DE60105978T2 - Lichtverstärktes glas und verfahren zu dessen herstellung - Google Patents

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisch verstärkendes Glas. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung ein optisch verstärkendes Breitband-Glas, das in einem Wellenlängenbereich von 1,55 bis 1,65 μm eingesetzt werden kann.
  • Für die Zwecke einer Anwendung im optischen Kommunikationsbereich wurde ein Erdotierter Lichtle tfaserverstärker (EDFA) erforscht und entwickelt, bei dem eine Lichtleitfaser, bei der Er (Erbium) in den Kern dotiert ist, als optisch verstärkendes Medium verwendet wird, und die Anwendung auf ein optisches Kommunikationssystem wird aktiv vorangetrieben. Um andererseits mit der zukünftig zu erwartenden Diversifizierung von Kommunikationsdienstleistungen Schritt halten zu können, wurde ein Wellenlängen-Multiplexkommunikationssystem (WDM) vorgeschlagen, um die Übertragungskapazität zu erhöhen. Die Übertragungskapazität wird mit zunehmender Anzahl der Wellenlängen-Multiplexkanäle zunehmen. Die Anwendung eines EDFA auf ein solches Wellenlängen-Multiplex-Kommunikationssystem wird ebenfalls untersucht. Als gegenwärtig vorgeschlagener EDFA ist eine Er-dotierte Faser des Quarz-Typs oder eine Er-dotierte Fluoridfaser bekannt.
  • Im Fall der bekannten Er-dotierten Faser des Quarz-Typs ist jedoch die Wellenlängenabhängigkeit der Verstärkung schart abgegrenzt und die Wellenlängenbreite, bei der eine angemessene Verstärkung erhalten werden kann, ist auf einem Niveau von 10 bis 30 nm eng. Als Ergebnis ist die Anzahl der Wellenlängen-Multiplexkanäle auf ein Niveau von 30 bis 40 Kanälen beschränkt, so lange ein herkömmlicher EDFA verwendet wird.
  • Wenn ein EDFA, der innerhalb eines breiteren Wellenlängenbereichs eine gleichmäßige Verstärkung zeigt, realisiert werden kann, kann die Nutzsignalwellenlänge verbreitert werden und es kann eine wesentliche Verbesserung der Übertragungskapazität erwartet werden. Folglich ist die Realisierung eines solchen EDFA erwünscht.
  • Zur Lösung dieses Problems wurde ein optischer Verstärker vorgeschlagen, der in einem breiten Wellenlängenbereich verwendet werden kann, und zwar durch Anordnen von Verstärkern, die sich in ihren Verstärkungscharakteristika bezüglich der Wellenlänge unterscheiden, in Reihe oder parallel. Es gab jedoch Probleme dahingehend, dass eine Tendenz zu einer komplexen Struktur besteht und dass es einen Bereich gibt, bei dem in der Nähe der Mitte des Wellenlängenbereichs keine Verstärkung möglich ist. Ferner schlägt die JP-A-8-110535 ein Glas des Telluritoxid-Typs als Glas vor, das eine Breitbandverstärkung ermög licht. Das Glas des Tellurit-Typs weist jedoch gewöhnlich einen niedrigen Glasübergangspunkt auf und ist thermisch instabil. Zur Verbesserung der Verstärkung eines optischen Verstärkers ist es erforderlich, einen Anregungslaserstrahl mit hoher Intensität in das Glas einzuführen, wodurch es wahrscheinlich ist, dass durch den Laserstrahl mit hoher Intensität thermische Beschädigungen verursacht werden.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die vorstehend genannten Probleme zu lösen und ein optisch verstärkendes Glas bereitzustellen, das einen hohen Glasübergangspunkt und eine große Wellenlängenbreite aufweist, in welcher die Verstärkung erhältlich ist.
  • Die vorliegende Erfindung stellt ein optisch verstärkendes Glas bereit, das eine Glasmatrix mit Er-Dotierung in einer Menge von 0,01 bis 10 %, dargestellt durch Massenprozent, umfasst, wobei die Glasmatrix, dargestellt durch Mol-% auf Basis der folgenden Oxide, im Wesentlichen aus
    Bi2O3 20 bis 80,
    B2O3 0 bis 75,
    SiO2 0 bis 75,
    Al2O3 0 bis 10,
    Ga2O3 0 bis 30,
    WO3 0 bis 30,
    TeO2 0 bis 30,
    GeO2 0 bis 30,
    TiO2 0 bis 30,
    SnO2 0 bis 30,
    besteht, wobei die Gesamtgehalte von B2O3 und SiO2 von 5 bis 75 Mol-% betragen und die Gesamtgehalte von Ga2O3, WO3 und TeO2 von 0,1 bis 35 Mol-% betragen, und wobei im Wesentlichen kein CeO2 enthalten ist (erste Ausführungsform).
