DE4005088A1 - Plattierungszusammensetzung und verfahren - Google Patents
Plattierungszusammensetzung und verfahrenInfo
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 66
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 23
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 claims abstract description 17
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 claims abstract description 17
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 claims abstract description 16
- -1 Nitrate ions Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 10
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 9
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 7
- 241000282326 Felis catus Species 0.000 claims description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 claims description 5
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 5
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 2
- 229910000151 chromium(III) phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- IKZBVTPSNGOVRJ-UHFFFAOYSA-K chromium(iii) phosphate Chemical compound [Cr+3].[O-]P([O-])([O-])=O IKZBVTPSNGOVRJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 7
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 abstract 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical group 0.000 description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- JVTAAEKCZFNVCJ-REOHCLBHSA-N L-lactic acid Chemical compound C[C@H](O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 229940046892 lead acetate Drugs 0.000 description 2
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- SMRZWOCWZGVOLE-JJKGCWMISA-N 2-hydroxyacetic acid;(2r,3s,4r,5r)-2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanoic acid Chemical compound OCC(O)=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O SMRZWOCWZGVOLE-JJKGCWMISA-N 0.000 description 1
- MQLJIOAPXLAGAP-UHFFFAOYSA-N 3-[amino(azaniumylidene)methyl]sulfanylpropane-1-sulfonate Chemical compound NC(=N)SCCCS(O)(=O)=O MQLJIOAPXLAGAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N acoh acetic acid Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
- C23C18/36—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft die Herstellung von
schwarzen stromlosen Nickel-Abscheidungen.
Die stromlose Vernickelung ist seit einiger Zeit bekannt.
Mit einer stromlosen Nickel-Abscheidung versehene Gegen
stände sind beispielsweise in der US-PS 30 88 846 beschrie
ben. Gegenwärtig besteht ein großer Bedarf, der zum Teil auf
modische Gründe zurückzuführen ist, nach schwarzen strom
losen Nickel-Abscheidungen in erster Linie, jedoch nicht
ausschließlich für dekorative Zwecke. Derartige Abscheidun
gen werden üblicherweise für freiliegende Metallteile und/oder
Gehäuse von Fernsehgeräten, Videocassettenrecordern und
HiFi-Geräten gefordert.
In der EP-A-00 94 127 ist eine Lösung für das Problem der
Herstellung von schwarzen stromlosen Nickel-Abscheidungen
beschrieben. In dieser Veröffentlichung ist offenbart, daß
ein stromlos vernickelter Gegenstand in einem Bad behandelt
werden kann, das Chromat-Ionen, Phosphat-Ionen und wahlweise
Sulphat-Ionen umfaßt, und periodisch umgeschalteten Strömen
ausgesetzt wird. Die EP-A-00 94 127 schlägt vor, daß die
stromlose Vernickelung mit einem Bad durchgeführt wird, das
von der Firma Enthone unter dem Warenzeichen ENPLATE 415
vertrieben wird.
Es wurde jedoch festgestellt, daß aus diesem Bad ENPLATE 415
hergestellte und danach umgewandelte Abscheidungen nur dann
zu einer richtig schwarzen Schicht führen, wenn das strom
lose Plattierungsbad älter als 1, jedoch nicht älter als 3
Metall-Umsätze ist (1 Metall-Umsatz wird erreicht, wenn ein
Plattierungsbad das Gewicht an Metall-Ionen abgeschieden
hat, die ursprünglich im Bad vorhanden waren; während der
Abscheidung wird das Bad durch Metall-Ionen und normaler
weise durch Reduktionsmittel wieder ergänzt).
Da ein solches stromloses Plattierungsbad in wirksamer Weise
nur über zwei Metall-Umsätze eingesetzt werden kann und
keiner von diesen der erste ist, wenn das abgeschiedene
Nickel danach geschwärzt werden soll, liegt eine beträcht
liche Vergeudung von Materialien des Bades vor, wenn das Bad
nicht für andere Zwecke während des ersten und nach dem
dritten Umsatz eingesetzt wird.
Es wurde nunmehr festgestellt, daß durch die Anwesenheit von
Saccharin in einem stromlosen Nickel-Plattierungsbad Nickel
über die gesamte Lebensdauer des Bades abgeschieden und die
abgeschiedene Nickel-Phosphor-Legierung danach gleichförmig
oder mindestens in einer besseren Weise, als dies bislang
möglich war, geschwärzt werden kann.
Gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird
eine stromlose Nickelplattierungszusammensetzung zur Verfü
gung gestellt, die Saccharin umfaßt. Das Saccharin liegt
normalerweise in einer Menge vor, die es ermöglicht, daß das
abgeschiedene Nickel danach geschwärzt werden kann.
Wenn in dieser Beschreibung auf "Nickel-Abscheidungen" Bezug
genommen wird, so sollen hiervon auch abgeschiedene Nickel
legierungen sowie andere Elemente, wie beispielsweise
Phosphor, die typischerweise bei der Herstellung von strom
losen Nickel-Abscheidungen erzeugt werden, umfaßt werden.
Als Quelle des Nickels kann Nickel-Sulphat oder irgendein
anderes zweckmäßiges lösliches Nickel-Salz eingesetzt
werden. Die Menge des im Bad vorhandenen Nickels kann von
0,1 bis 50 g/l, beispielsweise von 1 bis 25 g/l, typischer
weise von 2 bis 10 g/l reichen. Bei stromlosen
Metall-Plattierungsbädern wird das Metall-Ion nicht durch Elektri
zität, sondern durch ein chemisches Reduktionsmittel redu
ziert. Im Bad kann irgendein geeignetes Reduktionsmittel für
Nickel-Ionen Verwendung finden. In der Praxis ist jedoch das
bevorzugte Reduktionsmittel wahrscheinlich Natriumhypo
phosphit, das zu einer Nickel-Phosphor-Abscheidung führt.
Das Reduktionsmittel kann in der Zusammensetzung in einer
Menge von 1 bis 100 g/l, beispielsweise 5 bis 50 g/l,
typischerweise 20 bis 40 g/l vorhanden sein.
Um eine vorzeitige Reduktion der Nickel-Ionen in der Lösung
zu vermeiden, ist es üblich, der stromlosen Nickel-Plat
tierungszusammensetzung einen Komplexbildner für die Nickel-Ionen
zuzusetzen. Hierbei kann irgendein zweckmäßiger
Komplexbildner eingesetzt werden, wobei jedoch Milchsäure
einen bevorzugten Komplexbildner darstellt (es versteht
sich, daß der in dieser Beschreibung verwendete Begriff
Milchsäure oder irgendeine andere schwache organische Säure
auch Lactat oder andere entsprechende Ionen umfaßt, wobei
die exakte vorhandene Substanz natürlich vom pH-Wert ab
hängt). Andere Komplexbildner, die außer Milchsäure einge
setzt werden können, umfassen Bernsteinsäure, Glycolsäure (Gluconsäure),
Apfelsäure und Zitronensäure. Der Komplexbildner kann in
einer Menge von 1 bis 100 g/l, beispielsweise von 5 bis
50 g/l und typischerweise von 20 bis 40 g/l vorhanden sein.
Es können auch andere Komplexbildner einschließlich Mischun
gen davon eingesetzt werden.
Das Saccharin wird normalerweise im Bad in löslicher Form
vorhanden sein oder diesem zugesetzt werden. Eine geeignete
lösliche Form von Saccharin ist Natriumsaccharin. Es können
jedoch auch andere lösliche Salze verwendet werden. Das
Saccharin sollte im Bad mindestens in einer Menge von
0,7 g/1 vorhanden sein, um gute Ergebnisse zu erzielen. Wenn
mehr als 2 g/1 vorhanden sind, wurde festgestellt, daß dies
manchmal zu einer Sprenkelung nach dem Schwärzen führen
kann. Als besonders geeignete Menge von Saccharin wurde ein
Bereich von 1,0 bis 1,8 g/l, beispielsweise 1,5 g/l, festge
stellt. Ferner wurde durch Versuche ermittelt, daß zur Auf
rechterhaltung des Bades der Zusatz von 25 bis 200 mg
Saccharin pro g verbrauchtes Nickel zu guten Ergebnissen
führt. Bevorzugte Anteile liegen zwischen 75 und 125 mg
Saccharin pro g Nickel, wobei der Zusatz von 100 mg
Saccharin pro g Nickel offensichtlich optimal ist.
Im Bad kann auch ein Puffer vorhanden sein. Als Puffer kann
ein Essigsäure-Acetat-System verwendet werden, obwohl auch
irgendein anderer Puffer, beispielsweise auf der Basis einer
schwachen organischen Säure und ihres Salzes, verwendet
werden kann. Der Puffer kann in einer Menge von 1 bis
50 g/l, beispielsweise von 5 bis 40 g/l, typischerweise von
20 bis 30 g/l vorhanden sein. Wenn Natriumacetat als Puffer
verwendet wird, kann dieses als Trihydrat-Salz zugeführt
werden.
