DE4323654C2 - Verfahren zur Herstellung einer wenigstens eine Schicht aus einem Metalloxid vom n-Halbleitertyp aufweisenden beschichteten Glasscheibe - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer wenigstens eine Schicht aus einem Metalloxid vom n-Halbleitertyp aufweisenden beschichteten GlasscheibeInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer
wenigstens eine Schicht aus einem Metalloxid vom
n-Halbleitertyp aufweisenden beschichteten Glasscheibe, bei
dem die Metalloxidschicht nach einem Vakuumverfahren,
insbesondere nach einem Kathodenzerstäubungsverfahren, auf
die Glasscheibe aufgebracht und einer nachträglichen
Stabilisierungsbehandlung unterworfen wird.
Schichtsysteme, die nach einem Vakuumverfahren aufgebracht
sind, weisen gelegentlich eine unzureichende Beständigkeit
gegen mechanische Beanspruchungen und gegen chemische
Substanzen auf. Diese Mängel werden insbesondere bei
Schichtsystemen beobachtet, die eine oder mehrere Schichten
aus einem Metalloxid vom n-Halbleitertyp aufweisen,
beispielsweise eine oder mehrere Schichten aus Zinnoxid.
Eine solche erhöhte Empfindlichkeit der
Oberflächenbeschichtung kann verschiedene Gründe haben. Sie
wird beispielsweise beim Aufbringen der Schichten nach dem
Kathodenzerstäubungsverfahren beobachtet, wenn das
Verhältnis von Argon zu Sauerstoff im Arbeitsgas außerhalb
eines bestimmten Wertes liegt oder wenn die
Arbeitsgasatmosphäre durch Spuren von Wasser oder
Kohlenwasserstoffen verunreinigt ist, was sich bei
industriellen Beschichtungsanlagen nicht immer vermeiden
läßt.
Es ist bekannt, daß die mechanische und die chemische
Beständigkeit solcher Schichtsysteme dadurch verbessert
werden kann, daß man sie einer nachträglichen
Stabilisierungsbehandlung unterwirft. Gemäß einem aus der
DD-PS 2 72 971 bekannten Verfahren erfolgt bei einem
Schichtsystem mit einer metalloxidischen Deckschicht die
Stabilisierungsbehandlung der Deckschicht dadurch, daß die
Oberflächenschicht an Luft in sauerstoffhaltigem Wasser
behandelt wird. Die dadurch erreichte Stabilisierung der
Deckschicht wird dabei auf eine Verarmung der
metalloxidischen Deckschicht an interstitiellen
Sauerstoffmolekülen zurückgeführt. Bei einem anderen, aus
der DD-PS 2 81 819 bekannten Verfahren zur Nachstabilisierung
von Schichtsystemen mit metalloxidischer Deckschicht wird
die Oberflächenschicht in wäßrigen Chromat- oder
Dichromat- oder Permanganatlösungen behandelt. Auch in
diesem Fall wird die erzielte Verbesserung der
Schichteigenschaften darauf zurückgeführt, daß die
Deckschicht durch die Behandlung an Sauerstoff verarmt.
Bei einem Verfahren zur Herstellung von Gläsern mit
erhöhter Bruchfestigkeit ist es bekannt, nach dem Sol-Gel-
Verfahren in Wasser oder einem organischen Lösungsmittel
lösliche Verbindungen auf die Glasoberfläche aufzubringen,
durch Hydrolyse und Kondensation Oberflächenschichten auf
dem Glas zu bilden, und die Oberflächenschichten durch
Wärmebehandlung mit Laserstrahlen oder mit einer heißen
Flamme thermisch zu verdichten (DE 37 19 339 A1). Die
erzielte Erhöhung der mechanischen Festigkeit des Glases
beruht vermutlich zum einen auf einem Heilungseffekt der
Mikrorisse in der Glasoberfläche und zum anderen auf dem
Entstehen von Druckspannungen in der Oberfläche.
