DE69819397T2

DE69819397T2 - Verarbeitungsverfahren für photographisches lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial

Info

Publication number: DE69819397T2
Application number: DE69819397T
Authority: DE
Inventors: Moeko Hino-shi Hagiwara; Hiroaki Hino-shi Kobayashi
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1997-04-25
Filing date: 1998-04-23
Publication date: 2004-08-26
Anticipated expiration: 2018-04-24
Also published as: US6174654B1; EP0874279A1; DE69819397D1; EP0874279B1

Description

Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Behandlungsverfahren für ein lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial (im Folgenden einfach als lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial bezeichnet), insbesondere ein Behandlungsverfahren für ein lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial, durch das eine stabile Behandlungseigenschaft und eine Schnellbehandlung realisiert werden kann.
Hintergrund der Erfindung
Auf dem Markt der Photofertigstellung besteht die Tendenz, dass Photohersteller in kleine Läden aufgespalten werden. Eine Behandlungseinrichtung, ein sogenanntes Labor, lässt sich rasch in Minilabors verändern, die jeweils lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterialien im Laden behandeln. In der letzten Zeit beschleunigt sich diese Tendenz zunehmend. Die Ladenbehandlung verteilt sich außer auf Photoläden auf verschiedene Läden, wie einen Supermarkt oder eine Drogerie.
Dieser Trend soll die Anforderungen der Verbraucher, dass das fertige Bild am gleichen Tag erhalten werden kann oder die Behandlung während des Einkaufens fertiggestellt wird und das Bild auf dem Heimweg erhalten werden kann, erfüllen. Daher ist der Bedarf an einer Schnellbehandlung zunehmend erhöht.
Ferner wird eine Behandlungsvorrichtung von einem Teilzeitangestellten oder Angestellten, nicht einem professionellen Arbeiter, bedient, wenn die Behandlung in einem nichtprofessionellen Laden oder einem Büro durchgeführt wird. Da her wird es wichtig, dass die Behandlungsvorrichtung ohne Fühlen des Vorhandenseins einer Flüssigkeit bedient und problemlos aufrechterhalten werden kann, und dass die Behandlungsvorrichtung in Hinblick auf den Raum zum Installieren der Behandlungsvorrichtung kompakt gefertigt ist.
Bei der Behandlung unter Verwendung einer Behandlungsvorrichtung wird üblicherweise ein Ergänzungssystem verwendet, bei dem ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial automatisch in einen Behandlungstank getaucht wird und eine Ergänzungslösung dem Behandlungstank entsprechend der behandelten Fläche des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Ergänzung zugeführt wird. Die Ergänzung wird der Behandlungslösung im Überlauf zugeführt und es wird ein Gleichgewichtszustand des Durchlaufens gebildet. Infolgedessen muss die Behandlung gesteuert werden, da der Durchlaufzustand in Abhängigkeit von der Art des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials und der pro Tag behandelten Menge des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials variiert. Daher wird an jedem Tag ein Prüfstück, ein sogenannter Kontrollstreifen, der ein Streifen eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials, der eine Standardbelichtung erhielt, ist, entwickelt, und die Behandlung entsprechend dem Vergleich der Dichte des behandelten Kontrollstreifens mit einer Standarddichte gesteuert.
Verschiedene Verfahren wurden vorgeschlagen, diese komplizierte und professionelle Kontrolle wegzulassen, wobei die Entwicklungsbehandlungslösung nur in einer Menge, die auf dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial verwendet wird, zugeführt wird, um den Tank zu eliminieren. Beispielsweise schlägt die offengelegte japanische Patentveröffentlichung (JP O.P.I.) Nr. 2-79841 ein System vor, bei dem die Behandlung durch eine in einem Schwamm absorbierte Behandlungslösung durchgeführt wird, die JP O.P.I. Nr. 2-79844 ein System vor, bei dem eine Behandlungslösung durch einen schlitzförmigen Zufuhrauslass zugeführt wird, und die JP O.P.I. Nr. 9-43814 ein System vor, bei dem eine Entwicklungsbehandlungslösung über eine Gasphase zugeführt wird.
Ein weiteres herkömmliches Verfahren ist in US-A-5 116 721 offenbart.
Zusammensetzung der Erfindung
Ein Problem in diesen Systemen besteht darin, dass die zugeführte Lösung nicht gleichförmig in das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial eindringen kann. Insbesondere ist es im Entwicklungsprozess schwer, dass die Behandlungslösung gleichförmig eindringt, da die Menge der Behandlungslösung zur Verringerung der Menge der Entwicklungslösung, die in den nächsten Prozess übertragen wird, und der Menge der Abfalllösung verringert wird. Außerdem wird das Problem der Ungleichförmigkeit schwerwiegend, wenn die Behandlungsdauer verringert ist.
Bei dem System, bei dem nur die notwendige Menge der Entwicklungslösung dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial zugeführt wird, ist die Kontrolle der Behandlung nicht notwendig, da die neue Lösung jedes Mal zugeführt wird, und die Menge der Abfalllösung kann durch Verringern der Zufuhrmenge auf eine kleine Menge verringert werden. Jedoch wird eine Ungleichförmigkeit der Behandlung durch ein leichtes Härten des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials oder ein feiner Staub auf dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial verursacht, wenn die kleine Menge der Behandlungslösung durch Beschichten zugeführt wird. Insbesondere ist eine sehr strenge Kontrolle hinsichtlich der Ungleichförmigkeit bei der photographischen Behandlung im Gegensatz zum Fall des Auftragens eines Anstrichmittels auf Papier notwendig, da das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial aus einer Gelatineschicht besteht und die Behandlungseigenschaft durch Diffusion der Komponenten der Behandlungslösung in den farbbildenden Mehrfachschichten gesteuert wird.
Zur Verhinderung dieser Ungleichmäßigkeit wurden ein Verfahren durch Aufblasen von Luft gemäß der Beschreibung in JP O.P.I Nr. 2-79846 und ein Verfahren des Ausbreitens der Behandlungslösung durch Verwendung eines porenhaltigen Materials, wie eines Schwamms, gemäß der Beschreibung in JP O.P.I Nr. 2-91645 vorgeschlagen. Jedoch treten Probleme eines Verstreuens der Lösung oder einer Oxidation der Behandlungslösung in dem porenhaltigen Material auf, die gelöst werden sollen.
Folglich ist die erste Aufgabe der Erfindung die Bereitstellung eines Verfahrens zur Behandlung eines lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials unter Verwendung einer automatischen Behandlungsvorrichtung, durch das die Behandlung stabil unter einfacher Kontrolle durchgeführt werden kann. Die zweite Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Behandlung eines lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials unter Verwendung einer automatischen Behandlungsvorrichtung, durch das die Behandlung stabil durchgeführt werden kann, wenn die Behandlungsmenge klein ist, und die dritte Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Behandlung eines lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials unter Verwendung einer automatischen Behandlungsvorrichtung, durch das eine Schnellbehandlung realisiert werden kann und die Abfallflüssigkeitsmenge zur Verringerung der Umweltbelastung verringert werden kann.
Die im Vorhergehenden genannten Aufgaben können durch ein Verfahren der Behandlung eines lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials gemäß der Definition in Anspruch 1 gelöst werden.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
1 zeigt den schematischen Aufbau eines Beispiels einer automatischen Behandlungsvorrichtung mit Walzenbeschichtungsvorrichtungen gemäß der Erfindung.
2 zeigt ein weiteres Beispiel einer automatischen Behandlungsvorrichtung mit Extrusionsbeschichtungsvorrichtungen, die beim Verfahren der Erfindung verwendet werden.
3 zeigt die in der in 1 gezeigten automatischen Behandlungsvorrichtung verwendete Beschichtungsvorrichtung.
4 zeigt ein Behandlungslösungszufuhrmittel unter Verwendung einer Transferwalzenbeschichtungsvorrichtung.
5 zeigt ein Behandlungslösungszufuhrmittel eines anderen Typs.
6 zeigt ein weiteres Behandlungslösungszufuhrmittel für eine einzige Behandlungslösung unter Verwendung einer Walzenbeschichtungsvorrichtung.
7 zeigt ein weiteres Behandlungslösungszufuhrmittel unter Verwendung von zwei Walzenbeschichtungsvorrichtungen.
8 zeigt ein weiteres Beispiel einer automatischen Behandlungsvorrichtung unter Verwendung von zwei Tiefdruckwalzenbeschichtungsvorrichtungen gemäß der Erfindung.
9 zeigt ein weiteres Beispiel einer automatischen Behandlungsvorrichtung mit einer Extrusionsbeschichtungsvorrichtung.
10 zeigt das Entwicklungsverfahren einer automatischen Behandlungsvorrichtung mit zwei Tintenstrahlköpfen als Behandlungslösungszufuhrmittel.
11 zeigt den Aufbau eines Entwicklungsverfahrens einer automatischen Behandlungsvorrichtung gemäß der Erfindung.
12 zeigt eine vergrößerte Darstellung des Beschichtungslösungszufuhrteils der in 11 gezeigten Behandlungsvorrichtung.
13 zeigt den Aufbau des Entwicklungsverfahrens einer weiteren automatischen Behandlungsvorrichtung gemäß der Erfindung.
