DE60118295T2 - Verfahren zur Herstellung photothermographischer Materialien - Google Patents

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Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Materialien und insbesondere ein Verfahren zur Herstellung fotothermographischer Materialien mittels Wulst-Beschichten.
  • Hintergrund
  • Gleichzeitiges Mehrfach-Wulst-Beschichten (multiple bead coating) wird zur Herstellung eines lichtempfindlichen Materials verwendet, um mehrfache Schichten eines lichtempfindlichen Materials auf eine Bahn aufzubringen. Ein Mehrfach-Gleittrichter (multiple slide hopper), wie er im US-Patent 2,761,791 gezeigt wird, ist einer von bekannten Beschichtungsapparaturen zur Herstellung einer gleichzeitigen Mehrfachbeschichtung durch einen Wulst von mehrfachen Schichten, der sich zwischen der Lippe des Mehrfach-Gleittrichters und einer laufenden Bahn bildet, wo eine geschichtete Beschichtungsflüssigkeit mittels der Gravitation auf einer geneigten Gleitoberfläche des Trichters fließt.
  • EP-A-883 022 beschreibt eine Beschichtungsmethode für ein fotothermographisches bildgebendes Element.
  • GB-A-2029733 beschreibt ein Wulst-Beschichtungsverfahren, worin der Gegendruck des Wulstes durch eine Formel gegeben ist, welche die obere Meniskuskrümmung des Wulstes beinhaltet.
  • Dieses Gleitwulst-Beschichten kann leicht die Beschichtungsdicke kontrollieren, indem die Laufgeschwindigkeit der Bahn und die Zuflussrate der Beschichtungsflüssigkeit angepasst wird, und es ist ein geeigneter Weg, um dünne Beschichtungslagen zu bekommen, welche eine gute lichtempfindliche Auflösung geben, und für die Herstellung von gleichzeitigen Mehrfachbeschichtungen, welches die Produktivität erhöht und die Möglichkeit von Beschichtungsdefekten erniedrigt.
  • Gleitwulstbeschichten verursacht jedoch gelegentlich streifenförmige Beschichtungsdefekte, welche in streifenförmiger Unebenheit der optischen Dichte resultiert, wenn das beschichtete lichtempfindliche Produkt verwendet wird. Es scheint häufiger in der Beschichtung von fotothermographischen Materialien aufzutreten, welches die Qualität des Produktes erniedrigt.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Aufgabe der Erfindung ist es, eine Beschichtungsmethode zur Herstellung von lichtempfindlichen Materialien zur Verfügung zu stellen, insbesondere zur Herstellung von fotothermographischen Materialien, die frei von streifenähnlichen Beschichtungsdefekten sind.
  • Um diese Aufgabe zu erfüllen, wurden Untersuchungen durchgeführt, und es wurde gefunden, dass wenn die äußere Schicht Materialien beinhaltet, die in der Lage sind, die optische Dichte zu erhöhen, wie Toner, werden die Streifen stärker sichtbar und die streifigen Defekte werden unterdrückt, wenn die Meniskuskrümmung der oberen Seite des Wulsts weniger als einen spezifizierten Wert annimmt. Genauer, das folgende sind Erfindungen, wie sie im Anspruch beschrieben werden.
  • Ein Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen Materialien, umfassend die Schritte: Bilden eines flüssigen Mehrschichtenkomposits aus einer Vielzahl von verschiedenen Schichten auf einem Gleittrichter; und Bilden eines Wulsts aus dem flüssigen Mehrfachschichtenkomposit zwischen einer Lippe des Gleittrichters und einer laufenden Bahn, so dass die obere Meniskuskrümmung des Wulsts weniger als 7,2 mm–1 beträgt.
  • Verfahren gemäß dem oben dargestellten, worin das flüssige Mehrfachschichtenkomposit eine flüssige, lichtempfindliche Schicht beinhaltet, enthaltend ein Silbersalz einer organischen Säure und ein hydrophobes Polymerlatex, und eine flüssige, nicht-lichtempfindliche Schicht enthaltend ein wasserlösliches Polymer.
  • Verfahren gemäß den beiden oben dargestellten, worin die obere Meniskuskrümmun des Wulsts weniger als 7,2 mm–1 beträgt, welches durch das Auswählen eines geeigneten Werts des Freiraums zwischen der Bahnoberfläche und der Lippe des Gleittrichters und eines geeigneten Wertes des Druckes in der unteren Seite des Wulsts erreicht wird.
  • Der geeignete Wert des Freiraums reicht von 0,10 mm bis zu 0,40 mm und der geeignete Wert des Druckes reicht von –100 Pa bis zu –700 Pa. Die Beschichtungsflüssigkeit der lichtempfindlichen Schicht hat eine derartige Thixotropie, dass die Viskosität der Flüssigkeit von 300 mPa·s bis 30.000 mPa·s bei einer Scher-Rate von 0,1/s beträgt und von 1 mPa·s bis 100 mPa·s bei einer Scher-Rate von 1000/s.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • 1 ist eine Teilansicht eines Mehrfachgleitbeschichtungsapparates.
  • 2 ist eine vergrößerte Teilansicht des Beschichtungswulsts.
  • Ausführliche Beschreibung der Erfindung
  • Wie in 1 gezeigt, beinhaltet ein Mehrfachgleitbeschichtungsapparat 10 einen Mehrfachgleittrichter 20, der gleichzeitig Mehrfachflüssigschichten auf eine laufende Bahn 12 durch einen Beschichtungswulst 44 aufbringt, eine stützende Laufwalze 40, um die Bahn 12 zu unterstützen, und einen Vakuumraum 50, um einen reduzierten Druck auf den Beschichtungswulst 44 aufzubringen. Der Mehrfachgleittrichter 20 wird durch eine Vielzahl an Würfelblöcken 30, 31 und 32 gebildet, welche miteinander befestigt sind. Der Mehrfachgleittrichter 20 hat eine Gleitoberfläche 21 auf seiner oberen Seite, welche nach unten zu der stützenden Laufwalze 40 geneigt ist, über welche die Beschichtungsflüssigkeit mittels der Gravitation fließt.
  • Im Mehrfachgleittrichter 20 wird die erste Beschichtungsflüssigkeit 14A kontinuierlich durch einen Zuflussschlauch 22a mit einer gegebenen Rate in einen Hohlraum 23a gepumpt, von welchem sie durch ein engen, vertikalen Schlitz 24a auf die nach unten geneigte Gleitoberfläche 21 extrudiert wird. Der Hohlraum 23a und der Schlitz 24a erstrecken sich über die Breite des Trichters 20, um die Beschichtungsflüssigkeit 14A, die in den Hohlraum 23a gepumpt wird, zu veranlassen, sich über den Trichter 20 auszubreiten und durch den engen, vertikalen Schlitz 24a in der Form eines Bandes mit der Trichterbreite gezwungen wird. Weitere Schlitze 24b und 24c und die Hohlräume 23b und 23c des Mehrfachgleittrichters 20 haben die gleiche Struktur und Funktion. Die zweite Beschichtungsflüssigkeit 14B wird in den Hohlraum 23b geführt und die dritte Beschichtungsflüssigkeit 14C wird in den Hohlraum 23c zugeführt. Die zweite Beschichtungsflüssigkeit 14B wird über die erste Beschichtungsflüssigkeit 14A gelegt, während sie die geneigte Gleitoberfläche hinabfließt und in gleicher Weise wird die dritte Beschichtungsflüssigkeit 14C über die zweite Beschichtungsflüssigkeit 14B gelegt. Diese übereinander gelegten Schichten fließen nach unten ohne sich miteinander zu mischen. Im Beispiel der Erfindung wird die erste Beschichtungsflüssigkeit 14A aufgebracht, um eine lichtempfindliche Schicht 14a zu bilden, die zweite Beschichtungsflüssigkeit 14B wird aufgebracht, um eine Zwischenschicht 14b (nicht-lichtempfindliche Schicht) zu bilden und die dritte Beschichtungsflüssigkeit 14C wird aufgebracht, um eine Schutzschicht 14c (nicht-lichtempfindliche Schicht) zu bilden, welche ein fotothermographisches Material bilden.
