DE4125334A1 - Vorrichtung fuer den transport von substraten - Google Patents
Vorrichtung fuer den transport von substratenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung für die Wärme
behandlung und den Transport von Substraten bei Vaku
umbeschichtungsanlagen mit mehreren Stationen, mit
Substrathaltern mit etwa plattenförmiger, flacher,
parallelepipeder Konfiguration, die in lotrechter
Stellung - entlang eines vorgegebenen Transportweges -
durch die Stationen bewegbar sind, und mit Paaren von
Wälzkörpern, Gleitsteinen oder Rollen, die im Zusam
menwirken mit Schienen die Substrathalter halten und
führen und die jeweils im Bereich ihres Fußteils
unterhalb der an den Substrathaltern befestigbaren
Substraten vorgesehen sind, wobei der Substrathalter
eine sich von oben her bis in den Bereich seines Fuß
teils erstreckende, parallel zu den Schienen verlau
fende, schachtförmige Aussparung aufweist, in die beim
Durchlauf durch die Station ein oberhalb des Substrat
halters am oberen Wandteil angeordneter, flacher, sich
lotrecht nach unten zu erstreckender Heizkörper hin
einragt.
Die zum Einsatz kommenden Substrathalter sind entweder
Platten mit entsprechend den Substraten geformten Aus
schnitten oder Rahmen mit Streben, an denen die Sub
strate befestigt werden. Im allgemeinen dient ein Sub
strathalter zur Aufnahme einer Vielzahl von Substra
ten.
Durch die US-PS 40 42 128 ist eine Transporteinrich
tung der eingangs beschriebenen Gattung bekannt, bei
der plattenförmige Substrathalter bei vertikaler Lage
ihrer Hauptebene an ihren oberen und unteren Längs
kanten zwischen Rollen geführt werden, die um senk
rechte Achsen drehbar sind. An ihren Unterkanten
liegen die Substrathalter zusätzlich auf Stützrollen
mit horizontaler Drehachse auf. Die unteren Führungs
rollen sind jedoch nicht im Stande, die Substrathalter
allein in genau vertikaler Stellung zu halten und zu
transportieren, so daß eine stabile Positionierung nur
unter Zuhilfenahme der oberen Führungsrollen möglich
ist.
Bekannt ist auch eine Transporteinrichtung für Vakuum
beschichtungsanlagen (EP 02 54 145 B1) mit mehreren
Stationen und mit Rollensystemen für die Führung und
den Vorschub von im wesentlichen zweidimensionalen
Substrathaltern in senkrechter Stellung, entlang eines
vorgegebenen Transportweges durch die Stationen, wobei
im Bereich der Unterkante der Substrathalter paarweise
Führungsrollen angeordnet sind, die den Substrathalter
zwischen sich aufnehmen und die um senkrechte Achsen
drehbar sind, wobei die Substrathalter ausschließlich
im Bereich ihrer Unterkante durch die Rollensysteme
geführt sind und die Führungsrollen mit Laufflächen
versehen sind, die auf mindestens einer Führungsrolle
eines Rollenpaares jeweils am unteren und am oberen
Ende angeordnet sind, wobei die jeweils andere Füh
rungsrolle des gleichen Rollenpaares mindestens eine
Lauffläche aufweist und wobei die mindestens drei
Laufflächen eines Rollenpaares in bezug auf den Sub
strathalter eine kippsichere Einspannung bilden.
Weiterhin ist es bekannt (DE 31 07 914), die zu be
schichtenden Substrate in einer besonderen Schleu
senkammer mit einer Heizeinrichtung thermisch vorzu
behandeln. Bekannt ist es auch, den Substrathalter bei
einer Transporteinrichtung für eine Vakuumbeschich
tungsanlage mit einem Fußteil auszustatten, das auf
ortsfesten Schienen gleitet (EP 03 46 815).