14 zeigt eine vergrößerte Darstellung des Beschichtungslösungszufuhrteils der in 13 gezeigten Behandlungsvorrichtung.
15(a) zeigt eine Zeichnung, die das Messverfahren des Kontaktwinkels erklärt.
15(b) zeigt das Messprinzip.
Detaillierte Beschreibung der Erfindung
Die Erfinder ermittelten, dass die Bildung der Ungleichförmigkeit verhindert werden kann und die Schnellbehandlung realisiert werden kann, indem eine Behandlungslösung, die einen Kontaktwinkel zu dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial von nicht mehr als 45° aufweist, zum Zeitpunkt der Zufuhr durch eine automatische Behandlungsvorrichtung mit einem Behandlungslösungszufuhrmittel zugeführt wird.
Üblicherweise ist es günstig, wenn die aufzutragende Lösung eine bestimmte hohe Viskosität und einen bestimmten hohen Kontaktwinkel zum Realisieren einer stabilen Beschichtung aufweist, da eine Lösungsperle in günstiger Weise gebildet wird. In der Erfindung ist die Perle jedoch mit einem Kon taktwinkel von nicht mehr als 45° stabilisiert, ein Effekt, der überhaupt nicht erwartet werden konnte.
Dieser Effekt tritt in beträchtlichem Maße in der Entwicklungslösung, insbesondere bei einer Schnellbehandlung, die für Ungleichförmigkeit empfindlich ist, auf. Im Falle der Entwicklungslösung ist es besonders wirksam, den Kontaktwinkel im Bereich von 20° bis 40° zu steuern und die Lösung durch die Beschichtungsmittel aufzutragen.
Außerdem kann ein unerwarteter Effekt, dass nämlich die Fähigkeit zur Schnellbehandlung weiter beschleunigt ist, erhalten werden, wenn das erfindungsgemäße Verfahren verwendet wird.
Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Behandlungslösung einen Kontaktwinkel zum lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial von nicht mehr als 45° zum Zeitpunkt der Zufuhr zum lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial aufweist. Der Kontaktwinkel ist der Kontaktwinkel zwischen dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial und der Behandlungslösung zum Zeitpunkt der Zufuhr der Behandlungslösung zu dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial. Der Kontaktwinkel wird durch das "Flüssigkeitstropfenverfahren" gemäß der Beschreibung in "Shin Jikken Kagaku Kouza (New Course of the Experimental Chemistry), No. 18 Interface of Colloid", S. 97 ermittelt.
Der Kontaktwinkel des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial zur Behandlungslösung wird gemäß dem Kontaktwinkelmessverfahren, das bei "Shin Jikken Kagaku Kouza (New Course of the Experimental Chemistry), Vol. 18 Surface of Colloid", S. 97, verlegt bei Maruzen, 20. Oktober 1977, beschrieben ist, unter Verwendung eines Prüflings einer planen Lage des zu behandelnden lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial ermittelt. Die Lage des Prüflings wird horizontal in einer mit Dampf der zu messenden Flüssigkeit gefüllten Kammer, wie in 15(a) gezeigt, gesetzt, und ein Tropfen der Flüssigkeit wird auf der Oberfläche des Prüflings unter Verwendung einer Injektionsvorrichtung gebildet. Die Größe des Tropfens wird derart gesteuert, dass sie nicht mehr als 3 mm Berührungsdurchmesser aufweist, wobei angegeben wird, dass ein Tropfenvolumen von nicht mehr als 0,1 cm³ möglich ist. Der Kontaktwinkel kann durch ein Ablesemikroskop mit einer etwa 20-fachen Vergrößerung, das mit einem Winkelmesser ausgestattet ist, gemessen werden. 15(b) zeigt das Messprinzip. Die Flüssigkeit wird durch paralleles Licht, das von der Vorderseite durch ein weißes Milchglas oder ein wärmeabsorbierendes Glas kommt, beleuchtet. Die Messgenauigkeit beträgt ±1°, was durch Erfahrung auf ±0,5° verringert werden kann. Die Winkel auf der rechten und linken Seite des Tropfens werden gemessen und die Messergebnisse des Tropfens werden renunziert. Der Winkel wird ferner nach einer Vergrößerung des Volumens des Tropfens oder nach dem Stehenlassen während einer bestimmten Zeit zum Überprüfen der Variation des Winkels gemessen. Die Messung wird an mehreren Punkten auf der gleichen Oberfläche des Prüflings durchgeführt. Mindestens 10 Daten werden gemessen und der Mittelwert von diesen wird berechnet. Destilliertes Wasser wird als in der Messung zu verwendendes Wasser verwendet. In der Erfindung ist der Kontaktwinkel der Behandlungslösung zu dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial oder der Beschichtungswalze durch den Kontaktwinkel, der unter der Bedingung, dass die Temperatur des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials oder des Materials der Beschichtungswalze und die der Behandlungslösung auf die der Behandlungszeit eingestellt sind, gemessen.
Der Kontaktwinkel kann durch die Zugabe eines Netzmittels zu der Behandlungslösung, die Variation der Temperatur der Lösung oder des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials, vorzugsweise der Temperatur des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials oder die Variation der Oberflächeneigenschaft eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials gesteuert werden. Als der Behandlungslösung zuzusetzendes Netzmittel sind übliche Netzmittel mit einer Oberflächenaktivität ohne jede Beschränkung verwendbar. Ein Silicon-Netzmittel oder ein fluorhaltiges Netzmittel wird vorzugsweise zum Einstellen des Kontaktwinkels auf den der Erfindung verwendet. Ein Polyether-modifiziertes Siloxan-Netzmittel wird vorzugsweise als Silicon-Netzmittel verwendet, und ein Netzmittel des Perfluoralkyl-Typs wird vorzugsweise als fluorhaltiges Netzmittel verwendet. Das Netzmittel kann einzeln oder in einer Kombination von zwei oder mehreren Arten derselben verwendet werden.
Mindestens eine Verbindung, die aus den Verbindungen, die durch die folgenden Formeln I, SI, oder SII dargestellt werden, und wasserlöslichen Siloxan-Verbindungen ausgewählt ist, ist vorzugsweise in der Behandlungslösung gemäß der Erfindung enthalten.
Formel (I)
Rf( -X) - _m ( -Y) - _nA
In der Formel bedeutet Rf eine gesättigte oder ungesättigte Kohlenwasserstoffgruppe mit mindestens einem Fluoratom, und X bedeutet eine Sulfonamidogruppe,
oder
und Y bedeutet eine Alkylenoxidgruppe.
Rf' bedeutet eine gesättigte oder ungesättigte Kohlenwasserstoffgruppe, zweckmäßigerweise eine Alkylgruppe mit 4 bis 12 Kohlenstoffatomen, vorzugsweise 6 bis 9 Kohlenstoffatomen, die mindestens ein Fluoratom aufweist. A bedeutet eine hydrophile Gruppe, wie -SO₃M, -OSO₃M, -COOM, -OPO₃(M₁)(M₂) und -PO₃(M₁)(M₂) und -SO₃ ist bevorzugt. M, M₁ und M₂ sind jeweils H, Li, K, Na oder NH₄, von denen Li, K und Na zweckmäßig sind und Li bevorzugt ist. m bedeutet 0 oder 1, und n bedeutet 0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 10, und m und n sind vorzugsweise 0.
Formel SI
In der Formel bedeutet R¹ ein Wasserstoffatom, eine aliphatische Gruppe oder eine Arylgruppe, R² ein Wasserstoffatom oder eine aliphatische Gruppe. E¹ bedeutet eine Ethylenoxidgruppe, E² bedeutet eine Propylenoxidgruppe und E³ bedeutet eine Ethylenoxidgruppe, X bedeutet ein Sauerstoffatom oder eine -R³N-Gruppe, wobei R³ eine aliphatische Gruppe, ein Wasserstoffatom oder
ist.
l₁, 1₂, m₁, m₂, n₁ und n₂ sind jeweils eine ganze Zahl von 0 bis 300.
Formel SII
A₂-O( -B) - _m ( -C) - _nX₁
In der Formel bedeutet A₂ eine einwertige organische Gruppe, beispielsweise eine Alkylgruppe mit 6 bis 50 Kohlenstoffatomen, vorzugsweise 6 bis 35 Kohlenstoffatomen, wie eine Hexylgruppe, eine Heptylgruppe, eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe, eine Undecylgruppe oder eine Dodecylgruppe, oder eine Arylgruppe, die mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 35 Kohlenstoffatomen oder einer Alkenylgruppe mit 2 bis 35 Kohlenstoffatomen substituiert ist.
Bevorzugte Substituenten der Arylgruppe umfassen eine Alkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, beispielsweise eine unsubstituierte Alkylgruppe, wie eine Butylgruppe, eine Peptylgruppe, eine Hexylgruppe, eine Heptylgruppe, eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe, eine Undecylgruppe oder eine Dodecylgruppe, eine substituierte Alkylgruppe, wie eine Benzylgruppe oder eine Phenetylgruppe, und eine Alkenylgruppe mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen, beispielsweise eine unsubstituierte Alkenylgruppe, wie eine Oleylgruppe, eine Cetylgruppe oder eine Allylgruppe, oder eine substituierte Alkenylgruppe, wie eine Styrylgruppe. Als Arylgruppe sei eine Phenylgruppe, eine Biphenylgruppe und eine Naphthylgruppe, vorzugsweise eine Phenylgruppe genannt.
Die Position der Arylgruppe, an der ein Substituent gebunden ist, kann beliebig die ortho-, meta- und para-Position sein.
Die Arylgruppe kann mit mehreren Substituenten substituiert sein.
B und C sind jeweils eine Ethylenoxidgruppe, eine Propylenoxidgruppe oder
wobei n₁, m₁ und l₁ jeweils 0, 1, 2 oder 3 sind. m und n sind jeweils eine ganze Zahl von 0 bis 100. X₁ ist ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Aralkylgruppe oder eine Arylgruppe.
Verbindungen der folgenden Formel SU-1 sind als die wasserlösliche Siloxan-Verbindung bevorzugt.
Formel SU-1
In der Formel bedeutet R₃ ein Wasserstoffatom, eine Hydroxylgruppe, eine Niederalkylgruppe, eine Alkoxylgruppe,