  • Ein Freiraum 42 wird zwischen der Bahn 12, die durch die stützende Laufwalze 40 gestützt wird, und der Lippe 21a des Gleittrichters (der niedrigsten Ecke der geneigten Gleitoberfläche) gebildet. Die Beschichtungswulst 44 beinhaltet die drei geschichteten Beschichtungsflüssigkeiten und wird in einer überbrückenden Beziehung zwischen der Oberfläche der Bahn und der Lippe gehalten.
  • Ein Vakuumraum 50 zur Beibehaltung eines reduzierten Drucks auf der unteren Seite des Beschichtungswulsts (im folgenden als Gegendruck bezeichnet) ist auf der unteren Seite der stützenden Laufwalze 40 lokalisiert und dadurch gebildet, indem er von einem Teil der Laufwalze, einer Wand des Beschichtungstrichters, die zu der Lippe führt, und anderen bedeckenden Teilen umschlossen wird. Indem unterschiedliche Drücke auf die beiden Seiten des Beschichtungswulstes angelegt werden, wird der Wulst stabil gehalten. Der Vakuumraum 50 ist mit einer Vakuumlinie 52 verbunden, welche zu einer Vakuumpumpe (nicht gezeigt) führt und der Grad der Druckverminderung ist kontrollierbar. Der Vakuumraum 50 ist auch mit der Beschichtungsflüssigkeitslinie 54 verbunden.
  • Wie in 2 gezeigt, hat der Beschichtungswulst 44, welcher in überbrückener <verbindung zwischen der laufenden Oberfläche der Bahn und der Lippe des Trichters gehalten wird, eine konkave Oberfläche 44a in der oberen Seite, wo die Schutzschicht 14c im Beispiel abgelegt ist. Die Form des Beschichtungswulstes 44 wird durch eine obere Me niskuskrümmung κ dargestellt, welche als 1/R definiert ist, worin R der Radius der Krümmung der oberen Seite der konkaven Oberfläche 44a ist. Die tatsächliche konkave Krümmung wird durch einen Bogen eines ungefähr angepassten Kreises dargestellt, um κ zu bestimmen. Es gibt eine Beziehung κ = 1/R = dΦ/ds, worin ds die Länge des Bogens und dΦ der zentrale Winkel davon ist. Es wurde gefunden, dass ein Beschichtungswulst, in welchem κ weniger als 7,2 mm–1 beträgt, eine stabile Beschichtung ohne Streifendefekte in der Beschichtung ergibt.
  • Es ist möglich κ kleiner als 7,2 mm–1 zu machen, indem der Freiraum 42 und der Gegendruck kontrolliert werden. Um dieses zu machen, wird der Beschichtungsfreiraum 42 bevorzugt zwischen 0,10 mm und 0,40 mm gesetzt und der Gegendruck zwischen –100 Pa und –700 Pa, bevorzugter wird der Freiraum zwischen 0,18 mm und 0,3 mm gesetzt und der Gegendruck zwischen –200 Pa und –600 Pa. Es wurde gefunden, dass es nicht möglich ist, κ kleiner als 7,2 mm–1 zu machen, ohne Rücksicht auf die Kontrolle des Gegendrucks, wenn der Freiraum 42 weniger als 0,10 mm oder mehr als 0,40 mm beträgt, und es ist fast unmöglich, κ kleiner als 7,2 mm–1 zu bekommen, ohne Rücksicht auf die Kontrolle des Freiraumes, wenn der Gegendruck außerhalb des oben gegebenen Bereiches liegt.
  • Das folgende ist eine Beschreibung des fotothermographischen Materials, das im Beispiel der Erfindung verwendet wird. Gewöhnlich beinhaltet ein fotothermographisches Material eine lichtempfindliche Schicht und eine Schutzschicht dafür. Jede dieser Schichten kann jeweils aus einer Vielzahl von Schichten bestehen und eine Zwischenschicht kann zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Schutzschicht liegen. Diese Schichten werden für gewöhnlich gleichzeitig auf einer unterstützenden Bahn in einer übereinander geschichteten Art und Weise aufgebracht.
  • Die lichtempfindliche Schicht enthält im allgemeinen eine reduzierbare Silberquelle (z.B. ein organisches Silbersalz), welche das Hauptmaterial zur Bildung eines Bildes ist, eine katalytische Menge eines Fotokatalysators (z.B. ein Silberhalogenid), einen Toner zur Kontrolle der Tonalität des Silbers, und ein reduzierendes Agens, das typischer Weise in einer Bindemittelmatrix dispergiert ist. Das organische Silbersalz (nicht-lichtempfindliches Silbersalz) und das reduzierende Agens sind nicht notwendiger Weise in der lichtempfindlichen Schicht enthalten.
  • Die reduzierbare Silberquelle kann jedes Material umfassen, welches eine reduzierbare Quelle an Silberionen besitzt. Silbersalze von organischen Säuren, wie organische Carbonsäuren, insbesondere langkettige (von 10 bis 30, bevorzugt 15 bis 28 Kohlenstoffatomen) aliphatische Carbonsäuren sind bevorzugt. Die Verbindung, welche Silber zur Verfügung stellt, ist bevorzugt in einer Menge von ungefähr 5 bis 70 Gew.-% der bildgebenden Schicht enthalten. Beispiele beinhalten Silbersalze von aliphatischen Carbonsäuren und Silbersalze von aromatischen Carbonsäuren, obwohl sie nicht darauf beschränkt sind. Bevorzugte Beispiele des Silbersalzes von aliphatischen Carboxylsäuren beinhalten Silberbehenat, Silberarachidonat, saures Silberstearat, Silberoleat, Silberlaurat, Silbercaproat, Silbermyristat, Silberpalmitat, Silbermaleat, Silberfumarat, Silbertartrat, Silberlinolat, Silberbutyrat, Silbercamphorat und Mischungen daraus. Die Form der Silbersalze von organischen Säuren ist auf keine bestimmte Form festgelegt. Die organischen Silbersalze, wie sie hierin verwendet werden, sind bevorzugt entsalzt. Die Entsalzungsmethode ist nicht entscheidend. Alle bekannten Filtrationsverfahren und Wasserwaschverfahren können verwendet werden, wie Zentrifugation, Saugfiltration, Ultrafiltration oder Flockenbildung.
