DE4234667A1 - Spannungserzeugungseinrichtung zum erzeugen einer spannung mit konstantem pegel und betriebsverfahren dafuer - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Spannungserzeugungseinrichtung nach dem Oberbegriff des Anspruches 1, 5, 10 oder 11 und ein Verfahren nach dem Oberbegriff des Anspruches 19. Die Erfindung betrifft insbesondere eine Spannungserzeugungseinrichtung, die eine Spannung mit beliebigem Pegel bei geringer Leistungsaufnahme erzeugen kann, und ein Betriebsverfahren dafür.

Gegenwärtig weist eine integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung, wie z. B. eine Halbleiterspeichereinrichtung oder eine ähnliche Einrichtung, eine Schaltung auf, die eine vorbestimmte konstante Spannung mindestens während einer Zeitspanne, in der ein interner Schaltkreis der integrierten Halbleiterschaltung arbeitet, an einen vorbestimmten Abschnitt der integrierten Halbleiterschaltkreis­ einrichtung ausgibt.

Fig. 7 zeigt ein schematisches Schaltbild der Struktur eines 1/2- Vcc-Erzeugungsschaltkreises, der ein Beispiel für eine solche Schaltung darstellt.

Ein 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltkreis wird allgemein in einer Halbleiterschaltkreiseinrichtung wie z. B. einem DRAM (dynamischer Direktzugriffsspeicher) oder einer ähnlichen Einrichtung zum Vorladen einer Bitleitung oder einer I/O-Leitung auf ein Potential benutzt, das gleich der Hälfte einer Versorgungsspannung Vcc (üblicherweise 5 V) ist, um eine Elektrode eines Kondensators, der eine Speicherzelle bildet, während der Zeitspanne, in der kein Lesen und Schreiben von Daten ausgeführt wird, auf einem Potential zu fixieren, das gleich der Hälfte der Versorgungsspannung ist.

Fig. 8 zeigt ein Ersatzschaltbild der Struktur einer Speicherzelle in einem DRAM. Wie in Fig. 8 dargestellt ist, weist jede Speicherzelle eines DRAM einen MOS-Transistor Tr, der ein mit einer Wortleitung WL verbundenes Gate, eine mit einer Bitleitung BL verbundene Drain und eine Source besitzt, und einen Kondensator C auf. Eine Elektrode des Kondensators C ist mit der Source des Transistors Tr und die andere Elektrode ist zusammen mit den Elektroden der Kondensatoren C aller anderen (nicht dargestellten) Speicherzellen mit einer sogenannten Zellenplatte, einem Substratabschnitt, in dem ein Speicherzellenfeld geschaffen ist, verbunden. Die Zellenplatte ist auf ein Potential gelegt, das gleich der Hälfte einer Versorgungsspannung Vcc ist, um das Potential einer Elektrode des Kondensators in jeder Speicherzelle festzulegen.

Eine Bitleitung und eine I/O-Leitung übertragen Daten der Logikwerte "1" und "0" als Potentialanstieg (oder Potentialabfall) bzw. als Potentialabfall (oder Potentialanstieg) an eine Schaltung oder Signalleitung in der nächsten Stufe. Wenn die Bitleitung und I/O- Leitung auf Vcc/2 vorgeladen werden, das ein Potential zwischen dem Versorgungspotential Vcc und einem Massepotential von 0 V darstellt, wird es für die Potentiale der Bitleitung und I/O-Leitung leichter, sich entsprechend zu ändern, je nachdem, ob der gelesene Wert einen Logikwert "0" oder "1" darstellt.

Unter Bezugnahme auf Fig. 7 werden nun Struktur und Betrieb einer 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung beschrieben.

Eine 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung weist Widerstände 1-3, die zwischen einem Versorgungsanschluß Tcc, dem ein Versorgungspotential Vcc zugeführt wird, und Masse GND in Reihe geschaltet sind, und einen N-Kanal MOS-Transistor 4 sowie einen P-Kanal MOS-Transistor 5, die zwischen dem Versorgungsanschluß Tcc und Masse GND in Reihe geschaltet sind, auf. Die Gates der Transistoren 4 und 5 sind mit dem Knoten zwischen den Widerständen 1 und 2 bzw. dem Knoten zwischen den Widerständen 2 und 3 verbunden. Das Potential des Knotens (Knoten N3) zwischen den Transistoren 4 und 5 wird als Ausgangsspannung Vout der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung benutzt.

Ein Strom fließt vom Versorgungsanschluß Tcc über die Widerstände 1- 3 zur Masse GND, wenn die Versorgungsspannung Vcc dem Versorgungsanschluß Tcc zugeführt wird, so daß das Potential des Knotens zwischen den Widerständen 1 und 2 gleich einem Potential, das um den vom Widerstand 1 verursachten Spannungsabfall niedriger als das Versorgungspotential Vcc ist, und das Potential des Knotens zwischen den Widerständen 2 und 3 gleich einem Potential, das um den vom Widerstand 2 verursachten Spannungsabfall niedriger als das Potential des Knotens zwischen den Widerständen 1 und 2 ist, ausfällt. Die Werte der jeweiligen Widerstände 1-3 werden so eingestellt, daß das Potential des Knotens (Knoten N1) zwischen den Widerständen 1 und 2 gleich einem Potential (Vcc/2+Vthn), das um die Schwellenspannung Vthn des Transistors 4 höher als das Potential Vcc/2 (die Hälfte des Versorgungspotentials Vcc) ist, und daß das Potential des Knotens (Knoten N2) zwischen den Widerständen 2 und 3 gleich einem Potential (Vcc/2-Vthp), das um die Schwellenspannung Vthp des Transistors 5 niedriger als das Potential Vcc/2 (die Hälfte des Versorgungspotentials Vcc) ist, ausfällt.

Der Transistor 4 wird durchgeschaltet und führt positive Ladungen vom Versorgungsanschluß Tcc dem Knoten N3 zu für den Fall, daß sein Gate-Potential Vgn höher als das Potential (Vout+Vthn) liegt, das um seine Schwellenspannung Vthn höher als das Potential Vout des Knotens N3 ist, d. h. falls der folgende Ausdruck erfüllt wird.

Vout < Vgn - Vthn

Der Transistor 5 wird durchgeschaltet und führt negative Ladungen von der Masse GND dem Knoten N3 zu für den Fall, daß sein Gate- Potential Vgp niedriger als das Potential (Vout-Vthp) liegt, das um seine Schwellenspannung Vthp niedriger als das Potential Vout des Knotens N3 ist, d. h. falls der folgende Ausdruck erfüllt wird.

Vout < Vgp + Vthp

Daher wird für den Fall, daß die Potentiale der Knoten N1 und N2 gleich (Vcc/2+Vthn) bzw. (Vcc/2-Vthp) sind, der Transistor 4 gesperrt, während der Transistor 5 durchschaltet, wenn das Potential Vout des Knotens N3 höher als Vcc/2 wird, so daß das Potential Vout des Knotens N3 sinkt. Wenn das Potential Vout des Knotens N3 niedriger als Vcc/2 wird, wird Transistor 5 jedoch gesperrt, während Transistor 4 durchschaltet, so daß das Potential des Knotens N3 steigt. Entsprechend wird das Potential Vout des Knotens N3 so gesteuert, daß es stets gleich Vcc/2 ist, indem die Gate-Potentiale Vgn und Vgp der Transistoren 4 und 5 auf solche Potentiale eingestellt werden. Für den Fall, daß das Potential Vout des Knotens N3 stabil auf Vcc/2 liegt, sind die Transistoren 4 und 5 beide gesperrt, so daß kein Strom vom Versorgungsanschluß Tcc über die Transistoren 4 und 5 zur Masse GND fließt.

Fig. 11 zeigt ein schematisches Schaltbild der Struktur einer Substratvorspannungsschaltung (Substrat-Bias-Schaltung), die ein weiteres Beispiel für eine Schaltung darstellt, die in einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung eine Spannung auf einem vorbestimmten Pegel erzeugt.

In einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung wird eine Substratvorspannungsschaltung gebildet, um eine Fehlfunktion von Schaltungen und eine Verschlechterung der elektrischen Eigenschaften von Schaltungen aufgrund einer Schwankung des Halbleitersubstratpotentials zu vermeiden.

Fig. 13 zeigt ein Beispiel der allgemeinen Struktur einer Datenausgabeschaltung in einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung. Wie in Fig. 13 dargestellt ist, weist die Ausgabeschaltung allgemein zwei N-Kanal MOS-Transistoren 12, 13 auf, die zwischen einem Versorgungspotentialanschluß T_DD, dem ein entsprechend dem Potentialpegel des Ein-/Ausgangssignals vorbestimmtes Versorgungspotential V_DD zugeführt wird, und Masse GND in Reihe geschaltet sind. Potentiale V1, V2 auf zueinander komplementären Pegeln und entsprechenden Werten, die ausgegeben werden sollen, werden von einer (nicht dargestellten) Schaltung in einer vorherigen Stufe an die Gates der Transistoren 12 bzw. 13 angelegt. Der Knoten zwischen den Transistoren 12 und 13 ist als Ausgangsanschluß der Ausgabeschaltung mit einem (nicht dargestellten) I/O-Anschlußstift verbunden.

Entsprechend ist Transistor 13 während der Zeit, in der der Transistor 12 durchgeschaltet ist, gesperrt, und Transistor 13 ist während der Zeit, in der der Transistor 12 gesperrt ist, durchgeschaltet. Daher erscheint entsprechend den Ausgangspotentialen v1, v2 einer Schaltung in der vorherigen Stufe das hohe Potential V_DD des Versorgungsanschlusses T_DD oder das niedrige Potential Vss der Masse GND am Knoten zwischen den Transistoren 12 und 13.

Wenn das Potential eines Halbleitersubstrats höher als das Potential des I/O-Anschlußstiftes wird, fließt in einer solchen Ausgabeschaltung Ladung von einem N⁺-Bereich in einen P-Wannenbereich. Fig. 14 zeigt ein Diagramm zur Erläuterung einer derartigen Erscheinung. Fig. 14 zeigt einen Querschnitt der Struktur des Transistors 12 (oder 13) von Fig. 13.

Wie in Fig. 14 dargestellt ist, weist der Transistor 12 (oder 13) N⁺-Bereiche 200 und 300, die als Drain bzw. Source gebildet sind, auf einer P-Wanne 100, die in einem Halbleitersubstrat 1000 geschaffen ist, und eine Gate-Elektrode 400, die über dem Abschnitt zwischen den N⁺-Bereichen 200 und 300 auf der P-Wanne 100 mit einem dazwischen befindlichen (nicht dargestellten) Isolierfilm gebildet ist, auf. Ein N⁺-Bereich 200 ist mit einem Versorgungsanschluß T_DD (oder Masse GND) verbunden, um ein hohes Potential T_DD (oder ein niedriges Potential Vss) zu empfangen, und der andere N⁺-Bereich 300 ist mit einem I/O-Anschlußstift verbunden. Die Gate-Elektrode 400 empfängt ein Signal v1 (oder v2) von einer Schaltung in der vorherigen Stufe der Ausgabeschaltung.

Für den Fall, daß das Potential der P-Wanne 100 gleich 0 V oder mehr beträgt, wird der vom N⁺-Bereich 300 und der P-Wanne 100 gebildete PN-Übergang in einen in Vorwärtsrichtung vorgespannten Zustand gebracht, so daß Elektronen e⁻ vom N⁺-Bereich 300 zur P-Wanne 100 fließen, wenn z. B. ein negatives Potential dem I/O-Anschlußstift extern zugeführt wird. Wenn diese Ausgabeschaltung z. B. in einem DRAM verwendet wird, heben die so in die P-Wanne 100 fließenden Elektronen e⁻ die in einem Kondensator C (siehe Fig. 8) gesammelte positive Ladung auf, so daß die in der Speicherzelle gespeicherten Daten zerstört werden.

Um eine solche Erscheinung zu vermeiden, kann das Potential des Halbleitersubstrats 1000, d. h. das Potential der P-Wanne 100, auf einem vorbestimmten negativen Potential gehalten werden, so daß der vom N⁺-Bereich 300 und der P-Wanne 100 gebildete PN-Übergang nicht in einen in Vorwärtsrichtung vorgespannten Zustand gebracht wird.

Fig. 15 zeigt ein schematisches Schaltbild der Struktur einer beliebigen Speicherzelle in einem DRAM.

Es wird Bezug auf Fig. 15 genommen. Wenn Daten geschrieben werden, wird das Potential der Wortleitung WL eine vorbestimmte Zeitspanne auf ein Potential (üblicherweise das Versorgungspotential) mit hohem Pegel gebracht, das erheblich größer als die Schwellenspannung des Transistors Tr ist, während das Potential der Bitleitung BL entsprechend dem in der Speicherzelle MC zu speichernden Wert auf einen hohen Pegel (wenn der in der Speicherzelle MC zu speichernde Wert gleich "1" ist) oder einen niedrigen Pegel (wenn der in der Speicherzelle MC zu speichernde Wert gleich "0" ist) gebracht wird. Dadurch wird der Kondensator C aufgeladen oder entladen. Nachdem die vorbestimmte Zeitspanne verstrichen ist, wird das Potential der Wortleitung WL auf ein Potential (üblicherweise das Massepotential) mit niedrigem Pegel gebracht, das ausreichend niedriger als die Schwellenspannung des Transistors Tr ist, so daß die im Kondensator C gespeicherte Ladung nicht über den Transistor Tr zur Bitleitung BL fließt, wenn der Kondensator C aufgeladen worden ist.

