DE2746519A1 - Drehbeschichtungsverfahren - Google Patents

Drehbeschichtungsverfahren

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DE2746519A1
DE2746519A1 DE19772746519 DE2746519A DE2746519A1 DE 2746519 A1 DE2746519 A1 DE 2746519A1 DE 19772746519 DE19772746519 DE 19772746519 DE 2746519 A DE2746519 A DE 2746519A DE 2746519 A1 DE2746519 A1 DE 2746519A1
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DE
Germany
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base plate
coating
nozzles
plate
spin coating
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DE19772746519
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English (en)
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Itsuo Fujii
Shinichi Sakawaki
Masamichi Sato
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/40Distributing applied liquids or other fluent materials by members moving relatively to surface
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Description

  • Drehbeschichtungsverfahren
  • Die Erfindung betrifft ein Drehbeschichtungsverfahren, und insbesondere ein Drehbeschichtungsverfahren zur Herstellung einer flüssigen Beschichtung mit gleichmäßiger Dicke über der gesamten Oberfläche einer Basisplatte bzw. eines Substrats.
  • Bei der Herstellung von Halbleiteranordnungen ist bisher ein Dreh- bzw. Spinn- bzw. Schleuderbeschichtungsverfahren eingesetzt worden, um den Photoresist bzw. Photolack auf eine Basisplatte aufzubringen. Die Basisplatte kann beispielsweise ein Photomasken-Rohling, ein Silizium-Scheibchen oder ein ähnliches Element sein, das eine Glasplatte mit einem Metallfilm bzw.
  • einer Metallfolie aufweist. Es sind sowohl ein manuelles Beschichtungsverfahren für die Beschichtung von Photolack-Beschichtungsflüssigkeiten als auch ein automatisches Beschichtungsverfahren mittels einer automatischen Maschine zur Beschichtung mit Photolack entwickelt worden. Bei dem manuellen Beschichtungsverfahren wird die Basisplatte auf einem Drehteller einer angehaltenen, sehr schnell drehbaren "Spinneinrichtung" angeordnet; die Beschichtungsflüssigkeiten werden von Hand, beispielsweise ST!- tPipette, aufgenommen; die Flüssigkeiten werden dann auf einen Bereich der Basisplatte abgelagert, der sich im wesentlichen in ihrer Mitte befindet, und anschließend wird der Drehteller in Umdrehungen versetzt.
  • Wenn die Beschichtungsflüssigkeiten aus der Pipette auf die Basisplatte fallen, werden sie nur auf den zentralen Bereich verteilt. Nachdem also die Beschichtungsflüssigkeiten von der Pipette dem zentralen Bereich der Basisplatte zugeführt worden sind, wird der Drehteller mit geringer Geschwindigkeit bzw.
  • Drehzahl gedreht, um die Beschichtungsflüssigkeiten über die gesamte Oberfläche der Basisplatte unter der Einwirkung von Zentrifugalkräften zu verteilen; anschließend wird der Drehteller mit hoher Drehzahl gedreht, um zusätzliche bzw. Extra-Flüssigkeiten zu verteilen, wodurch sich die gewünschte Filmdicke ergibt.
  • Bei einer automatischen Beschichtungsmaschine ist über dem Drehteller eine Düse bzw. eine Auslaßöffnung angeordnet, um die Beschichtungsflüssigkeiten zuzuführen. Wenn die Basisplatte sich auf dem Drehteller befindet, so wird eine bestimmte Menge der Beschichtungsflüssigkeiten einem mittleren Bereich der Basisplatte zugeführt. Anschließend wird der Drehteller mit einer niedrigen Drehzahl gedreht, so daß die Beschichtungsflüssigkeiten über die gesamte Oberfläche der Basisplatte verteilt werden. Dann wird der Drehteller mit hoher Drehzahl gedreht, um eine Filmbeschichtung mit der gewünschten Dicke zu erhalten.
