, welches Verbindungen
sind, die die Entwicklung betreffen, beispielsweise Phthalazin oder
Ammoniumphthalat.
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Die
Bindemittel für
die Schutzschicht können
in Wasser dispergiert werden, um zur Bildung einer Schicht aufgebracht
zu werden, typischer Weise hydrophile Polymere. Typische Bindemittel
für die
Schutzschicht sind beispielsweise Gelatine, Polyvinylalkohol, Hydroxypropylcellulose,
Methylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Hydroxyethylcellulose,
Carboxymethylcellulose, Polyacrylamid, Dextran. Es ist bevorzugt, Gelatine,
insbesondere entkalkte Gelatine, als Bindemittel für die Schutzschicht
zu verwenden, um gesprenkelte Erscheinungsdefekte der Beschichtungsoberfläche zu vermeiden,
die durch Lufttrocknungsprozesse verursacht werden, da die Gelatine
in wässrige
Lösungsmittel
leicht zu einem Gel wird, welches kaum Fluidität aufweist.
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Falls
gewünscht,
kann die Schutzschicht in zwei Lagen geteilt werden. In einer bevorzugten
Ausführungsform
werden ein UV-absorbierendes Agens und/oder ein hydrophober Polymerlatex
einer der zwei Lagen zugefügt,
derjenigen, welche näher
an der Schicht ist, die das organische Silbersalz enthält, und
ein Mattierungsagens wird zu der anderen, ganz außen liegenden
Lage zugegeben. Falls nötig,
kann ein pH-Modifizierer für
Filmoberflächen
und/oder ein Härtungsagens
zu jeder der Schichten zugefügt
werden.
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Die
Beschichtungsmenge der Bindemittel in der Schutzschicht liegt zwischen
0,1 und 3,0 g/m2, bevorzugt von 0,2 bis
2,0 g/m2. Die Viskosität der Beschichtungsflüssigkeit
in der Schutzschicht sollte zwischen 5 und 100 mPa·s bei
40°C, bevorzugt
von 10 bis 50 mPa·s
liegen.
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Die äußerste Schutzschicht
beinhaltet bevorzugt ein adhäsionsverhinderndes
Material, wie Wachs, Silicapartikel, Styrol enthaltende Elastomerblockcopolymere
(z.B. Styrolbutadien-Styrol und Styrolisopren-Styrol), Celluloseacetat,
Celluloseacetatbutyrat, Cellulosepropionat und Mischungen daraus.
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Die
lichtempfindliche Schicht und andere Schichten des photothermographischen
Materials werden mittels Aufbringen einer wässrigen Beschichtungslösung, um
eine Beschichtung zu bilden, und anschließendem Trocknen der Beschichtung
gebildet. Das "wässrige" System weist darauf
hin, dass Wasser mindestens 30 Gew.-% des Lösungsmittels oder des Dispergiermediums
der Beschichtungslösung
ausmacht. Der Rest des Lösungsmittels
oder Dispergiermediums kann ein wassermischbares organisches Lösungsmittel,
wie Methylalkohol, Ethylalkohol, Isopropylalkohol, Methylcellosolv,
Ethylcellosolv, Dimethylformamid und Ethylacetat sein. Der Wassergehalt
sollte bevorzugt mehr als 50%, bevorzugter mehr als 70% betragen.
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Beispiele
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Herstellung
der Silberhalogenidkörner
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In
700 ml Wasser wurden 22 g phthalierte Gelatine und 30 mg Kaliumbromid
gelöst.
Die Lösung
wurde auf einen pH von 5,0 bei einer Temperatur von 35°C eingestellt.