R₁₀ R₁₁ und R₁₂ sind jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Niederalkylgruppe, R₁₀, R₁₁ und R₁₂ können gleich oder verschieden sein. l₁, l₂ und l₃ sind jeweils eine ganze Zahl von 0 bis 30 und p, q₁ und q₂ sind jeweils 0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 30.
X₁ und X₂ sind jeweils -CH₂CH₂-, –CH₂CH₂CH₂-,
Konkrete Beispiele sind in JP O.P.I Nr. 4-299340 beschrieben. Besonders bevorzugte Beispiele sind im Folgenden angegeben. I-1 CeF₁₇SO₃K I-2 C₈F₁₇SO₃Li I-3 C₈F₁₇COONH₄ I-4 C₈F₁₇COOK

I-8 C₇F₁₅CONHC₂H₄NC₅H₄Cl I-9 C₇H₁₅COONH₄
Von den Verbindungen der Formel I sind die Verbindungen I-1, I-2, I-4 und I-8 bevorzugt.
Diese Verbindungen können nach üblichen Verfahren synthetisiert werden und sind auf dem Markt erhältlich.
Verbindungen der Formel SI:
SI-1 C₁₂H₂₅COO( -C₂H₄O) - ₁₀H SI-2 C₉H₁₈COO( -C₂H₄O) - ₄H SI-3 C₁₂H₂₅NH( -C₂H₄O) - ₁₀H SI-4 C₁₂H₂₅NH( -C₂H₄O) - ₁₅H
SI-6 C₁₂H₂₅-NHCH₂CH₂OH
Verbindungen der Formel SII:
SII-1 C₁₂H₂₅-O( -C₂H₄O) - ₁₀H SII-2 C₈H₁₇O( -C₃H₆O) - ₁₅H SII-3 C₉H₁₈-O( -C₂H₄O) - ₄H SII-4 C₁₀H₂-O( -C₂H₄O) - ₁₅H
Wasserlösliche Siloxan-Verbindungen:
Die Temperatur der Behandlungslösung wird erhöht, wenn es möglich ist. Die Temperatur des zu behandelnden lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials beträgt üblicherweise nicht weniger als 40°C, zweckmäßigerweise liegt sie im Bereich von 45°C bis 95°C, vorzugsweise im Bereich von 50°C bis 90°C. Das Erhöhen der Temperatur des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials ist für die Kontrolle der Lösung im Hinblick auf den Arbeitspunkt günstig. Daher ist ein Heizmittel zum Erwärmen des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials auf 40°C oder mehr an einer Position in oder vor dem Entwicklungsverfahren günstig.
Ein Kontaktheizmittel zum Erwärmen des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials durch Wärmeleitung, wie eine Heizwalze, eine Heiztrommel oder ein Heizband, und ein Konvektionsheizmittel zum Erwärmen des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials durch die Konvektion von Heißluft, wie ein Trockner, und ein Strahlungsheizmittel zum Erwärmen durch Infrarotstrahlung oder hochfrequente elektromagnetische Strahlung sind verwendbar.
Vorzugsweise weist die in dem Verfahren der Erfindung zu verwendende automatische Behandlungsvorrichtung ein Heizsteuermittel auf, das das Heizmittel derart steuert, dass das Heizmittel nur arbeitet, wenn das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial an der Position, an der das lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial erwärmt wird, vorhanden ist. Dieser Vorgang kann konkret durchgeführt werden, indem das Heizmittel synchron mit dem Erfassungssignal von einem Erfassungsmittel zum Erfassen des Vorhandenseins des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials gesteuert wird. Das Erfassungsmittel wird an der Position des Zustroms der Transportrichtung des Transportmittels des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials, in den das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial mit einer vorgeschriebenen Geschwindigkeit transportiert wird, bereitgestellt. Ferner ist es auch günstig, ein Mittel zum Halten der Temperatur des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials nach dem Zuführen der Behandlungslösung zu diesem bereitzustellen. Die Temperatur des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials wird vorzugsweise bei 40°C oder mehr gehalten, bis das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial mit der Behandlungslösung des nächsten Prozesses in Kontakt kommt. Vorzugsweise ist die Menge der Entwicklungsbehandlungslösung so klein, dass die Temperatur des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials bei einer derartigen hohen Temperatur gehalten wird.
Gemäß der Erfindung wird, wenn das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial vor der Zufuhr der Entwicklungslösung auf die Emulsionsoberfläche erwärmt wird, das Erwärmen vorzugsweise nach dem Belichten des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials mit Licht durchgeführt, um den Einfluss einer Veränderung der photographischen Eigenschaften des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials, der durch die unterschiedliche Temperatur zum Zeitpunkt der Belichtung mit Licht verursacht wird, zu verringern.
Gemäß der Erfindung wird die Beschichtungsmenge der Entwicklungslösung zweckmäßigerweise auf einen Bereich von 5 bis 100 ml, vorzugsweise 10 bis 60 ml, stärker vorzugsweise 15 bis 50 ml pro m² des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials gesteuert. Wenn die Behandlungslösung aus zwei oder mehr Komponentenlösungen besteht, ist die Beschichtungsmenge die Gesamtmenge dieser Lösungen.
Die Oberflächeneigenschaft des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials kann durch bekannte Mittel gesteuert werden.
Ein Beschichtungsmittel ist als Behandlungslösungszufuhrmittel bevorzugt. Das Beschichtungsmittel gemäß der Erfindung ist ein Mittel zum Zuführen einer vorgeschriebenen Menge der Behandlungslösung auf die Oberfläche des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials, und ein Verfahren, dem das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial in einen mit der Lösung gefüllten Tank getaucht wird, wobei die Zusammensetzung der Lösung in das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial aus der Masse der Lösung eindringt, wird vom Zufuhrmittel der Erfindung nicht umfasst.
Die konkreten Beschichtungsmittel können grob in ein System, bei dem die Lösung durch Aufsprühen oder über die Gasphase zugeführt wird, und ein System, bei dem die Lösung durch Auftragen durch ein Werkzeug, wie eine Walze, zugeführt wird oder direkt durch Vorhangbeschichtung zugeführt wird, geteilt werden.
Als System, das über die Gasphase zuführt, sind ein Verfahren, bei dem Tröpfchen unter Verwendung der Vibration eines piezoelektrischen Elements, wie eines Tintenstrahlkopf des Piezo-Typs, oder eines Thermokopfs unter Stößen verteilt werden, und ein Sprühverfahren, bei dem die Lösung durch Druckluft oder Druck einer Flüssigkeit aufgesprüht wird, verwendbar.
Als Verfahren des Beschichtens durch ein Werkzeug oder direktes Beschichten sind eine Luftrakelbeschichtungsvorrichtung, eine Klingenbeschichtungsvorrichtung, eine Stabbeschichtungsvorrichtung, eine Rakelbeschichtungsvorrichtung, eine Quetschbeschichtungsvorrichtung, eine Tauchbeschichtungsvorrichtung, eine Umkehrbeschichtungsvorrichtung, eine Transferbeschichtungsvorrichtung, eine Vorhangbeschichtungsvorrichtung, eine Doppelwalzenbeschichtungsvorrichtung, ein Gleittrichter, eine Tiefdruckbeschichtungsvorrichtung, eine Walzenbeschichtungsvorrichtung, eine Perlenbeschichtungsvorrichtung, eine Gießbeschichtungsvorrichtung, eine Sprühbeschichtungsvorrichtung, eine Kalanderbeschichtungsvorrichtung und eine Extrudierbeschichtungsvorrichtung verwendbar.
Die Wirkungen der Erfindung können bei dem Verfahren durch Zuführen durch das Werkzeug oder direktes Zuführen im Vergleich mit dem Verfahren über eine Gasphase wirksamer verstärkt werden. Die Verfahren, die jeweils die Abquetschwalze, Tiefdruckbeschichtungsvorrichtung, Tauchbeschichtungsvorrichtung, Perlenbeschichtungsvorrichtung, Klingenbeschichtungsvorrichtung und die Beschichtungsvorrichtung unter Verwendung einer Beschichtungswalze verwenden, sind bevorzugt. Von diesen Beschichtungsmitteln ist eines, das mit dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial nicht direkt in Kontakt steht, bevorzugt. Ein Typ der Perlenbeschichtungsvorrichtung, dessen Beschichtungswalze mit dem lichtempfind lichen Aufzeichnungsmaterial nicht direkt in Kontakt steht, ist besonders bevorzugt. Bei dieser Art einer Perlenbeschichtungsvorrichtung ist es günstig, wenn die Behandlungslösung durch eine Düse oder einen Schlitz unter Bildung einer Perle zugeführt wird, und die Perle mit dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial in Kontakt kommt. Im Falle der Walzenbeschichtungsvorrichtung ist es günstig, die Beschichtungslösung zuvor auf die Beschichtungswalze aufzutragen und die Behandlungslösung auf das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial von der Beschichtungswalze ohne direktes Kontaktieren der Walze mit dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial aufzutragen.