  • Ferner stellt die vorliegende Erfindung ein optisch verstärkendes Glas bereit, bei dem die Glasmatrix, dargestellt durch Mol-% auf Basis der folgenden Oxide, im Wesentlichen aus:
    Bi2O3 30 bis 60,
    B2O3 0 bis 40,
    SiO2 10 bis 40,
    Al2O3 0 bis 10,
    Ga2O3 0 bis 25,
    WO3 0 bis 10,
    TeO2 0 bis 20,
    GeO2 0 bis 10,
    TiO2 0 bis 10,
    SnO2 0 bis 10,
    besteht, wobei die Gesamtgehalte von B2O3 und SiO2 von 10 bis 55 Mol-% betragen, die Gesamtgehalte von Ga2O3, WO3 und TeO2 von 5 bis 35 Mol-% betragen und die Gesamtgehalte von SiO2 und TeO2 von 10 bis 45 Mol-% betragen, und wobei im Wesentlichen kein CeO2 enthalten ist (zweite Ausführungsform).
  • Ferner stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines optisch verstärkenden Glases bereit, welches ein Verfahren zur Herstellung des optisch verstärkenden Glases der zweiten Ausführungsform ist, durch Schmelzen von Rohstoffen, wobei die Temperatur zum Schmelzen der Rohstoffe für das optisch verstärkende Glas höchstens 1200°C beträgt.
  • Die 1 ist ein Graph, der die Durchlässigkeitskurven von Gläsern in den Beispielen 10 und 11 zeigt. Die 2 ist ein Graph, der die Absorptionskoeffizientenkurven von Gläsern in den Beispielen 10 und 11 zeigt.
  • Das erfindungsgemäße optisch verstärkende Glas wird gewöhnlich in Form einer Faser verwendet.
  • In dem erfindungsgemäßen optisch verstärkenden Glas ist Er in einer Menge von 0,01 bis 10 %, dargestellt durch Massenprozent, in das Matrixglas dotiert. Dabei wird das Matrixglas als 100 % betrachtet. Ferner wird das Matrixglas in dem erfindungsgemäßen optisch verstärkenden Glas nachstehend einfach als Matrixglas der vorliegenden Erfindung bezeichnet.
  • Wenn die vorstehend genannte Menge an dotiertem Er weniger als 0,01 % beträgt, kann die gewünschte optische Verstärkung nicht erreicht werden. Vorzugsweise beträgt die Er-Menge mindestens 0,1 %, mehr bevorzugt mindestens 0,3 %. Wenn die Er-Menge 10 % übersteigt, findet ein optisches Löschphänomen durch die Konzentration statt, wodurch die optische Verstärkung abnimmt. Die Er-Menge beträgt höchstens 8 %, mehr bevorzugt höchstens 5 %, besonders bevorzugt höchstens 4 %. Ferner ist es in einem Fall, bei dem das erfindungsgemäße optisch verstärkende Glas als Faser geformt verwendet wird, bevorzugt, die Menge des zu dotierenden Er abhängig von der Faserlänge einzustellen. Insbesondere ist es bevorzugt, die Menge in einem Fall, bei dem die Faser lang ist, klein einzustellen, oder die Menge in einem Fall, bei dem die Faser kurz ist, groß einzustellen.
  • Der Glasübergangspunkt des erfindungsgemäßen optisch verstärkenden Glases beträgt vorzugsweise mindestens 360°C. Wenn der Glasübergangspunkt unter 360°C liegt, besteht die Tendenz, dass das Glas thermisch beschädigt wird, wenn die Temperatur durch die Verwendung eines Laserstrahls mit hoher Intensität als Anregungsstrahl lokal hoch wird, wodurch die gewünschte optische Verstärkung nicht erhalten werden kann. Der Glasübergangspunkt beträgt mehr bevorzugt mindestens 380°C, besonders bevorzugt mindestens 400°C.
  • Nachstehend wird die Zusammensetzung der Glasmatrix beschrieben, wobei Mol-% einfach als % angegeben werden.