Wenn Daten gelesen werden, wird das Potential der Wortleitung WL für eine vorbestimmte Zeitspanne auf hohem Pegel fixiert, während die Potentialänderung der Bitleitung BL erfaßt wird. Wenn im Kondensator C Ladungen gespeichert sind, fließen während der vorbestimmten Zeitspanne positive Ladungen vom Kondensator C über den Transistor Tr zur Bitleitung BL, so daß das Potential der Bitleitung BL ansteigt. Wenn im Kondensator C keine Ladungen gespeichert sind, fließen während der vorbestimmten Zeitspanne positive Ladungen von der Bitleitung BL über den Transistor Tr zum Kondensator C, so daß das Potential der Bitleitung BL sinkt. Damit tritt ein Potentialanstieg der Bitleitung BL auf, wenn in der Speicherzelle MC der Wert "1" gespeichert ist, während ein Potentialabfall der Bitleitung BL auftritt, wenn in der Speicherzelle MC der Wert "0" gespeichert ist, so daß es möglich ist, die in der Speicherzelle MC gespeicherten Werte zu unterscheiden, indem man die Potentialänderung der Bitleitung BL erfaßt.

Während der Zeit, wenn weder ein Schreiben noch ein Lesen von Daten ausgeführt wird, wird das Potential der Wortleitung WL auf niedrigen Pegel gebracht, so daß der Transistor Tr sperrt und den Stromfluß zwischen der Bitleitung BL und dem Kondensator C abschneidet. Für den Fall, daß die Schwellenspannung des Transistors Tr zu niedrig ist, schaltet der Transistor Tr während der Zeit, in der weder ein Schreiben noch ein Lesen von Daten ausgeführt wird, jedoch schon bei einem geringen Potentialanstieg der Wortleitung WL aus irgendeinem Grund durch, so daß die im Kondensator C gespeicherte Ladung über den Transistor Tr zur Bitleitung abfließt. Damit wird der in der Speicherzelle MC gespeicherte Wert zerstört. Um eine solche Erscheinung zu vermeiden, ist es notwendig, daß die Schwellenspannung des Transistors Tr auf einen hohen Wert eingestellt wird.

Die Beziehung zwischen der Schwellenspannung V_th des N-Kanal MOS- Transistors (siehe Fig. 14) und der Quadratwurzel des Absolutwerts |V_SB| des Potentials V_SB der P-Wanne 100, in der der N-Kanal MOS- Transistor gebildet ist, lautet V_th = V_th0 + α(|V_SB|)^1/2. V_th stellt die Schwellenspannung des N-Kanal MOS-Transistors für den Fall, daß V_SB = 0 V ist, und α eine Konstante dar. Genauer gesagt ist die Schwellenspannung des N-Kanal MOS-Transistors größer als das Potential des Substrats, in dem der N-Kanal MOS-Transistor gebildet ist. Das Potential ist ein negatives Potential mit einem größeren Absolutwert. Um die Erzeugung eines Leckstroms vom Kondensator C zur Bitleitung BL aufgrund von Potentialschwankungen der Wortleitung WL zu unterdrücken, kann das Halbleitersubstrat, in dem die Speicherzelle MC gebildet ist, auf einem geeigneten negativen Potential gehalten werden. Wie oben mit Bezugnahme auf die Fig. 13 bis 15 beschrieben worden ist, ist es erforderlich, ein Halbleitersubstrat auf ein vorbestimmtes negatives Potential V_BB vorzuspannen, um verschiedene Nachteile zu beheben. Zu diesem Zweck ist eine Substratvorspannungsschaltung gebildet.

Unter Bezugnahme auf die Fig. 11 und 12 werden nun Struktur und Betrieb einer Substratvorspannungsschaltung beschrieben.

Fig. 12 zeigt ein Zeitdiagramm des Verlaufs der Steuersignale Φ1, Φ2, die der in Fig. 11 dargestellten Substratvorspannungsschaltung zugeführt werden.

Die Substratvorspannungsschaltung weist Inverter 5 und 9, die die Steuersignale Φ1 und Φ2 mit entgegengesetzten Phasen, wie in Fig. 12(a) bzw. (b) gezeigt ist, empfangen, einen Kondensator 6 und einen P-Kanal MOS-Transistor 8, die zwischen dem Ausgangsanschluß des Inverters 5 und Masse GND in Reihe geschaltet sind, und einen Kondensator 10 und einen P-Kanal MOS-Transistor 11, die zwischen dem Ausgangsanschluß des Inverters 9 und Masse GND in Reihe geschaltet sind, auf. Das Potential des Knotens (Knoten N5) zwischen Kondensator 10 und Transistor 11 wird dem Gate des Transistors 8 zugeführt, und das Massepotential wird an das Gate des Transistors 11 angelegt.

Die Substratvorspannungsschaltung weist ferner einen P-Kanal MOS- Transistor 7 auf, der als Diode geschaltet ist. Das Gate des Transistors 7 ist mit dem Knoten (Knoten N4) zwischen dem Kondensator 6 und dem Transistor 8 verbunden. Die Ausgangsspannung des Inverters 5 wird als Back-Gate-Spannung der Transistoren 7 und 8 verwendet, und die Ausgangsspannung des Inverters 9 wird als Back- Gate-Spannung des Transistors 11 verwendet.

Das Ausgangspotential des Transistors 7 wird als Ausgangspotential V_BB der Substratvorspannungsschaltung an ein (nicht dargestelltes) Halbleitersubstrat angelegt.

Wenn das Potential des Steuersignals Φ2 während einer Zeitspanne, in der das Steuersignal Φ1 auf niedrigem Pegel liegt, von einem hohen zu einem niedrigen Pegel umgeschaltet wird (Zeitpunkt t1 in Fig. 12(b)), wird das Potential des Knotens N5 durch die Kopplung des Kondensators 10 angehoben. Die Back-Gate-Spannung des Transistors 11 wird auf einen hohen Pegel gebracht und der Transistor 11 schaltet durch, so daß Knoten N5 elektrisch mit der Masse GND verbunden wird. Damit sinkt das Potential des Knotens N5. Ein solcher Potentialabfall des Knotens N5 schaltet den Transistor 8 durch, so daß eine positive Ladung vom Knoten N4 über den Transistor 8 zur Masse GND abgezogen wird.

Wenn als nächstes das Potential des Treibersignals Φ1 vom niedrigen zum hohen Pegel umgeschaltet wird (Zeitpunkt t2 in Fig. 12), wird das Ausgangspotential des Inverters 5 auf niedrigen Pegel gebracht, so daß Ladungen aus dem Kondensator 6 fließen. Dadurch werden negative Ladungen vom Kondensator 6 an den Knoten N4 abgegeben, so daß das Potential des Knotens N4 beginnt, auf einen negativen Wert abzufallen.

Das Potential des Knotens N5 ist das Massepotential 0 V, so daß der Transistor 8 gesperrt wird, wenn das Potential des Knotens N4 negativ wird, und der Knoten N4 von der Masse GND elektrisch getrennt wird. Wenn das Potential des Knotens N4 gleich einem solchen negativen Potential wird, schaltet der Transistor 7 durch. Entsprechend werden negative Ladungen vom Kondensator 6 über den Knoten N4 und den Transistor 7 in Abhängigkeit davon abgezogen, daß das Treibersignal Φ1 vom niedrigen zum hohen Pegel umschaltet.

Die Zuführung negativer Ladung vom Kondensator 6 zum Knoten N4 bewirkt, daß das Potential des Knotens N4 schließlich negativ wird (-Vcc) und denselben Absolutwert wie das Versorgungspotential erreicht. Mit einer solchen Abführung negativer Ladungen wird das Ausgangspotential V_BB des Transistors 7 gleich einem Potential (- Vcc+Vthp), das um die Schwellenspannung Vthp des Transistors 7 höher als das negative Potential (-Vcc) mit demselben Absolutwert wie das Versorgungspotential ist.

Wenn das Treibersignal Φ1 als nächstes während einer Zeitspanne, in der das Potential des Treibersignals Φ2 niedrig ist, vom hohen Pegel zum niedrigen Pegel umgeschaltet wird (Zeitpunkt t3 in Fig. 12), steigt das Potential des Knotens N4 an, so daß Transistor 7 gesperrt wird. Das bewirkt, daß der Knoten N4 vom Halbleitersubstrat elektrisch getrennt wird.

Wenn das Treibersignal Φ2 als nächstes vom niedrigen zum hohen Pegel umgeschaltet wird (Zeitpunkt t4 in Fig. 12), wird das Ausgangspotential des Inverters 9 auf niedrigen Pegel gebracht, so daß eine negative Ladung vom Kondensator 10 zum Knoten N5 fließt, und damit das Potential des Knotens N5 negativ wird. Die Back-Gate- Spannung des Transistors 11 wird auf niedrigen Pegel gebracht, und Transistor 11 sperrt, so daß die vom Kondensator 10 zugeführte negative Ladung dem Gate des Transistors 8 zugeführt wird. Das Potential des Knotens N4 ist gleich dem Massepotential von 0 V, so daß Transistor 8 in Abhängigkeit von der Zuführung negativer Ladung an das Gate durchschaltet. Damit kehrt das Potential des Knotens N4 auf das Massepotential von 0 V zurück.

Durch Wiederholen des oben beschriebenen Schaltungsbetriebs gibt der Transistor 7 ein ungefähr konstantes negatives Potential (-Vcc+Vthp) ab, um das Halbleitersubstrat vorzuspannen.

Wie oben beschrieben worden ist, ist eine Substratvorspannungsschaltung, die eine Spannung mit vorbestimmtem Pegel erzeugt, in einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung im allgemeinen eine Schaltung wie z. B. eine 1/2-Vcc- Erzeugungsschaltung (Fig. 7), bei der die Gate-Potentiale einer Mehrzahl von in Reihe geschalteter MOS-Transistoren auf ein geeignetes Potential eingestellt werden, das durch Spannungsteilung erhalten wird, um die Verbindungspunkte zwischen diesen MOS- Transistoren auf einem gewünschten Potential zu fixieren. Die Substratvorspannungsschaltung kann auch eine Schaltung vom Ladungspumptyp sein, wie z. B. eine Substratvorspannungsschaltung (Fig. 11), bei der das Aufladen und Entladen eines Kondensators abwechselnd ausgeführt wird, um eine während einer konstanten Zeitspanne eine vorbestimmte Ladungsmenge freizusetzen und auf diese Weise eine gewünschte Spannung zu erzeugen. Die Schaltungen mit diesen Strukturen weisen jedoch die im folgenden beschriebenen Probleme auf.

Unter Bezugnahme auf die Fig. 8, 9 und 10 werden die Probleme einer Schaltung mit der oben angeführten Struktur beschrieben.

Fig. 9 zeigt einen Querschnitt der Struktur von Transistor 4 und Fig. 10 einen Querschnitt der Struktur von Transistor 5 in Fig. 7.

Wie in Fig. 7 gezeigt ist, fließt ein Durchlaßstrom konstant vom Versorgungsanschluß Tcc über die Widerstände 1-3 zur Masse GND, wenn dem Versorgungsanschluß Tcc das Versorgungspotential Vcc zugeführt wird, d. h. wenn die 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung arbeitet. Entsprechend ist die Leistungsaufnahme der 1/2-Vcc- Erzeugungsschaltung groß, und es tritt das Problem auf, eine geringe Leistungsaufnahme zu erreichen, die gegenwärtig in vielen Bereichen einschließlich den integrierten Halbleiterschaltungseinrichtungen gefordert wird.

Obwohl die Schwellenspannung Vthn des Transistors 4 und die Schwellenspannung Vthp des Transistors 5 so eingestellt sind, daß nicht beide Transistoren 4 und 5 gleichzeitig durchschalten, gibt es Zeiten, zu denen beide Transistoren 4 und 5 durchgeschaltet sind, wenn sich die Schwellenspannung des Transistors 4 vom eingestellten Wert Vthn oder die Schwellenspannung des Transistors 5 sich vom eingestellten Wert Vthp unterscheidet, so daß ein Durchlaßstrom vom Versorgungsanschluß Tcc über die Transistoren 4 und 5 zur Masse GND fließt.

Wenn z. B. die Schwellenspannung des Transistor 4 geringer als der eingestellte Wert Vthn ist, schaltet der Transistor 4 durch, selbst wenn das Potential Vout des Knotens N3 höher als Vcc/2 ist. Wenn das Potential Vout des Knotens N3 höher als Vcc/2 ist, schaltet andererseits auch Transistor 5 durch. Entsprechend leiten beide Transistoren 4 und 5, und es fließt ein Strom zwischen dem Versorgungsanschluß Tcc und Masse GND.