Die Zusammensetzung kann ferner einen oder mehrere Stabili
satoren enthalten. Es wurde festgestellt, daß Blei in geeig
neten Mengen ein geeigneter Stabilisator für stromlose
Nickel-Systeme ist. Blei kann als Bleiacetat oder als
irgendein anderes geeignetes lösliches Bleisalz zugesetzt
werden. Es kann in einer Menge von 0,1 bis 5 mg/l, bei
spielsweise von 0,2 bis 3 mg/l, typischerweise von 0,5 bis
1,5 mg/l vorhanden sein.
Schwefel-enthaltende Verbindungen bilden eine weitere Klasse
von nützlichen Stabilisatoren. Eine geeignete Verbindung aus
dieser Klasse ist 3-((Amino-Iminomethyl) Thio)-1-Propan
sulphonsäure, obwohl auch andere Verbindungen verwendet
werden können. Die Schwefel-enthaltende Verbindung kann in
einer Menge von 0,1 bis 10 mg/l, beispielsweise von 0,2 bis
5 mg/l, typischerweise von 0,5 bis 3 mg/l vorhanden sein.
Der pH-Wert der stromlosen Nickel-Plattierungszusammen
setzung liegt üblicherweise auf der sauren Seite. Er kann
von 3 bis 6, beispielsweise von 4 bis 5,5, typischerweise
von 4,5 bis 5 reichen.
Gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren
zur Herstellung einer schwarzen stromlosen Nickel-Abschei
dung zur Verfügung gestellt, bei dem ein Substrat für die
Abscheidung mit einer stromlosen Nickel-Plattierungszusam
mensetzung, die Saccharin umfaßt, in Kontakt gebracht wird
und eine Chrom-enthaltende Konversionsschicht gebildet wird.
Die Konversionsschicht kann Phosphor und wahlweise Schwefel
umfassen. Sie kann insbesondere ein hydriertes basisches
Chromphosphat aufweisen, das die Bestandteile CrPO4 und
Cr(OH)3 enthält, wobei Cr2(SO4)3 vorhanden sein kann und das
Gewichtsverhältnis Cr:P:S = 1: (0,2-1,5): (0-0,5) be
trägt.
Bei der Herstellung der stromlosen Nickel-Abscheidung kann
die Temperatur der Zusammensetzung von 40 bis 99°C, bei
spielsweise von 60 bis 95°C, typischerweise von 85 bis
90°C reichen. Der Plattierungsvorgang kann über irgendeine
zweckmäßige Zeitdauer stattfinden, wie beispielsweise von
5 min bis 5 h, je nach der erforderlichen Dicke. Eine Zeit
dauer von 20 min bis 2 h ist üblich, wobei eine Zeitdauer
von 30 bis 45 min typisch ist, um eine Abscheidungsdicke von
etwa 10 µm zu erzielen.
Die Konversionsschicht kann Chrom, Phosphor und Schwefel
enthalten, wobei das Verhältnis Cr:P:S = 1 : 1 (0-0,2) be
trägt.
Die Konversionsschicht wird normalerweise auf einem strom
los vernickelten Gegenstand ausgebildet, der mit periodisch
umgeschalteten Strömen behandelt worden ist, wie in der
EP-A-00 94 127 beschrieben, welche Veröffentlichung hiermit
einbezogen wird. Die Frequenz der Stromumschaltung kann von
0,1 bis 50 Hz, beispielsweise von 0,5 bis 25 Hz, reichen und
typischerweise etwa 1 Hz betragen.
Das Verhältnis zwischen der Zeit, für die der stromlos ver
nickelte Gegenstand die Kathode ist, und der Zeit, für die
er die Anode ist, für einen vorgegebenen Stromzyklus
(tcat/tan) muß nicht gleich 1 sein. Ein tcat/tan-Verhältnis
von 0,05 bis 20 kann normalerweise geeignet sein, wobei je
doch ein tcat/tan-Verhältnis von weniger als 1 bevorzugt
wird. tcat/tan-Verhältnisse zwischen 0,1 und 0,8 einschließ
lich wurden als am besten angesehen.
Die Stromdichte kann typischerweise von 0,1 bis 1 ASD und
beispielsweise von 0,2 bis 0,5 ASD reichen und typischer
weise etwa 0,25 ASD betragen.