  • Das organische Silbersalz wird in eine feste, mikropartikuläre Dispersion unter Verwendung eines dispergierenden Agens überführt, um feine Körner von kleiner Größe und frei von Flokkulation zur Verfügung zu stellen. Eine feste, mikropartikuläre Dispersion des organischen Silbersalzes kann hergestellt werden, indem das Salz mechanisch in der Gegenwart von Dispergierhilfen mittels bekannter Zerkleinerungsmitteln, wie Kugelmühlen, vibrierenden Kugelmühlen, Planetenkugelmühlen, Sandmühlen, Kolloidmühlen, Jet-Mühlen, Walzenmühlen oder Hochdruckhomogenisatoren zerkleinert wird. Ein Hochdruckhomogenisator ist besonders bevorzugt zu diesem Zwecke. Das Dispergieragens, das in der Herstellung einer festen, mikropartikulären Dispersion des organischen Silbersalzes verwendet wird, kann aus synthetischen anionischen Polymeren wie Polyacrylsäure, Copolymeren von Acrylsäure, Copolymeren von Maleinsäure, Copolymeren von Maleinsäuremonoestern und Copolymeren von Acryloylmethylpropansulfonsäure; halbsynthetischen anionischen Polymeren wie Carboxymethylstärke und Carboxymethylcellulose; anionischen Polymeren wie Alginsäure und Pektinsäure; anionischen oberflächenaktiven Substanzen, wie sie in JP-A-92716/1977 und WO88/04794 beschrieben werden; den Verbindungen beschrieben in der japanischen Patentanmeldung Nr. 350753/1995; bekannten anionischen, nichtionischen und kationischen oberflächenaktiven Substanzen; und bekannten Polymeren wie Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose, Hydroxypropylcellulose und Hydroxypropylmethylcellulose aus gewählt werden sowie aus natürlich vorkommenden Verbindungen mit hohem Molekulargewicht wie Gelatine. Diejenigen organischen Silbersalze werden bevorzugt verwendet, die eine Silberbedeckung von 0,1 bis 5 g/m2, bevorzugt von 1 bis 3 g/m2 zur Verfügung stellen.
  • Lichtempfindliche Silberhalogenide werden bevorzugt zusammen mit einem organischen Silbersalz verwendet. Ein Verfahren zur Bildung eines lichtempfindlichen Silbersalzes ist im Stand der Technik gut bekannt. Jedes der Verfahren, die in Research Disclosure Nr. 17029 (Juni 1978) und US-Patent Nr. 3,700,458 offenbart werden, können beispielsweise verwendet werden. Illustrative Verfahren, welche hier verwendet werden können, sind ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Silbersalzes und Zufügen einer halogenenthaltenden Verbindung zu dem organischen Silbersalz, um einen Teil des Silbers des organischen Silbersalzes in ein lichtempfindliches Silberhalogenid zu konvertieren und ein Verfahren vom Zufügen einer Verbindung, die Silber zur Verfügung stellt, und einer Verbindung, die ein Halogen zur Verfügung stellt, zu einer Lösung aus Gelatine oder eines anderen Polymers, um lichtempfindliche Silberhalogenidkörner zu bilden, und Mischen der Körner mit einem organischen Silbersalz. Die zuletzt genannte Methode ist in der Ausführung der Erfindung bevorzugt.
  • Das lichtempfindliche Silberhalogenid sollte bevorzugt eine kleinere Korngröße haben, für den Zweck der Niedrighaltung der weißen Turbulenz nach der Bildformung. Insbesondere beträgt die Korngröße bevorzugt bis zu 0,2 μm, bevorzugter 0,01 μm bis 0,15 μm, noch bevorzugter 0,02 μm bis 0,12 μm. Der Begriff Korngröße bezeichnet die Länge einer Kante eines Silberhalogenidkorns, wenn die Silberhalogenidkörner regelmäßige Körner mit kubischer oder oktaedrischer Form sind. Wenn die Silberhalogenidkörner tafelförmig sind, ist die Korngröße der Durchmesser eines entsprechendes Kreises mit der gleichen Fläche, wie die projizierte Fläche der größten Oberfläche eines tafelförmigen Kornes. Die Form der Silberhalogenidkörner kann kubisch, oktaedrisch, tafelförmig, sphärisch, stabähnlich und kartoffelähnlich sein, wobei die kubischen und tafelförmigen Körner bevorzugt verwendet werden. Wo tafelförmige Silberhalogenidkörner verwendet werden, sollten sie bevorzugt ein mittleres Aspektverhältnis von 100:1 bis 2:1 aufweisen, bevorzugter von 50:1 bis 3:1.
  • Die Halogenzusammensetzung der lichtempfindlichen Silberhalogenide ist nicht kritisch und kann jedes aus Silberchlorid, Silberchlorbromid, Silberbromid, Silberiodbromid, Silberiodchlorbromid und Silberiodid sein. Silberbromid und Silberiodibromid sind bevorzugt in der Ausübung der Erfindung. Besonders bevorzugt ist Silberiodbromid, bevorzugt mit einem Silberiodidgehalt von 0,1 bis 40 Mol-%, insbesondere 0,1 bis 20 Mol-%.
  • Bevorzugt enthalten die lichtempfindlichen Silberhalogenidkörner, die hier verwendet werden, mindestens einen Metallkomplex ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Rhodium, Rhenium, Ruthenium, Osmium, Iridium, Kobalt, Quecksilber und Eisen. Die Metallkomplexe können allein oder in einer Mischung aus zwei oder mehreren Komplexen eines gemeinsamen Metalls oder verschiedener Metalle verwendet werden. Der Metallkomplex ist bevorzugt in einer Menge von 1 nmol bis 10 mmol enthalten, bevorzugter 10 nmol bis 100 μmol pro Mol Silber. Beispielhafte Metallkomplexstrukturen sind diejenigen, die in JP-A 225449/1995 beschrieben werden. Bevorzugt unter den Kobalt- und Eisenkomplexen sind Hexacyanometallkomplexe. Beispielhafte aber nicht limitierte Beispiele beinhalten ein Ferricyanation, Ferrocyanation und Hexacyanokobaltation. Die Verteilung des Metallkomplexes in den Silberhalogenidkörner ist nicht kritisch. Dies bedeutet, dass der Metallkomplex in den Silberhalogenidkörner enthalten sein kann, um eine einheitliche Phase zu bilden, oder in einer hohen Konzentration entweder im Kern oder der Schale. Die lichtempfindlichen Silberhalogenidkörner, die hierin verwendet werden, sollten bevorzugt auf chemische Weise sensibilisiert worden sein. Bevorzugte chemische Sensibilisierungsmethoden sind Schwefel-, Selen- und Tellur-Sensibilisierungsmethoden, welche im Stand der Technik gut bekannt sind. Ebenfalls nützlich sind Edelmetallsensibilisierungsmethoden unter Verwendung von Gold-, Palladium- und Iridium-Verbindungen sowie eine Reduktionssensibilisierungsmethode.