Wie oben beschrieben worden ist, weist die 1/2-Vcc- Erzeugungsschaltung auch das Problem auf, daß der Durchlaßstrom aufgrund von Unregelmäßigkeiten in der Schwellenspannung eines MOS- Transistors bei der Herstellung ansteigt, d. h. die Leistungsaufnahme tendiert dazu, größer zu werden.

Um den Stromfluß zwischen den Widerständen 1 bis 3 zu vermindern, können die Werte der Widerstände 1 bis 3 erhöht werden. Ein Widerstandselement wird als sogenannter Diffusionswiderstand durch Eindiffundieren von N- oder P-Störstellen in ein Halbleitersubstrat gebildet. Der Wert eines Diffusionswiderstands wird bestimmt durch das Verhältnis zwischen den Längen der zwei Seiten eines (üblicherweise rechteckigen) Bereichs, in dem die Störstellen eindiffundiert sind. Der Wert eines Widerstandselements wird größer, wenn das Verhältnis der Länge der Seite parallel zur Fließrichtung des Stroms zur Länge der anderen Seite senkrecht zur Fließrichtung des Stroms zunimmt. Um die Werte der Widerstände 1 bis 3 in Fig. 7 anzuheben, muß daher die Layout-Fläche dieser Widerstände 1-3 vergrößert werden. Ein solcher Anstieg der Layout-Fläche der Komponenten ist unvorteilhaft, weil er die Großintegration (Large­ Scale-Integration) einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung verhindert.

Auch im Hinblick auf den im folgenden beschriebenen Schaltungsbetrieb einer 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung ist es schwierig, den Stromfluß zwischen den Widerständen 1 bis 3 zu vermindern.

Es wird angenommen, daß das Potential Vout des Knotens N3 gleich einem Potential (Vcc/2-α) wird, das aufgrund des Einflusses der Kapazität einer Last, der das Potential Vout zugeführt wird, geringer als das Potential (Vcc/2) ist, das ursprünglicherweise angenommen wird. In einem solchen Fall schaltet Transistor 4 durch, so daß ein Kanal zwischen einem N⁺-Bereich 200 und einem anderen N⁺- Bereich 300 gebildet wird, wie in Fig. 9 dargestellt ist. Dadurch wirkt ein (nicht dargestellter) Isolierfilm unter der Gate-Elektrode 400 als Kondensator, der das Potential des Knotens N1 an einer Elektrode und das Potential des Kanals an der anderen Elektrode empfängt. Das Kanalpotential liegt zwischen dem Potential des N⁺- Bereichs 200, d. h. dem Potential Vout (Vcc/2-α) des Knotens N3, und dem Potential des N⁺-Bereichs 300, d. h. dem Versorgungspotential Vcc.

Wenn andererseits das Potential Vout des Knotens N3 gleich einem Potential (Vcc/2+α) wird, das höher als das ursprünglich angenommene Potential (Vcc/2) ist, sperrt der Transistor 4, so daß der in Fig. 9 gezeigte Kanal zwischen den N⁺-Bereichen 200 und 300 nicht gebildet wird. Dadurch wirkt der Isolierfilm unter der Gate-Elektrode 400 als Kondensator, der das Potential des Knotens N1 an einer Elektrode und das Potential der P-Wanne 100 an der anderen Elektrode empfängt. Die P-Wanne 100 wird durch eine Substratvorspannungsschaltung oder eine ähnliche Schaltung auf z. B. ungefähr -3 V vorgespannt (wenn das Versorgungspotential Vcc gleich 5 V ist).

Entsprechend wird die Kapazität zwischen dem Gate und der Drain des Transistors 4 durch die Umschaltungen des Transistors aufgrund von Schwankungen des Potentials Vout des Knotens N3 verändert, so daß für die Kapazität zwischen dem Knoten N1 und dem Gate des Transistors 4 ein Lade- und Entladestrom fließt. Damit schwankt das Potential des Transistors 4 um das ursprünglich angenommene Potential (Vcc/2+Vthn). Diese Erscheinung tritt auch im Transistor 5 auf.

Wenn das Potential Vout des Knotens N3 höher als das ursprünglich angenommene Potential (Vcc/2) ist, wird der Transistor 5 genauer gesagt durchgeschaltet, so daß zwischen den P⁺-Bereichen 600 und 700 ein Kanal gebildet wird, wie in Fig. 10 gezeigt ist. Dadurch wirkt ein (nicht dargestellter) Isolierfilm unter der Gate-Elektrode 800 als Kondensator, der das Potential des Knotens N1 an einer Elektrode und das Potential des Kanals an der anderen Elektrode empfängt. Das Kanalpotential liegt zwischen dem Potential des P⁺-Bereichs 600, d. h. dem Massepotential 0 V, und dem Potential des P⁺-Bereichs 700, d. h. dem Potential (Vcc/2-α) des Knotens N3.

Wenn das Potential Vout des Knotens N3 andererseits niedriger als das ursprünglich angenommene Potential (Vcc/2) ist, wird der Transistor 5 gesperrt, so daß zwischen den P⁺-Bereichen 600 und 700 kein Kanal gebildet wird. Dadurch wirkt der Isolierfilm unter der Gate-Elektrode 800 als Kondensator, der das Potential des Knotens N1 an einer Elektrode und das Potential der N-Wanne 500 an der anderen Elektrode empfängt. Die N-Wanne 500 ist normalerweise auf ungefähr 5 V vorgespannt (wenn das Versorgungspotential Vcc gleich 5 V ist).

Entsprechend wird die Kapazität zwischen dem Gate und der Drain des Transistors 5 durch die Umschaltungen des Transistors 5 aufgrund von Schwankungen des Potentials Vout des Knotens N3 verändert. Daher fließt für die Kapazität zwischen dem Gate des Transistors 5 und dem Knoten N2 ein Lade- und Entladestrom, so daß das Potential des Transistors 5 um das ursprünglich angenommene Potential (Vcc/2-Vthp) schwankt.

Wenn die Gate-Potentiale der Transistoren 4 und 5 schwanken, schwankt wie oben beschrieben auch das Potential des Knotens N3, so daß von der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung kein korrektes Potential (Vcc/2) abgegeben wird. Um ein derartiges Problem zu vermeiden, ist es notwendig, den Strom zu erhöhen, der vom Versorgungsanschluß Tcc über die Widerstände 1-3 zur Masse GND fließt, so daß der Stromfluß zwischen dem Knoten N1 und dem Gate des Transistors 4 zum Aufladen und Entladen der Kapazität zwischen Gate und Drain des Transistors 4 und der Stromfluß zwischen dem Knoten N2 und dem Gate des Transistors 5 zum Aufladen und Entladen der Kapazität zwischen Gate und Drain des Transistors 5 im Vergleich zum Strom zwischen dem Versorgungsanschluß Tcc über die Widerstände 1-3 zur Masse GND ausreichend klein werden.

Wenn der Strom, der vom Versorgungsanschluß Tcc über die Widerstände 1-3 zur Masse GND fließt, ausreichend größer als ein solcher Auflade- und Entladestrom ist, schwankt das Potential des Knotens N1 durch den Stromfluß vom Knoten N1 zum Gate des Transistors 4 und den Stromfluß vom Gate des Transistors 4 zum Knoten N1 nicht so stark, und in gleicher Weise schwankt das Potential des Knotens N2 durch den Stromfluß vom Knoten N2 zum Gate des Transistors 5 und den Stromfluß vom Gate des Transistors 5 zum Knoten N2 nicht so stark.

Ein Anstieg des Stromflusses vom Versorgungsanschluß Tcc zur Masse GND, d. h. des Durchlaßstroms, führt jedoch zu einem weiteren Anstieg der Leistungsaufnahme.

Wie oben beschrieben worden ist, weist eine Spannungserzeugungsschaltung mit einer Struktur, wie sie von der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung geliefert wird, das Problem auf, daß sie für die Realisierung einer geringen Leistungsaufnahme und einer Großintegration nachteilig ist.

Nun werden die Probleme der Spannungserzeugungsschaltung mit Bezugnahme auf die in Fig. 11 gezeigte Substratvorspannungsschaltung beschrieben.

Die Spannungserzeugungsschaltung ist so konstruiert, daß negative Ladungen vom Kondensator 6 in einem konstanten Zyklus entladen werden, um den diodengeschalteten MOS-Transistor 7 durchzuschalten, der für die Zuführung der negativen Ladung an ein Halbleitersubstrat gebildet ist. Daher ist die Ausgangsspannung V_BB einer Substratvorspannungsschaltung auf eine Spannung (-Vcc+Vthp) begrenzt, die um die Schwellenspannung Vthp des MOS-Transistors 7 höher als eine negative Spannung mit demselben Absolutwert wie das eines Signals zum Aufladen des Kondensators 6, d. h. höher als der maximale Spannungspegel Vcc des Ausgangssignals vom Inverter 5 ist. Nach der Substratvorspannungsschaltung ist es daher unmöglich, das Halbleitersubstrat auf ein beliebiges Potential vorzuspannen.

Genauer gesagt ist es nur möglich, die Substratvorspannung durch Verändern der Schwellenspannung Vthp des MOS-Transistors einzustellen. Die Schwellenspannung Vthp des MOS-Transistors beträgt nahezu 0,8 V, und sie kann selbst durch eine Einstellung der Herstellungsbedingungen für den MOS-Transistor oder ähnliches nicht besonders stark verändert werden. Daher wird in einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung, bei der das Versorgungspotential Vcc z. B. gleich 5 V ist, die Substratvorspannung V_BB zu etwa -4,2 V angegeben.

In letzter Zeit ist vorgeschlagen worden, ein Versorgungspotential Vcc von ungefähr 3 V zu benutzen, das niedriger als 5 V ist, und das Halbleitersubstrat auf ein negatives Potential vorzuspannen, das höher als bei den bisherigen Einrichtungen ist, um die Betriebsgeschwindigkeit der integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung weiter zu vergrößern. Es ist bekannt, daß die Betriebsgeschwindigkeit der integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung geringer wird, wenn das Halbleitersubstrat auf ein niedrigeres negatives Potential vorgespannt wird. Es ist jedoch unmöglich, die oben beschriebenen Probleme zu vermeiden, solange das Halbleitersubstrat nicht auf ein Potential vorgespannt ist, das bis zu einem gewissen Grad niedrig ist.

Wenn z. B. in einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung mit einer Versorgungsspannung von 5 V die Substratvorspannung V_BB auf nahezu -4,2V erniedrigt wird, ist es schwierig, die Betriebsgeschwindigkeit der Einrichtung weiter zu erhöhen.

Um solche Probleme zu vermeiden und auch die Betriebsgeschwindigkeit der Einrichtung zu erhöhen, ist kürzlich vorgeschlagen worden, z. B. die Versorgungsspannung Vcc auf etwa 3 V und die Substratvorspannung V_BB auf ungefähr 1,5 V einzustellen.

In Übereinstimmung mit der Erzeugungsschaltung für die Substratvorspannung ist die Substratvorspannung V_BB jedoch auf -3 V+0,8 V, d. h. auf etwa -2,5 V begrenzt.

Wie oben beschrieben worden ist, ist die Ausgangsspannung der Spannungserzeugungsschaltung nahezu vollständig durch die Versorgungsspannung festgelegt, so daß es schwierig ist, die Betriebsgeschwindigkeit einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung weiter zu erhöhen.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Spannungserzeugungseinrichtung mit geringer Leistungsaufnahme zu schaffen. Außerdem soll eine Spannungserzeugungseinrichtung gebildet werden, bei der Unregelmäßigkeiten der elektrischen Eigenschaften ihrer Komponenten, die in einem Herstellungsprozeß auftreten, die Leistungsaufnahme nicht vergrößern. Ferner soll eine Spannungserzeugungseinrichtung geschaffen werden, die eine Großintegration einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung nicht verhindert, wenn sie in der integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung verwendet wird.

Außerdem soll eine Spannungserzeugungseinrichtung gebildet werden, bei der Schwankungen der Ausgangsspannung gemildert werden. Aufgabe der Erfindung ist weiterhin die Schaffung einer Spannungserzeugungseinrichtung, die für eine Erhöhung der Betriebsgeschwindigkeit einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung vorteilhaft ist. Ferner soll eine Spannungserzeugungseinrichtung geschaffen werden, bei der die Ausgangsspannung auf einen beliebigen Wert eingestellt werden kann. Außerdem soll eine Spannungserzeugungseinrichtung gebildet werden, die für eine Großintegration vorteilhaft ist und eine Spannung mit einem beliebigen Pegel bei geringer Leistungsaufnahme erzeugen kann.

Die Aufgabe wird gelöst durch die in Anspruch 1, 5, 10 oder 11 gekennzeichnete Einrichtung. Das Verfahren ist in Anspruch 19 gekennzeichnet. Eine erfindungsgemäße Spannungserzeugungseinrichtung ist eine Spannungserzeugungseinrichtung zum Ausgeben einer konstanten Spannung an eine vorbestimmte Last, die ein erstes und ein zweites Kondensatorelement, die in Reihe geschaltet sind, eine erste Verbindungsschaltung zum elektrischen Verbinden des Knotens zwischen dem ersten und zweiten Kondensatorelement mit einer ersten Potentialquelle, die ein konstantes Potential ausgibt, eine zweite Verbindungsschaltung zum elektrischen Verbinden des Knotens mit einer vorbestimmten Last, und eine erste und eine zweite Verbindungssteuerschaltung zum Steuern der ersten bzw. zweiten Verbindungsschaltung aufweist.