  • Bi2O3 ist eine essentielle Komponente. Wenn die Bi2O3-Menge weniger als 20 % beträgt, besteht eine Tendenz dahingehend, dass die Wellenlängenbreite Δλ, bei der die Verstärkung erhältlich ist, klein ist. Die Bi2O3-Menge beträgt vorzugsweise mindestens 30 %, mehr bevorzugt mindestens 40 %. Wenn die Bi2O3-Menge 80 % übersteigt, kann eine Vitrifikation schwierig sein oder während der Verarbeitung zu einer Faser findet eine Devitrifikation statt, oder es besteht eine Tendenz dahingehend, dass der Glasübergangspunkt einen niedrigen Wert aufweist. Die Bi2O3-Menge beträgt vorzugsweise höchstens 70 %, mehr bevorzugt höchstens 60 %. Dabei bedeutet Devitrifikation eine wesentliche Kristallabscheidung, die während der Verarbeitung der Faser zu einem Faserbruch führt oder ein Reißen der Faser mit sich bringt, wenn sie als optisch verstärkende Glasfaser verwendet wird.
  • B2O3 und SiO2 sind Netzwerkbildner und mindestens eines davon muss enthalten sein, um die Glasbildung durch Unterdrücken einer Kristallabscheidung während der Glasherstellung zu unterdrücken. Wenn ihr Gesamtgehalt weniger als 5 % beträgt, kann die Vitrifikation schwierig sein oder es besteht eine Tendenz dahingehend, dass die optische Verstärkung unzureichend ist, oder es ist wahrscheinlich, dass während der Verarbeitung zu einer Faser eine Devitrifikation stattfindet. Der Gesamtgehalt beträgt mehr bevorzugt mindestens 10 %, besonders bevorzugt mindestens 15 %, ganz besonders bevorzugt mindestens 19 %. Wenn der Gesamtgehalt 75 % übersteigt, neigt die optische Verstärkung dazu, unzureichend zu sein. Der Gesamtgehalt beträgt vorzugsweise höchstens 55 %, besonders bevorzugt höchstens 49 %.
  • Der B2O3-Gehalt darf höchstens 75 %, vorzugsweise höchstens 50 %, mehr bevorzugt höchstens 40 %, besonders bevorzugt höchstens 30 % betragen. Wenn B2O3 enthalten ist, beträgt dessen Gehalt vorzugsweise mindestens 1 %.
  • Der SiO2-Gehalt darf höchstens 75 %, vorzugsweise höchstens 50 %, mehr bevorzugt höchstens 40 % betragen. Wenn B2O3 enthalten ist, beträgt dessen Gehalt vorzugsweise mindestens 1 %. Der SiO2-Gehalt beträgt mehr bevorzugt mindestens 10 %, besonders bevorzugt mindestens 19 %.
  • Al2O3 ist nicht essentiell, kann jedoch in einer Menge bis zu 10 % enthalten sein, um die Glasbildung durch die Unterdrückung der Kristallabscheidung während der Glasherstellung zu erleichtern. Wenn der Al2O3-Gehalt 10 % übersteigt, besteht eine Tendenz dahingehend, dass die optische Verstärkung abnimmt. Der Al2O3-Gehalt beträgt mehr bevorzugt höchstens 9 %, besonders bevorzugt höchstens 8 %, insbesondere höchstens 7 %. Wenn Al2O3 enthalten ist, beträgt dessen Gehalt vorzugsweise mindestens 0,1 %. Der Al2O3-Gehalt beträgt mehr bevorzugt mindestens 1 %.
  • Ga2O3, WO3 und TeO2 sind Komponenten, die Δλ erhöhen. Eine dieser drei Komponenten muss enthalten sein, jedoch sind die beiden anderen Komponenten nicht essentiell. Wenn der Gesamtgehalt dieser drei Komponenten weniger als 0,1 % beträgt, neigt Δλ zu einem kleinen Wert. Der Gesamtgehalt beträgt vorzugsweise mindestens 3 %, mehr bevorzugt mindestens 5 %. Wenn der Gesamtgehalt 35 % übersteigt, besteht eine Tendenz dahingehend, dass die optische Verstärkung abnimmt. Der Gesamtgehalt beträgt vorzugsweise höchstens 30 %, mehr bevorzugt höchstens 25 %.
  • Der Ga2O3-Gehalt darf höchstens 30 %, vorzugsweise höchstens 25 %, mehr bevorzugt höchstens 20 % betragen. Wenn Ga2O3 enthalten ist, beträgt dessen Gehalt vorzugsweise mindestens 1 %. Der Ga2O3-Gehalt beträgt mehr bevorzugt mindestens 5 %.