  • Wenn die Basisplatte nur eine geringe Größe hat (beispielsweise von 7,5 bis 10 cm) und/oder bestimmte Arten von Photolack-Beschichtungsflüssigkeiten eingesetzt werden, so reichen die obenerwähnten Verfahren aus. Wenn jedoch die Basisplatte relativ groß ist, beispielsweise 12,5 cm und 15 cm, oder wenn bestimmte andere Arten von Beschichtungsflüssigkeiten verwendet werden, so läßt sich mit den obenbeschriebenen Verfahren sogar für kleinere Basispiatten keine Beschichtung mit gleichmäßiger Dicke über der gesamten Oberfläche erreichen. Wenn beispielsweise die Beschichtungsflüssigkeiten Silberhalogenid-Emulsionen sind, für die als Bindemittel Gelatine verwendet wird, oder wenn das Beschichtungs-Lösemittel rasch trocknet, wie es beispielsweise bei Azeton der Fall ist, so ergeben sich folgende Schwierigkeiten: Sogar dann, wenn die Beschichtungsflüssigkeiten dem zentralen Bereich von der Düse zugeführt werden, wobei der Drehteller zuerst mit niedriger Drehzahl gedreht wird, um die Beschichtungsflüssigkeiten über die gesamte Oberfläche zu verteilen, und anschließend der Drehteller gedreht wird, um die gewünschte Filmdicke zu erreichen, so tritt ein Effekt auf, bei dem die Filmdicke eines Teils, auf den die Beschichtungsflüssigkeiten zuerst aufgebracht werden (insbesondere die Filmdicke in einem Grenzbereich in diesem Bereich) sich eindeutig von der Filmdicke eines Bereiches unterscheidet, auf dem die Verteilung durch Drehung des Drehtellers erfolgt. Dieser Effekt macht sich dann besonders stark bemerkbar, wenn Silberhalogenid-Emulsionen als Schicht auf die Basisplatte aufgebracht werden.
  • Wenn die Filmdicke nach der Beschichtung teilweise unterschiedlich ist, wie es oben beschrieben wurde, so sind die Empfindlichkeit und die Entwicklungsgeschwindigkeit in den verschiedenen Bereichen jeweils unterschiedlich, so daß als Folge hiervon die Linien- bzw. Zeilenbreite bzw. Linienstärke der erhaltenen Abbildung teilweise unterschiedlich ist. So schwankt beispielsweise die Charakteristik bzw. Kennlinie, die durch Ausbildung einer Halbleiteranordnung unter Verwendung der erhaltenen Abbildung erreicht wird.
  • Es ist deshalb ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Drehbeschichtungsverfahren zu schaffen, bei dem unabhängig von der Art der verwendeten Beschichtungsflüssigkeiten die Dicke des als Schicht aufgebrachten Films über die gesamte Oberfläche der Basisplatte gleichmäßig ist.
  • Weiterhin soll ein Drehbeschichtungsverfahren geschaffen werden, mit dem Flüssigkeiten in gleichmäßiger Dicke auf größere Basisplatten als es bisher möglich war aufgebracht werden können.
  • Dies wird durch ein Drehbeschichtungsverfahren erreicht, bei dem die Beschichtungsflüssigkeiten einer horizontalen Basisplatte zugeführt werden, wonach die Basisplatte um eine vertikale Drehachse rotiert wird, um einen Film aus der Beschichtungsflüssigkeit auf der Basisplatte zu erhalten, wobei sich dieses Verfahren dadurch auszeichnet, daß die Beschichtungsflüssigkeiten vorher im wesentlichen gleichmäßig auf im wesentlichen der gesamten Oberfläche der Basisplatte als Schicht aufgebracht werden, und daß die Basisplatte dann gedreht wird.
  • Ein bevorzugter Gedanke liegt in einem Drehbeschichtungsverfahren zur Zuführung von Beschichtungsflüssigkeiten auf eine horizontale Basisplatte, wonach die Basisplatte um eine vertikale Drehachse rotiert wird, um eine Filmbeschichtung auf der Basisr)latte zu erhalten. Die Beschichtungsflüssigkeiten werden im wesentlichen gleichmäßig auf im wesentlichen der gesamten Oberfläche der Basisplatte vorbeschichtet, wonach die Basisplatte gedreht wird. Dadurch läßt sich eine gleichmäßige Dicke des aufgebrachten Films unabhängig von der Art der verwendeten Beschichtungsflüssigkeiten erreichen.
  • Die Erfindung wird im folgenden an Hand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die beiliegenden, schematischen Zeichnungen näher erläutert.
  • Es zeigen: Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines herkömmlichen Drehbeschichtungsverfahrens, Fig. 2 eine Draufsicht auf den Zustand, bei dem Gelatin-Silberhalogenid-Emulsionen mit dem in Figur 1 gezeigten Verfahren aufgebracht werden, Figuren 3 bis 6 perspektivische Ansichten oder Draufsichten auf das Verfahren, wie es gemäß verschiedener Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung durchgeführt werden kann.