Das erste und zweite Kondensatorelement sind zwischen eine erste Potentialquelle und eine zweite Potentialquelle, die ein Potential ausgibt, das sich während eines konstanten Zyklus von einem ersten zu einem zweiten Pegel ändert, geschaltet. Die erste Verbindungsschaltung wird früher deaktiviert als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und sie wird später aktiviert als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet. Die zweite Verbindungsschaltung wird später aktiviert als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und sie wird früher deaktiviert als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet.

Das erste und zweite Kondensatorelement und die erste und zweite Verbindungsschaltung sind bevorzugterweise auf demselben Halbleitersubstrat gebildet.

Weil die erfindungsgemäße Spannungserzeugungseinrichtung wie oben beschrieben konstruiert ist, wird eine positive oder negative Ladung im Verbindungspunkt zwischen dem ersten Kondensatorelement und dem zweiten Kondensatorelement durch einen Aufladevorgang oder einen Entladevorgang des ersten und zweiten Kondensatorelements in Abhängigkeit vom Umschalten der zweiten Potentialquelle vom ersten zum zweiten Pegel akkumuliert. Damit wird das Potential dieses Verbindungspunkts gleich einem Potential, das eindeutig in Übereinstimmung mit dem Verhältnis des Kapazitätswerts des ersten Kondensatorelements zum Kapazitätswert des zweiten Kondensatorelements und die Differenzspannung zwischen dem Potential mit zweitem Pegel der zweiten Potentialquelle und dem konstanten Potential der ersten Potentialquelle bestimmt ist. Jedesmal wenn der Verbindungspunkt ein solches Potential annimmt, wird die im Verbindungspunkt akkumulierte Ladung durch die aktivierte zweite Verbindungsschaltung der vorbestimmten Last zugeführt. Entsprechend wird der vorbestimmten Last stets das eindeutig vom Verhältnis des Kapazitätswerts des ersten Kondensatorelements zum Kapazitätswert des zweiten Kondensatorelements und der Differenzspannung zwischen dem Potential mit zweitem Pegel der zweiten Potentialquelle und dem konstanten Potential der ersten Potentialquelle bestimmte Potential zugeführt.

Wenn das erste und zweite Kondensatorelement und die erste und zweite Verbindungsschaltung auf demselben Substrat gebildet sind, kann die erfindungsgemäße Spannungserzeugungseinrichtung als Schaltung verwendet werden, die in einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung enthalten ist.

Nach einem weiteren Aspekt wird die vorliegende Erfindung auf eine Halbleiterspeichereinrichtung angewandt, und die erfindungsgemäße Halbleiterspeichereinrichtung weist eine Mehrzahl von Speicherzellen, die in einer Mehrzahl von Spalten angeordnet und auf demselben Substrat gebildet sind, eine Mehrzahl von Bitleitungen, die entsprechend der Mehrzahl von Spalten gebildet und gemeinsam mit allen Speicherzellen verbunden sind, die in einer entsprechenden der Spalten angeordnet sind, eine erste und eine zweite Ein-/Ausgangsleitung zum Übertragen von Daten von außen, die in eine der Mehrzahl von Speicherzellen geschrieben werden sollen, und von Daten nach außen, die aus einer der Mehrzahl von Speicherzellen gelesen werden sollen, eine Schaltung zum Schreiben von Daten auf der ersten und zweiten Ein-/Ausgangsleitung in eine der Mehrzahl von Speicherzellen und zum Lesen von Daten aus einer Mehrzahl von Speicherzellen auf die erste und zweite Ein-/Ausgangsleitung, eine Steuerschaltung zum Steuern der Schaltung zum Schreiben und Lesen von Daten, und eine Vorladespannung-Erzeugungsschaltung zum Erzeugen einer konstanten Spannung zum Vorladen des Substrats, der Mehrzahl von Bitleitungen und der ersten und zweiten Ein-/Ausgangsleitung auf ein vorbestimmtes Potential mit positiver Polarität auf.

Die Vorladespannung-Erzeugungsschaltung weist das oben beschriebene erste und zweite Kondensatorelement, die erste und zweite Verbindungsschaltung und die erste und zweite Verbindungssteuerschaltung auf. In Übereinstimmung mit diesem Aspekt, sind die elektrisch mit dem Knoten zwischen dem ersten und zweiten Kondensatorelement durch die zweite Verbindungsschaltung zu verbindenden Lasten das Substrat, die Mehrzahl von Bitleitungen und die erste und zweite Ein-/Ausgangsleitung, die Kapazität des ersten Kondensatorelements ist gleich der Kapazität des zweiten Kondensatorelements, der erste und zweite Pegel werden auf einen niedrigen bzw. hohen Pegel eingestellt und die konstante Spannung wird auf einen niedrigen Pegel gesetzt. Durch diese Konstruktion ist es möglich, eine Halbleiterspeichereinrichtung zu realisieren, bei der nachteilige Effekte durch die Leistungsaufnahme, die belegte Fläche und Schwankungen im Ausgangspotential einer Schaltung zum Vorladen von Substrat, der Mehrzahl von Bitleitungen und der ersten und zweiten Ein-/Ausgangsleitung auf ein Potential (Vcc/2), das gleich der Hälfte des Versorgungspotentials Vcc entsprechend einem hohen Pegel ist, eliminiert werden.

Nach einem weiteren Aspekt weist eine erfindungsgemäße Halbleiterspeichereinrichtung eine Mehrzahl von Speicherzellen, eine Mehrzahl von Bitleitungen, eine erste und eine zweite Ein-/Ausgangsleitung, eine Schaltung zum Schreiben und Lesen von Daten, eine Steuerschaltung und eine Vorladespannung-Erzeugungsschaltung, die oben beschrieben worden sind, sowie eine Substratvorspannungs- Erzeugungseinrichtung, die eine negative Spannung zum Vorspannen des Siliziumsubstrats erzeugt, auf dem mindestens die Mehrzahl von Speicherzellen, die Mehrzahl von Bitleitungen, die erste und die zweite Ein-/Ausgangsleitung, die Schaltung zum Schreiben und Lesen von Daten und die Steuerschaltung gebildet sind, auf.

Die Substratvorspannung-Erzeugungsschaltung weist im wesentlichen dieselbe Struktur wie die Vorladespannung-Erzeugungsschaltung auf. Bei der Substratvorspannung-Erzeugungsschaltung werden jedoch der erste Pegel und der zweite Pegel auf einen hohen bzw. niedrigen Pegel gesetzt, und die von der zweiten Verbindungsschaltung mit dem Knoten zwischen dem ersten Kondensatorelement und dem zweiten Kondensatorelement zu verbindende Last ist das Halbleitersubstrat. Durch diese Konstruktion ist es möglich, eine Halbleiterspeichereinrichtung zu realisieren, bei der nachteilige Effekte durch die Leistungsaufnahme, die belegte Fläche und Schwankungen im Ausgangspotential der "Schaltung zum Vorladen" oder der Schaltung zum Vorspannen des Halbleitersubstrats auf ein negatives Potential wie oben beschrieben, eliminiert werden.

Bevorzugterweise empfängt diese Halbleiterspeichereinrichtung extern ein vorbestimmtes Steuersignal, die Steuerschaltung steuert die Schaltung zum Schreiben und Lesen von Daten in Abhängigkeit vom vorbestimmten Steuersignal, und die erste und zweite Verbindungssteuerschaltung der Vorladespannungs-Erzeugungsschaltung und der Substratvorspannungs-Erzeugungsschaltung weist eine Oszillatorschaltung mit einer konstanten Schwingungsperiode, eine Auswahlschaltung zum Auswählen des Ausgangssignals der Oszillatorschaltung oder des vorbestimmten Steuersignals, und eine Erzeugungsschaltung zum Erzeugen eines ersten und zweiten Signals zum Steuern der ersten bzw. zweiten Verbindungsschaltung in Abhängigkeit vom Signal, das von der Auswahlschaltung ausgewählt worden ist, auf.

Nach einem weiteren Aspekt wird die vorliegende Erfindung auf eine allgemeine integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung angewandt, und die integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung der vorliegenden Erfindung weist eine Funktionsschaltung zum Realisieren einer vorbestimmten Funktion und eine Substratvorspannungs- Erzeugungsschaltung zum Erzeugen einer Spannung zum Vorspannen eines Halbleitersubstrats, auf dem die Funktionsschaltung gebildet ist, auf ein vorbestimmtes Potential auf.

In Übereinstimmung mit diesem Aspekt weist die Substratvorspannungs- Erzeugungsschaltung dieselbe Struktur wie die oben beschriebene Spannungserzeugungseinrichtung auf und wird durch die zweite Verbindungsschaltung mit dem Halbleitersubstrat verbunden. Mit dieser Konstruktion ist es möglich, die Eigenschaften der Schaltungselemente oder ähnliches zufriedenstellend zu steuern, indem das Potential des Halbleitersubstrats auf einem gewünschten Potential gehalten wird, ohne die Leistungsaufnahme zu vergrößern.

Nach einem weiteren Aspekt, wird die vorliegende Erfindung auf ein Betriebsverfahren für eine Spannungserzeugungseinrichtung zum Erzeugen einer konstanten Spannung, die an eine vorbestimmte Last angelegt werden soll, angewandt. Die Spannungserzeugungseinrichtung weist eine erste und eine zweite Kondensatoreinrichtung, die in Reihe geschaltet sind und zwischen eine erste Potentialquelle, die ein erstes Potential ausgibt, und eine zweite Potentialquelle, die ein Potential ausgibt, das sich in einem konstanten Zyklus von einem ersten Pegel zu einem zweiten Pegel ändert, gekoppelt sind, auf. Das Betriebsverfahren weist die Schritte elektrisches Trennen des Knotens zwischen dem ersten Kondensatorelement und dem zweiten Kondensatorelement von der ersten Potentialquelle früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle vom ersten Pegel zum zweiten Pegel erfolgt, elektrisches Verbinden des Knotens mit der ersten Potentialquelle später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle vom zweiten Pegel zum ersten Pegel erfolgt, elektrisches Verbinden des Knotens mit der vorbestimmten Last später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle vom ersten Pegel zum zweiten Pegel erfolgt, und elektrisches Trennen des Knotens von der vorbestimmten Last früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle vom zweiten Pegel zum ersten Pegel erfolgt, auf.

Wie oben beschrieben worden ist, ist es nach der vorliegenden Erfindung möglich, eine Spannungserzeugungseinrichtung zu erhalten, die ein beliebiges Potential mit geringer Leistungsaufnahme erzeugen kann. Wenn die erfindungsgemäße Spannungserzeugungseinrichtung z. B. auf eine 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung angewandt wird, die in einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung enthalten ist, ist es möglich, die Leistungsaufnahme der integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung und die von der 1/2-Vcc- Erzeugungsschaltung belegte Fläche zu reduzieren.

Wenn die erfindungsgemäße Spannungserzeugungseinrichtung auf eine Substratvorspannungsschaltung angewandt wird, die in einer integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung enthalten ist, ist es möglich, das Halbleitersubstrat auf ein gewünschtes Potential vorzuladen, so daß es auch möglich ist, die Betriebsgeschwindigkeit der integrierten Halbleiterschaltungseinrichtung weiter zu verbessern.

Entsprechend ist es durch Verwenden der erfindungsgemäßen Spannungserzeugungseinrichtung möglich, die Leistungsaufnahme weiter zu vermindern und die Betriebsgeschwindigkeit einer elektronischen Schaltungseinrichtung weiter zu verbessern.

Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Figuren. Von den Figuren zeigen:

Fig. 1 ein schematisches Blockschaltbild der Gesamtkonfiguration eines DRAM nach einer Ausführungsform der Erfindung;

Fig. 2 ein schematisches Schaltbild der Struktur einer 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung von Fig. 1;

Fig. 3 ein Zeitdiagramm des Signalverlaufs der Treibersignale Φ1-Φ3, die der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung von Fig. 2 zugeführt werden;

Fig. 4 ein schematisches Blockschaltbild der Gesamtkonfiguration eines DRAM nach einer weiteren Ausführungsform der Erfindung;

Fig. 5 ein schematisches Schaltbild der Struktur einer Substratvorspannungsschaltung von Fig. 4;

Fig. 6 ein Zeitdiagramm des Signalverlaufs der Treibersignale Φ4-Φ6, die der Substratvorspannungsschaltung von Fig. 5 zugeführt werden;

Fig. 7 ein Schaltbild der Struktur einer 1/2-Vcc-Erzeugungs­ schaltung;

Fig. 8 ein Schaltbild der Struktur einer Speicherzelle in einem DRAM;

Fig. 9 einen Querschnitt der Struktur des N-Kanal MOS-Transistors 4 von Fig. 7;

Fig. 10 einen Querschnitt der Struktur des P-Kanal MOS-Transistors 5 von Fig. 7;

Fig. 11 ein Schaltbild der Struktur einer Substratvorspannungs­ schaltung;

Fig. 12 ein Zeitdiagramm des Signalverlaufs der Treibersignale Φ1, Φ2, die der Substratvorspannungsschaltung von Fig. 11 zugeführt werden;

Fig. 13 ein Schaltbild, das die allgemeine Struktur einer Ausgabeschaltung in einer Halbleiterspeichereinrichtung oder einer ähnlichen Einrichtung darstellt;

Fig. 14 einen Querschnitt zur Erläuterung eines Beispiels für Probleme, die auftreten, wenn ein Halbleitersubstrat nicht auf ein negatives Potential vorgespannt ist; und

Fig. 15 ein Schaltbild zur Erläuterung eines weiteren Beispiels für Probleme, die auftreten, wenn ein Halbleitersubstrat nicht auf ein negatives Potential vorgespannt ist.