  • Der WO3-Gehalt darf höchstens 30 %, vorzugsweise höchstens 20 %, mehr bevorzugt höchstens 10 % betragen. Wenn WO3 enthalten ist, beträgt dessen Gehalt vorzugsweise mindestens 1 %. Der WO3-Gehalt beträgt mehr bevorzugt mindestens 3 %.
  • Der TeO2-Gehalt darf höchstens 30 %, vorzugsweise höchstens 20 % betragen. Wenn TeO2 enthalten ist, beträgt dessen Gehalt vorzugsweise mindestens 1 %. Der TeO2-Gehalt beträgt mehr bevorzugt mindestens 3 %.
  • Um die Glasbildung durch die Unterdrückung der Kristallabscheidung während der Glasherstellung zu erleichtern, ist es bevorzugt, das mindestens eines von Al2O3 und Ga2O3 enthalten ist, und deren Gesamtgehalt beträgt höchstens 30 %. Wenn der Gesamtgehalt 30 übersteigt, besteht eine Tendenz dahingehend, dass die Vitrifikation schwierig ist, oder der Glasübergangspunkt neigt zu einem zu niedrigen Wert. Der Gesamtgehalt beträgt vorzugsweise höchstens 25 %. Der Gesamtgehalt beträgt vorzugsweise mindestens 1 %. Der Gesamtgehalt beträgt mehr bevorzugt mindestens 3 %.
  • Bi2O3 neigt während des Schmelzens von Glas zur Abscheidung als metallisches Bismut und dadurch zur Verminderung der Transparenz des Glases. Um diese Tendenz zu unterdrücken, beträgt der Gesamtgehalt von SiO2 und TeO2 vorzugsweise 10 bis 45 %. Wenn der Gesamtgehalt 45 % übersteigt, ist es wahrscheinlich, dass eine Devitrifikation stattfindet. Der Gesamtgehalt beträgt mehr bevorzugt höchstens 40 %, besonders bevorzugt höchstens 38 %. Ferner beträgt der Gesamtgehalt der vorstehend genannten Komponenten mehr bevorzugt mindestens 12 %, besonders bevorzugt mindestens 14 %.
  • GeO2 ist nicht essentiell, weist jedoch Effekte dahingehend auf, dass es die Glasbildung erleichtert und den Brechungsindex erhöht, und es kann in einer Menge bis zu 30 % enthalten sein. Wenn die GeO2-Menge 30 % übersteigt, neigt das Glas zur Kristallisation. Die GeO2-Menge beträgt vorzugsweise höchstens 10 %, mehr bevorzugt höchstens 5 %. Wenn GeO2 enthalten ist, beträgt dessen Gehalt vorzugsweise mindestens 0,1 %. Der GeO2-Gehalt beträgt mehr bevorzugt mindestens 1 %.
  • TiO2 und SiO2 sind jeweils nicht essentiell, können jedoch in einem Bereich bis zu 30 % enthalten sein, um während der Verarbeitung einer Faser eine Devitrifikation zu unterdrücken. Deren Gehalt beträgt jeweils mehr bevorzugt höchstens 10 %.
  • Die Glasmatrix besteht im Wesentlichen aus den vorstehend genannten Komponenten, kann jedoch Komponenten, die von den vorstehend genannten Komponenten verschieden sind („andere Komponenten"), in einem Bereich enthalten, der die Zwecke der vorliegenden Erfindung nicht beeinträchtigt. Um beispielsweise eine Devitrifikation während der Verarbeitung einer Faser zu unterdrücken oder um die Vitrifikation zu erleichtern, können z.B. BeO, MgO, CaO, SrO, BaO, Li2O, Na2O, K2O, Cs2O, ZrO2, La2O3, ZnO, CdO, In2O3 und PbO enthalten sein. Der Gesamtgehalt solcher anderer Komponenten beträgt vorzugsweise höchstens 20 %. Der Gesamtgehalt beträgt mehr bevorzugt höchstens 10 %.