  • Figur 1 zeigt ein herkömmliches Drehbeschichtungsverfahren.
  • Wenn eine Basisplatte 10 auf einem Drehteller (nicht dargestellt) angeordnet wird, so können die Beschichtungsflüssigkeiten von einer Düse 11 über den mittleren Bereich der Basisplatte nach unten auf die Basisplatte tropfen; die Beschichtungsflüssigkeiten werden über dem zentralen Bereich 12 der Basisplatte verteilt, so daß eine Grenze 13 entsteht. Wenn dann der Drehzähler mit niedriger Drehzahl rotiert wird (normalerweise mit 100 bis 1000 Umdrehungen pro Minute), werden die Beschichtungsflüssigkeiten durch die Zentrifugalkräfte nach außen verstreut bzw. verteilt und bedecken die gesamte Oberfläche der Basisplatte. Wenn anschließend der Drehteller eine vorher bestimmte Zeitspanne lang mit hoher Drehzahl (normalerweise bei 2000 bis 6000 Umdrehungen pro Minute) rotiert wird, werden die überschüssigen bzw. Extra-BeschichtungsflüssicJkeiten durch die ZentrifugalkrdLtn entfernt, so daß sich ein Film mit der gewünschten, gleichmäßigen Dicke ergibt. Die meisten Photolack-Beschichtungsflüssigkeiten können im wesentlichen gleichmäßig mit diesem Verfahren als dünne Schicht aufgebracht werden, Schwierigkeiten treten mit diesem Verfahren auf, wenn bestimmte Arten von Photolack-Beschichtungsflüssigkeiten aufgebracht werden sollen, dabei handelt es sich beispielsweise um Flüssigkeiten, bei denen ein rasch trocknendes Lösungsmittel, wie beispielsweise Azeton, als Beschichtungs-Lösemittel verwendet wird, oder bei denen Gelatin-Silberhalogenid-Emulsionen eingesetzt werden, mit diesen Beschichtungsflüssigkeiten läßt sich keine Beschichtung mit gleichmäßiger Dicke über die gesamte Oberfläche erreichen. Wenn beispielsweise der Drehteller mit niedriger Drehzahl rotiert wird, nachdem die Gelatin-Silberhalogenid-Emulsionen zugeführt worden sind, wie es in Figur 1 dargestellt ist, werden die Emulsionen auf der Basisplatte nicht gleichmäßig nach außen verteilt, sondern sie spreizen sich längs mehrerer, radialer Durchgänge 20 nach außen, wie in Figur 2 dargestellt ist. Als Folge hiervon werden die Emulsionen als dünne Schicht nicht auf die Bereiche der Basisplatte aufgebracht, an denen sich keine radialen Durchgänge 20 befinden. Es wird angenommen, daß dieser Effekt auf die schlechte Benetzung bzw. Befeuchtung der Silberhalogenid-Emulsionen auf der Basisplatte zurückzuführen ist. Da andererseits viele Photolack-Beschichtungsflüssigkeiten in einem organischen Beschichtungslösemittel gelöst sind, ist die Basisplatte aufgrund solcher organischer Lösungsmittel gut befeuchtet bzw. benetzt, so daß dieser Effekt im allgemeinen nicht auftritt.Wenn jedoch das Beschichtungslösungsmittel extrem flüchtig ist, erscheinen die Markierungen bzw. Marken der Grenze 13 nach Figur 1 oft auf dem Film nach der Beschichtung.
  • Es sind deshalb zahlreiche Untersuchungen durchgeführt worden, um die obenerwähnten Nachteile zu vermeiden; das Ergebnis dieser Untersuchungen ist ein Verfahren, wie es im folgenden beschrieben werden soll.