Fig. 1 ist ein schematisches Blockschaltbild der Gesamtkonfiguration eines DRAM nach einer Ausführungsform der Erfindung. Bei dieser Ausführungsform wird eine erfindungsgemäße Spannungserzeugungsschaltung als 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung verwendet.

Ein Speicherzellenfeld 1000 weist eine Mehrzahl von Speicherzellen MC auf, die in einer Mehrzahl von Zeilen und einer Mehrzahl von Spalten angeordnet sind und jeweils die in Fig. 8 dargestellte Struktur besitzen. Die in derselben Zeile angeordneten Speicherzellen MC sind mit derselben Wortleitung WL und die in derselben Spalte angeordneten Speicherzellen MC mit derselben Bitleitung BL verbunden. Jede Bitleitung BL ist über einen Vorladesteuertransistor TRP mit einer 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung 6000 verbunden. Die Ausgangsspannung der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung 6000 wird an eine Zellenplatte, die gemeinsam mit einer Elektrode des Kondensators C aller Speicherzellen MC verbunden ist, an alle Vorladetransistoren TRP und eine I/O-Leitungsklemmschaltung 4000 angelegt.

Alle Vorladetransistoren TRP werden zusammen vom Steuerschaltkreis 1600 gesteuert und in einen Durchlaßzustand gebracht, um die Ausgangsspannung von der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung 6000 während der Zeitspanne, in der weder ein Schreiben noch ein Lesen von Daten ausgeführt wird, an eine entsprechende der Bitleitungen BL anzulegen. Das bewirkt, daß jede Bitleitung BL in dieser Zeit auf ein Potential (Vcc/2) vorgeladen wird, das halb so groß wie das Versorgungspotential ist.

Die I/O-Leitungsklemmschaltung 4000 klemmt die Potentiale der zwei I/O-Leitungen IO1, IO2, die beim Lesen und Schreiben von Daten zueinander komplementäre Signale entsprechend den Daten übertragen, mit der Ausgangsspannung der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung 6000 während einer Zeitspanne fest, in der weder ein Lesen noch ein Schreiben von Daten ausgeführt wird. Dadurch werden die I/O-Leitungen IO1, IO2 während einer Zeitspanne, in der weder ein Lesen noch ein Schreiben von Daten ausgeführt wird, auf ein Potential Vcc/2 vorgeladen, das gleich der Hälfte des Versorgungspotentials Vcc ist.

Ein Adreßpuffer 1500 puffert ein extern zugeführtes Adreßsignal und legt es an einen Zeilendekoder 2000 und einen Spaltendekoder 3000 an.

Der Zeilendekoder 2000 dekodiert das angelegte Adreßsignal und sorgt dafür, daß nur eine der Wortleitungen WL beim Lesen und Schreiben von Daten das Potential mit hohem Pegel erreicht. Das ermöglicht ein Schreiben von Daten in die Speicherzellen MC einer Zeile, die mit der einen Wortleitung verbunden sind, oder ein Lesen von Daten aus ihnen.

Beim Datenlesen verstärkt ein Leseverstärker 3500 die Potentialänderung der jeweiligen Bitleitung.

Beim Datenlesen überträgt der Spaltendekoder 3000 zueinander komplementäre Signale in Übereinstimmung mit einem Signal aus den vom Leseverstärker 3500 verstärkten Signalen, das von einer der Bitleitungen BL in Abhängigkeit vom angelegten Adreßsignal erhalten wird, zu den Ein-/Ausgangsleitungen IO1 und IO2. Beim Datenschreiben legt der Spaltendekoder 3000 eine Spannung mit einem Pegel entsprechend den Potentialen der I/O-Leitungen IO1 und IO2 an eine der Bitleitungen BL in Abhängigkeit vom zugeführten Adreßsignal an.

Beim Datenschreiben zwingt die Ein-/Ausgabeschaltung 5000 die I/O- Leitungen IO1 und IO2 auf zueinander komplementäre Potentiale entsprechend den externen Daten. Beim Datenlesen gibt die Ein-/Ausgabeschaltung 5000 Daten entsprechend den zueinander komplementären Potentialen der I/O-Leitungen IO1 und IO2 nach außen ab.

Die Steuerschaltung 1600 steuert den Betrieb dieser Schaltungen in Abhängigkeit von einem externen Steuersignal, wie z. B. einem Zeilenadreß-Abtastsignal RAS oder ähnlichem.

Der Betrieb der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung 6000 wird bei dieser Ausführungsform von drei Treibersignalen Φ1-Φ3 gesteuert.

Fig. 2 zeigt das Schaltbild einer Struktur der 1/2-Vcc- Erzeugungsschaltung 6000. Fig. 3 ist ein Zeitdiagramm, das Potentialänderungen der Treibersignale Φ1-Φ3 während einer Zeitspanne darstellt, in der die 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung 6000 arbeiten sollte.

Unter Bezugnahme auf die Fig. 2 und 3 werden nun Struktur und Betrieb der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung 6000 nach dieser Ausführungsform beschrieben.

Die 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung weist einen Inverter 10 zum Invertieren des Treibersignals Φ1, zwei Kondensatoren 20, 30, die zwischen dem Ausgangsanschluß des Inverters 10 und Masse GND in Reihe geschaltet sind, einen Inverter 40 zum Invertieren des Treibersignals Φ2 und einen Inverter 50 zum Invertieren des Treibersignals Φ3 auf.

Diese 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung weist ferner einen P-Kanal MOS- Transistor 60 und einen N-Kanal MOS-Transistor 70, die zwischen dem Knoten (Knoten N6) der Kondensatoren 20 und 30 und Masse parallel geschaltet sind, und einen P-Kanal MOS-Transistor 80 und einen N- Kanal MOS-Transistor 90, die zwischen dem Knoten N6 und dem Ausgangsanschluß (einem Knoten N7) der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung parallel geschaltet sind, auf. Das Treibersignal Φ2 und das Ausgangssignal des Inverters 40 werden den Gates der Transistoren 60 bzw. 70 zugeführt. Das Treibersignal Φ3 und das Ausgangssignal des Inverters 50 werden den Gates der Transistoren 80 bzw. 90 zugeführt.

Während einer Zeitspanne, in der die 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung nicht arbeiten sollte (diese Zeitspanne wird im folgenden als Wartezeit bezeichnet), sind die Treibersignale Φ1, Φ2 und Φ3 auf ein Versorgungspotential Vcc entsprechend einem hohen Pegel, ein Massepotential von 0 V entsprechend einem niedrigen Pegel bzw. ein Potential Vcc des hohen Pegels gelegt, wie in den Fig. 3(a), (b) und (c) dargestellt ist.

Entsprechend sind während der Wartezeit die Transistoren 60 und 70 beide durchgeschaltet, um den Knoten N6 auf Masse zu legen, und die Transistoren 80 und 90 sind beide gesperrt, um den Knoten N6 vom Ausgangsanschluß N7 zu trennen. Während dieser Zeitspanne befindet sich ferner das Ausgangspotential des Inverters 10 auf einem niedrigen Pegel, so daß weder der Kondensator 20 noch der Kondensator 30 aufgeladen wird.

Während einer Zeitspanne, in der die 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung arbeiten sollte (diese Zeitspanne wird im folgenden als Betriebszeit bezeichnet), steigt zuerst das Treibersignal Φ2 auf den hohen Pegel an (Fig. 3(b)). Das bewirkt, daß die Transistoren 60 und 70 beide sperren, um den Knoten N6 elektrisch von der Masse GND zu trennen und in einen schwebenden Zustand zu bringen.

Als nächstes fällt das Treibersignal Φ1 auf den niedrigen Pegel ab. Das bewirkt, daß das Ausgangspotential des Inverters 10 einen hohen Pegel erreicht, so daß die Kondensatoren 20 und 30 geladen werden, und das Potential des Knotens N6 gleich einem Potential wird, das vom Verhältnis der Kapazität des Kondensators 20 zur Kapazität des Kondensators 30 bestimmt wird.

Für den Fall, daß einer Reihenschaltung einer Mehrzahl von Kondensatoren eine bestimmte Spannung V zugeführt wird, wobei ein Ende der Reihenschaltung auf Masse liegt und die Kapazität der Mehrzahl von Kondensatoren durch C1, C2, . . . , Cn ausgedrückt wird, wird ausgehend vom Kondensator auf der Seite nahe der Masse das Potential des Verbindungspunkts zwischen dem j-ten Kondensator und dem (j+1)-ten Kondensator durch folgenden Ausdruck angegeben (j<n).

V(C1+C2+ . . . +Cj)/(C1+C2+ . . . +Cn).

Wenn die Kapazität der Kondensatoren 20 und 30 durch C₂₀ bzw. C₃₀ ausgedrückt wird, ist das Potential des Knotens N6 entsprechend durch folgenden Ausdruck gegeben.

Vcc*C₃₀/(C₂₀+C₃₀).

Bei dieser Ausführungsform werden die Kapazität C₂₀ des Kondensators 20 und die Kapazität C₃₀ des Kondensators 30 gleich gemacht, so daß der Wert des oben angeführten Ausdrucks gleich Vcc/2 ist.

Dann nimmt das Treibersignal Φ3 (Fig. 3(c)) einen niedrigen Pegel an. Das bewirkt, daß die Transistoren 80 und 90 beide durchschalten und den Knoten N6 elektrisch mit dem Ausgangsanschluß N7 verbinden. Damit wird die im Knoten N6 akkumulierte Ladung dem Knoten N7 zugeführt, und das Potential des Knotens N6 bevor die Transistoren 80 und 90 durchgeschaltet worden sind, d. h. Vcc/2, erscheint am Knoten N7. Genauer gesagt wird von der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung das Potential Vcc/2 der Zellenplatte, dem Vorladesteuertransistor TRP und der I/O-Leitungsklemmschaltung zugeführt (siehe Fig. 1).

Dann kehrt das Treibersignal Φ3 zum hohen Pegel zurück. Dadurch werden die beiden Transistoren 80 und 90 gesperrt, so daß der Knoten N6 erneut einen schwebenden Zustand einnimmt.

Dann kehrt das Treibersignal Φ1 zum hohen Pegel zurück. Dadurch nimmt das Ausgangspotential des Inverters 10 einen niedrigen Pegel an, so daß die Kondensatoren 20 und 30 beide entladen werden.

Anschließend kehrt das Treibersignal Φ2 zum niedrigen Pegel zurück. Dadurch werden die beiden Transistoren 60 und 70 durchgeschaltet, so daß die Ladung vollständig vom Knoten N6 entfernt wird und das Potential des Knotens N6 gleich dem Massepotential wird.

Anschließend wird während der Betriebszeit eine Reihe von Potentialänderungen der Treibersignale Φ1-Φ3 wie oben beschrieben wiederholt, damit während eines konstanten Zyklus eine positive Ladung der Größe entsprechend dem Potential Vcc/2 vom Knoten N6 über die Transistoren 80 und 90 an vorbestimmte Schaltungen ausgegeben wird.

Somit werden bei dieser 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung die Aufladung der in Reihe geschalteten Kondensatoren 20, 30, die Übertragung der am Verbindungspunkt N6 zwischen den Kondensatoren akkumulierten Ladung zum Ausgangsanschluß N7, das Unterbrechen der elektrischen Verbindung zwischen dem Verbindungspunkt N6 und dem Ausgangsanschluß N7, und die Initialisierung des Potentials am Verbindungspunkt N6 wiederholt ausgeführt, damit das Potential Vout des Ausgangsanschlusses N7 auf dem Potential des Verbindungspunkts N6 in dem Zustand fixiert wird, in dem die Kondensatoren 20, 30 vollständig geladen sind.

In Übereinstimmung mit der oben angeführten Ausführungsform wird die Zeitspanne zwischen dem Zeitpunkt, zu dem mit der Übertragung der im Knoten N6 akkumulierten Ladung zum Ausgangsanschluß N7 beginnt, und dem Zeitpunkt, wenn der Knoten N6 vom Ausgangsanschluß N7 elektrisch getrennt wird, um die Kondensatoren 20, 30 erneut voll aufzuladen, d. h. die Zeitspanne τ in Fig. 3(c), entsprechend der Summe der Kapazitäten der Lasten, wie z. B. der Bitleitungen BL, der I/O- Leitungen IO1, IO2, der Zellenplatte oder ähnlichem, denen die Ausgangsspannung der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung zugeführt wird, eingestellt.