Wenn die Beschichtungswalze zum Zuführen der Behandlungslösung zu dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial verwendet wird, wird die Beschichtungswalze in der Richtung des Transports des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials derart gedreht, dass die Behandlungslösung auf die Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials aufgetragen wird. In diesem Fall wird die Behandlungslösung dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial durch die Beschichtungswalze, die mit dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial in Kontakt ist oder so positioniert ist, dass ein Zwischenraum entsprechend der Dicke der Schicht der zuzuführenden Behandlungslösung verbleibt, zugeführt.
Der Kontaktwinkel der Behandlungslösung zu der Beschichtungswalze beträgt 5° bis 50°, und der Winkel beträgt zweckmäßigerweise 10 bis 40°, vorzugsweise 20 bis 30°, im Hinblick darauf, dass die Behandlungslösung auf der Beschichtungswalze gleichförmig gebildet werden kann. Die Beschichtungswalze ist vorzugsweise eine Metallwalze, wie eine aus SUS gefertigte. Konkret sind rostfreier Stahl, wie SUS316L, SUS316, SUS304 und SUS303, Titan (Ti) und Messing (Bs) bevorzugt. Wenn eine aus Kunststoff oder elastischem Teflon bestehende Walze verwendet wird, wird die Walze vorzugsweise mit einem Netzmittel beschichtet, um den Kontaktwinkel zu verringern. Eine Beschichtungswalze mit einem hydrophilen Material ist ebenfalls bevorzugt. Eine mit 6-Nylon, N-Methoxymethylpolyamid, Polyurethan oder Polyacetal laminierte ist ebenfalls bevorzugt. Das auf die Walze aufzutragende bevorzugte Netzmittel ist eines, das sich auf der hydrophoben Walze derart orientieren kann, dass die hydrophile Gruppe zur Oberfläche gerichtet ist. Daher ist es günstig, ein ampholytisches Netzmittel oder eine Ethylenoxidverbindung aufzutragen.
Der Kontaktwinkel der Walze zur Behandlungslösung kann durch ein Verfahren, das dem im Vorhergehenden genannten Verfahren zum Messen des Kontaktwinkels zu dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial ähnlich ist, gemessen werden.
Die Behandlungslösung wird der Beschichtungswalze über ein Behandlungslösungszufuhrmittel zugeführt. Das Behandlungslösungszufuhrmittel führt die Behandlungslösung der Beschichtungswalze über den Lösungszufuhrauslass zu. Der Abstand zwischen dem Auslass und der Beschichtungswalze beträgt 0,2 mm bis 10 mm, zweckmäßigerweise 0,5 mm bis 7 mm, vorzugsweise 1 mm bis 4 mm. Dieser Abstand ist bevorzugt, da eine vorgeschriebene Menge der Behandlungslösung der Beschichtungswalze durch den Lösungszufuhrauslass ohne Störung der Lösung zugeführt werden kann. Vorzugsweise wird die Fließentfernung der Lösung auf der Beschichtungswalze vom Lösungszufuhrauslass bis zum Auftragen der Lösung auf dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial auf bis zu 5 mm bis 50 mm im Hinblick auf das Vermeiden einer Luftoxidation oder eines Verdampfens der Behandlungslösung eingestellt. Die Entfernung beträgt zweckmäßigerweise 7 bis 40 mm, vorzugsweise 10 bis 30 mm.
Die Menge der von dem Lösungszufuhrauslass zur Beschichtungswalze zugeführten Behandlungslösung beträgt 5 ml bis 100 ml, zweckmäßigerweise 10 ml bis 60 ml, vorzugsweise 15 ml bis 50 ml pro m². Diese Menge der Behandlungslösung ist insofern bevorzugt, als die optimale Menge der Behandlungslösung der Beschichtungswalze zugeführt wird.
Die automatische Behandlungsvorrichtung weist vorzugsweise ein Entfernungsmittel zum Entfernen der Behandlungslösung, die auf der Beschichtungswalze nach dem Zuführen der Behandlungslösung verblieben ist, auf. Das Einmischen einer Verunreinigung in die Behandlungslösung, die neu aufgetragen wird, kann durch Entfernen der Behandlungslösung, die auf der Beschichtungswalze verbleibt, vermieden werden.
In der Erfindung besteht die Behandlungslösung, die zugeführt wird, vorzugsweise aus zwei oder mehren Komponentenlösungen. In diesem Fall können die Wirkungen der Erfindung ausreichend verstärkt werden, da eine hochkonzentrierte Lösung vorübergehend durch Vermischen von mehreren konzentrierten Lösungen auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials gebildet werden kann. Diese hohe Konzentration der Lösung wird kaum erhalten, wenn die Lösung in Form einer Lösung hergestellt wird. Konkret ist es günstig, wenn die Behandlungslösung aus mindestens einer ersten Teillösung, die eine Entwicklersubstanz enthält, und einer zweiten Teillösung, die eine Alkalikomponente enthält, besteht. Infolgedessen sind mindestens ein erstes Zufuhrmittel für die erste Teillösung und ein zweites Zufuhrmittel für die zweite Teillösung in der automatischen Behandlungsvorrichtung der Erfindung bereitgestellt. Als Entwicklersubstanz sind eine Schwarzweißentwicklersubstanz, wie Hydrochinon, Methol, Phenidon, und ein Farbentwicklungssubstanz, wie ein p-Phenylendiaminderivat und ein Hydrazinderivat, verwendbar. Die Wirkungen der Erfindung werden verstärkt, wenn die Farbentwicklungssubstanz verwendet wird.
Das p-Phenylendiaminderivat, insbesondere ein Derivat mit einer in Wasser solubilisierenden Gruppe ist als die Farbentwicklungssubstanz bevorzugt.
Die Entwicklungssubstanz kann der unteren Schicht des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials durch getrenntes Auftragen der zwei Teillösungen zugeführt werden. Im Detail wird eine Diffusion der Farbentwicklungssubstanz in die Emulsionsschicht des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials durch Erhöhen des Konzentrationsgradienten der Farbentwicklungssubstanz in der Emulsionsschicht kaum beschleunigt, da die Löslichkeit der Farbentwicklungssubstanz in dem Farbentwickler im Allgemeinen niedrig ist. Ferner wird die Reaktion in der unteren Schicht verzögert, da die Farbentwicklungssubstanz mit einer geringeren Diffundierbarkeit in den oberen und mittleren Schichten verbraucht wird. Es war aus den im Vorhergehenden genannten zwei Gründen schwierig, die Behandlung zu beschleunigen. Die im Vorhergehenden genannte Schwierigkeit kann durch kontinuierliches Auftragen der zwei Teillösungen gelöst werden und somit kann eine Schnellbehandlung realisiert werden.
Ferner kann ein Problem, wie die Bildung einer teerartigen Substanz oder das Verschmutzen der Lösung durch Luftoxidation des Entwicklers während der Lagerung oder des Stehenlassens der Lösung, ebenfalls durch die Verwendung der zwei Teillösungen verringert werden.
In der Erfindung bedeutet die "Teillösung" eine Lösung, in der eine oder mehrere Verbindungen, die den Farbentwickler bilden, getrennt gelöst sind, und eine übliche Entwicklerlösung oder einfaches Wasser können als "Teillösung" verwendet werden.
Das Zufuhrverhältnis von einer Teillösung zu einer anderen Teillösung des Entwicklers beträgt üblicherweise nicht weniger als 0,01 und nicht mehr als 100, zweckmäßigerweise nicht weniger als 0,1 und nicht mehr als 10, vorzugsweise nicht weniger als 0,5 und nicht mehr als 2.
Der Zeitpunkt zum Zuführen aller Farbentwicklungslösungen liegt üblicherweise innerhalb der ersten 2/3, zweckmäßigerweise innerhalb 1/3, vorzugsweise innerhalb 1/10 des Zeitraums des Farbentwicklungsverfahrens.
Vorzugsweise weist die Farbentwicklungssubstanz gemäß der Erfindung eine Solubilisierungsgruppe auf. Die p-Phenylendiamin-Verbindung weist mindestens eine Solubilisierungsgruppe an der Aminogruppe oder dem Benzolring derselben auf. Als bevorzugte Beispiele der Solubilisierungsgruppe seien ( -CH₂ ) -CH₂OH, ( -CH₂ ) - _mNHSO₂ ( -CH₂ ) -CH₃, ( -CH₂ ) - _mO( -CH₂ ) -CH₃, ( -CH₂CH₂O) - _nC_mH_2m+1, wobei m und n jeweils für eine ganze Zahl von 0 oder mehr stehen, -COOH und -SO₃H genannt.
Die Zufuhrmenge der Farbentwicklungslösungen ist vorzugsweise proportional zur Belichtungsmenge des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials.
Eine bevorzugte Zufuhrreihenfolge der Farbentwicklungslösungen ist im Folgenden angegeben angegeben:

(1) Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung → alkalisches Mittel enthaltende Teillösung
(2) Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung → alkalisches Mittel enthaltende Teillösung und Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung
(3) Wasser → Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung → alkalisches Mittel enthaltende Teillösung
(4) Wasser → Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung → alkalisches Mittel enthaltende Teillösung und Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung
(5) alkalisches Mittel enthaltende Teillösung → Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung
(6) alkalisches Mittel enthaltende Teillösung und Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung → Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung
(7) Wasser → alkalisches Mittel enthaltende Teillösung → Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung
(8) Wasser → alkalisches Mittel enthaltende Teillösung und Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung → Entwicklersubstanz enthaltende Teillösung.

Von der im Vorhergehenden genannten Reihenfolge sind (1), (2), (3) und (4) zweckmäßig und (1) und (3) bevorzugt.
Konkrete Beispiele für eine para-Phenylendiaminverbindung, die vorzugsweise in der Erfindung verwendbar ist, sind im Folgenden angegeben.
Von den im Vorhergehenden angegebenen Farbentwicklersubstanzen sind C-1, C-2, C-3, C-4, C-6, C-7 und C-15 zweckmäßig und C-3 ist bevorzugt. Die im Vorhergehenden genannte para-Phenylendiaminverbindung wird üblicherweise in der Form des Hydrochlorids, Sulfats oder p-Toluolsulfonats verwendet. Diese Verbindungen werden üblicherweise in der Form des Hydrochlorids, Sulfats oder p-Toluolsulfonats verwendet. Die Verwendungsmenge der Farbentwicklersubstanz beträgt üblicherweise 10 bis 150 g, zweckmäßigerweise 10 bis 100 g, vorzugsweise 15 bis 70 g pro Liter der gesamten, üblicherweise zugeführten Entwicklerteillösungen.
Als Schwarzweißentwicklersubstanz sind Phenidon, 4-Hydroxymethyl-4-methyl-1-phenyl-3-pyrazolidon, Methol, Ascorbinsäure und Hydrochinon verwendbar.
Die erste Teillösung kann ferner ein Netzmittel, ein Solubilisierungsmittel für eine Entwicklersubstanz und ein Konservierungsmittel enthalten. Die zweite Teillösung kann ein Netzmittel, ein Solubilisierungsmittel für eine Entwicklersubstanz, ein Konservierungsmittel und einen Chelatbildner enthalten.
Als Solubilisierungsmittel für eine Entwicklersubstanz sind Triethanolamin, ein Polyethylenglykol und para-Toluolsulfonsäure, die in JP O.P.I Nr. 7-10769 beschrieben sind, verwendbar. Das Solubilisierungsmittel wird üblicherweise in einer Menge von 1 bis 100 g, zweckmäßigerweise 5 bis 80 g, vorzugsweise 10 bis 50 g pro Liter der gesamten Entwicklerteillösungen, die üblicherweise zugeführt werden, verwendet.
In der Erfindung ist die alkalische Komponente, die einen pH-Wert von nicht weniger als 8,0 ergibt, wenn 7,0 g der Komponente in reinem Wasser gelöst und auf 1 1 aufgefüllt werden, und sie ist vorzugsweise eine Alkalimetallverbindung, wie Kaliumcarbonat, Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat, Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Dikaliumphosphat, Natriumborat, Kaliumborat, Natriumtetraborat oder Borax, Kaliumtetraborat, Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid und Lithiumhydroxid sind verwendbar. Von diesen sind Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat, Trinatriumphosphat und Natriumborat zweckmäßig, und Natriumcarbonat ist bevorzugt. Die alkalische Komponente wird üblicherweise in einer Menge von 10 bis 300 g, zweckmäßigerweise 10 bis 150 g, vorzugsweise 20 bis 100 g pro Liter der gesamten Entwicklungsbehandlungslösungen, die üblicherweise zugeführt werden, verwendet.
Als Konservierungsmittel sind Natriumsulfit, Hydroxylamin und Hydroxylamine, die auf Seite 9 bis 13 von JP O.P.I Nr. 8-29924 beschrieben sind, verwendbar.
Vorzugsweise erreicht das lichtempfindliche photographische Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial das nächste Verfahren innerhalb einer Zeit von nicht mehr als 20 s, zweckmäßigerweise 3 bis 15 s, insbesondere 5 bis 12 s nach dem Zuführen der Entwicklerlösung. Die Wirkungen der Erfindung werden ausreichend verstärkt, wenn das Entwicklungsverfahren in einem Bereich von 2 bis 15 s durchgeführt wird und die Entwicklerlösung während nicht mehr als insgesamt 5 s zugeführt wird. "Das nächste Verfahren erreichen" bedeutet, dass das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial mit der Behandlungslösung des nächsten Verfahrens in Kontakt kommt.
Das zu behandelnde lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial umfasst ein lichtempfindliches farbphotographisches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial mit einer Emulsionsschicht, die Silberhalogenid mit einem durchschnittlichen Silberchloridgehalt von nicht weniger als 80 Mol.-% enthält, ein lichtempfindliches farbphotographisches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial, das eine Silberiodbromid- oder Silberbromidemulsion enthält, ein monochromatisches lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial und ein lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial für die Röntgenphotographie mit Emulsionsschichten auf beiden Oberflächen des Schichtträgers.
Beispiele
Beispiel 1
In dem Beispiel wurden Tests unter Verwendung von zehn Arten von Behandlungsvorrichtungen gemäß Ausführungsform 1 bis 10 der Erfindung durchgeführt. Ein Schema des Aufbaus eines Beispiels einer automatischen Behandlungsvorrichtung gemäß der Erfindung ist in 1 angegeben.
Die in der Figur angegebene automatische Behandlungsvorrichtung besteht aus einem Entwicklungsverfahren, bei dem ein Heizmittel 10, ein Entwicklungsmittel 40 und ein zweites Heizmittel entlang der Transportstrecke des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials P bereitgestellt sind, aus einem Bleichfixiertank BF, einem Stabilisierungstank ST und einem Trocknungsverfahren Dry. In dem Heizmittel 10 ist ein Pressband 15 über eine Eingangswalze 13, eine Ausgangswalze 12 und eine Presswalzenantriebswalze 14 gelegt, und das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial P wird transportiert und erwärmt, während es an eine Heiztrommel 11 an einem Abschnitt von 90° der Oberfläche der Trommel gepresst wird. Ein Entwicklungsmittel 40, das an einer gegenüber der Heiztrommel 11 stromabwärtigen Position der Transportstrecke des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials bereitgestellt ist, besitzt einen Behandlungslösungsaufnahmebehälter 43, der die erste Lösung, Teillösung 1 oder Sol-1 aufnimmt, einen Behandlungslösungsaufnahmebehälter 46, der die zweite Lösung, Teillösung 2 oder Sol-2 aufnimmt, Behandlungszufuhrmittel 42 bis 45 zum Zuführen der einzelnen Lösungen, beispielsweise eine Tiefdruckwalze des Spiraltyps mit einem Breitenraster von 80 Linien/inch (1 inch = 25,4 mm), die sich in der Transportrichtung mit einer Geschwindigkeit von 100 Umin^–1 dreht, und einander gegenüberliegende Walzen 41 und 45. Das Behandlungsmittel 40 führt die Farbentwicklerlösung der Emulsionsoberfläche des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials, das durch das Heizmittel 10 erwärmt wird, zu. In diesem Beispiel wird die zweite Teillösung 1,0 s nach dem Zuführen der ersten Teillösung zugeführt. Ein zweites Heizmittel besteht aus einer Heizwalze 31, einer Antriebswalze 32 und einem Heizband 33, das über diese Walzen gelegt ist. Das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial P, auf dessen Emulsionsoberfläche die Behandlungslösungen durch die Behandlungslösungszufuhrmittel 42 und 45 zugeführt wur den, wird durch das Heizband 33, das durch die Heizwalze 31 erwärmt wird, erwärmt. Das Heizband kann viele Löcher aufweisen, um es mit dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial P durch Ansaugen mit einem Gebläse oder Luftkompressor von der Rückseite des Bandes her in Kontakt zu bringen.
Danach wird das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial P in dem Bleichfixiertank BF bleichfixiert, in dem Stabilisierungstank ST stabilisiert und in dem Trocknungsverfahren Dry getrocknet.
In diesem Beispiel bezieht sich die in 1 angegebene Behandlungsvorrichtung auf die Ausführungsform 2. In anderen Ausführungsformen wurden die Art der Behandlungslösungszufuhrmittel 42 und 45 geändert, und der Kontaktwinkel der Lösung zum Zeitpunkt des Zuführens, die Temperatur des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials durch Erwärmen zum Zeitpunkt des Zuführens der Entwicklerlösung, der Zeitraum zwischen dem Beginn des Zuführens der Behandlungsentwicklungslösung und der Zeitpunkt, an dem das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial in den Bleichfixiertank getaucht wurde, und die Zufuhrmenge der Entwicklungsbehandlungslösung wie in Tabelle 1 angegeben geändert, und die Behandlungseigenschaft und die Bildung von Ungleichmäßigkeit bewertet.
In Ausführungsform 1 werden die in 2 gezeigten Extrusionsbeschichtungsvorrichtungen 26 und 28 als die Behandlungslösungszufuhrmittel verwendet. In Ausführungsform 3 wird eine in 3 gezeigte Beschichtungsvorrichtung anstelle der Behandlungslösungszufuhrmittel 42 und 45 verwendet. In Ausführungsform 4 wird eine in 4 gezeigte Transferwalzenbeschichtungsvorrichtung verwendet. In den Ausführungsformen 5, 6 und 7 werden die in 5, 6 bzw. 7 gezeigten Behandlungsvorrichtungen verwendet. In Ausführungsform 8 wird eine in 8 gezeigte Tiefdruckbeschichtungsvorrichtung verwendet. In dieser Ausführungsform werden Behandlungslösungen 1 und 2 auf das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial unter Verwendung der Tiefdruckbeschichtungswalze 64 bzw. 62 aufgetragen. In 8 sind 61 und 62 die Beschichtungswannen, die jeweils mit der Behandlungslösung 1 bzw. 2 gefüllt sind, und 63 ist eine Quetschvorrichtung. Die Ausführungsform 9 ist gleich der Ausführungsform 1, wobei jedoch eine einzige Behandlungslösung, Lösung 3 oder Sol-3, wie in 9 gezeigt, von der Extrusionsbeschichtungsvorrichtung 26 zugeführt wird. Die Ausführungsform 10 ist gleich Ausführungsform 1, wobei jedoch piezoelektrische Tintenstrahlkopfbeschichtungsvorrichtungen 56 und 58 anstelle der Extrusionsbeschichtungsvorrichtungen, wie in 10 gezeigt, verwendet werden. Die Lösungen 1 und 2 werden dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial von den Tintenstrahlköpfen über eine Gasphase oder Luftphase zugeführt. Die Lösung 2 wird 0,5 s nach dem Zuführen der Lösung 1 zugeführt. In dieser Ausführungsform sind die Düsen des Tintenstrahlzufuhrkopfes zur Transportrichtung des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials P parallele Linien. Die Düsen sind als zwei versetzte Linien angeordnet. Der Abstand zwischen den Düsen und der Düsendurchmesser betragen 150 μm bzw. 90 μm.
Die in den Ausführungsformen 5, 6 und 9 verwendete Lösung ist die einzige Entwicklungslösung, Lösung 3 oder Sol-3.