Gemäß einem wichtigen bevorzugten Merkmal der Erfindung
wurde festgestellt, daß das Betriebsverhalten verbessert
wird, daß Verbesserungen in der Tiefenwirkung beobachtet
wurden und daß die Neigung der Ausbildung von grünlichen
Farben in Bereichen mit hoher Stromdichte beträchtlich re
duziert wurde, wenn Nitrat-Ionen in der Konversionszusam
mensetzung vorhanden sind. Die Konversionszusammensetzung
enthält daher vorzugsweise Nitrat-Ionen, die als Salpeter
säure zugesetzt werden können. 1 bis 10 ml/l Salpetersäure
(65%) wurden als geeignet befunden, wobei beispielsweise 5
bis 10 ml/l und etwa 7,5 ml/l als optimal angesehen wurden.
Die Chromat-Ionen in der Konversionszusammensetzung können
in einer Menge von 1 bis 40 g/l CrO3, beispielsweise von 2
bis 20 g/l und typischerweise von 5 bis 15 g/l vorhanden
sein. Phosphat-Ionen können in einer Menge vorhanden sein,
die durch Zugabe von 1 bis 60 ml/l konzentrierter Phosphor
säure, beispielsweise von 2 bis 40 ml/l und typischerweise
von 10 bis 30 ml/l, erreicht wird. Sulphat-Ionen können in
einer Menge vorhanden sein, die durch Zugabe von 0 bis
10 ml/l konzentrierter Schwefelsäure, beispielsweise von 0,1
bis 5 ml/l und typischerweise von 0,5 bis 3 ml/l erzielt
wird.
Andere bevorzugte Merkmale der Konversionszusammensetzung
und des Konversionsverfahrens sind in der EP-A 00 94 127
beschrieben.
Die Erfindung wird nunmehr anhand der nachfolgenden Aus
führungsbeispiele im einzelnen erläutert.
Es wurde eine stromlose Nickel-Plattierungszusammensetzung
in Wasser hergestellt, die die folgenden Bestandteile besaß:
Ni²+ (als Nickelsulphat)|6,2 g/l | |
Milchsäure (80% w/v) | 30,0 ml/l |
CH₃COONa · 3 H₂O | 24,0 g/l |
Natriumhypophosphit | 30,0 g/l |
Pb²+ (als Bleiacetat) | 1,3 mg/l |
3-(Aminoiminomethyl)Thio)-1-Prophansulphonsäure | 2,0 mg/l |
NaOH, etwa | 3,6 g/l |
Na-Saccharin | 1,5 g/l |
pH | 4,8 |
Eine Stahlplatte wurde mit der obigen Zusammensetzung 35 min
lang bei einem pH-Wert von 4,9 und einer Temperatur von
89°C plattiert.
Die nickelplattierte Stahlplatte gemäß Beispiel 1 wurde in
einer Lösung mit der folgenden Formulierung behandelt:
CrO₃|10 g/l | |
H₃PO₄ (85%) | 20 ml/l |
H₂SO₄ (98%) | 2 ml/l |
Hierbei wurde der Strom periodisch umgeschaltet, wie in der
EP-A 00 94 127 beschrieben, wobei jedoch die folgenden
speziellen Parameter Anwendung fanden:
Anodische Zeit|0,8 sec | |
Kathodische Zeit | 0,2 sec |
Stromdichte | 0,25 ASD |
Temperatur | 20-22°C |
Die elektrolytische Behandlung dauerte 30 min. Es wurde eine
ausgezeichnete gleichförmige schwarze Abscheidung erhalten.
Es wurden Stahlplatten in der in Beispiel 1 beschriebenen
Weise plattiert. Während des Plattierens wurde Nickel zu
sammen mit geeigneten Extramengen an Hypophosphit und Sta
bilisator zugesetzt, um die Bestandteile wieder auf ihre
ursprünglichen Konzentrationen zu bringen. Des weiteren
wurde Milchsäure zugesetzt, um eine Ausfällung von Nickel
orthophosphit zu verhindern, bei dem es sich um ein un
vermeidbares Nebenprodukt des Prozesses handelt. Nach 1, 2,
3, 4 und 5 Metall-Umsätzen wurde eine Stahlplatte dem in
Beispiel 2 beschriebenen Konversionsprozeß ausgesetzt. In
jedem Fall wurde eine ausgezeichnete gleichförmige schwarze
Abscheidung erhalten.
Es wurde eine Stahlplatte in einer in Beispiel 1 beschriebenen
Zusammensetzung stromlos vernickelt, mit der Ausnahme,
daß Natriumsaccharin weggelassen wurde. Nach einem Metall-Umsatz
wurde die Stahlplatte extrahiert und dem in Beispiel
2 beschriebenen Konversionsprozeß unterzogen. Bereiche
mit hoher Stromdichte der umgewandelten Nickelabscheidung
waren dunkelgrün, Bereiche mit mittlerer Stromdichte waren
schwarz und irisierten etwas und Bereiche mit niedriger
Stromdichte irisierten und waren dunkel. Es wurde daher
keine zufriedenstellende schwarze Abscheidung erhalten.