  • Figur 3 zeigt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, bei der eine Beschichtungsflüssigkeit von der Düse 11 auf Bereiche aufgebracht wird, die sich direkt über oder unmittelbar vor oder unmittelbar hinter einer Stange 30 befinden, während die Stange mit einer bestimmten Geschwindigkeit bewegt und ein vorherbestimmter, kleiner Zwischenraum zwischen der Stange 30 und der Basisplatte 10 aufrechterhalten wird. Die Beschichtungsflüssigkeit wird rasch (bei 31) in dem Zwischenraum zwischen der Stange und der Oberfläche der Basisplatte durch die Oberflächenspannung verteilt; wenn also die Düse und die Stange mit einer bestimmten Geschwindigkeit in Richtung des Pfeils 32 bewegt werden, so wird die Beschichtungsflüssigkeit auf die gesamte Oberfläche der Basisplatte aufgebracht. Da in diesem Zustand die Beschichtungsflüssigkeit keine gleichmäßige Dicke über die gesamte Oberfläche der Basisplatte hat, wird der Drehteller rotiert, um die überschüssige Flüssigkeit zu entfernen und gleichzeitig eine gleichmäßige Dicke über die gesamte Oberfläche zu erhalten.
  • Figur 4 zeigt eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die für eine automatische Vorrichtung geeignet ist.
  • Ein Block 40 weist viele Düsen 41 auf, die in einer Reihe mit vorherbestimmten Abständen angeordnet sind. Wenn die Beschichtungsflüssigkeit aus diesen Düsen in der Weise zugeführt werden, daß die Reihe von Düsen zuerst über das Ende der Basisplatte 10 eingestellt wird, so werden die Beschichtungsflüssigkeiten der Basisplatte bei 42 zugeführt. Die von jeder Düse abgegebene Flüssigkeit wird in gewissem Maße verteilt und trifft auf die Flüssigkeit, die von einer benachbarten Düse zugeführt wird. Als Folge hiervon werden die Flüssigkeiten über den gesamten Bereich zugeführt, der sich unter der Reihe von Düsen befindet. Wenn also der Block 40 mit einer bestimmten Geschwindigkeit in der Richtung des Pfeils 43 bewegt wird, so können die Flüssigkeiten über der gesamten Oberfläche der Basisplatte zugeführt werden. Selbstverständlich läßt sich die gleiche Wirkung auch erreichen, wenn die Basisplatte mit einer bestimmten Geschwindigkeit in eine Richtung bewegt wird, die entgcq2nyeJetze zu deut Pfil 43 ist, wobei dc- Block 40 staXisnir bleibt.
  • Der Abstand zwischen den Düsen ändert sich mit der Art der verwendeten Beschichtungsflüssigkeiten1 der Menge der zugeführten Flüssigkeiten und anderen Faktoren; er liegt jedoch üblicherweise im Bereich von ungefähr 5 bis ungefähr 30 mm, nach einer bevorzugten Ausführungsform von ungefähr 10 bis 20 mm. Für die Bewegungsgeschwindigkeit der Düsen, den Abstand zwischen den Düsenspitzen und der Basisplatte oder ähnliche Parameter gibt es keine speziellen Grenzwerte.
  • Figur 5 zeigt eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Über der Basisplatte 10 sind Düsen 50 in einer zweidimensionalen Gruppe mit im wesentlichen jeweils gleichen Abständen angeordnet. Dadurch ist es nicht mehr erforderlich, daß die Düsen oder die Basisplatte mit einer bestimmten Geschwindigkeit bewegt werden müssen, wie es bei der Ausführungsform nach Figur 4 der Fall war. Der Abstand der Düsen wird in ähnlicher Weise wie bei der Ausführungsform nach Figur 4 ausgewählt.
  • Figur 6 zeigt eine weitere Ausführungsfor,n der vorliegenden Erfindung. Über der Basisplatte 10 ist wenigstens eine Düse 60 angeordnet. Die Düse wird zuerst über einer Ecke der Basisplatte eingestellt und längs der durch den Pfeil angedeuteten Schlangenlinien 62 bewegt, während die Beschichtungsflüssigkeit zugeführt wird. Auf der Basisplatte werden unter der Düse Beschichtungsflüssigkeiten in einem begrenzten Bereich (bei 61) zugeführt, und dieser Bereich breitet sich aus bzw. verteilt sich bei der Bewegung der Düse, so daß schließlich die gesamte Oberfläche durch die Beschichtungsflüssigkeit bedeckt werden kann.