Unbelichtetes Farbpapier QR-A6, hergestellt von Konica Corporation, mit einer Breite von 29,7 cm wurde 30 Tage mit einer Rate von 0,8 m² pro Tag unter Verwendung der ersten Teillösung und der zweiten Teillösung oder einer einzigen Lösung, Lösung 3, die ein Gemisch von Lösung 1 und Lösung 2 ist, behandelt. Für die Bleichfixier- und Stabilisierungsverfahren wurden Behandlungszusammensetzungen und -bedingungen gemäß dem CPK-2-J1-Verfahren von Konica Corporation verwendet. Danach wurde ein Kontrollstreifen des QR-A6-Farbpapiers behandelt, um die mit blauem Licht gemessene maximale Dichte D_max(B) zu ermitteln und die Bildung von Ungleichmäßigkeit visuell zu betrachten. Die Ungleichmäßigkeit wurde gemäß der im Folgenden angegebenen Norm bewertet. [Rezeptur einer Entwicklungsbehandlungslösung] Teillösung 1

Natriumsulfit	0,2 g
Cinopal SFP (hergestellt von Ciba-Geigy)	2,0 g
p-Toluolsulfonsäure	10,0 g
4-Amino-3-methyl-N-ethyl-N-[β(methansulfonamido)ethyl]anilinsulfat	40, 0 g
Netzmittel^* reines Wasser zum Auffüllen auf	1 l

Der pH-Wert der Lösung wurde unter Verwendung von Kaliumhydroxid oder Schwefelsäure auf 2,0 eingestellt. Teillösung 2

Pentanatriumdiethylentriaminpentaacetat 5,0 g

Kaliumcarbonat 70 g

p-Toluolsulfonsäure 10 g

Netzmittel^* reines Wasser zum Auffüllen auf 1 l
Der pH-Wert der Lösung wurde unter Verwendung von Kaliumhydroxid auf 13,0 eingestellt.
Lösung 3
Die Lösung 3 wurde durch Mischen der ersten Lösung und der zweiten Lösung hergestellt. Der pH-Wert der Lösung wurde unter Verwendung von Kaliumhydroxid oder Schwefelsäure auf 10,5 eingestellt.
Als Netzmittel^* wurden Natriumperfluoroctylsulfonat und Perfluoroctylaminoxid verwendet, und das Mischverhältnis derselben wurde geändert, um den Kontaktwinkel zu steuern.
[Bewertungsnorm]