Es ist auch bekannt, bei einem Verfahren zur Herstellung
von optischen Einfach- und Mehrfach-Interferenz-Schichten
aus Metalloxiden auf Glasscheiben organische oder
metallorganische Verbindungen in Lösung nach dem
Tauchverfahren auf die Glasscheibe aufzubringen, und
anschließend durch Strahlungsenergie hoher Intensität die
Metallverbindungen in die entsprechenden Metalloxide zu
überführen (DE 37 44 368 C1). Durch die angewendete
Strahlungsenergie hoher Intensität wird es möglich, die für
die Pyrolyse erforderliche Erhitzung im wesentlichen auf
den Flüssigkeitsfilm zu beschränken.
Aus der DE-AS 20 25 122 ist es ferner bekannt, daß
Anstrichstoffe und Überzüge auf Glas mit von Lasern
emittierten Infrarot-Strahlen mit einer Wellenlänge von
1 bis 100 µm gehärtet werden können. Durch Anwendung der
Laserstrahlung mit großer Leistungsdichte lassen sich dabei
die Härtungszeiten der Anstrichstoffe bzw. Überzüge
erheblich verkürzen.
Im Gegensatz zu diesen bekannten Verfahren, bei denen die
naßchemisch aufgebrachten Schichten durch Pyrolyse oder
durch Polykondensationsprozesse insgesamt eine chemische
Umwandlung erfahren, liegen die gemäß der Erfindung nach
einem Vakuumverfahren aufgebrachten Oberflächenschichten
unmittelbar nach ihrem Aufbringen im wesentlichen bereits
in ihrer endgültigen oxidischen Form vor.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein
gattungsgemäßes Verfahren mit einer nachträglichen
Stabilisierungsbehandlung zu schaffen, die sich als solche
mit verhältnismäßig einfachen Mitteln durchführen läßt und
die in einen üblichen Beschichtungsprozeß integriert werden
kann.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß zur
Stabilisierung der Metalloxidschicht die beschichtete
Scheibenoberfläche mit infrarotem Licht einer Wellenlänge
von 1,5 bis 5 µm bestrahlt wird.
In vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung wird die
beschichtete Scheibenoberfläche mit infrarotem Licht einer
Schwerpunktwellenlänge von etwa 2,5 µm bestrahlt.
Zweckmäßigerweise wird die Bestrahlung der beschichteten
Glasscheibe unmittelbar nach dem Verlassen der
Beschichtungsanlage durchgeführt.
Die Energie, mit der die Scheibenoberfläche bestrahlt wird,
kann in weiten Grenzen schwanken. Sie soll mindestens
180 kJ/m² und höchstens 5400 kJ/m² betragen. Je nach der
Bestrahlungsdauer, die zweckmäßigerweise zwischen einigen
Sekunden und etwa 5 Minuten liegen soll, ergibt sich
daraus, daß die oberflächenbezogene Strahlungsleistung
1 kW/m² bis 90 kW/m² beträgt. Vorzugsweise ist bei der Wahl
der Strahlungsleistung darauf zu achten, daß die Temperatur
der Glasscheiben infolge der Bestrahlung einen Wert von
etwa 100 Grad Celsius nicht überschreitet. Andernfalls wird
die Manipulation der Glasscheiben, und damit die
Integration des Stabilisierungsverfahrens in den
Prozeßablauf, erschwert.
Durch die erfindungsgemäße Bestrahlungsbehandlung im
Anschluß an die Vakuumbeschichtung wird eine wesentliche
Erhöhung der Beständigkeit der Schicht bzw. des
Schichtsystems sowohl gegen mechanische wie gegen chemische
Beanspruchungen erreicht, wie später anhand von
Meßergebnissen gezeigt wird.
Im Gleichspannungsfeld gesputterte SnO₂-Schichten, wie sie
u. a. der Erfindung zugrunde liegen, enthalten nach eigenen
Messungen kein adsorbiertes Wasser in nachweisbaren Mengen.
