DE544386C - Anreicherung von Gasen an Krypton und Xenon - Google Patents

Anreicherung von Gasen an Krypton und Xenon

Info

Publication number
DE544386C
DE544386C DE1930544386D DE544386DD DE544386C DE 544386 C DE544386 C DE 544386C DE 1930544386 D DE1930544386 D DE 1930544386D DE 544386D D DE544386D D DE 544386DD DE 544386 C DE544386 C DE 544386C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
krypton
gas
enrichment
gases
thermal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE1930544386D
Other languages
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ELECTRICITAETS AG
Ver Gluehlampen & Elec AG
Original Assignee
ELECTRICITAETS AG
Ver Gluehlampen & Elec AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ELECTRICITAETS AG, Ver Gluehlampen & Elec AG filed Critical ELECTRICITAETS AG
Application granted granted Critical
Publication of DE544386C publication Critical patent/DE544386C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B23/00Noble gases; Compounds thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/22Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)

Description

Die schweren Edelgase Krypton und Xenon (im nachfolgenden zusammenfassend Krypton genannt) kommen z. B. in der Luft nur in sehr geringer Konzentration vor. Zur Herstellung bzw. Anreicherung an diesen Gasen sind bis jetzt in der Hauptsache drei Verfahren bzw. deren Kombinationen, und zwar fraktionierte Destillation, Adsorption und Diffusion durch poröse Wände oder durch ein Hilfsgas vorgeschlagen worden. Alle diese Verfahren sind aber umständlich und kostspielig durchzuführen, hauptsächlich wegen der zu geringen Konzentration dieser schweren Edelgase.
Vorliegende Erfindung befaßt sich mit einem Verfahren zur Anreicherung von an Krypton armen Gasen an diesem, welches von obigen Verfahren völlig verschieden ist. Zum Anreichern wird die Erscheinung der thermischen Diffusion angewendet. Diese Erscheinung besteht darin, daß, wenn in einem mit einem Gasgemisch gefüllten Räume Temperaturdifferenzen vorhanden sind, diese Konzentrationsdifferenzen hervorbringen. Es wurde nun festgestellt, daß das Krypton immer zur kälteren Stelle strömt. Wenn also ein an Krypton armes Gas der thermischen Diffusion ausgesetzt wird und die kältere und die wärmere Fraktion gesondert aufgefangen werden, so wird die Konzentration an Krypton in der kälteren Fraktion größer als im ursprünglichen Gasgemische; das Gas ist also an Krypton angereichert. Durch v Wiederholung dieses Verfahrens, sei es durch öfteres Durchleiten des Gases durch denselben Thermodiffusor oder sei es durch Verwendung von mehreren kaskadenartig geschalteten Thermodiffusoren, kann selbstverständlich ein Gas von beliebigem Gehalt an Krypton hergestellt werden.
Für die gewerbsmäßige Ausgestaltung des Verfahrens ist es wichtig, daß die thermische Diffusion, nicht in geschlossenen Gefäßen ausgeführt zu werden braucht, sondern daß das Gas den Diffusor kontinuierlich durchströmen kann. Der Diffusor muß in diesem Falle so ausgestaltet werden, daß der Temperaturgradient auf die Strömungsrichtung des Gases senkrecht sei. Eine zweckdienliche Form hierzu ist eine Röhre mit einem Querschnitt in der Form eines länglichen Rechteckes, deren zwei parallele Seiten auf entsprechenden Temperaturen gehalten werden.
Für die gewerbsmäßige Ausgestaltung des Verfahrens ist es aber noch wichtig, daß bei der thermischen Diffusion im Gegensatze zu den üblichen Diffusionsverfahren unter hohem Drucke gearbeitet werden kann, wo-
544886
durch große Gasmengen in verhältnismäßig kleinen Apparaturen verarbeitet werden können.
Der Kryptongehalt der angereicherten Fraktion hängt von der Kryptonkonzentration des Ursprungsgases wie auch von den im Diffusor angewendeten Temperaturen ab. Dabei ist es zweckmäßig, möglichst große Tem-· peraturdifferenzen anzuwenden. In einer ίο Ausführung erwies sich 3000 C als höhere und 2O° C als tiefere Temperatur als günstig. Wenn die Ursprungskonzentration an Krypton klein ist, so kann durch mehrfaches Wiederholen des Vorganges, indem die angereicherte Fraktion im selben oder aber auch in einem anderen Diffusor einer neueren thermischen Diffusion unterzogen wird, ein Endprodukt von beliebiger Konzentration gewonnen werden.
Das Verfahren sei an Hand der beiliegenden Zeichnungen erläutert. Abb. 1 ist ein Diffusor, durch welchen Gasgemisch geleitet wird. Bei 1 strömt das kryptonhaltige Gas ein, kommt in Berührung mit dem Wolframdraht 2, welcher mittels hindurchgeleiteten elektrischen Stromes beheizt wird. Das an Krypton angereicherte Gas verläßt den Diffusor bei 5, das kryptonärmere hingegen bei 4. Die zum Hervorbringen der Thermodiffusion nötige Temperaturdifferenz wird dadurch erreicht, daß zwischen den Metallwänden 3 und 6 Kühlwasser hindurchgeleitet wird, das die Wand des Thermodiffusors auf der entsprechend kalten Temperatur erhält. Die Anordnung einer ganzen Apparatur mit zwei Diffusoren ist schematisch in Abb. 2 dargestellt. Das Gas tritt bei 7 ein und durchströmt den Diffusor 8. Das an Krypton verarmte Gas wird bei 10 ins Freie oder in einen Gasometer geleitet, dagegen wird die angereicherte Fraktion zwecks Weitertrennung durch Leitung 9 in den zweiten Diffusor 11 geleitet. Bei 12 wird die angereicherte Fraktion aufgefangen. Die verarmte wird dagegen, um sie nicht zu verlieren, mit Hilfe der Pumpe 14 durch Rohr 15 zum ursprünglichen Gasgemisch zurückgeführt.
Die Wirksamkeit des Verfahrens erhellt aus folgenden Beispielen:
Als Ausgangsmaterial wird Rohargon benutzt, welches außer Argon noch 0,01 °/„ Krypton enthält. Mit Hilfe von 14 Thermodiffusionen wird ein Gas mit einem Kryptongehalt von ι °/0 erhalten. Noch günstiger wirkt das erfindungsgemäße Verfahren, wenn als Ausgangsmaterial die Rückstände der bebekannten Luftzerlegungsapparate benutzt werden. Diese haben einen Kryptongehalt von etwa 0,1 °/o· Um diesen Gehalt auf 1 °/0 zu erhöhen, genügt es schon, 7 Thermodiffusionen vorzunehmen.