Genauer gesagt wird die vom Knoten N6 über die Transistoren 80, 90 diesen Lasten in Abhängigkeit vom Anstieg des Treibersignals Φ3 zugeführte Ladung von diesen Lasten aufgenommen, so daß das Ausgangspotential Vout der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung allmählich ausgehend vom ursprünglichen Potential Vcc/2 absinkt. Daher wird das Treibersignal Φ3 zu solchen Zeitpunkten auf einen hohen Pegel angehoben, um die Kondensatoren 20 und 30 erneut vollständig aufzuladen und Ladung entsprechend Vcc/2 im Knoten N6 zu akkumulieren, bevor das Ausgangspotential Vout signifikant unter Vcc/2 absinkt.

Für den Fall, daß die Kapazität der Last groß ist, ist es notwendig, die Kapazität der Kondensatoren 20 und 30 zu erhöhen, um die vom Knoten N6 den Lasten zugeführte Ladungsmenge zu vergrößern. Die Kapazität eines auf einem Halbleitersubstrat gebildeten Kondensators wächst mit seiner Fläche. Für den Fall, daß die Kapazität der Lasten groß ist, werden entsprechend auch die Layout-Flächen der Kondensatoren 20, 30 auf dem Halbleitersubstrat größer. Die Layout- Fläche eines Kondensators auf einem Halbleitersubstrat ist jedoch erheblich kleiner als ein Diffusionswiderstand auf einem Halbleitersubstrat. Selbst wenn die Kapazität der Kondensatoren 20, 30 auf einen großen Wert eingestellt wird, sind die Layout-Flächen der Kondensatoren 20, 30 ausreichend kleiner als die vergleichbaren Layout-Flächen der Widerstandselemente 1-3 auf dem Halbleitersubstrat einer 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung, die in Fig. 7 dargestellt ist.

Nach der oben beschriebenen Ausführungsform verwenden ein Transfergatter zum Übertragen von Ladung zwischen dem Knoten N6, in dem eine Ladungsmenge entsprechend dem gewünschten Potential Vcc/2 wiederholt akkumuliert wird, und den Lasten und ein Transfergatter, das zwischen dem Knoten N6 und Masse GND gebildet ist, um das Potential des Knotens N6 zu initialisieren, beide eine Parallelschaltung aus einem P-Kanal MOS-Transistor und einem N-Kanal MOS-Transistor. Es ist jedoch auch möglich, nur einen P-Kanal MOS- Transistor oder nur einen N-Kanal MOS-Transistor als solches Transfergatter zu verwenden. Ein solches Transfergatter kann genauer gesagt jede Art von Schaltelementen benutzen, deren Durch­ laß-/Sperrzustand so gesteuert werden kann, daß die elektrische Verbindung/Trennung zwischen dem Knoten N6 und der Masse GND und zwischen dem Knoten N6 und dem Ausgangsanschluß N7 während solcher Zeiten erfolgt, wie sie bei der oben angeführten Ausführungsform beschrieben sind.

Wie oben beschrieben worden ist, benötigt die 1/2-Vcc- Erzeugungsschaltung nach dieser Ausführungsform keine Reihenschaltung (siehe Fig. 7) einer Mehrzahl von Widerstandselementen 1-3, die zwischen einem Versorgungsanschluß Tcc und Masse GND gebildet sind, um ein gewünschtes Potential Vcc/2 zu erhalten, und das Potential wird einer vorbestimmten Last zugeführt, indem die durch Aufladen der Kondensatoren 20, 30 akkumulierte Ladung der Last zugeführt wird. Daher wird nach der 1/2-Vcc- Erzeugungsschaltung dieser Ausführungsform der Durchlaßstrom im Betrieb erheblich vermindert, und ein Anstieg der Layout-Fläche durch die Widerstandselemente wird vermieden.

Darüber hinaus benutzt die 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung nach dieser Ausführungsform keinen Umschaltbetrieb eines MOS-Transistors, um einen vorbestimmten Knoten N6 auf einem gewünschten Potential zu halten. Daher tritt bei der 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung nach dieser Ausführungsform kein Problem auf, das durch Schwankungen des Gate- Potentials des MOS-Transistors verursacht wird.

Die Treibersignale Φ1-Φ3 können von außerhalb des DRAM zugeführt oder innerhalb des DRAM erzeugt werden. Fig. 1 zeigt einen Fall, in dem die Treibersignale Φ1-Φ3 innerhalb des DRAM erzeugt werden.

Wie in Fig. 1 gezeigt ist, sind eine Schaltung 7000 zum Erzeugen eines Signals, dessen Pegel in einem konstanten Zyklus invertiert wird, z. B. ein Ringoszillator, eine Signalauswahlschaltung 8000 zum Auswählen von entweder dem Ausgangssignal der Schaltung 7000 oder eines externen Steuersignals, das die Deaktivierung/Aktivierung des Schaltungsbetriebs des DRAM bestimmt, wie z. B. ein Zeilenadreß- Abtastsignal RAS, und eine Treibersignal-Erzeugungsschaltung 9000, die auf der Basis des von der Signalauswahlschaltung 8000 ausgewählten Signals arbeitet, für die Treibersignale Φ1-Φ3 gebildet.

In einer Zeitspanne, in der das externe Steuersignal die Deaktivierung des Schaltungsbetriebs des DRAM bestimmt, wählt die Signalauswahlschaltung 8000 das externe Steuersignal aus, und in der Zeitspanne, während der das externe Steuersignal die Aktivierung des Schaltungsbetriebs des DRAM bestimmt, wählt die Signalauswahlschaltung 8000 das Ausgangssignal der Schaltung 7000 aus.

Während der Zeit, in der das externe Steuersignal von der Signalauswahlschaltung 8000 ausgewählt ist, hält die Treibersignal- Erzeugungsschaltung 9000 auf der Basis des externen Steuersignals die Treibersignale Φ1-Φ3 auf den Potentialen in der Wartezeit, die in Fig. 3 gezeigt sind. Während der Zeit, in der das Ausgangssignal der Schaltung 7000 von der Signalauswahlschaltung 8000 ausgewählt ist, erzeugt die Treibersignal-Erzeugungsschaltung 9000 Treibersignale Φ1-Φ3, deren Potentiale sich während der Betriebszeit von Fig. 3 in Abhängigkeit vom Ausgangssignal des Schaltkreises 7000 ändern.

Fig. 4 zeigt ein schematisches Blockschaltbild der Gesamtkonfiguration eines DRAM nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Bei dieser Ausführungsform wird eine erfindungsgemäße Spannungserzeugungsschaltung nicht nur als 1/2-Vcc- Erzeugungsschaltung sondern auch als Substratvorspannungs- Erzeugungsschaltung 6500 benutzt.

Struktur und Betrieb der Teile mit Ausnahme der Substratvorspannungs-Erzeugungsschaltung 6500 des DRAM nach dieser Ausführungsform stimmen mit dem Fall der in Fig. 1 gezeigten Ausführungsform überein, so daß deren Beschreibung nicht wiederholt wird. Im Gegensatz zur Ausführungsform von Fig. 1 erzeugt die Treibersignal-Erzeugungsschaltung 9000 zusätzlich zu den Treibersignalen Φ1-Φ3 für die 1/2-Vcc-Erzeugungsschaltung 6000 auch Treibersignale Φ4-Φ6 für die Substratvorspannungs- Erzeugungsschaltung 6500.

Unter Bezugnahme auf die Fig. 5 und 6 werden nun Struktur und Betrieb der Substratvorspannungs-Erzeugungsschaltung 6500 nach dieser Ausführungsform beschrieben.

Fig. 5 zeigt ein Schaltbild der Struktur der Substratvorspannungsschaltung 6500 und Fig. 6 ein Zeitdiagramm der Potentialänderungen der Treibersignale Φ4-Φ6 während der Betriebszeit der Substratvorspannungsschaltung 6500.

Die Substratvorspannungsschaltung 6500 weist einen Inverter 15, der zum Invertieren des Treibersignals Φ4, zwei Kondensatoren 25, 35, die zwischen dem Ausgangsanschluß des Inverters 15 und Masse GND in Reihe geschaltet sind, einen P-Kanal MOS-Transistor 65, der zwischen den Knoten (Knoten N8) der Kondensatoren 25 und 35 und Masse geschaltet ist, und einen P-Kanal MOS-Transistor 85, der zwischen den Knoten N8 und einen Knoten N9 geschaltet ist, auf. Der Knoten N9 ist mit einem (nicht dargestellten) Halbleitersubstrat verbunden, auf dem der DRAM gebildet ist.

Die Treibersignale Φ5 und Φ6 werden den Gates der Transistoren 65 bzw. 85 zugeführt.

Während der Wartezeit der Substratvorspannungsschaltung 6500 sind die Treibersignale Φ4 (Fig. 6(a)) auf einem niedrigen, Φ5 (Fig. 6(b)) auf einem niedrigen und Φ6 (Fig. 6(c)) auf einem hohen Pegel fixiert. Entsprechend ist in der Wartezeit der Transistor 65 durchgeschaltet, während Transistor 85 sperrt, so daß der Knoten N8 auf dem Massepotential von 0 V liegt. Das Ausgangspotential des Inverters 15 liegt auf hohem Pegel, so daß der Kondensator 35 einen aufgeladenen Zustand aufweist.

Wenn die Substratvorspannungsschaltung 6500 den Betrieb aufnimmt, erreicht zuerst das Treibersignal Φ5 einen hohen Pegel. Dadurch wird Transistor 65 gesperrt, so daß der Knoten N8 in einen schwebenden Zustand gebracht wird.

Dann erreicht das Treibersignal Φ4 einen hohen Pegel. Das bewirkt, daß das Ausgangssignal des Inverters 15 einen niedrigen Pegel annimmt, so daß negative Ladungen vom Kondensator 35 zum Kondensator 25 abfließen. Dadurch wird das Potential des Knotens N8 gleichen einem Potential entsprechend dem Verhältnis der Kapazität des Kondensators 25 zur Kapazität des Kondensators 35, das durch folgenden Ausdruck gegeben ist. Im folgenden Ausdrucke geben C₂₅ und C₃₅ die Kapazitäten der Kondensatoren 25 bzw. 35 an.

-Vcc * C₃₅/(C₂₅ + C₃₅).

Dann wird das Treibersignal Φ6 auf ein Potential (-VA) abgesenkt, das niedriger als das durch den obigen Ausdruck angegebene Potential ist. Dadurch wird der Transistor 85 durchgeschaltet, so daß die negative Ladung im Knoten N8 dem Knoten N9 zugeführt wird, und das Potential des Knotens N9 gleich dem Potential wird, das der obige Ausdruck angibt. Das bedeutet, daß -Vcc * C₃₅/(C₂₅ + C₃₅) als Substratvorspannung V_BB von der Substratvorspannungsschal 06276 00070 552 001000280000000200012000285910616500040 0002004234667 00004 06157tung 6500 ausgegeben wird.

Dann kehrt das Treibersignal Φ6 auf einen hohen Pegel zurück. Dadurch wird Transistor 85 gesperrt, so daß Knoten N8 in einen schwebenden Zustand gebracht wird.

Nun kehrt das Treibersignal Φ4 auf einen niedrigen Pegel zurück. Das bewirkt, daß das Ausgangspotential des Inverters 15 einen hohen Pegel annimmt, so daß die Kondensatoren 25 und 35 aufgeladen werden und das Potential des Knotens N8 ansteigt.

Dann kehrt das Treibersignal Φ5 auf einen niedrigen Pegel zurück. Dadurch wird Transistor 65 durchgeschaltet, so daß eine positive Ladung vom Knoten N8 abgezogen wird. Damit wird derselbe Zustand erreicht wie während der Wartezeit, d. h. der Zustand, in dem das Potential des Knotens N8 gleich dem Massepotential und nur der Kondensator 35 geladen ist.

Anschließend wiederholen die Treibersignale Φ4-Φ6 während der Betriebszeit eine Reihe von oben beschriebenen Potentialänderungen in einem konstanten Zyklus. Damit wird eine negative Ladungsmenge entsprechend -Vcc * C₃₅/(C₂₅ + C₃₅) vom Knoten N8 über den Transistor 85 zum Halbleitersubstrat in einem konstanten Zyklus geführt.

Wie oben beschrieben worden ist, wird in der Substratvorspannungsschaltung nach dieser Ausführungsform ein Aufladen von einem Kondensator 35 der in Reihe geschalteten Kondensatoren 25, 35, ein Entladen von einem Kondensator in dem Zustand, wenn der Verbindungspunkt N8 zwischen den Kondensatoren 25, 35 in einem schwebenden Zustand ist, und ein Zuführen negativer Ladung vom Verbindungspunkt N8 an das Halbleitersubstrat wiederholt ausgeführt, so daß stets ein Potential an das Halbleitersubstrat angelegt wird, das durch den Ausdruck -Vcc * C₃₅/(C₂₅ + C₃₅) gegeben ist.