Die Wirkung der IR-Bestrahlung ist daher nicht wie bei den
weiter oben diskutierten Verfahren durch
Polykondensationsvorgänge erklärbar. Vielmehr wird
angenommen, daß der beobachtete Effekt durch Wechselwirkung
von Sauerstoff mit Leerstellen der Oxidoberfläche zustande
kommt. Wahrscheinlich sind nämlich die Metalloxidschichten
unter den Bedingungen im praktischen Produktionsprozeß, das
heißt bei hoher Aufstäubrate und gleichzeitig hoher
Plasmadichte, nicht vollstöchiometrisch ausgebildet. Unter
dem Einfluß der Infrarot-Strahlung kommt es dann offenbar
zu einer Aktivierung der Festkörperoberfläche und damit zu
einer Aufoxidation der Oxidschicht.
Es ist zwar bekannt, daß nach dem
Kathodenzerstäubungsverfahren auf Glasscheiben
abgeschiedene Schichten unmittelbar nach dem
Abscheidungsprozeß gelegentlich verhältnismäßig empfindlich
sind, und daß bei Kontakt der Schichten mit der
Umgebungsluft offenbar Alterungsprozesse ablaufen, durch
die die Schichten härter und unempfindlicher werden. Ein
solcher natürlicher Alterungsprozeß dauert jedoch mehrere
Tage und setzt den Kontakt der Schicht zur Umgebungsluft
voraus. Bei der industriellen Herstellung beschichteter
Scheiben werden aber die beschichteten Glasscheiben
unmittelbar nach dem Beschichtungsvorgang zu
großen Paketen aufgestapelt, und die Glasscheibenpakete werden
anschließend an den Kantenflächen versiegelt, so daß der
Kontakt der Schicht zur Umgebungsluft unterbrochen ist.
Hierdurch werden die genannten normalen
Stabilisierungsreaktionen unterbrochen oder zumindest stark
verzögert, so daß beispielsweise die mechanische Beständigkeit
zu gering ist, um einen längeren Transport mit reibender
Relativbewegung der beschichteten Glasscheiben ohne
Beschädigungen zu überstehen.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird ein solcher
Stabilisierungsprozeß in gezielter Weise durch
Infrarotbestrahlung in Gegenwart von Luft in verhältnismäßig
kurzer Zeit erreicht, so daß sich dieser Verfahrensschritt in
den normalen Fertigungsablauf integrieren läßt, ohne daß der
Beschichtungszyklus dadurch insgesamt verlängert werden muß.
Nach dem Stabilisierungsprozeß weisen die Oberflächenschichten
insgesamt eine deutlich verbesserte Härte auf, so daß sie
selbst dann, wenn die beschichteten Glasscheiben sofort zu
Paketen gestapelt und anschließend transportiert werden, durch
die reibenden Relativbewegungen beim Transport nicht mehr
beschädigt werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren und die damit erzielte
Verbesserung der Schichtqualität wird anhand der nachfolgenden
Beispiele näher erläutert, bei denen ein wärmedämmendes
Schichtsystem auf Floatglasscheiben mit einer Deckschicht aus
SnOx nach dem magnetfeldunterstützen reaktiven
Kathodenzerstäubungsverfahren aufgebracht wurde.
Zur Beurteilung der Qualität des Schichtsystems wird zum einen
eine Randwinkelmessung durchgeführt nach einer Methode, wie
sie in "Physikalische Chemie der Glasoberfläche", Deutscher
Verlag für Grundstoffindustrie, Leipzig, 1981 beschrieben ist.