A: Es wurde keine Ungleichmäßigkeit gebildet.
B: Ein gewisser Grad an Ungleichmäßigkeit wurde gebildet. Es ergab sich jedoch bei der praktischen Verwendung kein Problem.
C: Ungleichmäßigkeit wurde gebildet. Der Grad der Ungleichmäßigkeit war so hoch, dass die photographische Eigenschaft problematisch war.
CC: Beträchtliche Ungleichmäßigkeit wurde gebildet.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 angegeben.
Tabelle 1
Aus den im Vorhergehenden aufgeführten Ergebnissen ist klar, dass die Bildung von Ungleichmäßigkeit vermieden wird und die Dichte stabil erhalten werden kann, indem der Kontaktwinkel auf nicht mehr als 45° gesteuert wird. Die Bildung der Ungleichmäßigkeit wird gehemmt und die Wirkung auf die Schnellbehandlung wird verstärkt, indem das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial erwärmt wird. Außerdem wird ermittelt, dass die Wirkungen der Erfindung in zufriedenstellender Weise verstärkt werden, auch wenn die Gesamtzufuhrmenge der Entwicklungsbehandlungslösung auf nicht mehr als 100 ml/m² oder nicht mehr als 50 ml/m² verringert wird.
Beispiel 2
Eine Ausführungsform der automatischen Behandlungsvorrichtung unter Verwendung einer Beschichtungswalze wird im Folgenden gemäß den Figuren im Detail beschrieben. In dieser Ausführungsform kann, obwohl das Entwicklungsverfahren der automatischen Behandlungsvorrichtung für ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial beschrieben wird, die Ausführungsform auch für ein anderes Verfahren, wie ein Fixierverfahren oder ein Wässerungsverfahren, verwendet werden.
11 zeigt den schematischen Aufbau des Entwicklungsverfahrens einer automatischen Behandlungsvorrichtung für das lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial, und 12 zeigt eine vergrößerte Darstellung des Beschichtungszufuhrbereichs. In dem Entwicklungsverfahren der automatischen Behandlungsvorrichtung wird eine Transportstrecke 103 durch mehrere Walzen 102, durch die ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial P transportiert wird, gebildet. Die Transportstrecke 103 wird in horizontaler Richtung gebildet. Das lichtempfindliche photographische Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial P wird vor dem Einführen in das Entwicklungsverfahren in die Form einer Lage bzw. eines Bogens geschnitten und in einer Position derart, dass die Bilderzeugungsoberfläche P1 nach oben gerichtet ist, transportiert.
An der Transportstrecke 103 des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials sind ein Vorwärmteil 110, ein Beschichtungszufuhrteil 120 und ein Quetschteil in dieser Reihenfolge entlang der Transportrichtung des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials angebracht.
In dem Vorwärmteil ist eine Transportwalze 102 an der oberen Seite der Transportstrecke angeordnet und eine Heizwalze 111 auf der stromabwärtigen Seite der Transportstrecke gegenüber der Transportwalze 102 angeordnet. Eine Heizvorrichtung 112 ist in der Heizwalze 111 eingebaut, und die Heizwalze 111 bildet das Heizmittel zum Erwärmen des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials P. Das lichtempfindliche photographische Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial P wird auf 45°C bis 95°C, zweckmäßigerweise 50°C bis 90°C, vorzugsweise 60°C bis 80°C erwärmt, um die Wirkung der Erfindung zu verstärken.
In dem Beschichtungszufuhrteil 20 ist eine Beschichtungswalze 121 zum Auftragen der Behandlungslösung auf die Bilderzeugungsoberfläche P1 des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials P und ein Behandlungslösungszufuhrmittel 122 zum Zuführen der Behandlungslösung zu der Beschichtungswalze 121 angeordnet. Die Beschichtungswalze 121 wird in Transportrichtung mit einer der Transportgeschwindigkeit des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials P nahezu entsprechenden Geschwindigkeit gedreht. Der Kontaktwinkel der Behandlungslösung mit der Beschichtungswalze 121 wird auf den Bereich von 5°C bis 50°C eingestellt. Auf diese Weise kann die Behandlungslösung gleichförmig auf die Bilderzeugungsoberfläche P1 des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials P aufgetragen werden und eine Behandlung hoher Qualität ohne Ungleichmäßigkeit der Behandlung realisiert werden. Die Dicke der Beschichtungsschicht wird zu dünn, wenn der Kontaktwinkel kleiner als der im Vorhergehenden genannte Bereich ist, und die Dicke wird zu groß, wenn der Kontaktwinkel größer als der des Bereichs ist. Eine Beschichtungsschicht mit einer ausreichenden Gleichförmigkeit und einer geeigneten Dicke kann erhalten werden, wenn der Kontaktwinkel auf den Bereich von 5°C bis 50°C eingestellt wird.
Das Behandlungslösungszufuhrmittel 122 besitzt einen Lösungszufuhrauslass 123, und der Abstand zwischen dem Behandlungslösungszufuhrauslass 123 und der Beschichtungswalze 121 beträgt 0,2 mm bis 10 mm. Eine vorgeschriebene Menge der Behandlungslösung kann über den Lösungszufuhrauslass ohne Stören des Fließens der Lösung zugeführt werden, wenn der Abstand in diesem Bereich ist. Das Fließen der Lösung auf die Beschichtungslösung wird durch den Zufuhrdruck gestört, wenn der Abstand kleiner als der im Vorhergehenden genannte Bereich ist. Wenn der Abstand größer als der im Vorhergehenden genannte Bereich ist, wird die Zufuhr der Behandlungslösung instabil und das Fließen der Lösung gestört.
Die Zufuhrmenge der Behandlungslösung von dem Lösungszufuhrauslass 123 zu der Beschichtungswalze 121 wird auf einen Bereich von 5 ml bis 100 ml pro m² eingestellt. Die Zufuhrmenge ist verknappt, wenn die Zufuhrmenge kleiner als der im Vorhergehenden genannte Bereich ist, und die Behandlungslösung wird unnötig aufgebraucht. Eine optimale Menge der Behandlungslösung kann durch Einstellen der Zufuhrmenge der Lösung auf einen Bereich von 5 ml bis 100 ml pro m² zugeführt werden.
Der Fließabstand L1 der Behandlungslösung auf die Beschichtungswalze 121, vom Auslass 123 bis zum Auftragen der Lösung auf das lichtempfindliche photographische Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial P wird auf einen Bereich von 5 mm bis 50 mm eingestellt. Auf diese Weise wird die der Beschichtungswalze 121 zugeführte Behandlungslösung derart gleichförmig gemacht, dass die Behandlungslösung auf die Bilder zeugungsoberfläche P1 des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials P gleichförmig aufgetragen werden kann. Dann kann eine Behandlung hoher Qualität ohne Ungleichmäßigkeit der Behandlung realisiert werden. Wenn der Fließabstand der Lösung auf die Beschichtungswalze 121 kleiner als der im Vorhergehenden genannte Bereich ist, wird die Behandlungslösung auf die Bilderzeugungsoberfläche P1 des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials P aufgetragen, bevor die Lösung gleichförmig war, und wenn der Fließabstand L1 kürzer als der im Vorhergehenden genannte Bereich ist, wird die Behandlungslösung durch Oxidation abgebaut.
Die Behandlungsvorrichtung ist ferner mit einem Lösungsentfernungsmittel 124 zum Entfernen der auf der Beschichtungswalze 121 nach dem Zuführen der Beschichtung verbliebenen Behandlungslösung ausgestattet. Das Lösungsentfernungsmittel 124 besteht aus einer Klinge, die mit der Beschichtungswalze in Kontakt steht, um die verbliebene Behandlungslösung zu entfernen. Daher kann ein Einmischen einer Verunreinigung in die neu aufzutragende Behandlungslösung vermieden werden.
In dem Abquetschteil 130 sind Quetschwalzen 131 im oberen und unteren Teil der Transportstrecke 103 so angeordnet, dass sie einander gegenüberliegen. Mindestens die oberen Walzen, die mit der Bilderzeugungsoberfläche P1 des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials P in Kontakt gelangen, können eine Abquetschwalze sein. In diesem Fall wird eine Transportwalze 102 als die untere Walze verwendet. Die Abquetschwalze ist im stromabwärtigen Teil des Transports des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials angeordnet und macht den auf dem lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial P zugeführten Entwickler durch Abquetschen gleichförmig.
Eine Wasser absorbierende Schwammwalze wird üblicherweise als Abquetschwalze verwendet. In der Erfindung ist jedoch eine Walze mit einer geringen Wasserabsorptionsfähigkeit bevorzugt. Als Abquetschwalze sind die folgenden bevorzugt: eine Metallwalze, eine Kunststoffwalze, eine Gummiwalze, eine Tuchwalze, eine Vliesgewebetuchwalze und eine Sinterwalze. Als Metallwalze ist eine Walze aus rostfreiem Stahl, wie SUS316L, SUS316, SUS304 und SUS303, Aluminium (Al), Titan (Ti) und Messing (Bs) bevorzugt. Als Material der Kunststoffabquetschwalze ist eines aus Polyethylenterephthalat (PET), Polyethylen (PE), einem Copolymerharz von Tetrafluorethylen/Perfluoralkoxyethylen (PFA), Polyacetal (POM), Polypropylen (PP), Polytetrafluorethylen (PTEF), Polyvinylchlorid (PVC), Phenolharz (PF), modifiziertem Polyphenylenether (PPE), modifiziertem Polyphenylenoxid (PPO), Polyurethan (PU), Polycarbonat (PC), Polyphenylensulfid (PPS), Polyfluorvinyliden (PVDF), einem Copolymerharz von Tetrafluorethylen/Hexafluorpropylen (FEP) oder einem Copolymerharz von Tetrafluorethylen/Ethylen (ETFE) bevorzugt. Als Gummiwalze ist eine Walze aus Ethylenpropylengummi (EPDM, EPM), Silicongummi (Si), Nitrylgummi oder Chloroprengummi bevorzugt. Als Tuch- und Vliesgewebetuchmaterial sind Polyolefinfasern, Polyesterfasern, Polyacrylnitrylfasern, aliphatische Polyamidfasern, aromatische Polyamidfasern oder Polyphenylensulfidfasern bevorzugt. Eine mit Teflon beschichtete Walze ist stärker bevorzugt.
Obwohl die dem Entwicklungsverfahren der in 10 und 11 angegebenen Behandlungsvorrichtung zugeführte Behandlungslösung ein Entwickler aus einer einzigen Lösung ist, besteht, wenn der Entwickler aus mindestens zwei Teillösungen, einer Teillösung, die eine Farbentwicklersubstanz enthält, und einer Teillösung, die ein alkalisches Mittel enthält, besteht, das Entwicklungsverfahren der automatischen Behandlungsvorrichtung des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials darin, wie es in der schematischen Aufbauzeichnung von 12 und 13 angegeben ist. In dieser Ausführungsform sind die zu 1 gleichen Aufbauteile in 10 durch die gleiche Zahl bezeichnet und deren Beschreibung wird weggelassen.
12 zeigt den schematischen Aufbau einer weiteren Ausführungsform, und 13 zeigt eine vergrößerte Darstellung des Beschichtungszufuhrteils. Die Behandlungsvorrichtung besitzt ein Paar von Behandlungslösungszufuhrmitteln 142 und 143, und ein Paar von Beschichtungswalzen 140 und 141 ist angeordnet. Die Teilentwicklungslösungen werden von den Zufuhrmitteln 142 und 143 auf den Walzen 140 bzw. 141 zugeführt.
Die Beschichtungswalzen 140 und 141 sind so angeordnet, dass ein Abstand L zwischen den Zufuhrpunkten eingestellt wird. Die Walzen 140 und 141 werden jeweils in Richtung des Pfeils gedreht.
Wenn die Entwicklungslösung aus zwei Lösungen, einer eine Farbentwicklersubstanz enthaltenden Teillösung und einer ein alkalisches Mittel enthaltenden Teillösung, besteht, wird eine automatische Behandlungsvorrichtung mit dem in 13 angegebenen Entwicklungsverfahren verwendet. 14 zeigt eine vergrößerte Darstellung des Beschichtungslösungszufuhrteils der Behandlungsvorrichtung, die in 13 angegeben ist. Die eine Farbentwicklersubstanz enthaltende Teillösung wird auf der Beschichtungswalze 140 durch das Behandlungslösungszufuhrmittel 142 zugeführt, und die ein alkalisches Mittel enthaltende Teillösung wird auf der Beschichtungswalze 141 durch ein weiteres Behandlungslösungszufuhrmittel 143 zugeführt. Die eine Farbentwicklersubstanz enthaltende Teillösung und die ein alkalisches Mittel enthaltende Teillösung werden in der zwischen den Beschichtungswalzen 140 und 141 gebildeten Perle 144 gemischt. Das Gemisch wird durch den Zufuhrschlitz L2 durch Drehen der Beschichtungswalzen 140 und 141 der Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials P, wie in 13 gezeigt, zugeführt. Daher kann die Behandlungsdauer verkürzt werden.
Die gemischte Lösung in der Perle fließt durch den Zufuhrauslass L2 und auf die Beschichtungswalze 141 und wird auf die Bilderzeugungsoberfläche P1 des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials P aufgetragen. Der Kontaktwinkel der Beschichtungswalze 141 zur Behandlungslösung wird auf einen Bereich von 5° bis 50° eingestellt. Infolgedessen können eine Beschichtungsschicht mit Gleichförmigkeit und geeigneter Dicke auf der Bilderzeugungsoberfläche P1 des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials P gebildet werden, da die Behandlungslösung auf der Beschichtungswalze 141 gleichförmig gemacht wurde.

Experimente wurden unter Verwendung der im Vorhergehenden genannten automatischen Behandlungsvorrichtung mit der Beschichtungswalze durchgeführt, wobei das Material der Beschichtungswalze und der Kontaktwinkel der Beschichtungswalze zur Behandlungslösung wie in Tabelle 2 gezeigt geändert wurden. Die Versuchsbedingungen und die Ergebnisse derselben sind in Tabelle 2 angegeben. Rezeptur des Farbentwicklers

Wasser	700 ml
Natriumsulfit	0,4 g
Pentanatriumdiethylentriaminpentaacetat	3,0 g
p-Toluolsulfonsäure	30,0 g
Beispielverbindung (CD-1)	15,0 g
Dinatrium-di(sulfoethyl)hydroxylamin	5,0 g
Kaliumcarbonat	40,0 g
Wasser zum Auffüllen auf	1 l

Der pH-Wert der Lösung wurde durch Schwefelsäure auf 11,5 eingestellt.
Die Behandlungsdauer betrug 15 s.
Das Bleichfixierverfahren und das Stabilisierungsverfahren wurden unter den Bedingungen des CPK-2-J1-Verfahrens von Konica Corporation unter Verwendung der Behandlungslösungen für dieses Verfahren durchgeführt. Als lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial wurde Color Paper QR-A6, hergestellt von Konica Corporation, mit einer Breite von 300 mm und einer Länge von 420 mm verwendet. Das Farbpapier wurde durch die Heizwalze erwärmt. Eine mit Teflon beschichtete Phenolharzwalze wurde als Abquetschwalze verwendet.
Die untere Walze wurde betrachtet, nachdem 1 m² des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials behandelt wurden, und der Zustand der Walze wurde gemäß der im Folgenden angegeben Norm bewertet.
Die Lösungszufuhrvorrichtung mit versetzt angeordneten mehrfachen Löchern wurde verwendet. Die Lösungszufuhrvorrichtung ist von zylindrischer Form mit einem Außendurchmesser von 20 mm, und das Loch besitzt einen Durchmesser von 0,1 mm. 1440 Löcher waren in einer Linie mit einem Abstand von 0,2 mm angeordnet. Die Zufuhrmenge der Lösung wurde auf 60 ml pro 1 m² eingestellt. Der Abstand L1 wurde durch Drehen der Lösungszufuhrvorrichtung derart, dass der Winkel der Zufuhrvorrichtung geändert wurde, und durch Ändern des Abstands L2 zwischen dem Papier und dem unteren Ende der Lösungszufuhrvorrichtung durch Variieren der Höhe der Position der Lösungszufuhrvorrichtung gesteuert. Die Lösungszufuhrvorrichtung wurde in Richtung der unteren Transportstrecke gedreht.
Die Ungleichmäßigkeit der Entwicklung wurde gemäß der folgenden Norm bewertet:

A: Es wurde keine Entwicklungsungleichmäßigkeit beobachtet.
B: Entwicklungsungleichmäßigkeit wurde etwas am Rand des Papiers beobachtet.
C: Entwicklungsungleichmäßigkeit wurde deutlich am Rand des Papiers beobachtet.
D: Entwicklungsungleichmäßigkeit wurde überall auf dem Papier beobachtet.