  • Das lichtempfindliche Silberhalogenid wird bevorzugt in einer Menge von 0,01 Mol bis 0,5 Mol, bevorzugter 0,02 Mol bis 0,3 Mol, am bevorzugtesten 0,03 Mol bis 0,25 Mol pro Mol des nicht-lichtempfindlichen Silbersalzes, typischer Weise einem organischen Silbersalz, verwendet.
  • Das reduzierende Agens für das nicht-lichtempfindliche Silbersalz, typischer Weise einem organischen Silbersalz, kann jede Substanz sein, bevorzugt organische Substanzen, die Silberionen in metallisches Silber reduzieren. Konventionelle photographische Entwicklungsagentien, wie Phenidone, Hydrochinone und Catechol sind geeignet, obwohl sterisch gehinderte Phenole als reduzierende Agentien bevorzugt sind. Das reduzierende Agens sollte bevorzugt in einer Menge von 5 bis 50 Mol-%, bevorzugter 10 bis 40 Mol-% pro Mol an Silber in einer bildgebenden Schicht enthalten sein. In einer Mehrschichtenausführungsform, worin das reduzierende Agens zu einer anderen Schicht als der bildgebenden Schicht zugefügt wird, sollte das reduzierende Agens bevorzugt in einer leicht höheren Menge von ungefähr 10 bis 50 Mol-% enthalten sein. Vorläufer, die in der Lage sind, als reduzierende Agentien nur im Entwicklungsstadium zu fungieren, können anstelle des reduzierenden Agens benutzt werden.
  • Beispiele eines reduzierenden Agens, das geeignet ist für die Verwendung in photothermographischen Materialien unter Verwendung von organischen Silbersalzen, sind in den japanischen Patentanmeldungen Nr. 6074/1971, 1238/1972, 33621/1972, 46427/1974, 115540/1974, 14334/1975, 36110/1975, 147711/1975, 32632/1976, 1023721/1976, 32324/1976, 51933/1976, 84727/1977, 108654/1980, 146133/1981, 82828/1982, 82829/1982, 3793/1994, US-Patentanmeldungen Nr. 3679426, 3751252, 3751255, 3761270, 3782949, 3839048, 3928686, 5464738, Deutschem Patent Nr. 2321328 und Europäischem Patent Nr. 692732 offenbart.
  • Die reduzierenden Agentien können mittels jeder gewünschten Methode in Form einer Lösung, Pulvers oder festen, mikropartikulären Dispersion zugefügt werden, obwohl sie bevorzugt in der Form einer festen mikropartikulären Dispersion unter Verwendung eines Dispersgierungagens zugefügt werden.
  • Eine feste, mikropartikuläre Dispersion der reduzierenden Agentien kann hergestellt werden, in dem das Agens in Gegenwart von Dispergierhilfen mechanisch mittels bekannter Zerkleinerungsmittel wie Kugelmühlen, vibrierenden Kugelmühlen, Sandmühlen, Kolloidmühlen, Jetmühlen, Walzenmühlen oder ähnliches dispergiert wird.
  • Es ist manchmal vorteilhaft, einen Zusatz bekannt als "Toner" (toneinstellendes Agens) zuzugeben, um die Bilder zu verbessern, zusätzlich zu den vorstehend erwähnten Komponenten. Der Toner, der zur Kontrolle der Tonalität des Silbers verwendet wird, kann die optische Dichte erhöhen. Der Toner sollte bevorzugt in einer Menge von 0,1 bis 50 Mol-%, bevorzugter 0,5 bis 20 Mol-% pro Mol des Silbers in einer bildformenden Schicht enthalten sein. Vorläufer, die in der Lage sind, als Toner nur im Entwicklungsstadium zu fungieren, können anstelle des Toners verwendet werden. Der Toner ist in der Photographierkunst gut bekannt und Beispiele, die für Photothermographien unter Verwendung von organischen Silbersalzen verwendet werden, sind in den japanischen Patentanmeldungen Nr. 6077/1971, 10282/1972, 5019/1974, 5020/1974, 91215/1974, 2524/1975, 32927/1975, 67132/1975, 67641/1975, 114217/1975, 3223/1976, 27923/1976, 14788/1977, 99813/1977, 1020/1978, 76020/1978, 156524/1979, 156525/1979 und 183642/1986, 56848/1992, JP-B (geprüfte japanische Patentveröffentlichung) 10727/1974 und 20333/1979, US Patenten Nr. 3,080,254, 3,446,648, 3,782,941, 4,123,282 und 4,510,236, britischen Patent Nr. 1,380,795 und belgischen Patent Nr. 841,910 beschrieben. Toner können zur lichtempfindlichen Schicht, zur Schutzschicht und/oder Zwischenschicht mittels jeder gewünschten Methode in der Form einer Lösung, Pulvers oder festen, mikropartikulären Dispersion zugefügt werden, obwohl sie bevorzugt in Form einer festen, mikropartikulären Dispersion unter Verwendung eines Dispergier-Agens zugefügt werden.
  • Eine feste, mikropartikuläre Dispersion der reduzierenden Agentien kann hergestellt werden, indem das Agens mechanisch in Gegenwart von Dispergierhilfen mittels bekannter Zerkleinerungsmittel wie Kugelmühlen, vibrierenden Kugelmühlen, Sandmühlen, Kolloidmühlen, Jetmühlen, Walzenmühlen oder ähnliches dispergiert wird.
  • Lichtempfindliche Schichten, die in der Erfindung verwendet werden, beinhalten einen hydrophoben Polymerlatex (im folgenden einfach als "Polymerlatex" bezeichnet), welcher für gewöhnlich in einer Menge von mehr als 50 Gew.-% aller Bindemittel in der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist. Im Hinblick auf den Polymerlatex wird Bezug genommen auf Okuda und Inagaki Ed., "Synthetic Resin Emulsion", Kobunshi Kankokai, 1978; Sugimura, Kataoka, Suzuki und Kasahara Ed., "Application of Synthetic Latex", Kobunshi Kankokai, 1993; und Muroi, "Chemistry of Synthetic Latex", Kobunshi Kankokai, 1970. Der hierin verwendete Polymerlatex kann entweder ein Latex der gewöhnlichen einheitlichen Struktur oder ein Latex der sogenannten Kern/Schale-Art sein. Im letzteren Fall werden manchmal bessere Ergebnisse erzielt, wenn der Kern und die Schale verschiedene Glasübergangstemperaturen aufweisen.
  • Der Polymerlatex sollte bevorzugt eine minimale filmbildende Temperatur (MFT) von ungefähr –30°C bis 90°C aufweisen, bevorzugter ungefähr 0°C bis 70°C. Eine filmbildende Hilfe kann zugesetzt werden, um die minimale Filmbildungstemperatur zu kontrollieren. Die Filmbildungshilfe wird auch als Weichmacher bezeichnet und beinhaltet organische Verbindungen (typischer Weise organische Lösungsmittel), um die minimale Filmbildungstemperatur eines Polymerlatex zu erniedrigen. Sie werden in Muroi, "Chemistry of Synthetic Latex", Kobunshi Kankokai, 1970 beschrieben.