Zu der Lösung
wurden 159 ml einer wässrigen Lösung, enthaltend
18,6 g Silbernitrat, und eine wässrige
Lösung,
enthaltend Kaliumbromid und Kaliumiodid in einem molarem Verhältnis von
92:8, über
10 Minuten mittels einer kontrollierten Doppelstrahl-Methode zugefügt, während die
Lösung
bei pAg 7,7 gehalten wurde. Dann wurden 476 ml einer wässrigen
Lösung,
enthaltend 55,4 g Silbernitrat, und einer wässrigen Lösung, enthaltend 9 μmol/l Dikaliumhexachloriridat
und 1 mol/l Kaliumbromid, über
30 Minuten mittels einer kontrollierten Doppelstrahl-Methode zugefügt, während die Lösung bei
pAg 7,7 gehalten wurde. Die Lösung
wurde dann entsalzt, indem der pH abgesenkt wurde, um Flockenbildung
und Sedimentation auszulösen.
Phenoxyethanol, 0,1 g, wurde der Lösung zugefügt, welche auf pH 5,9 und pAg
8,0 eingestellt wurde. Es wurden Silberiodbromidkörner in
der Form von kubischen Körnern mit
einer mittleren Korngröße von 0,07 μm erhalten,
einem Variationskoeffizienten der projizierten Fläche von 8%
und einer (100) Ebenenverhältnis
von 86%.
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Die
so erhaltenen Silberhalogenidkörner
wurden auf 60°C
erhitzt, zu welchen 85 μmol
Natriumthiosulfat, 11 μmol
2,3,4,5,6-Pentafluorphenyldiphenylphosphinselenid, 2 μmol einer
Tellurverbindung (unten gezeigt), 3,3 μmol Chlorgoldsäure und
230 μmol
Thiocyansäure
zugefügt
wurden pro Mol Silber. Die Lösung
lies man für
120 Minuten reifen. Nachdem die Temperatur auf 40°C abgesenkt
worden ist, wurden 3,5 × 10–4 Mol des
sensibilisierenden Farbstoffes A (unten gezeigt) und 4,6 × 10–3 Mol
2-Mercapto-5-methylbenzimidazol
unter Rühren
für 10
Minuten zugefügt
und bei 25°C
gequencht, wodurch Silberhalogenidkörner erhalten wurden.
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Die
Strukturformeln der Tellurverbindung und des sensibilisierenden
Farbstoffes A sind unten gezeigt:
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Sensibilisierende
Verbindung
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Darstellung
einer organischen Säuresilbersalzemulsion
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Eine
Mischung aus 8 g Stearinsäure,
39 g Behensäure
und 850 ml destilliertes Wasser wurde bei 90°C gerührt. Unter heftigem Rühren wurden
187 ml einer wässrigen
Lösung
von 1 N NaOH über
120 Minuten der Lösung
zugefügt.
Nachdem 65 ml 1 N Salpetersäure
zugefügt
worden sind, wurde die Lösung
auf 50°C
abgekühlt.
Dann wurden 125 ml einer wässrigen
Silbernitratlösung
zu der Lösung über 100
Sekunden unter noch stärkerem
Rühren
zugefügt
und das Rühren
wurde für
weitere 20 Minuten fortgeführt.
Die Feststoffe wurden mittels Saugfiltration abgetrennt und mit
Wasser gewaschen, bis das Wasserfiltrat eine Leitfähigkeit
von 30 μS/cm
erreichte. Zu den erhaltenen Feststoffen wurden 100 g einer 10 Gew.-%igen
wässrigen
Lösung
von Hydroxypropylcellulose zugefügt
und weiteres Wasser wurde zugefügt,
bis das Gesamtgewicht der Mischung 270 g betrug. Die Mischung wurde
grob mittels eines automatischen Mörsers dispergiert und anschließend fein durch
fünfmaliges
Durchlassen durch einen Manton-Gaulin-Homogenisator mit einem Druck
von 560 kg/cm2 dispergiert, wodurch eine
Wasserdispersion eines Silbersalzes einer organischen Säure mit
kristallinen Nadeln mit einer mittleren kleinen Achse von 0,04 μm und einer
mittleren großen
Achse von 0,9 μm
erhalten wurde und einem Variationskoeffizenten von 30%.