Schließlich wurde bereits eine Vorrichtung vorgeschla
gen (P 40 29 905.8) mit mehreren Stationen, mit Sub
strathaltern mit etwa plattenförmiger Konfiguration,
die in lotrechter Stellung entlang eines vorgegebenen
Transportweges bewegbar sind und die mit Schienen
zusammenwirken, die jeweils im Bereich ihres Fußteils
unterhalb der an den Substrathaltern befestigbaren
Substraten vorgesehen sind, wobei das Fußteil des
Substrathalters mit einem Paar paralleler Schienen
versehen ist, deren Längsnuten mit Rollen korrespon
dieren, die ortsfest am Bodenteil der Vorrichtung
gelagert sind und die jeweils in Reihen entsprechend
dem Verlauf der Nuten in übereinander liegenden, ver
tikalen Ebenen im Abstand zueinander vorgesehen sind,
wobei der Substrathalter eine sich von oben her
erstreckende, parallel zu den Schienen verlaufende,
schachtförmige Aussparung aufweist, in die beim Durch
lauf durch die Station ein oberhalb des Substrathal
ters am oberen Wandteil angeordneter, flacher, sich
lotrecht nach unten zu erstreckender Heizkörper, der
als Widerstands-Heizkörper ausgebildet ist, hinein
ragt.
Dieser älteren Transporteinrichtung lag die Aufgabe
zugrunde, eine Substrathalterung für mehrere Substrate
zu schaffen und diese so auszubilden, daß die Substra
te gemeinsam von einer einzigen Heizquelle gleich
zeitig und mit gleicher Intensität temperierbar sind.
Der vorliegenden Erfindung liegt insbesondere die Auf
gabe zugrunde, eine Vorrichtung der in Frage stehenden
Art zu schaffen, die geeignet ist, die elektrischen
und die optischen Schichteigenschaften auf nichthitze
beständigen Substraten durch Temperieren zu verbessern
und insbesondere die Vorrichtung so zu gestalten, daß
die Temperatur in der Umgebung der Substrate ver
gleichsweise gering gehalten wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
der vorzugsweise aus einem magnetischen Werkstoff ge
bildete, finger- oder plattenförmige Heizkörper zumin
dest eine vom elektrischen Strom durchflossene Leiter
schleife aufweist, die mit zweckmäßigerweise an den
dem Heizkörper abgewandten Seitenflächen der Substrate
angeordneten Platten aus elektrisch leitfähigem Werk
stoff zusammenwirkt und mit dieser ein Induktions-
Heizelement bildet.
Vorzugsweise weist der Substrathalter zwei rahmenför
mig ausgebildete, an sich bekannte, in parallelen
Ebenen angeordnete Seitenteile auf, die zwischen sich
die schachtförmige Aussparung bilden, in deren fen
sterartige Öffnungen die Substrate einlegbar sind,
wobei die Seitenteile einstückig ausgebildet sind oder
mit dem Fußteil vernietet, verschraubt oder über
Gelenke verbunden sind und wobei die Platten aus elek
trisch leitfähigem Werkstoff in ihren äußeren Abmes
sungen so dimensioniert sind, daß sie in die fenster
förmigen Ausnehmungen einsetzbar und dort arretierbar
sind.
Weitere Einzelheiten und Merkmale sind in den Patent
ansprüchen näher gekennzeichnet.
Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausführungsmög
lichkeiten zu; eine davon ist in der anhängenden
Zeichnung schematisch näher dargestellt, die den
Schnitt quer durch eine Vorrichtung zeigt.
Wie die Zeichnung zeigt, besteht die Vorrichtung aus
den in der Beschichtungskammer 3 an der einen Seiten
wand 4a des Gehäuses 4 an sich horizontal erstrecken
den Armen 5, 6 drehbar gelagerten Rollen 7, 8, den
beiden an den Seitenwänden 4a, 4b fest angeordneten
Kathoden 9, 10, dem am oberen Wandteil 4c bzw. am
Isolator 12 gehaltenen plattenförmigen, von einer
Leiterschleife 29 umschlossenen Element 11, dem mit
Schienen 13, 14 versehene Fußteil 15 des im Quer
schnitt U-förmig ausgeformten Substrathalters 16, den
beiden rahmenförmigen, die Substrate 22, 23 und die
Platten 27, 28 haltenden Seitenteilen 16a, 16b des
Substrathalters 16 und den beiden an den Seitenwänden
4a, 4b fest angeordneten Kathoden 19, 20 mit ihren
Kathodenblenden 17, 18 und schließlich dem Absaug
stutzen 21 einer nicht näher dargestellten Turbomole
kularpumpe.