Der gemessene Randwinkel, das heißt der Winkel, den die
Oberfläche einer Flüssigkeit bei Kontakt mit einem Festkörper
bildet, ist ein qualitatives Maß für die Zusammensetzung,
Struktur und Morphologie der Glasoberfläche und läßt
Rückschlüsse zu auf Oberflächenveränderungen und die
Festigkeit von Aufdampfschichten. Zum anderen wird eine
HNO₃-Testmessung zur Beurteilung der chemischen
Widerstandsfähigkeit der Schicht durchgeführt. Bei diesem
HNO₃-Test wird ein HNO₃-Tropfen (10 µl; HNO₃-halbkonzentriert)
auf die Schicht bei einer Temperatur von 21 Grad Celsius
aufgebracht. Nach 10 Minuten Einwirkzeit wird der Durchmesser
des in der Regel kreisrunden Korrosionshofes gemessen. Je
kleiner der Korrosionshof ist, umso besser ist die chemische
Widerstandsfähigkeit des Schichtsystems.
Auf eine Scheibe aus Floatglas wird ein wärmedämmendes
Schichtsystem mit dem Aufbau Glas - SnOx (28 nm) - Ag (11 nm)
- CrNiOx (4 nm) - SnOx (32 nm) in einer Durchlauf-
Sputteranlage aufgebracht. Aus der beschichteten Glasscheibe
wurden unmittelbar nach dem Verlassen der Beschichtungsanlage
Probenkörper für die Randwinkelmessung und für den HNO₃-Test
herausgeschnitten. Ferner wurden aus einer mittleren Scheibe
eines Stapels beschichteter Glasscheiben mit dem gleichen
Schichtaufbau nach 48 Stunden Lagerung des unmittelbar nach
der Beschichtung aufgestapelten Glasscheibenstapels ebenfalls
entsprechende Probenkörper herausgeschnitten.
Die beschriebenen Tests, nämlich die Randwinkelmessung und der
HNO₃-Test wurden jeweils unmittelbar nach dem Aufbringen der
Schicht und nach 48 Stunden durchgeführt. Dabei wurden die in
der folgenden Tabelle aufgeführten Meßwerte ermittelt:
Die Meßwerte zeigen, daß der die Schichtqualität verbessernde
Alterungsprozeß der Schicht stark gehemmt ist, wenn die
Glasscheiben in einem Glasscheibenstapel aufeinanderliegen, so
daß der Kontakt der Schicht mit der Umgebungsatmosphäre
unterbunden ist.
Aus demselben Produktionszyklus, aus dem das
Vergleichsbeispiel gewählt wurde, wurden beschichtete
Glasscheiben auf der Transportstrecke zwischen der
Beschichtungsanlage und der Aufstapelvorrichtung mit
Infrarotstrahlung mit einer Schwerpunktwellenlänge von 2,5 µm
bestrahlt, und zwar mit einer Bestrahlungsleistung von 18
kW/m². Der Abstand der Strahler von der Glasoberfläche betrug
120 mm.
Aus einer Glasscheibe wurden vor der Bestrahlungsbehandlung
Probenkörper für Vergleichsmessungen herausgeschnitten. Nach
der Bestrahlungsbehandlung wurde eine Glasscheibe 48 Stunden
lang an Luft gelagert. Andere Glasscheiben wurden nach der
Bestrahlungsbehandlung aufgestapelt. Aus dem
Glasscheibenstapel wurde nach 48 Stunden eine Glasscheibe für
die Durchführung der Tests entnommen. Die Tests wurden wie im
Vergleichsbeispiel beschrieben durchgeführt. Folgende Werte
wurden dabei gemessen:
Die Meßergebnisse zeigen, daß durch die Bestrahlung eine
wesentliche Verbesserung der Schichtqualität erreicht wird,
die sich auch nach einer anschließenden 48stündigen Lagerung
an Luft kaum verändert. Nach einer 48stündigen Lagerung im
Glasscheibenstapel wird sogar eine weitere
Qualitätsverbesserung der Schicht festgestellt. Die an dieser
im Glasscheibenstapel gelagerten beschichteten Glasscheibe
gemessenen Werte blieben unverändert, als nach weiteren 48
Stunden Lagerung an Luft die Messungen wiederholt wurden.
Es wurden ebenfalls an den im Vergleichsbeispiel beschriebenen
beschichteten Glasscheiben Versuche durchgeführt, um den
Einfluß der Wellenlänge der Infrarotstrahlung und der
Bestrahlungsdauer festzustellen. Zu diesem Zweck wurden zehn
Probenkörper unter unterschiedlichen Bedingungen bestrahlt.