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Darstellung
einer Dispersion des reduzierenden Agens
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Wasser
in einer Menge von 850 g wurde zugefügt und gründlich gemischt mit 100 g 1001,1-bis(2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-3,5,5-trimethylhexan
und 50 g Hydroxypropylmethylcellulose, wodurch eine Aufschlämmung erhalten
wurde. Diese Aufschlämmung
und 840 g Zirkonoxidkugeln mit einem mittleren Durchmesser von 0,5
mm wurden zusammen in ein Gefäß gegeben
und unterliefen eine Dispergieroperation über eine Zeitdauer von 5 Stunden
mittels einer Dispergiermaschine (1/4G Sand Grinder Mill, hergestellt
von Imex K. K.), um eine Dispersion des reduzierenden Agens herzustellen.
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Darstellung einer Dispersion
einer organischen polyhalogenierten Verbindung
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Wasser
in einer Menge von 940 g wurde zugegeben und gründlich gemischt mit 50 g Tribrommethylphenylsulfon
und 10 g Hydroxypropylcellulose, wodurch eine Aufschlämmung erhalten
wurde. Diese Aufschlämmung
und 840 g Zirkonoxidkugeln mit einem mittleren Durchmesser von 0,5
mm wurden zusammen in ein Gefäß gegeben
und unterliefen eine Dispergieroperation über eine Zeitdauer von 5 Stunden
mittels einer Disper giermaschine (1/4G Sand Grinder Mill, hergestellt
von Imex K. K.), um eine Dispersion einer organischen, polyhalogenierten
Verbindung herzustellen.
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Darstellung einer lichtempfindlichen
Beschichtungslösung.
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Eine
Dispersion eines Silbersalzes einer organischen Säure in einer
Menge von 100 g, 8 g Wasser, 23 g einer Dispersion eines reduzierenden
Agens, 14 g einer Dispersion einer organischen, polyhalogenierten Verbindung
109 g Lacstar (SBR Latex, hergestellt von DaiNihon Ink Chemical
K. K.), 17 g einer 5 Gew.-%igen wässrigen Lösung einer Phthalazinverbindung
und 15 g Silberhalogenidkörner
wurden zusammengegeben und gründlich
gemischt, um eine lichtempfindliche Beschichtungsflüssigkeit
herzustellen.
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Die
Viskosität
der Beschichtungsflüssigkeit
in der lichtempfindlichen Schicht wies 500, 70, 50, 20, 15 mPa·s bei
Scherraten von 0,1, 1,0, 10, 100, 1000 [1/sec] in der genannten
Reihenfolge auf. Die Viskosität
wurde bei 25°C
mittels eines RFS Fluid-Spektrometers, hergestellt von Rheometric
Fareast K. K., gemessen.
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Polyvinylalkohol
PVA-205 (Handelsname, Produkt von Kuraray Co., Ltd.), 20 Gew.-%ige
wässrige
Lösung
in einer Menge von 200 g, 172 g Sebian A (Daicell chemical Industry
K. K.), 1 g einer 5 Gew.-%igen wässrigen
Lösung
von Aerosol OT (hergestellt von American Cyanamide Inc.) und 5 g
einer 20 Gew.-%igen wässrigen
Lösung
von Ammoniumphthalat wurden zusammengegeben und gemischt, um eine
Beschichtungsflüssigkeit
der Zwischenschicht herzustellen. Die Viskosität der so hergestellten Beschichtungslösung betrug
36 mPa·s
bei 40°C,
gemessen mittels einer Nr. 1 Rotor eines B-Typ Viskometers (hergestellt
von Tokyo Keiki).