Die Länge der Zeitspanne τ zwischen dem Zeitpunkt, wenn das Treibersignal Φ6 abgesenkt wird, und dem Zeitpunkt, wenn es erneut angehoben wird, d. h. die Zeitdauer zwischen dem Beginn der Zuführung negativer Ladung vom Knoten N8 über den Transistor 85 zum Halbleitersubstrat und dem Beginn der Initialisierung der Kondensatoren 25, 35 und des Knotens N8 zur Akkumulierung einer negativen Ladungsmenge entsprechend der gewünschten Substratvorspannung im Knoten N8, wird entsprechend einer erwarteten positiven Ladungsmenge eingestellt, die im Halbleitersubstrat erzeugt wird.

Eine Aufhebung der vom Knoten N8 dem Halbleitersubstrat zugeführten negativen Ladung und der positiven Ladung im Halbleitersubstrat bewirkt, daß das Potential des Knotens N9 ausgehend vom ursprünglich angenommenen Potential -Vcc * C₃₅/(C₂₅ + C₃₅) allmählich absinkt.

Daher wird das Treibersignal Φ6 so angehoben, daß erneut eine negative Ladung im Knoten N8 akkumuliert wird, bevor das Potential des Knotens N9 ausgehend vom ursprünglich angenommenen Potential durch die Zuführung negativer Ladung vom Knoten N8 zum Knoten N9 signifikant ansteigt.

Wie oben beschrieben worden ist, kann nach der Substratvorspannungsschaltung dieser Ausführungsform das Halbleitersubstrat stets auf ein beliebiges negatives Potential -Vcc oder mehr entsprechend dem Verhältnis der Kapazität C₂₅ des Kondensators 25 zur Kapazität C₃₅ des Kondensators 35 vorgespannt werden.

Wenn die gewünschte Substratvorspannung gleich -k*Vcc ist, kann eine solche gewünschte Spannung genauer gesagt als Substratvorspannung an das Halbleitersubstrat angelegt werden, indem man die Kondensatoren 25 und 35 so bildet, daß das Verhältnis (C₂₅/C₃₅) der Kapazität c₂₅ des Kondensators 25 zur Kapazität C₃₅ des Kondensators 35 gleich dem Wert (1/k-1) ist (0<k<1).

Daher ist es nach dieser Ausführungsform möglich, die Betriebsgeschwindigkeit des DRAM weiter zu erhöhen, indem das Halbleitersubstrat auf ein höheres negatives Potential vorgespannt wird.

Nach der oben angeführten Ausführungsform sind MOS-Transistoren 65, 85 als Transfergatter zwischen dem Knoten N8, in dem eine negative Ladung akkumuliert wird, und dem Halbleitersubstrat bzw. zwischen dem Knoten N8 und der Masse GND gebildet. Es kann jedoch jede Art von Schaltelementen als Transfergatter benutzt werden, selbst wenn sie keine MOS-Transistoren sind, solange sie das Durchschalten/Sperren so steuern können, daß eine Akkumulation negativer Ladung im Knoten N8 und die Zuführung negativer Ladung vom Knoten N8 an das Halbleitersubstrat während der oben beschriebenen Zeiten wiederholt wird.

Wie oben beschrieben ist, ist es nach einer erfindungsgemäßen Spannungserzeugungsschaltung möglich, ein beliebiges Potential entsprechend dem Verhältnis der Kapazitäten von in Reihe geschalteten Kondensatoren konstant zu erzeugen, wobei nur ein geringer Durchlaßstrom auftritt. Dadurch werden eine 1/2-Vcc- Erzeugungsschaltung mit geringer Leistungsaufnahme, eine Substratvorspannungsschaltung, die ein Halbleitersubstrat auf ein beliebiges Potential vorspannen kann, und ähnliche Schaltungen geschaffen.

Es ist wünschenswert, daß die Ausgangsspannung einer Spannungserzeugungsschaltung nach der vorliegenden Erfindung dazu benutzt wird, eine Last auf einem vorbestimmten Potential zu halten, in der kein Strom bei hoher Geschwindigkeit verbraucht wird, wie z. B. zum Vorladen einer Signalleitung, zum Vorspannen eines Halbleitersubstrats etc.

Obwohl die vorliegende Erfindung in allen oben angegebenen Ausführungsformen auf eine integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung angewandt worden ist, muß eine Spannungserzeugungsschaltung nach der vorliegenden Erfindung nicht notwendigerweise auf einem Halbleitersubstrat gebildet sein. Sie kann auch durch diskrete Elemente gebildet werden.

Claims (19)

1. Spannungserzeugungseinrichtung (6000, 6500) zum Erzeugen einer konstanten Spannung, die an eine vorbestimmte Last angelegt werden soll, gekennzeichnet durch
eine erste (20, 25) und eine zweite Kondensatoreinrichtung (30, 35), die zwischen einer ersten Potentialquelle (GND) zum Ausgeben eines konstanten Potentials und einer zweiten Potentialquelle (10, 15) zum Ausgeben eines Potentials, das sich in einem konstanten Zyklus von einem ersten Pegel zu einem zweiten Pegel ändert, in Reihe geschaltet sind,
eine erste Verbindungseinrichtung (60, 65, 70) zum elektrischen Verbinden eines Verbindungspunkts (N6, N8) zwischen der ersten (20, 25) und zweiten Kondensatoreinrichtung (30, 35) mit der ersten Potentialquelle (GND),
eine zweite Verbindungseinrichtung (80, 85, 90) zum elektrischen Verbinden des Verbindungspunkts (N6, N8) mit der vorbestimmten Last,
eine erste Verbindungssteuereinrichtung (Φ2, Φ5) zum Deaktivieren der ersten Verbindungseinrichtung (60, 65, 70) früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und zum Aktivieren der ersten Verbindungseinrichtung (60, 65, 70) später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet, und
eine zweite Verbindungssteuereinrichtung (Φ3, Φ6) zum Aktivieren der zweiten Verbindungseinrichtung (80, 85, 90) später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und zum Deaktivieren der zweiten Verbindungseinrichtung (80, 85, 90) früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet.

2. Spannungserzeugungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und zweite Kondensatoreinrichtung (20, 25, 30, 35) und die erste und zweite Verbindungseinrichtung (60, 65, 70, 80, 85, 90) auf demselben Halbleitersubstrat gebildet sind.

3. Spannungserzeugungseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Polarität der konstanten Spannung positiv ist, der erste und der zweite Pegel ein niedriger Pegel bzw. ein hoher Pegel ist, und das konstante Potential auf dem ersten Pegel liegt.

4. Spannungserzeugungseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Polarität der konstanten Spannung negativ ist, der erste und der zweite Pegel ein hoher Pegel bzw. ein niedriger Pegel ist, und das konstante Potential auf dem zweiten Pegel liegt.

5. Halbleiterspeichereinrichtung, gekennzeichnet durch
eine Mehrzahl von Speicherzellen (MC), die in einer Mehrzahl von Spalten angeordnet und auf demselben Substrat (1000) gebildet sind,
eine Mehrzahl von Bitleitungen (BL), die entsprechend der Mehrzahl von Spalten gebildet und gemeinsam mit allen Speicherzellen verbunden sind, die in einer entsprechenden der Spalten angeordnet sind,
eine erste und eine zweite Ein-/Ausgangsleitung (IO1, IO2) zum Übertragen von Daten von außen, die in eine der Mehrzahl von Speicherzellen (MC) geschrieben werden sollen, und von Daten nach außen, die aus einer der Mehrzahl von Speicherzellen (MC) gelesen worden sind,
eine Schaltungseinrichtung (1500, 2000, 3000, 3500) zum Schreiben von Daten auf der ersten und zweiten Ein-/Ausgangsleitung (IO1, IO2) in eine der Mehrzahl von Speicherzellen (MC) und zum Lesen von Daten aus einer Mehrzahl von Speicherzellen (MC) auf die erste und zweite Ein-/Ausgangsleitung (IO1, IO2),
eine Steuereinrichtung (1600) zum Steuern der Schaltungseinrichtung (1500, 2000, 3000, 3500), und
eine Spannungserzeugungseinrichtung (6000, 6500) zum Erzeugen einer konstanten Spannung mit positiver Polarität, die an eine vorbestimmte Last angelegt werden soll,
wobei die Spannungserzeugungseinrichtung
eine erste (20, 25) und eine zweite (30, 35) Kondensatoreinrichtung, die zwischen einer ersten Potentialquelle (GND) zum Ausgeben eines konstanten Potentials und einer zweiten Potentialquelle (10, 15) zum Ausgeben eines Potentials, das sich in einem konstanten Zyklus von einem ersten Pegel zu einem zweiten Pegel ändert, in Reihe geschaltet sind,
eine erste Verbindungseinrichtung (60, 65, 70) zum elektrischen Verbinden eines Verbindungspunkts (N6, N8) zwischen der ersten (20, 25) und zweiten Kondensatoreinrichtung (30, 35) mit der ersten Potentialquelle (GND),
eine zweite Verbindungseinrichtung (80, 85, 90) zum elektrischen Verbinden des Verbindungspunkts (N6, N8) mit der vorbestimmten Last,
eine erste Verbindungssteuereinrichtung (Φ2, Φ5) zum Deaktivieren der ersten Verbindungseinrichtung (60, 65, 70) früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und zum Aktivieren der ersten Verbindungseinrichtung (60, 65, 70) später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet, und
eine zweite Verbindungssteuereinrichtung (Φ3, Φ6) zum Aktivieren der zweiten Verbindungseinrichtung (80, 85, 90) später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und zum Deaktivieren der zweiten Verbindungseinrichtung (80, 85, 90) früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet, aufweist,
wobei die Kapazität der ersten Kondensatoreinrichtung (20) gleich der Kapazität der zweiten Kondensatoreinrichtung (30) ist, der erste und der zweite Pegel ein niedriger Pegel bzw. ein hoher Pegel ist, und die vorbestimmte Last das Substrat (1000), die Mehrzahl von Bitleitungen (BL) und die erste und zweite Ein-/Ausgabeleitung (IO1, IO2) umfaßt.

6. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Halbleiterspeichereinrichtung ein vorbestimmtes Steuersignal empfängt,
die Steuereinrichtung (1600) die Schaltungseinrichtung (1500, 2000, 3000, 3500) in Abhängigkeit vom vorbestimmten Steuersignal steuert, und
die erste und die zweite Verbindungssteuereinrichtung (Φ2, Φ3, Φ5, Φ6) eine Oszillatoreinrichtung (7000) mit einer konstanten Schwingungsperiode, eine Auswahleinrichtung (8000) zum Auswählen von entweder dem Ausgangssignal der Oszillatoreinrichtung (7000) oder dem vorbestimmten Steuersignal, und eine Erzeugungseinrichtung (9000) zum Erzeugen eines ersten und eines zweiten Signals (Φ2, Φ3) zum Steuern der ersten bzw. zweiten Verbindungseinrichtung (60, 65, 70, 80, 85, 90) in Abhängigkeit vom Signal, das von der Auswahleinrichtung (8000) ausgewählt worden ist, aufweist.

7. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Verbindungseinrichtung (60, 65, 70) ein erstes Schaltelement (60, 70), das zwischen die erste Potentialquelle (GND) und den Verbindungspunkt (N6, N8) geschaltet ist und dessen Durchlaß-/Sperrzustand vom ersten Signal (Φ2) gesteuert wird, aufweist, und
die zweite Verbindungseinrichtung (80, 85, 90) ein zweites Schaltelement (80, 90), das zwischen den Verbindungspunkt (N6, N8) und die vorbestimmte Last geschaltet ist und dessen Durch­ laß-/Sperrzustand vom zweiten Signal (Φ3) gesteuert wird, aufweist.

8. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
das erste Schaltelement (60, 70) ein Feldeffekt-Halbleiterelement mit einem ersten Leitungsanschluß, der mit der ersten Potentialquelle (GND) verbunden ist, einem zweiten Leitungsanschluß, der mit dem Verbindungspunkt (N6, N8) verbunden ist, und einem Steueranschluß, der das erste Signal (Φ2) empfängt, aufweist, und
das zweite Schaltelement (80, 90) ein Feldeffekt-Halbleiterelement mit einem ersten Leitungsanschluß, der mit der vorbestimmten Last verbunden ist, einem zweiten Leitungsanschluß, der mit dem Verbindungspunkt (N6, N8) verbunden ist, und einem Steueranschluß, der das zweite Signal (Φ3) empfängt, aufweist.

9. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß
die Erzeugungseinrichtung (7000) ferner ein drittes Signal (Φ1) erzeugt, das sich im konstanten Zyklus vom zweiten zum ersten Pegel ändert, und
die zweite Potentialquelle (10, 15) eine Einrichtung (10) zum Invertieren des dritten Signals (Φ1) aufweist.