Unmittelbar anschließend an die Bestrahlung wurden jeweils die
Randwinkelmessungen und der HNO₃-Test an den Probenkörpern
durchgeführt. Bestrahlungsbedingungen und Testergebnisse sind
in der nachfolgenden Tabelle zusammengestellt:
Die Ergebnisse der Versuchsreihe zeigen, daß die
Stabilisierungsbehandlung am wirkungsvollsten ist, wenn die
Bestrahlung mit einer Schwerpunktwellenlänge von 2,5 µm
durchgeführt wird.
Die Wirkung des erfindungsgemäßen Verfahrens wurde an einer
Mehrfachschicht mit einer Deckschicht aus Zinnoxid
nachgewiesen. Es ist jedoch davon auszugehen, daß
vergleichbare Reaktionen auch in anderen Metalloxidschichten
ablaufen, insbesondere in Oxidschichten vom n-Halbleitertyp,
wie den Oxiden von Silizium, Aluminium, Magnesium, Zirkonium
Zink, Tantal und Titan, da Dünnschichten aus diesen Oxiden je
nach den Abscheidungsbedingungen mehr oder weniger chemisch
oder physikalisch gebundenes Wasser enthalten können, so daß
in gleicher Weise wie bei Zinnoxid Vernetzungsprozesse in dem
Schichten stattfinden können, die zu einer Stabilisierung der
Schichten führen.
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung einer wenigstens eine
Schicht aus einem Metalloxid vom n-Halbleitertyp
aufweisenden beschichteten Glasscheibe, bei dem die
Metalloxidschicht nach einem Vakuumverfahren,
insbesondere nach einem Kathodenzerstäubungsverfahren,
auf die Glasscheibe aufgebracht und einer
nachträglichen Stabilisierungsbehandlung unterworfen
wird, dadurch gekennzeichnet, daß
zur Stabilisierung der Metalloxidschicht die
beschichtete Scheibenoberfläche mit infrarotem Licht
einer Wellenlänge von 1,5 bis 5 µm bestrahlt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die beschichtete Scheibenoberfläche mit infrarotem
Licht einer Schwerpunktwellenlänge von etwa 2,5 µm
bestrahlt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Bestrahlung der beschichteten
Glasscheibe unmittelbar nach dem Verlassen der
Beschichtungsanlage durchgeführt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Bestrahlung mit einer
Bestrahlungsleistung von 1 kW/m² bis 90 kW/m² derart
durchgeführt wird, daß die Glasscheibe eine Temperatur
von etwa 100 Grad Celsius nicht überschreitet.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Dauer der Bestrahlung je nach
Bestrahlungsleistung 10 Sekunden bis 5 Minuten
beträgt.
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---|---|---|---|
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4323654A DE4323654C2 (de) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | Verfahren zur Herstellung einer wenigstens eine Schicht aus einem Metalloxid vom n-Halbleitertyp aufweisenden beschichteten Glasscheibe |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4323654A1 DE4323654A1 (de) | 1995-01-19 |
DE4323654C2 true DE4323654C2 (de) | 1995-04-20 |
Family
ID=6492836
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4323654A Expired - Fee Related DE4323654C2 (de) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | Verfahren zur Herstellung einer wenigstens eine Schicht aus einem Metalloxid vom n-Halbleitertyp aufweisenden beschichteten Glasscheibe |
DE69403397T Expired - Fee Related DE69403397T2 (de) | 1993-07-15 | 1994-07-12 | Verfahren zur Behandlung einer dünnen Oxidschicht |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69403397T Expired - Fee Related DE69403397T2 (de) | 1993-07-15 | 1994-07-12 | Verfahren zur Behandlung einer dünnen Oxidschicht |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5512152A (de) |
EP (1) | EP0634376B1 (de) |
JP (1) | JP3803397B2 (de) |
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