  • Ferner ist CeO2 eine Komponente, die dazu neigt, das Glas gelb oder orange zu färben, und die Glasmatrix in der vorliegenden Erfindung enthält im Wesentlichen kein CeO2, d.h. dessen Gehalt ist nicht höher, als es der Konzentration als Verunreinigung entspricht. Das Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen optisch verstärkenden Glases ist nicht speziell beschränkt. Beispielsweise kann es durch ein Schmelzverfahren hergestellt werden, bei dem Rohstoffe formuliert und gemischt, in einen Platintiegel, einen Aluminiumoxidtiegel, einen Quarztiegel oder einen Indiumtiegel eingebracht und an der Luft bei einer Schmelztemperatur von 800 bis 1300°C geschmolzen werden und die erhaltene Schmelze in eine vorgegebene Form gegossen wird. Ansonsten kann es mit einem von dem Schmelzverfahren verschiedenen Verfahren hergestellt werden, wie z.B. einem Sol-Gel-Verfahren oder einem Gasphasendampfabscheidungsverfahren.
  • Aus dem auf diese Weise hergestellten Glas wird eine Vorform hergestellt und dann zu einer Faser geformt, oder eine Faser wird mit einem Doppeltiegelverfahren hergestellt, um eine optisch verstärkende Faser zu erhalten.
  • Ferner ist es zum Zeitpunkt der Herstellung des optisch verstärkenden Glases der zweiten Ausführungsform bevorzugt, die Schmelztemperatur in dem vorstehend genannten Schmelzverfahren auf höchstens 1200°C einzustellen. Wenn die Schmelztemperatur 1200°C übersteigt, ist es wahrscheinlich, dass Bi2O3 in dem geschmolzenen Glas als metallisches Bismut abgeschieden wird, wodurch es wahrscheinlich ist, dass die Tendenz zur Verminderung der Transparenz des Glases zunimmt. Die Schmelztemperatur beträgt mehr bevorzugt höchstens 1150°C, besonders bevorzugt höchstens 1100°C. Ferner kann die vorstehend genannte Schmelztemperatur auf einem beliebigen Niveau liegen, so lange es sich mindestens um eine Temperatur handelt, bei der das Glas geschmolzen werden kann, und sie beträgt z.B. vorzugsweise mindestens 1000°C.
  • Nachstehend werden erfindungsgemäße Beispiele beschrieben.
  • Es wurden Gläser der Beispiele 1 bis 12 hergestellt, bei denen Er in Glasmatrizen dotiert worden ist, welche die in der Tabelle 1 in den Zeilen für Bi2O3 bis CeO2 gezeigten Zusammensetzungen in Mol-% aufwiesen. Die dotierte Er-Menge ist in Massenprozent auf der Basis von 100 % der Glasmatrix gezeigt. Die Beispiele 1 bis 11 wurden durch ein Schmelzverfahren bei einer Schmelztemperatur von 1100°C hergestellt und Beispiel 12, bei dem es sich um ein Er-dotiertes Glas des Quarz-Typs handelte, wurde mit einem Gasphasendampfabscheidungsverfahren hergestellt. Die Beispiele 1 bis 10 sind Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung und die Beispiele 11 und 12 sind Vergleichsbeispiele.
  • Bezüglich der Gläser der Beispiele 1 bis 12 wurden der Brechungsindex n bei einer Wellenlänge von 1,55 μm, die Glasübergangstemperatur Tg (Einheit: °C) und die Verstärkungswellenlängenbreite Δλ (Einheit: nm) mit den folgenden Verfahren gemessen. n, Tg, Δλ und die Farbe des Glases sind in der Tabelle gezeigt.
  • n: Mit einem Ellipsometer gemessen.
    Tg: Mittels Differentialthermoanalyse (DTA) gemessen.
    Δλ: Eine Probe wurde mit einem Laserstrahl mit einer Wellenlänge von 980 nm angeregt und
    Δλ wurde aus einem durch diese Anregung erhaltenen Emissionsspektrum erhalten. Δλ beträgt vorzugsweise mindestens 40 nm.
  • Tabelle 1
    Figure 00080001
  • Um den Einfluss des CeO2-Gehalts zu untersuchen, wurden Beispiel 10, das kein CeO2 enthielt, und Beispiel 11, das CeO2 enthielt, jeweils auf eine Dicke von 4 mm poliert und die Durchlässigkeiten bei Wellenlängen von 400 bis 2000 nm wurden gemessen. Die Ergebnisse sind in der 1 gezeigt. Die breite Linie stellt die Durchlässigkeitskurve von Beispiel 10 dar und die schmale Linie stellt die Durchlässigkeitskurve von Beispiel 11 dar. Verglichen mit dem Beispiel 10, das kein CeO2 enthielt, wurde gefunden, dass die Durchlässigkeit im Beispiel 11, das CeO2 enthielt, in einem Bereich niedrig war, bei dem die Wellenlänge 1400 nm oder weniger betrug. Das Beispiel 11, das eine intensiv gelbe Farbe aufwies, ist durch den Beginn der starken Durchlässigkeitsabnahme in der Nähe einer Wellenlänge von 600 nm dargestellt.