10. Integrierte Halbleiterschaltungseinrichtung, gekennzeichnet durch
ein Halbleitersubstrat, auf dem eine Funktionsschaltungseinrichtung zur Realisierung einer vorbestimmten Funktion gebildet ist, und
eine Spannungserzeugungseinrichtung (6000, 6500), die auf dem Halbleitersubstrat gebildet ist, zum Erzeugen einer konstanten Spannung, um das Halbleitersubstrat auf einem vorbestimmten Potential vorzuspannen,
wobei die Spannungserzeugungseinrichtung
eine erste (20) und eine zweite (30) Kondensatoreinrichtung, die zwischen einer ersten Potentialquelle (GND) zum Ausgeben eines konstanten Potentials und einer zweiten Potentialquelle (10) zum Ausgeben eines Potentials, das sich in einem konstanten Zyklus von einem ersten Pegel zu einem zweiten Pegel ändert, in Reihe geschaltet sind,
eine erste Verbindungseinrichtung (60, 70) zum elektrischen Verbinden eines Verbindungspunkts (N6) zwischen der ersten (20) und zweiten Kondensatoreinrichtung (30) mit der ersten Potentialquelle (GND),
eine zweite Verbindungseinrichtung (80, 90) zum elektrischen Verbinden des Verbindungspunkts (N6) mit dem Halbleitersubstrat eine erste Verbindungssteuereinrichtung (Φ2) zum Deaktivieren der ersten Verbindungseinrichtung (60, 70) früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und zum Aktivieren der ersten Verbindungseinrichtung (60, 70) später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet, und
eine zweite Verbindungssteuereinrichtung (Φ3) zum Aktivieren der zweiten Verbindungseinrichtung (80, 90) später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und zum Deaktivieren der zweiten Verbindungseinrichtung (80, 90) früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet, aufweist.

11. Halbleiterspeichereinrichtung, gekennzeichnet durch eine Mehrzahl von Speicherzellen (MC), die in einer Mehrzahl von Spalten angeordnet sind,
eine Mehrzahl von Bitleitungen (BL), die entsprechend der Mehrzahl von Spalten gebildet und gemeinsam mit allen Speicherzellen verbunden sind, die in einer entsprechenden der Spalten angeordnet sind,
eine erste und eine zweite Ein-/Ausgangsleitung (IO1, IO2) zum Übertragen von Daten von außen, die in eine der Mehrzahl von Speicherzellen (MC) geschrieben werden sollen, und von Daten nach außen, die aus einer der Mehrzahl von Speicherzellen (MC) gelesen worden sind,
eine Schaltungseinrichtung (1500, 2000, 3000, 3500) zum Schreiben von Daten auf der ersten und zweiten Ein-/Ausgangsleitung (IO1, IO2) in eine der Mehrzahl von Speicherzellen (MC) und zum Lesen von Daten aus einer Mehrzahl von Speicherzellen (MC) auf die erste und zweite Ein-/Ausgangsleitung (IO1, IO2),
eine Steuereinrichtung (1600) zum Steuern der Schaltungseinrichtung (1500, 2000, 3000, 3500),
wobei die Mehrzahl von Speicherzellen (MC), die Mehrzahl von Bitleitungen (BL), die erste und zweite Ein-/Ausgabeleitung (IO1, IO2), die Schaltungseinrichtung (1500, 2000, 3000, 3500) und die Steuereinrichtung (1600) auf demselben Halbleitersubstrat gebildet sind,
eine erste Spannungserzeugungseinrichtung (6000), die auf dem Halbleitersubstrat gebildet ist, zum Erzeugen einer Spannung mit positiver Polarität zum Vorladen der Mehrzahl von Bitleitungen (BL) und der ersten und zweiten Ein-/Ausgabeleitung (IO1, IO2), und
eine zweite Spannungserzeugungseinrichtung (6500), die auf dem Halbleitersubstrat gebildet ist, zum Erzeugen einer Spannung mit negativer Polarität zum Vorspannen des Halbleitersubstrats,
wobei die erste Spannungserzeugungseinrichtung (6000) eine erste (20) und eine zweite (30) Kondensatoreinrichtung, die zwischen einer ersten Potentialquelle (GND) zum Ausgeben eines konstanten Potentials und einer zweiten Potentialquelle (10) zum Ausgeben eines Potentials, das sich in einem konstanten Zyklus von einem ersten Pegel zu einen zweiten Pegel ändert, in Reihe geschaltet sind,
eine erste Verbindungseinrichtung (60, 70) zum elektrischen Verbinden eines ersten Verbindungspunkts (N6) zwischen der ersten (20) und zweiten Kondensatoreinrichtung (30) mit der ersten Potentialquelle (GND),
eine zweite Verbindungseinrichtung (80, 90) zum elektrischen Verbinden des ersten Verbindungspunkts (N6) mit der Mehrzahl von Bitleitungen (BL) und der ersten und zweiten Ein-/Ausgabeleitung (IO1, IO2),
eine erste Verbindungssteuereinrichtung (Φ2) zum Deaktivieren der ersten Verbindungseinrichtung (60, 70) früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und zum Aktivieren der ersten Verbindungseinrichtung (60, 70) später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet, und
eine zweite Verbindungssteuereinrichtung (Φ3) zum Aktivieren der zweiten Verbindungseinrichtung (80, 90) später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und zum Deaktivieren der zweiten Verbindungseinrichtung (80, 90) früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet, aufweist,
und wobei die zweite Spannungserzeugungseinrichtung (6500) eine dritte (25) und eine vierte (35) Kondensatoreinrichtung, die zwischen der ersten Potentialquelle (GND) und einer dritten Potentialquelle (15) zum Ausgeben eines Potentials, das sich in einem konstanten Zyklus vom zweiten Pegel zum ersten Pegel ändert, in Reihe geschaltet sind,
eine dritte Verbindungseinrichtung zum elektrischen Verbinden eines zweiten Verbindungspunkts (N8) zwischen der dritten (25) und vierten Kondensatoreinrichtung (35) mit der ersten Potentialquelle (GND),
e eine vierte Verbindungseinrichtung (85) zum elektrischen Verbinden des zweiten Verbindungspunkts (N8) mit dem Halbleitersubstrat,
eine dritte Verbindungssteuereinrichtung (Φ5) zum Deaktivieren der dritten Verbindungseinrichtung (65) früher als das Umschalten des Potentials der dritten Potentialquelle (15) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet, und zum Aktivieren der dritten Verbindungseinrichtung später als das Umschalten des Potentials der dritten Potentialquelle (15) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, und
eine vierte Verbindungssteuereinrichtung (Φ6) zum Aktivieren der vierten Verbindungseinrichtung (85) später als das Umschalten des Potentials der dritten Potentialquelle (15) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel stattfindet, und zum Deaktivieren der vierten Verbindungseinrichtung (85) früher als das Umschalten des Potentials der dritten Potentialquelle (15) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel stattfindet, aufweist.

12. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß
der erste und der zweite Pegel ein niedriger Pegel bzw. ein hoher Pegel ist, das konstante Potential auf dem ersten Pegel liegt, und
die Kapazität der ersten Kondensatoreinrichtung (20) gleich der Kapazität der zweiten Kondensatoreinrichtung (30) ist.

13. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß
die Halbleiterspeichereinrichtung ein vorbestimmtes Steuersignal empfängt,
die Steuereinrichtung (1600) die Schaltungseinrichtung (1500, 2000, 3000, 3500) in Abhängigkeit vom vorbestimmten Steuersignal steuert, und
die erste und die zweite Verbindungssteuereinrichtung (Φ2, Φ3, Φ5, Φ6)
eine Oszillatoreinrichtung (7000) mit einer konstanten Schwingungsperiode,
eine Auswahleinrichtung (8000) zum Auswählen von entweder dem Ausgangssignal der Oszillatoreinrichtung (7000) oder dem vorbestimmten Steuersignal, und
eine Erzeugungseinrichtung (9000), die vom Signal abhängig ist, das von der Auswahleinrichtung (8000) ausgewählt worden ist, zum Erzeugen von ersten bis vierten Signalen (Φ2, Φ3, Φ5, Φ6) zum jeweiligen Steuern der ersten bis vierten Verbindungseinrichtungen (60, 65, 70, 80, 85, 90).

14. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Verbindungseinrichtung (60, 70) ein erstes Schaltelement, das zwischen die erste Potentialquelle (GND) und den ersten Verbindungspunkt (N6) geschaltet ist und dessen Durchlaß- /Sperrzustand vom ersten Signal (Φ2) gesteuert wird, aufweist,
die zweite Verbindungseinrichtung (80, 90) ein zweites Schaltelement, das zwischen den Verbindungspunkt (N6) und die Mehrzahl von Bitleitungen (BL) und die erste und zweite Ein- /Ausgabeleitung (IO1, IO2) geschaltet ist und dessen Durchlaß- /Sperrzustand vom zweiten Signal (Φ3) gesteuert wird, aufweist,
die dritte Verbindungseinrichtung (65) ein drittes Schaltelement, das zwischen die erste Potentialquelle (GND) und den zweiten Verbindungspunkt (N8) geschaltet ist und dessen Durchlaß- /Sperrzustand vom dritten Signal (Φ5) gesteuert wird, aufweist, und
die vierte Verbindungseinrichtung (85) ein viertes Schaltelement, das zwischen den zweiten Verbindungspunkt (N8) und das Halbleitersubstrat geschaltet ist und dessen Durchlaß-/Sperrzustand vom vierten Signal (Φ6) gesteuert wird, aufweist.

15. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß
das erste Schaltelement (60, 70) ein Feldeffekt-Halbleiterelement mit einem ersten Leitungsanschluß, der mit der ersten Potentialquelle (GND) verbunden ist, einem zweiten Leitungsanschluß, der mit dem Verbindungspunkt (N6) verbunden ist, und einem Steueranschluß, der das erste Signal (Φ2) empfängt, aufweist,
das zweite Schaltelement (80, 90) ein Feldeffekt-Halbleiterelement mit einem ersten Leitungsanschluß, der mit der Mehrzahl von Bitleitungen (BL) und der ersten und zweiten Ein-/Ausgabeleitung (IO1, IO2) verbunden ist, einem zweiten Leitungsanschluß, der mit dem Verbindungspunkt (N6, N8) verbunden ist, und einem Steueranschluß, der das zweite Signal (Φ3) empfängt, aufweist,
das dritte Schaltelement (65) ein Feldeffekt-Halbleiterelement mit einem ersten Leitungsanschluß, der mit der ersten Potentialquelle (GND) verbunden ist, einem zweiten Leitungsanschluß, der mit dem Verbindungspunkt (N8) verbunden ist, und einem Steueranschluß, der das dritte Signal (Φ5) empfängt, aufweist, und
das vierte Schaltelement (85) ein Feldeffekt-Halbleiterelement mit einem ersten Leitungsanschluß, der mit dem Halbleitersubstrat verbunden ist, einem zweiten Leitungsanschluß, der mit dem Verbindungspunkt (N8) verbunden ist, und einem Steueranschluß, der das vierte Signal (Φ6) empfängt, aufweist.

16. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß
die Erzeugungseinrichtung (9000) ferner ein fünftes Signal (Φ1), das sich in einem konstanten Zyklus vom zweiten zum ersten Pegel ändert, und ein sechstes Signal (Φ4), das sich in einem konstanten Zyklus vom zweiten zum ersten Pegel ändert, erzeugt,
die zweite Potentialquelle (10) eine Einrichtung (10) zum Invertieren des fünften Signals (Φ1) aufweist, und
die dritte Potentialquelle (15) eine Einrichtung (15) zum Invertieren des sechsten Signals (Φ4) aufweist.

17. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die vorbestimmte Last eine Last ist, die auf der konstanten Spannung gehalten werden soll, und
in einer Zeitspanne, während der die zweite Verbindungseinrichtung (80, 85, 90) aktiviert ist, der vorbestimmten Last Ladung vom Verbindungspunkt (N6, N8) zugeführt wird, die die vorbestimmte Last verbraucht.

18. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Verbindungseinrichtung (80, 85, 90) deaktiviert wird, bevor die vorbestimmte Last die Ladung vollständig verbraucht hat.

19. Betriebsverfahren für eine Spannungserzeugungseinrichtung zum Erzeugen einer konstanten Spannung, die an eine vorbestimmte Last angelegt werden soll, wobei die Spannungserzeugungseinrichtung eine erste (20, 25) und eine zweite (30, 35) Kondensatoreinrichtung, die in Reihe geschaltet sind und zwischen eine erste Potentialquelle (GND), die ein erstes Potential ausgibt, und eine zweite Potentialquelle (10, 15), die ein Potential ausgibt, das sich in einem konstanten Zyklus von einem ersten Pegel zu einem zweiten Pegel ändert, gekoppelt sind, aufweist, gekennzeichnet durch die Schritte:
elektrisches Trennen eines Verbindungspunktes (N6, N8) zwischen dem ersten Kondensatorelement (20, 25) und dem zweiten Kondensatorelement (30, 35) von der ersten Potentialquelle (GND) früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel erfolgt,
elektrisches Verbinden des Verbindungspunktes (N6, N8) mit der ersten Potentialquelle (GND) später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel erfolgt,
elektrisches Verbinden des Verbindungspunktes (N6, N8) mit der vorbestimmten Last später als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom ersten Pegel zum zweiten Pegel erfolgt, und
elektrisches Trennen des Verbindungspunktes (N6, N8) von der vorbestimmten Last früher als das Umschalten des Potentials der zweiten Potentialquelle (10, 15) vom zweiten Pegel zum ersten Pegel erfolgt.