  • Polymere die im Polymerlatex verwendet werden, beinhalten Acrylharze, Vinylacetatharze, Polyesterharze, Polyurethanharze, gummiartige Harze, Vinylchloridharze, Vinyliden chloridharze, Polyolefinharze und Copolymere daraus. Die Polymere können linear, verzweigt oder vernetzt sein. Weiterhin kann das Polymer entweder ein Homopolymer, resultierend aus der Polymerisation eines einzelnen Monomers, oder ein Copolymer, resultierend aus der Polymerisation von zwei oder mehreren Monomeren, sein. Das Copolymer kann entweder ein zufälliges Copolymer oder ein Blockcopolymer sein. Das Polymer hat bevorzugt ein mittleres Zahlenmolekulargewicht von ungefähr 5.000 bis 1.000.000, bevorzugter von ungefähr 10.000 bis 100.000. Ein Polymer mit einem niedrigeren Molekulargewicht würde eine lichtempfindliche Schicht mit unzureichender mechanischer Stärke zur Verfügung stellen, während ein Polymer mit einem höheren Molekulargewicht eher unwahrscheinlich einen Film formt.
  • Das Polymer des hierin verwendeten Polymerlatex sollte einen Gleichgewichtsfeuchtigkeitsgehalt von ungefähr 2 Gew.-%, bevorzugt 0,01 bis 1 Gew.-%, bevorzugter 0,03 bis 1 Gew.-% bei 25°C und RH 60% aufweisen. In Bezug auf die Definition und die Messung des Gleichgewichtsfeuchtigkeitsgehalts wird auf Kobunshi Gakkai Ed., "Polymer Engineering Series 14 – Polymeric Material Tests", Chijin Shokan K. K. verwiesen.
  • Illustrative Beispiele des Polymerlatex, welcher als Bindemittel der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht verwendet werden kann, beinhalten Latices von Methylmethacrylat/Ethylacrylat/Methacrylsäure-Copolymeren, Latices von Methylmethacrylat/2-Ethylhexylacrylat/Styrol/Acrylsäure-Copolymeren, Latices von Styrol/Butadien/Acrylsäure-Copolymeren, Latices von Styrol/Butadien/Divinylbenzol/Methacrylsäure-Copolymeren, Latices von Methylacrylat/Vinylchlorid/Acrylsäure-Copolymeren und Latices von Vinylidenchlorid/Ethylacrylat/Acrylonitril/Methacrylsäure-Copolymeren. Die Polymerlatices können allein oder in Mischungen aus zweien oder mehreren verwendet werden. In der lichtempfindlichen Schicht bildet der Polymerlatex bevorzugt mindestens 50%, insbesondere mindestens 70 Gew.-% des Gesamtbindemittels. Falls gewünscht, kann ein hydrophiles Polymer in einer Menge von weniger als 50%, bevorzugt von weniger als 30 Gew.-% des Gesamtbindemittels zugefügt werden. Das hydrophile Polymer kann ausgewählt werden aus Gelatine, Polyvinylalkohol (PVA), Methylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Carboxymethylcellulose und Hydroxypropylmethylcellulose.
  • Die gesamte Menge an Bindemittel in der lichtempfindlichen Schicht, die bevorzugt in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, liegt zwischen 0,2 und 30 g/m2, bevorzugter zwischen 1 und 15 g/m2. Die Beschichtungsflüssigkeit in der lichtempfindlichen Schicht hat eine derartige Thixotropie, dass die Viskosität der Flüssigkeit 300 mPa·s bis 30.000 mPa·s bei einer Scherrate von 0,1/s und 1 mPa·s bis 100 mPa·s bei einer Scherrate von 1000/s aufweist. Die Viskositäten werden bei 25°C mittels eines RFS Fluid-Spektrometers, hergestellt von Rheometric Fareast KK, gemessen.
  • Der sensibilisierende Farbstoff, das reduzierendes Agens, der Toner, ein Antivernebelungsmittel und weitere geeignete Additive können der lichtempfindlichen Schicht zugefügt werden und der Farbstoff, ein Vernetzungsmittel und oberflächenaktive Stoffe können der bildgebenden Schicht zugefügt werden. Es kann jeder sensibilisierender Farbstoff verwendet werden, welcher Silberhalogenidkörner in der gewünschten Wellenlängenregion spektral sensibilisieren kann, wenn er auf den Silberhalogenidkörnern adsorbiert ist. Die sensibilisierenden Farbstoffe, die hierin verwendet werden, beinhalten Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe, komplexe Cyaninfarbstoffe, komplexe Merocyaninfarbstoffe, holopolare Cyaninfarbstoffe, Styrolfarbstoffe, Hemicyaninfarbstoffe, Oxonolfarbstoffe und Hemioxonolfarbstoffe. Geeignete sensibilisierende Farbstoffe, welche hierin verwendet werden können, sind in Research Disclosure, Item 17643 IVA (Dezember 1978, Seite 23), ibid., Item 1831 X (August 1979, Seite 437) und den darin zitierten Referenzen beschrieben.
  • Jedes Polymer kann für die Zwischenschicht verwendet werden, solange die Polymere eine filmbildende Fähigkeit aufweisen, ohne eine merkliche Zunahme der Viskosität oder Flockulierung zu verursachen, wenn sie in Kontakt mit der flüssigen Schicht beinhaltend die organischen Silbersäuresalze und wässrige Latexbindemittel gebracht werden. Wasserlösliche, nicht-ionische Polymere werden hierfür empfohlen. Beispiele von wasserlöslichen, nicht-ionischen Polymeren sind Polyvinylalkohol, denaturierter Polyvinylalkohol, Polyacrylamid, Dextran, Polyethylenglycol, Blockcopolymere von Polyethylenglycol und Polypropylenglycol, obwohl die Polyvinylalkoholgruppe, insbesondere Polyvinylalkohol, bevorzugt ist. Polyvinylalkohol, dessen Verseifungsgrad zwischen 80 und 99,9 liegt und dessen Polymerisationsgrad zwischen 300 und 2.400 liegt, sind am meisten bevorzugt.
  • Das Beschichtungsgewicht (trocken) der Zwischenschicht ist bevorzugt zwischen 0,1 und 3,0 g/m2, bevorzugter zwischen 0,2 und 2,0 g/m2. Diese Bereiche der Beschichtungsmenge helfen, die Erscheinung der Beschichtungsoberfläche zu verbessern. Eine geringere Beschichtungsmenge hilft nicht, das heißt, die Zwischenschicht funktioniert nicht, und eine deutlich höhere Beschichtungsmenge neigt dazu, Adhäsionsprobleme zu verursachen. In anderen Worten, ein Überschuss an der Zwischenschicht verhindert das Beschichten mit der Schutzschicht 14c in einer geeigneten Form und die Zwischen schicht kann leicht vom Filmträger abgezogen werden, zusätzlich zu einer Vergrößerung der Trockenbeladung. Weiterhin nimmt die Viskosität der Zwischenschicht zu. Daher ist die Oberflächenerscheinung oft beschädigt.