Während des Betriebs der in der Zeichnung schematisch
dargestellten Beschichtungsstation werden die Sub
strate 22, 23 in einer Richtung lotrecht zur Schnitt
ebene bewegt, bis sie den Kathoden 19, 20 gegenüber
stehen, wie dies aus der Zeichnung ersichtlich ist.
Nach der Beschichtung der Außenflächen 22a, 23a der
Substrate 22, 23 werden diese in der gleichen Richtung
(lotrecht zur Zeichenebene) bis zur nächsten Bearbei
tungsstation weiterbewegt. Die scheibenförmigen Sub
strate 22, 23 und auch die Platten aus elektrisch
leitendem Werkstoff 27, 28 werden von den sie rahmen
förmig umschließenden Seitenteilen 16a, 16b des Sub
strathalters 16 gehalten, der seinerseits fest mit dem
Fußteil 15 verbunden oder einstückig mit diesem aus
gebildet ist. Das Fußteil 15 ist mit einem Paar von
Schienen 13, 14 verschraubt oder verschweißt, die
ihrerseits Längsnuten 13a, 14a aufweisen, in denen
Rollen 7 bzw. 8 laufen, die in zwei Reihen in Abstän
den hintereinanderliegend drehbar auf Armen 5 bzw. 6
gelagert sind. Der Abstand, den die Reihen von Rollen
5 bzw. 6 zueinander aufweisen, ist so gewählt, daß das
Fußteil 15 auf diesen kippsicher gehalten und geführt
ist.
Um sicherzustellen, daß die Substrate 22, 23 die für
den Beschichtungsprozeß erforderliche Temperatur auf
weisen, ist am oberen Wandteil 4c des Gehäuses 4 an
einem Isolator 12 ein plattenförmiges Element 11, das
von einer stromdurchflossenen Leiterschleife oder
einer Drahtspule 29 umschlossen ist, befestigt, das in
die schachtförmige Nut 24 hineinragt und das so bemes
sen ist, daß die Substrate 22, 23 von ihrer einen
Seitenfläche her infolge Induktion gleichmäßig aufge
heizt werden. Um Strahlungsverluste möglichst gering
und die Temperierung beider Substrate 22, 23 auf glei
chem Niveau zu halten, sind die jeweils zwischen dem
Heizelement 11 und den Substraten 22, 23 verbleibenden
Abstände gleich und möglichst gering bemessen.
Es ist klar, daß die Leiterschleife 29 nicht nur in
Verbindung mit auf der Rückseite der Substrate 22, 23
angeordneten Metallplatten 27, 28 im Sinne eines
Induktions-Heizkörpers zusammenwirkt, sondern auch mit
auf der Vorder- oder Rückseite der Substrate aufge
brachten Schichten aus elektrisch leitendem Werkstoff.
Ebenso können Metallfolien auf die Substrate aufge
klebt sein, die zusammen mit der Leiterschleife 29
einen Induktionsheizer bilden.
Ein wesentlicher Vorteil besteht insbesondere darin,
daß die einzusetzende Wärme nur in dem Augenblick er
zeugt wird, wenn sich das Substrat unmittelbar vor dem
Heizer 11, 29 befindet, so daß die Anlage selbst sich
nicht weiter aufheizt und die Wärme - örtlich begrenzt -
besonders gut kontrolliert werden kann.