  • Die 2 ist eine Absorptionskoeffizentenkurve (wobei die Ordinate einen logarithmischen Maßstab aufweist), die aus den vorstehend genannten Durchlässigkeitsdaten berechnet worden ist. Die breite Linie stellt die Absorptionskoeffizentenkurve von Beispiel 10 dar und die schmale Linie stellt die Absorptionskoeffizentenkurve von Beispiel 11 dar.
  • Aus der 2 ist ersichtlich, dass der Absorptionskoeffizent des Hintergrunds von Beispiel 11 innerhalb eines Wellenlängenbereichs von 400 bis 1700 nm größer ist als der von Beispiel 10. Es wird angenommen, dass der Absorptionspeak in der Nähe von 400 nm, der auf Celonen zurückzuführen ist, bis 1700 nm reicht. Eine solche Zunahme des Absorptionskoeffizienten führt zu einer Zunahme des Verlusts des Anregungslichts mit einer Wellenlänge von 980 nm und einer Zunahme des Verlusts an Signallicht mit einer Wellenlänge von 1550 bis 1650 nm, was unerwünscht ist.
  • Im Beispiel 11 wird festgestellt, dass die Absorption am Absorptionspeak bei einer Wellenlänge von 1500 nm dazu tendiert, sogar bis in den Bereich des zu verstärkenden Lichts zu reichen. Dies führt zu einem Verlust der Verstärkung im Wellenlängenbereich von 1550 bis 1650 nm, was unerwünscht ist.
  • Durch die Verwendung des erfindungsgemäßen optisch verstärkenden Glases wird eine optische Verstärkung in einem breiteren Band möglich und eine Informationsübertragung mit hoher Kapazität mit einem Wellenlängen-Multiplexkommunikationssystem wird möglich. Ferner ist es selbst dann, wenn ein Laserstrahl mit einer hohen Intensität als Anregungsstrahl verwendet wird, unwahrscheinlich, dass thermische Beschädigungen stattfinden. Ferner sind die Absorptionskoeffizienten bei Wellenlängen von 400 bis 1700 nm klein, wodurch die optische Verstärkung verbessert werden kann.

Claims (3)

  1. Optisch verstärkendes Glas, umfassend eine Glasmatrix mit Er-Dotierung in einer Menge von 0,01 bis 10%, dargestellt durch Massenprozent, wobei die Glasmatrix, dargestellt durch Mol-% auf Basis der folgenden Oxide, im wesentlichen aus: Bi2O3 20 bis 80, B2O3 0 bis 75, SiO2 0 bis 75, Al2O3 0 bis 10, Ga2O3 0 bis 30, WO3 0 bis 30, TeO2 0 bis 30, GeO2 0 bis 30, TiO2 0 bis 30, SnO2 0 bis 30,
    besteht, wobei die Gesamtgehalte von B2O3 und SiO2 von 5 bis 75 Mol-% betragen und die Gesamtgehalte von Ga2O3, WO3 und TeO2 von 0,1 bis 35 Mol-betragen, und wobei im wesentlichen kein CeO2 enthalten ist.
  2. Optisch verstärkendes Glas nach Anspruch 1, wobei die Glasmatrix, dargestellt durch Mol-% auf Basis der folgenden Oxide, im wesentlichen aus: Bi2O3 30 bis 60, B2O3 0 bis 40, SiO2 10 bis 40, Al2O3 0 bis 10, Ga2O3 0 bis 25,
    WO3 0 bis 10, TeO2 0 bis 20, GeO2 0 bis 10, TiO2 0 bis 10, SnO2 0 bis 10,
    besteht, wobei die Gesamtgehalte von B2O3 und SiO2 von 10 bis 55 Mol-% betragen, die Gesamtgehalte von Ga2O3, WO3 und TeO2 von 5 bis 35 Mol-% betragen und die Gesamtgehalte von SiO2 und TeO2 von 10 bis 45 Mol-% betragen, und wobei im wesentlichen kein CeO2 enthalten ist.
  3. Verfahren zur Herstellung eines optisch verstärkenden Glases, welches ein Verfahren zur Herstellung des wie in Anspruch 2 definierten optisch verstärkenden Glases ist, durch Schmelzen von Rohstoffen, wobei die Temperatur zum Schmelzen der Rohstoffe für das optisch verstärkende Glas höchstens 1200°C beträgt.
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