  • Wasser wird bevorzugt als ein Beschichtungslösungsmittel verwendet und wassermischbare organische Lösungsmittel können in dem Beschichtungslösungsmittel beinhaltet sein. Es ist erforderlich, dass mehr als 30 Gew.-% des Beschichtungslösungsmittels Wasser ist und bevorzugt mehr als 50 Gew.-%, bevorzugter sollten mehr als 70 Gew.-% Wasser sein. Die Polymerkonzentration sollte von 2 bis 20 Gew.-% der Beschichtungslösung betragen, das nasse Beschichtungsgewicht sollte zwischen 2 und 30 ml/m2 liegen und die Viskosität der Beschichtungslösung ist bevorzugt von 5 bis 200 mPa·s bei 40°C, gemessen mittels eines B-Typ-Viskometers (hergestellt von Tokyo Keiki K. K.).
  • Zu der Zwischenschicht kann eine Vielzahl von Additiven, wie Toner und Schleierbildungsagentien zugefügt werden, welches Verbindungen sind, die die Entwicklung betreffen, beispielsweise Phthalazin oder Ammoniumphthalat.
  • Die Bindemittel für die Schutzschicht können in Wasser dispergiert werden, um zur Bildung einer Schicht aufgebracht zu werden, typischer Weise hydrophile Polymere. Typische Bindemittel für die Schutzschicht sind beispielsweise Gelatine, Polyvinylalkohol, Hydroxypropylcellulose, Methylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Carboxymethylcellulose, Polyacrylamid, Dextran. Es ist bevorzugt, Gelatine, insbesondere entkalkte Gelatine, als Bindemittel für die Schutzschicht zu verwenden, um gesprenkelte Erscheinungsdefekte der Beschichtungsoberfläche zu vermeiden, die durch Lufttrocknungsprozesse verursacht werden, da die Gelatine in wässrige Lösungsmittel leicht zu einem Gel wird, welches kaum Fluidität aufweist.
  • Falls gewünscht, kann die Schutzschicht in zwei Lagen geteilt werden. In einer bevorzugten Ausführungsform werden ein UV-absorbierendes Agens und/oder ein hydrophober Polymerlatex einer der zwei Lagen zugefügt, derjenigen, welche näher an der Schicht ist, die das organische Silbersalz enthält, und ein Mattierungsagens wird zu der anderen, ganz außen liegenden Lage zugegeben. Falls nötig, kann ein pH-Modifizierer für Filmoberflächen und/oder ein Härtungsagens zu jeder der Schichten zugefügt werden.
  • Die Beschichtungsmenge der Bindemittel in der Schutzschicht liegt zwischen 0,1 und 3,0 g/m2, bevorzugt von 0,2 bis 2,0 g/m2. Die Viskosität der Beschichtungsflüssigkeit in der Schutzschicht sollte zwischen 5 und 100 mPa·s bei 40°C, bevorzugt von 10 bis 50 mPa·s liegen.
  • Die äußerste Schutzschicht beinhaltet bevorzugt ein adhäsionsverhinderndes Material, wie Wachs, Silicapartikel, Styrol enthaltende Elastomerblockcopolymere (z.B. Styrolbutadien-Styrol und Styrolisopren-Styrol), Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosepropionat und Mischungen daraus.
  • Die lichtempfindliche Schicht und andere Schichten des photothermographischen Materials werden mittels Aufbringen einer wässrigen Beschichtungslösung, um eine Beschichtung zu bilden, und anschließendem Trocknen der Beschichtung gebildet. Das "wässrige" System weist darauf hin, dass Wasser mindestens 30 Gew.-% des Lösungsmittels oder des Dispergiermediums der Beschichtungslösung ausmacht. Der Rest des Lösungsmittels oder Dispergiermediums kann ein wassermischbares organisches Lösungsmittel, wie Methylalkohol, Ethylalkohol, Isopropylalkohol, Methylcellosolv, Ethylcellosolv, Dimethylformamid und Ethylacetat sein. Der Wassergehalt sollte bevorzugt mehr als 50%, bevorzugter mehr als 70% betragen.
  • Beispiele
  • Herstellung der Silberhalogenidkörner
  • In 700 ml Wasser wurden 22 g phthalierte Gelatine und 30 mg Kaliumbromid gelöst. Die Lösung wurde auf einen pH von 5,0 bei einer Temperatur von 35°C eingestellt. Zu der Lösung wurden 159 ml einer wässrigen Lösung, enthaltend 18,6 g Silbernitrat, und eine wässrige Lösung, enthaltend Kaliumbromid und Kaliumiodid in einem molarem Verhältnis von 92:8, über 10 Minuten mittels einer kontrollierten Doppelstrahl-Methode zugefügt, während die Lösung bei pAg 7,7 gehalten wurde. Dann wurden 476 ml einer wässrigen Lösung, enthaltend 55,4 g Silbernitrat, und einer wässrigen Lösung, enthaltend 9 μmol/l Dikaliumhexachloriridat und 1 mol/l Kaliumbromid, über 30 Minuten mittels einer kontrollierten Doppelstrahl-Methode zugefügt, während die Lösung bei pAg 7,7 gehalten wurde. Die Lösung wurde dann entsalzt, indem der pH abgesenkt wurde, um Flockenbildung und Sedimentation auszulösen. Phenoxyethanol, 0,1 g, wurde der Lösung zugefügt, welche auf pH 5,9 und pAg 8,0 eingestellt wurde. Es wurden Silberiodbromidkörner in der Form von kubischen Körnern mit einer mittleren Korngröße von 0,07 μm erhalten, einem Variationskoeffizienten der projizierten Fläche von 8% und einer (100) Ebenenverhältnis von 86%.
  • Die so erhaltenen Silberhalogenidkörner wurden auf 60°C erhitzt, zu welchen 85 μmol Natriumthiosulfat, 11 μmol 2,3,4,5,6-Pentafluorphenyldiphenylphosphinselenid, 2 μmol einer Tellurverbindung (unten gezeigt), 3,3 μmol Chlorgoldsäure und 230 μmol Thiocyansäure zugefügt wurden pro Mol Silber. Die Lösung lies man für 120 Minuten reifen. Nachdem die Temperatur auf 40°C abgesenkt worden ist, wurden 3,5 × 10–4 Mol des sensibilisierenden Farbstoffes A (unten gezeigt) und 4,6 × 10–3 Mol 2-Mercapto-5-methylbenzimidazol unter Rühren für 10 Minuten zugefügt und bei 25°C gequencht, wodurch Silberhalogenidkörner erhalten wurden.