Bezugszeichenliste
3 Beschichtungskammer
4 Gehäuse
4a Seitenwand des Gehäuses
4b Seitenwand des Gehäuses
4c oberes Wandteil des Gehäuses
5 Arm
6 Arm
7 Rolle
8 Rolle
9 Kathode
10 Kathode
11 plattenförmiges Element, Wickelkörper
12 Isolator
13 Schiene
13a Längsnut
14 Schiene
14a Längsnut
15 Fußteil
16 Substrathalter
16a Seitenteil des Substrathalters
16b Seitenteil des Substrathalters
17 Kathodenblende
18 Kathodenblende
19 Kathode
20 Kathode
21 Absaugstutzen
22 Substrat
22a Außenfläche des Substrats
23 Substrat
23a Außenfläche des Substrats
24 schachtförmige Nut
25 fensterförmige Ausnehmung
26 fensterförmige Ausnehmung
27 Metallplatte
28 Metallplatte
29 Leiterschleife
4 Gehäuse
4a Seitenwand des Gehäuses
4b Seitenwand des Gehäuses
4c oberes Wandteil des Gehäuses
5 Arm
6 Arm
7 Rolle
8 Rolle
9 Kathode
10 Kathode
11 plattenförmiges Element, Wickelkörper
12 Isolator
13 Schiene
13a Längsnut
14 Schiene
14a Längsnut
15 Fußteil
16 Substrathalter
16a Seitenteil des Substrathalters
16b Seitenteil des Substrathalters
17 Kathodenblende
18 Kathodenblende
19 Kathode
20 Kathode
21 Absaugstutzen
22 Substrat
22a Außenfläche des Substrats
23 Substrat
23a Außenfläche des Substrats
24 schachtförmige Nut
25 fensterförmige Ausnehmung
26 fensterförmige Ausnehmung
27 Metallplatte
28 Metallplatte
29 Leiterschleife
Claims (3)
1. Vorrichtung für den Transport von Substraten bei
Vakuumbeschichtungsanlagen mit mehreren Statio
nen, mit Substrathaltern (16) mit etwa platten
förmiger, flacher, parallelepipeder Konfigura
tion, die in lotrechter Stellung entlang eines
vorgegebenen Transportweges durch die Stationen
bewegbar sind und die mit Schienen (13, 14) zu
sammenwirken, die jeweils im Bereich ihres Fuß
teils (15) unterhalb der an den Substrathaltern
(16) befestigbaren Substraten (22, 23) vorgesehen
sind, wobei der Substrathalter (16) eine sich von
oben her bis in den Bereich seines Fußteils (15)
erstreckende, parallel zu den Schienen (13, 14)
verlaufende, schachtförmige Aussparung (24) auf
weist, in die beim Durchlauf durch die Station
ein oberhalb des Substrathalters (16) am oberen
Wandteil (4c) angeordneter, flacher, sich lot
recht nach unten zu erstreckendes Element (11)
hineinragt, dadurch gekennzeichnet, daß das vor
zugsweise aus einem magnetischen Werkstoff gebil
dete, finger- oder plattenförmige Element (11)
zumindest eine vom elektrischen Strom durchflos
sene Leiterschleife aufweist, die mit an den dem
Element (11) abgewandten Seitenflächen der
Substrate (22, 23) angeordneten oder mit den Sub
straten fest verbundenen Platten, Folien oder
Schichten aus elektrisch leitfähigem Werkstoff
(27, 28) zusammenwirkt und mit diesem ein Induk
tions-Heizelement bildet.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß der Substrathalter (16) in an sich
bekannter Weise zwei rahmenförmig ausgebildete,
in parallelen Ebenen angeordnete Seitenteile
(16a, 16b) aufweist, die zwischen sich die
schachtförmige Aussparung (24) bilden und in
deren fensterartige Öffnungen (25, 26) die Sub
strate (22, 23) einlegbar sind, wobei die Seiten
teile (16a, 16b) einstückig ausgebildet sind oder
mit dem Fußteil (15) vernietet, verschraubt oder
über Gelenke verbunden sind und wobei die Platten
oder Folien (27, 28) aus elektrisch leitfähigem
Werkstoff in ihren äußeren Abmessungen so dimen
sioniert sind, daß sie in die fensterförmigen
Ausnehmungen (25, 26) einsetzbar und dort arre
tierbar sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Platten aus elektrisch leitfähigem
Werkstoff einstückig mit den Substraten (22, 23)
ausgebildet sind, vorzugsweise als Schicht auf
der Rückseite oder der den Kathoden (19, 20)
zugewandten Seitenfläche der Substrate (22, 23)
angeordnet sind.
Priority Applications (8)
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DE4125334A DE4125334C2 (de) | 1991-07-31 | 1991-07-31 | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
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EP92102290A EP0525279B1 (de) | 1991-07-31 | 1992-02-12 | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
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KR1019920010796A KR930002537A (ko) | 1991-07-31 | 1992-06-22 | 기판 이송장치 |
JP4203751A JP2740420B2 (ja) | 1991-07-31 | 1992-07-30 | サブストレートを搬送するための装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE4125334A1 true DE4125334A1 (de) | 1993-02-04 |
DE4125334C2 DE4125334C2 (de) | 1999-08-19 |
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ID=6437393
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JP (1) | JP2740420B2 (de) |
KR (1) | KR930002537A (de) |
DE (2) | DE4125334C2 (de) |
SG (1) | SG165494G (de) |
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