Flecken auf der unteren Walze wurden gemäß der folgenden Norm bewertet.

A: Es wurden keine problematischen Flecken beobachtet.
B: Ein gewisser Grad an Flecken wurde beobachtet.
C: Deutliche Flecken wurden gebildet und die Flecken hafteten am Papier.

Tabelle 2
Wie in Tabelle 2 angegeben ist, werden die Verhinderung der Entwicklung von Ungleichmäßigkeit verstärkt und Flecken auf der unteren Walze nicht gebildet, wenn der Kontaktwinkel der Beschichtungswalze mit der Behandlungslösung auf einen Bereich von 5° bis 50° eingestellt ist.
Beispiel 3
Experimente wurden gemäß Experiment 2-5 durchgeführt, wobei jedoch die erfindungsgemäßen Netzmittel wie in Tabelle 3 angegeben zu der Entwicklungslösung gegeben wurden. Die Bewertung wurde gemäß Beispiel 3 durchgeführt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 aufgelistet.
Tabelle 3
Wie in Tabelle 2 angegeben ist, werden die Verhinderung der Entwicklung von Ungleichmäßigkeit verstärkt und Flecken auf der unteren Walze nicht gebildet, wenn der Kontaktwinkel der Beschichtungswalze mit der Behandlungslösung durch die Verwendung des erfindungsgemäßen Netzmittels auf den Bereich von 5° bis 50° eingestellt wird.
Beispiel 4
Die Experimente wurden gemäß Experiment 3-5 durchgeführt, wobei jedoch die Zufuhrmenge der Behandlungslösung zur Beschichtungswalze wie in Tabelle 4 angegeben eingestellt wurde. Die Bewertung wurde gemäß Beispiel 2 durchgeführt.
Tabelle 3
Wie in Tabelle 3 angegeben ist, werden die Wirkungen der Erfindung durch Einstellen der Zufuhrmenge der Behandlungslösung auf einen Bereich von 5 ml bis 100 ml verstärkt.
Beispiel 5
Experimente wurden gemäß Experiment Nr. 2-5 in Beispiel 2 durchgeführt, wobei jedoch der Abstand zwischen dem Lösungsauslass und der Beschichtungswalze wie in Tabelle 5 angegeben eingestellt wurde. Die Ergebnisse der Experimente wurden gemäß Beispiel 2 bewertet. Der Grad der Bildung eines Niederschlags ausgehend von der Behandlungslösung um den Lö sungsauslass wurde wie im Folgenden angegeben bewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 aufgelistet.
Bewertung der Bildung eines Niederschlags um den Lösungsauslass

A: Es gab keine Flecken um den Auslass.
B: Eine geringe Menge Niederschlag wurde am Rand des Auslasses gebildet. Der Niederschlag kann durch Abwischen entfernt werden.
C: Ein Niederschlag wurde überall am Lösungsauslass gebildet.

Tabelle 5
Wie in Tabelle 5 angegeben ist, werden die Wirkungen der Erfindung durch Einstellen des Abstands zwischen dem Lösungszufuhrauslass und der Beschichtungswalze auf einen Bereich von 0,2 bis 10 mm, insbesondere auf einen Bereich von 0,2 bis 5 mm verstärkt.
Beispiel 6
Experimente wurden gemäß Experiment 2-5 durchgeführt, wobei jedoch der Fießabstand L1 der Lösung auf die Beschichtungswalze wie in Tabelle 6 angegeben eingestellt wurde. Die Bewertung wurde gemäß Beispiel 2 durchgeführt. Der Grad der Bildung eines Niederschlags auf der Beschichtungswalze wurde gemäß der folgenden Norm bewertet.
Bewertungsnorm der Bildung eines Niederschlags auf der Beschichtungswalze

A: Es wurde fast kein Niederschlag auf der Beschichtungswalze gebildet.
B: Ein gewisser Grad an Niederschlagsbildung wurde am Rand der Walze beobachtet.
C: Die Bildung eines Niederschlags wurde überall auf der Beschichtungswalze beobachtet.

Tabelle 6
Wie in Tabelle 6 angegeben ist, werden die Wirkungen der Erfindung durch Einstellen von L1 auf einen Bereich von 5 bis 50 mm verstärkt.

Claims

Verfahren zur Behandlung eines lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials (P), das die folgenden Stufen umfasst: Befördern des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials, das eine Bilderzeugungsoberfläche umfasst, in einer Behandlungsvorrichtung (40); und Applizieren einer photographischen Behandlungslösung auf die Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials in einer Menge von 5 ml bis 100 ml pro m² des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials, wobei die photographische Behandlungslösung eine Entwicklersubstanz, eine alkalische Komponente, ein Solubilisierungsmittel für die Entwicklersubstanz, ein Konservierungsmittel und eine Verbindung der Formel I enthält, wobei die Verbindung der Formel I in der photographischen Behandlungslösung in einer so ausreichenden Menge enthalten ist, dass der Kontaktwinkel der Behandlungslösung zur Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials nicht mehr als 45° beträgt; Formel I Rf( -X) - _m ( -Y) - _nA worin Rf für eine gesättigte oder ungesättigte Alkylgruppe mit mindestens einem Fluoratom steht und X eine Sulfonamidogruppe,
oder
bedeutet und Y eine Alkylenoxidgruppe bedeutet; Rf' für eine gesättigte oder ungesättigte Alkylgruppe mit mindestens einem Fluoratom steht; A für eine hydrophile Gruppe, wie -SO₃M, -OSO₃M, -COOM, -OPO₃(M₁)(M₂) und -PO₃(M₁)(M₂) steht, wobei M, M₁ und M₂ jeweils H, Li, K, Na oder NH₄ sind; m für 0 oder 1 steht, und n für 0 oder eine ganze Zahl von 1 bis 10 steht.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Behandlungslösung eine erste Teillösung, die eine Entwicklersubstanz enthält, und eine zweite Teillösung, die ein alkalisches Mittel enthält, umfasst.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Behandlungslösung einen Kontaktwinkel zu dem photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial von 20° bis 40° aufweist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Behandlungslösung der Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials in einer Menge von 15 ml bis 50 ml pro m² des lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zugeführt wird.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das lichtempfindliche photographische Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial vor dem Applizieren der Behandlungslösung auf eine Temperatur von nicht weniger als 40°C erhitzt wird.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Behandlungsvorrichtung Behandlungslösungszufuhrmittel (41–45) umfasst, die Auftragmittel zum Auftragen der Behandlungslösung auf die Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials umfassen.
Verfahren nach Anspruch 6, wobei die Auftragmittel einen Auftragkopf (42, 45) umfassen.
Verfahren nach Anspruch 7, wobei der Auftragkopf die Behandlungslösung der Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials über die Gasphase zuführt.
Verfahren nach Anspruch 8, wobei der Auftragkopf ein Tintenstrahlkopf ist.
Verfahren nach Anspruch 6, wobei das Auftragmittel eine Walzenauftragvorrichtung mit einer Auftragwalze umfasst und das Behandlungslösungszufuhrmittel einen Behandlungslösungsauslass zum Zuführen der Behandlungslösung zu der Auftragwalze umfasst.
Verfahren nach Anspruch 10, wobei die Behandlungslösung einen Kontaktwinkel zur Oberfläche der Auftragwalze von 5° bis 50° aufweist.
Verfahren nach Anspruch 10, wobei die Auftragwalze ein hydrophiles Material auf der Oberfläche derselben umfasst.
Verfahren nach Anspruch 10, wobei der Abstand vom Auslass des Behandlungszufuhrmittels zur Auftragwalze 0,2 mm bis 10 mm beträgt.
Verfahren nach Anspruch 10, wobei der Fließabstand der Behandlungslösung vom Auslass des Behandlungslösungszufuhrmittels zur Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials 5 mm bis 50 mm beträgt.
Verfahren nach Anspruch 10, wobei die Auftragwalze mit der Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials nicht in direktem Kontakt ist.
Verfahren nach Anspruch 15, wobei eine Perle der Behandlungslösung zwischen der Auftragwalze und der Bilderzeugungsoberfläche des lichtempfindlichen photographischen Silberhalogenidaufzeichnungsmaterials gebildet ist.
Verfahren nach Anspruch 10, wobei das Auftragmittel ferner ein Behandlungslösungsentfernungsmittel zum Entfernen der auf der Auftragwalze verbleibenden Behandlungslösung umfasst.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das lichtempfindliche photographische Silberhalogenidaufzeichnungsmaterial weiteren Behandlungsstufen unterzogen wird, und wobei die weiteren Behandlungsstufen innerhalb einer Zeitspanne von nicht mehr als 20 s nach dem Applizieren der Behandlungslösung beginnen.