  • Die Strukturformeln der Tellurverbindung und des sensibilisierenden Farbstoffes A sind unten gezeigt:
  • Tellurverbindung
    Figure 00150001
  • Sensibilisierende Verbindung
    Figure 00150002
  • Darstellung einer organischen Säuresilbersalzemulsion
  • Eine Mischung aus 8 g Stearinsäure, 39 g Behensäure und 850 ml destilliertes Wasser wurde bei 90°C gerührt. Unter heftigem Rühren wurden 187 ml einer wässrigen Lösung von 1 N NaOH über 120 Minuten der Lösung zugefügt. Nachdem 65 ml 1 N Salpetersäure zugefügt worden sind, wurde die Lösung auf 50°C abgekühlt. Dann wurden 125 ml einer wässrigen Silbernitratlösung zu der Lösung über 100 Sekunden unter noch stärkerem Rühren zugefügt und das Rühren wurde für weitere 20 Minuten fortgeführt. Die Feststoffe wurden mittels Saugfiltration abgetrennt und mit Wasser gewaschen, bis das Wasserfiltrat eine Leitfähigkeit von 30 μS/cm erreichte. Zu den erhaltenen Feststoffen wurden 100 g einer 10 Gew.-%igen wässrigen Lösung von Hydroxypropylcellulose zugefügt und weiteres Wasser wurde zugefügt, bis das Gesamtgewicht der Mischung 270 g betrug. Die Mischung wurde grob mittels eines automatischen Mörsers dispergiert und anschließend fein durch fünfmaliges Durchlassen durch einen Manton-Gaulin-Homogenisator mit einem Druck von 560 kg/cm2 dispergiert, wodurch eine Wasserdispersion eines Silbersalzes einer organischen Säure mit kristallinen Nadeln mit einer mittleren kleinen Achse von 0,04 μm und einer mittleren großen Achse von 0,9 μm erhalten wurde und einem Variationskoeffizenten von 30%.
  • Darstellung einer Dispersion des reduzierenden Agens
  • Wasser in einer Menge von 850 g wurde zugefügt und gründlich gemischt mit 100 g 1001,1-bis(2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-3,5,5-trimethylhexan und 50 g Hydroxypropylmethylcellulose, wodurch eine Aufschlämmung erhalten wurde. Diese Aufschlämmung und 840 g Zirkonoxidkugeln mit einem mittleren Durchmesser von 0,5 mm wurden zusammen in ein Gefäß gegeben und unterliefen eine Dispergieroperation über eine Zeitdauer von 5 Stunden mittels einer Dispergiermaschine (1/4G Sand Grinder Mill, hergestellt von Imex K. K.), um eine Dispersion des reduzierenden Agens herzustellen.
  • Darstellung einer Dispersion einer organischen polyhalogenierten Verbindung
  • Wasser in einer Menge von 940 g wurde zugegeben und gründlich gemischt mit 50 g Tribrommethylphenylsulfon und 10 g Hydroxypropylcellulose, wodurch eine Aufschlämmung erhalten wurde. Diese Aufschlämmung und 840 g Zirkonoxidkugeln mit einem mittleren Durchmesser von 0,5 mm wurden zusammen in ein Gefäß gegeben und unterliefen eine Dispergieroperation über eine Zeitdauer von 5 Stunden mittels einer Disper giermaschine (1/4G Sand Grinder Mill, hergestellt von Imex K. K.), um eine Dispersion einer organischen, polyhalogenierten Verbindung herzustellen.
  • Darstellung einer lichtempfindlichen Beschichtungslösung.
  • Eine Dispersion eines Silbersalzes einer organischen Säure in einer Menge von 100 g, 8 g Wasser, 23 g einer Dispersion eines reduzierenden Agens, 14 g einer Dispersion einer organischen, polyhalogenierten Verbindung 109 g Lacstar (SBR Latex, hergestellt von DaiNihon Ink Chemical K. K.), 17 g einer 5 Gew.-%igen wässrigen Lösung einer Phthalazinverbindung und 15 g Silberhalogenidkörner wurden zusammengegeben und gründlich gemischt, um eine lichtempfindliche Beschichtungsflüssigkeit herzustellen.
  • Die Viskosität der Beschichtungsflüssigkeit in der lichtempfindlichen Schicht wies 500, 70, 50, 20, 15 mPa·s bei Scherraten von 0,1, 1,0, 10, 100, 1000 [1/sec] in der genannten Reihenfolge auf. Die Viskosität wurde bei 25°C mittels eines RFS Fluid-Spektrometers, hergestellt von Rheometric Fareast K. K., gemessen.
  • Polyvinylalkohol PVA-205 (Handelsname, Produkt von Kuraray Co., Ltd.), 20 Gew.-%ige wässrige Lösung in einer Menge von 200 g, 172 g Sebian A (Daicell chemical Industry K. K.), 1 g einer 5 Gew.-%igen wässrigen Lösung von Aerosol OT (hergestellt von American Cyanamide Inc.) und 5 g einer 20 Gew.-%igen wässrigen Lösung von Ammoniumphthalat wurden zusammengegeben und gemischt, um eine Beschichtungsflüssigkeit der Zwischenschicht herzustellen. Die Viskosität der so hergestellten Beschichtungslösung betrug 36 mPa·s bei 40°C, gemessen mittels einer Nr. 1 Rotor eines B-Typ Viskometers (hergestellt von Tokyo Keiki).
  • Herstellung einer Beschichtungslösung für die erste Schutzschicht
  • Alkalibehandelte Gelatine in einer Menge von 100 g wurde in 880 g Wasser gelöst. Dann wurden 5 ml Aerosol OT, 47 ml einer 15 Gew.-%igen methanolischen Lösung von Phthalsäure und 181 g Sebian A der Lösung zugefügt, um eine Beschichtungsflüssigkeit der ersten Schutzschicht herzustellen. Die Viskosität der so hergestellten Beschichtungslösung betrug 14 mPa·s bei 40°C, gemessen mittels eines B-Typ Viskometers.
  • Herstellung einer Beschichtungslösung für die zweite Schutzschicht.
  • Alkalibehandelte Gelatine in einer Menge von 100 g wurde in 844 g Wasser gelöst und 4 ml einer 5 Gew.-%igen Lösung des Kaliumsalzes von N-Perfluoroktylsulfonyl-N-propylalanin, 45 ml einer 2 Gew.-%igen Lösung von Polyethylengtykolmono(N-perfluoroktylsulfonyl-N-propyl-2-aminoethyl)ether, 28 ml einer 5 Gew.-%igen Lösung von Aerosol OT (American Cyanamide Inc.), 115 g Polymethylmethacrylat in feinen Partikeln, 39 ml einer 15 Gew.-%igen Lösung von Phthalsäure und 181 g Sebian A wurden zugefügt. Die so hergestellte Mischung wurde als Beschichtungslösung für eine zweite Schutzschicht verwendet. Die Viskosität der so hergestellten Beschichtungslösung betrug 16 mPa·s bei 40°C, gemessen mit dem vorher erwähnten B-Typ Viskometer (Nr. 1 Rotor).
  • Herstellung von Proben eines photothermographischen Filmes
  • Die Beschichtungsflüssigkeit der lichtempfindlichen Schicht, der Zwischenschicht, der ersten und zweiten Schutzschicht wurden in dieser Reihenfolge auf eine Bahn eines Polyethylenterephthalatfilmes mit Polyester als Unterlage beschichtet. Ein Mehrfachgleittrichter für 4 Schichten wurde verwendet. (Ein weiterer Block wurde zu dem in 1 gezeigten Mehrfachgleittrichter hinzugefügt, um einen weiteren Hohlraum und Schlitz für eine vierte Schicht (zweite Schutzschicht) zu schaffen). Die Dicke der Bahn betrug 175 μm.