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Herstellung einer Beschichtungslösung für die erste
Schutzschicht
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Alkalibehandelte
Gelatine in einer Menge von 100 g wurde in 880 g Wasser gelöst. Dann
wurden 5 ml Aerosol OT, 47 ml einer 15 Gew.-%igen methanolischen
Lösung
von Phthalsäure
und 181 g Sebian A der Lösung
zugefügt,
um eine Beschichtungsflüssigkeit
der ersten Schutzschicht herzustellen. Die Viskosität der so hergestellten
Beschichtungslösung
betrug 14 mPa·s
bei 40°C,
gemessen mittels eines B-Typ Viskometers.
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Herstellung einer Beschichtungslösung für die zweite
Schutzschicht.
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Alkalibehandelte
Gelatine in einer Menge von 100 g wurde in 844 g Wasser gelöst und 4
ml einer 5 Gew.-%igen Lösung
des Kaliumsalzes von N-Perfluoroktylsulfonyl-N-propylalanin, 45 ml einer 2 Gew.-%igen Lösung von
Polyethylengtykolmono(N-perfluoroktylsulfonyl-N-propyl-2-aminoethyl)ether,
28 ml einer 5 Gew.-%igen Lösung
von Aerosol OT (American Cyanamide Inc.), 115 g Polymethylmethacrylat
in feinen Partikeln, 39 ml einer 15 Gew.-%igen Lösung von Phthalsäure und
181 g Sebian A wurden zugefügt.
Die so hergestellte Mischung wurde als Beschichtungslösung für eine zweite
Schutzschicht verwendet. Die Viskosität der so hergestellten Beschichtungslösung betrug
16 mPa·s
bei 40°C,
gemessen mit dem vorher erwähnten
B-Typ Viskometer (Nr. 1 Rotor).
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Herstellung
von Proben eines photothermographischen Filmes
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Die
Beschichtungsflüssigkeit
der lichtempfindlichen Schicht, der Zwischenschicht, der ersten
und zweiten Schutzschicht wurden in dieser Reihenfolge auf eine
Bahn eines Polyethylenterephthalatfilmes mit Polyester als Unterlage
beschichtet. Ein Mehrfachgleittrichter für 4 Schichten wurde verwendet.
(Ein weiterer Block wurde zu dem in 1 gezeigten
Mehrfachgleittrichter hinzugefügt,
um einen weiteren Hohlraum und Schlitz für eine vierte Schicht (zweite
Schutzschicht) zu schaffen). Die Dicke der Bahn betrug 175 μm.
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Beschichtungsbedingungen
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- Beschichtungsgeschwindigkeit: 100 m/min
- Beschichtungsbreite: 150 mm
- Beschichtungsmenge nass (Dicke):
lichtempfindliche Schicht:
67 ml/m2 (μm)
Zwischenschicht: 10
ml/m2 (μm)
erste
Schutzschicht: 18 ml/m2 (μm)
zweite
Schutzschicht: 8 ml/m2 (μm)
- Temperatureinstellung:
Beschichtungsflüssigkeit für die lichtempfindliche Schicht:
32°C
für die Zwischenschicht:
32°C
für die erste
Schutzschicht: 40°C
für die zweite
Schutzschicht: 40°C
- Trichterblock: 35°C
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Bewertung des Erscheinungsbildes
der Beschichtungsoberfläche
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Nachdem
die beschichteten Proben entwickelt worden sind, wurde die Anzahl
der sichtbaren Streifen gezählt.
Die Entwicklungstemperatur betrug 120°C und die Entwicklungsdauer
war 20 Sekunden. Tabelle 1 zeigt den Zusammenhang zwischen der oberen
Meniskuskrümmung κ und dem
Auftreten von Streifen.
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Tabelle
1 weist darauf hin, dass sichtbare Streifendefekte auftauchen, wenn
die obere Meniskuskrümmung κ weniger
als 7,2 mm–1 wird
und die Kurve κ kann
mittels des Beschichtungsfreiraums und des Gegendrucks bei den Beschichtungsbedingungen
kontrolliert werden.