Claims (3)

  1. Patentansprüche:
    ι . Verfahren zur Anreicherung von Gasen an Krypton und Xenon, dadurch gekennzeichnet, daß diese einer thermischen Diffusion unterzogen werden, gegebenenfalls in kontinuierlicher Arbeitsweise, und die angereicherte Fraktion gesondert weggeleitet wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das anzureichernde Gas unter einem Gasdruck von über einer Atmosphäre durch den Thermodiffusor geleitet wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß durch kaskadenartige Schaltung von mehreren Thermodiffusoren hintereinander eine fraktionierte Diffusion bewirkt wird.
    Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
DE1930544386D 1930-10-22 1930-10-30 Anreicherung von Gasen an Krypton und Xenon Expired DE544386C (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AT367313X 1930-10-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE544386C true DE544386C (de) 1932-02-17

Family

ID=3672881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1930544386D Expired DE544386C (de) 1930-10-22 1930-10-30 Anreicherung von Gasen an Krypton und Xenon

Country Status (5)

Country Link
BE (1) BE383638A (de)
DE (1) DE544386C (de)
FR (1) FR724245A (de)
GB (1) GB367313A (de)
NL (1) NL30882C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4919690A (en) * 1986-04-16 1990-04-24 Hewlett-Packard Company Method for purifying a continuous flow of helium and/or neon gas

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3208197A (en) * 1944-11-03 1965-09-28 Simon Franz Eugen Diffusion separation of fluids
US2609059A (en) * 1948-06-29 1952-09-02 Hydrocarbon Research Inc Mass diffusion process and apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4919690A (en) * 1986-04-16 1990-04-24 Hewlett-Packard Company Method for purifying a continuous flow of helium and/or neon gas

Also Published As

Publication number Publication date
GB367313A (en) 1932-02-18
FR724245A (fr) 1932-04-23
BE383638A (de)
NL30882C (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE544386C (de) Anreicherung von Gasen an Krypton und Xenon
DE453407C (de) Trennung von Wasserstoff enthaltenden Gasgemischen
DE733079C (de) Verfahren zur Auftrennung von technischen Gasen
DE1771596B2 (de) Vorrichtung zur Verhinderung der Entstehung von Gasblasen in einem Metallschmelzebad für die Herstellung von Tafelglas
DE2229630C3 (de) Vorrichtung zur kontinuierlichen Oberflächenbehandlung
DE941796C (de) Verfahren zum Trennen von Luft in einer Gastrennanlage und zur Durchfuehrung dieses Verfahrens geeignete Gastrennanlage
DE806884C (de) Verfahren und Vorrichtung zum Verbessern der Oberflaeche von gezogenem Glas
DE488245C (de) Vorrichtung zur Trennung von Gasgemischen durch fraktionierte Diffusion
DE370453C (de) Destillationsverfahren
DE626731C (de) Elektrolytischer Wasserzersetzer
DE1230407B (de) Verfahren zur Abscheidung von Ammoniak aus dem Kreislaufgas der Ammoniaksynthese
CH158233A (de) Verfahren zur Anreicherung von Gasgemischen an Edelgasen mit höherem Molekulargewicht als Argon.
DE509044C (de) Wiedergewinnung von Chlorwasserstoffgas aus es enthaltenden waessrigen Loesungen durch Erhitzen mit Schwefelsaeure im Kreislauf
AT107571B (de) Verfahren zur ununterbrochenen Trennung eines Gasgemisches.
AT99191B (de) Filterpressenartig gebauter Wasserzersetzungsapparat.
DE565165C (de) Verfahren zur Gewinnung eines Gemisches mit etwa 50% Sauerstoffgehalt beim Betrieb von Luftzerlegungsanlagen
DE570496C (de) Gluehverfahren
DE661010C (de) Verfahren zur Gewinnung von metallischem Magnesium
DE2701728C3 (de) Verfahren zum Kühlen von Gasen mit Wärmeaustauschern
DE352918C (de) Anlage zur fortlaufenden fraktionierten Destillation
DE917544C (de) Heissdampfkuehler
DE7453C (de) Neuerungen an dem SCHEIBLER'schen Apparate zum Auslaugen von Zucker und Rüben und anderen zuckerhaltigen Substanzen, sowie zur Auslaugung von Stoffen überhaupt. (Zusatz zu P. R- Nr. 3573.)
DE281211C (de)
DE129346C (de)
DE337906C (de) Verfahren und Vorrichtung zur Gewinnung von Zinkstaub