  • Es ist möglich, eine Kombination der in Figur 3 gezeigten Vorrichtung und der in den Figuren 4 und 6 gezeigten Vorrichtung als eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung anzusehen. Dabei wird eine Beschichtungsflüssigkeit über der Basisplatte 10 von den in den Figuren 4 oder 6 gezeigten Düsen längs einer Stange 30 vorgesehen bzw. zugeführt, wie sie in Figur 3 dargestellt ist; anschließend wird die Stange auf der Basisplatte bewegt, um die Vorbeschichtung der Beschichtungsflüssigkeit auf im wesentlichen der gesamten Oberfläche der Basisplatte durchzuführen.
  • Um eine im wesentlichen gleichmäßige Beschichtung der Beschichtungsflüssigkeit auf im wesentlichen der gesamten Oberfläche der Basisplatte vor der Rotation der Basisplatte zu erreichen, können bei einer praktischen Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens auch andere Beschichtungsverfahren eingesetzt werden, so daß keine Begrenzung auf die obenerwähnten Ausführungsformen angestrebt wird. Wie oben im einzelnen beschrieben wurde, ermöglicht die vorliegende Erfindung die Verwendung jeder beliebigen Beschichtungsflüssigkeit, so daß sich immer eine gleichmäßige Filmdicke über der gesamten Oberfläche der Basisplatte erreichen läßt. Darüber hinaus kann eine Beschichtung mit gleichmäßiger Dicke auf größere Basisplatten aufgebracht werden als es mit den herkömmlichen Verfahren möglich war. Insbesondere in den Fällen, bei denen die Beschichtungsflüssigkeiten Gelatin-Silberhalogenid-Emulsionen sind, bietet die vorliegende Erfindung den wesentlichen Vorteil, daß eine gleichmäßige Beschichtung erreicht werden kann, ohne daß sich die schwerwiegenden Nachteile bemerkbar machen, wonach die Emulsionen längs der radialen Durchgänge auf der Basisplatte nach außen gespreizt bzw. verteilt werden.
  • - Patentansprüche -

Claims (8)

  1. Patentansprüche ,. Drehbeschichtungsverfahren zur Zuführung einer Beschichtungsflüssigkeit auf eine horizontale Basisplatte, wonach die Basisplatte um eine vertikale Drehachse rotiert wIrd, um eine Filmbeschichtung auf der Basisplatte zu erhalten, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Beschichtungsflüssigkeit im wesentlichen gleichmäßig vorher als Schicht auf im wesentlichen die gesamte Oberfläche der Basisplatte aufgebracht wird, und daß die Basisplatte (10) dann gedreht wird.
  2. 2. Drehbeschichtungsverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorbeschichtung manuell durchgeführt wird, indem die Beschichtungsflüssigkeit von einer Düse (11) in der unmittelbaren Nähe einer Stange (30) zugeführt wird, während die Stange (30) mit einer bestimmten Geschwindigkeit bewegt und ein vorherbestimmter, kleiner Zwischenraum zwischen der Stange (30) und der Basisplatte (10) aufrechterhalten wird.
  3. 3. Drehbeschichtungsverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorbeschichtung automatisch durchgeführt wird, indem die Beschichtungsflüssigkeit durch eine Gruppe von Düsen (41, 50) zugeführt wird, die über der Basisplatte (10) positicniert sind.
  4. 4. Drehbeschichtungsverfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Gruppe eine lineare Gruppe ist, und daß die Vorbeschichtung durchgeführt wird, indem die Gruppe und die Basisplatte (10) relativ zueinander in eine Richtung bewegt werden, die senkrecht zu der Gruppe ist.
  5. 5. Drehbeschichtungsverfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen den Düsen (41) im Bereich von ungefähr 5 bis 30 mm liegt.
  6. 6. Drehbeschichtungsverfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Gruppe eine zweidimensionale, mit der Basisplatte ausgerichtete Gruppe ist, wobei der Abstand zwischen den Düsen (50) im Bereich von ungefähr 5 bis ungefähr 30 mm liegt.
  7. 7. Drehbeschichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorbeschichtung durchgeführt wird, indem die Beschichtungsflüssigkeit von einer Düse zugeführt wird, während die Düse und die Basisplatte (10) relativ zueinander so bewegt werden, daß die Düse (60) einer vorherbestimmten Bahn über die Basisplatte (10) folgt.
  8. 8. Drehbeschichtungsverfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die vorherbestimmte Bahn eine schlangenlinienförmige Bahn (62) ist.
DE19772746519 1976-10-18 1977-10-17 Drehbeschichtungsverfahren Withdrawn DE2746519A1 (de)

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