  • Beschichtungsbedingungen
    • Beschichtungsgeschwindigkeit: 100 m/min
    • Beschichtungsbreite: 150 mm
    • Beschichtungsmenge nass (Dicke): lichtempfindliche Schicht: 67 ml/m2 (μm) Zwischenschicht: 10 ml/m2 (μm) erste Schutzschicht: 18 ml/m2 (μm) zweite Schutzschicht: 8 ml/m2 (μm)
    • Temperatureinstellung: Beschichtungsflüssigkeit für die lichtempfindliche Schicht: 32°C für die Zwischenschicht: 32°C für die erste Schutzschicht: 40°C für die zweite Schutzschicht: 40°C
    • Trichterblock: 35°C
  • Bewertung des Erscheinungsbildes der Beschichtungsoberfläche
  • Nachdem die beschichteten Proben entwickelt worden sind, wurde die Anzahl der sichtbaren Streifen gezählt. Die Entwicklungstemperatur betrug 120°C und die Entwicklungsdauer war 20 Sekunden. Tabelle 1 zeigt den Zusammenhang zwischen der oberen Meniskuskrümmung κ und dem Auftreten von Streifen.
  • Tabelle 1
    Figure 00190001
  • Tabelle 1 weist darauf hin, dass sichtbare Streifendefekte auftauchen, wenn die obere Meniskuskrümmung κ weniger als 7,2 mm–1 wird und die Kurve κ kann mittels des Beschichtungsfreiraums und des Gegendrucks bei den Beschichtungsbedingungen kontrolliert werden.

Claims (9)

  1. Verfahren zur Herstellung von photothermografischen Materialien umfassend die Schritte von: Bilden eines flüssigen Multischichtenverbundes (14) aus einer Vielzahl von verschiedenen Schichten (14a, 14b, 14c) auf einem Gleittrichter (20); und Bilden eines Wulsts (44) aus dem flüssigen Multischichtenverbund (14) zwischen einer Lippe (21a) des Gleittrichters (20) und einem laufendem Band (12), so dass die höhere Krümmung des Meniskus des Wulsts (44) weniger als 7,2 mm–1 beträgt, worin der flüssige Multischichtenverbund (14) eine flüssige lichtempfindliche Schicht (14a), enthaltend ein Silbersalz einer organischen Säure und einen hydrophoben Polymerlatex, und eine flüssige nicht-lichtempfindliche Schicht, enthaltend ein wasserlösliches Polymer, beinhaltet.
  2. Verfahren gemäß Anspruch 1, worin die höhere Krümmung des Meniskus des Wulsts (44) weniger als 7,2 mm–1 beträgt, was erreicht wird durch Auswahl eines geeigneten Wertes der Aussparung (42) zwischen der Bandoberfläche und der Lippe (21a) des Gleittrichters (20) und eines geeigneten Wertes des Druckes auf der unteren Seite des Wulsts (44).
  3. Verfahren gemäß Anspruch 2, worin der geeignete Wert der Aussparung (42) zwischen 0,10 mm bis 0,40 mm beträgt und der geeignete Druckwert zwischen –100 Pa bis –700 Pa beträgt.
  4. Verfahren gemäß Anspruch 3, worin die Flüssigkeit (14A) in der photoempfindlichen Schicht (14a) eine derartige Thixotropie aufweist, dass die Viskosität der Flüssigkeit (14A) zwischen 300 mPa·s und 30.000 mPa·s bei einer Scherrate von 0,1/s und zwischen 1 mPa·s und 100 mPa·s bei einer Scherrate von 1.000/s liegt.
  5. Verfahren gemäß Anspruch 1, worin die höhere Krümmung des Meniskus des Wulsts (44) weniger als 7,2 mm–1 beträgt, was durch Auswahl eines geeigneten Wertes der Aussparung (42) zwischen der Bandoberfläche und der Lippe (21a) des Gleittrichters (20) und eines geeigneten Wertes des Druckes auf der unteren Seite des Wulsts (44) erreicht wird.
  6. Verfahren gemäß Anspruch 5, worin der geeignete Wert der Aussparung (42) zwischen 0,10 mm bis 0,40 mm beträgt und der geeignete Druckwert zwischen –100 Pa bis –700 Pa beträgt.
  7. Verfahren gemäß Anspruch 6, worin die Flüssigkeit (14A) in der photoempfindlichen Schicht (14a) eine derartige Thixotropie aufweist, dass die Viskosität der Flüssigkeit (14A) zwischen 300 mPa·s und 30.000 mPa·s bei einer Scherrate von 0,1/s und zwischen 1 mPa·s und 100 mPa·s bei einer Scherrate von 1.000/s liegt.
  8. Verfahren gemäß Anspruch 7, worin die Viskosität der Flüssigkeit in der nicht-lichtempfindlichen Schicht zwischen 5 und 100 mPa·s bei 40°C liegt.
  9. Verfahren gemäß Anspruch 1, worin die flüssige nicht-lichtempfindliche Schicht weiterhin einen Toner enthält.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003114500A (ja) * 2001-10-04 2003-04-18 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料の製造方法
JP2005007258A (ja) * 2003-06-18 2005-01-13 Fuji Photo Film Co Ltd 塗布方法および塗布ライン
JP4369876B2 (ja) 2004-03-23 2009-11-25 富士フイルム株式会社 ハロゲン化銀感光材料および熱現像感光材料
US20060057512A1 (en) 2004-09-14 2006-03-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photothermographic material
CN102036756A (zh) * 2008-03-26 2011-04-27 3M创新有限公司 坡流涂布包含多单元聚合物前体流体的方法
JP5397135B2 (ja) * 2008-10-06 2014-01-22 大日本印刷株式会社 多層塗工膜の製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE545464A (de) 1955-02-23 1900-01-01
US4113903A (en) 1977-05-27 1978-09-12 Polaroid Corporation Method of multilayer coating
JPS5927232B2 (ja) 1978-06-26 1984-07-04 富士写真フイルム株式会社 塗布方法
JPS56108566A (en) * 1980-01-30 1981-08-28 Fuji Photo Film Co Ltd Simultaneous multilayer coating
JP2676289B2 (ja) 1992-01-13 1997-11-12 富士写真フイルム株式会社 塗布方法及び塗布装置
US5290660A (en) * 1993-04-23 1994-03-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dye permeable polymer interlayers
US6013327A (en) * 1996-10-30 2000-01-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Slide bead coating method and apparatus
JP3832946B2 (ja) 1997-06-06 2006-10-11 富士写真フイルム株式会社 熱画像形成材料の塗布方法、熱画像形成層塗布液、熱画像形成材料および感光性熱現像画像形成材料
US6576296B1 (en) 1998-03-10 2003-06-10 3M Innovative Properties Company Web coating method and apparatus for continuous coating over splices
JP2000225368A (ja) 1999-02-03 2000-08-15 Konica Corp 塗布装置および塗布方法
JP2002072409A (ja) * 2000-09-04 2002-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料の塗布方法及び装置

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Publication number Publication date
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US6555309B2 (en) 2003-04-29
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US20020106595A1 (en) 2002-08-08
EP1215531B1 (de) 2006-03-29
EP1215531A3 (de) 2003-02-12

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