Claims (22)
1. Stromlose Nickel-Plattierungszusammensetzung, dadurch
gekennzeichnet, daß sie Saccharin enthält.
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß Nickel in einer Menge von etwa 1 bis etwa
25 g/l vorliegt.
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß sie ein Reduktionsmittel umfaßt, das in
einer Menge von etwa 5 bis etwa 50 g/l vorliegt.
4. Zusammensetzung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeich
net, daß das Reduktionsmittel Natriumhypophosphit enthält.
5. Zusammensetzung nach einem der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Komplexbildner für die
vorhandenen Nickel-Ionen in einer Menge von etwa 5 bis etwa
50 g/l aufweist.
6. Zusammensetzung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeich
net, daß der Komplexbildner Milchsäure umfaßt.
7. Zusammensetzung nach einem der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Saccharin in einer Menge von
mindestens etwa 0,7 g/l vorhanden ist.
8. Zusammensetzung nach einem der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Saccharin in einer Menge bis
zu etwa 2 g/l vorhanden ist.
9. Zusammensetzung nach einem der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß sie von etwa 5 bis etwa 40 g/l
eines Puffers enthält.
10. Zusammensetzung nach Anspruch 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Puffer Essigsäure umfaßt.
11. Zusammensetzung nach einem der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß sie einen oder mehrere Stabili
satoren enthält.
12. Verfahren zum Herstellen einer schwarzen stromlosen
Nickel-Abscheidung, dadurch gekennzeichnet, daß ein Substrat
für die Abscheidung mit einer stromlosen Nickel-Plat
tierungszusammensetzung in Kontakt gebracht wird, die
Saccharin aufweist, und daß eine Konversionsschicht ausge
bildet wird, die Chrom enthält.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
die Konversionsschicht Phosphor und wahlweise Schwefel ent
hält.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
die Konversionsschicht ein hydriertes basisches Chrom
phosphat enthält, das die Bestandteile CrPO4 und Cr(OH)3
aufweist, wobei Cr2(SO4)3 vorhanden sein kann und das Ge
wichtsverhältnis Cr : P : S = 1 : (0,2-1,5): (0-0,5) beträgt.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die Konversionsschicht durch Behandlung
in einer Konversionszusammensetzung mit periodisch umge
schaltetem Strom ausgebildet wird.
16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß
die Frequenz der Stromumkehr von etwa 0,5 bis etwa 25 Hz be
trägt.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß das Verhältnis der Zeit, über die der
stromlos vernickelte Gegenstand die Kathode ist, und der
Zeit, über die er die Anode ist, für einen vorgegebenen
Stromzyklus (tcat/tan) etwa 0,1 bis etwa 0,8 beträgt.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß die Konversionsschicht durch Kontakt mit
einer Konversionszusammensetzung hergestellt wird, die
Nitrat-Ionen enthält.
19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß
die Nitrat-Ionen in einer Menge vorhanden sind, die durch
etwa 5 bis etwa 10 ml/l Salpetersäure (65%) zur Verfügung
gestellt wird.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 19, dadurch
gekennzeichnet, daß die Konversion durch Kontakt mit einer
Zusammensetzung stattfindet, die von etwa 2 bis etwa 20 g/l
CrO3 enthält.
21. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 20, dadurch
gekennzeichnet, daß die Konversion durch Kontakt mit einer
Zusammensetzung stattfindet, die Phosphat-Ionen in einer
Menge enthält, die durch etwa 2 bis etwa 40 ml/l konzen
trierte Phosphorsäure zur Verfügung gestellt wird.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 21, dadurch
gekennzeichnet, daß die Konversion durch Kontakt mit einer
Zusammensetzung stattfindet, die Sulphat-Ionen in einer
Menge enthält, die von etwa 0,1 bis etwa 5 ml/l konzen
trierter Schwefelsäure zur Verfügung gestellt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8904435A GB2231063A (en) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | Electroless plating composition containing saccharin |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4005088A1 true DE4005088A1 (de) | 1990-08-30 |
Family
ID=10652386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4005088A Granted DE4005088A1 (de) | 1989-02-27 | 1990-02-17 | Plattierungszusammensetzung und verfahren |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0317277A (de) |
BE (1) | BE1003583A5 (de) |
CH (1) | CH680449A5 (de) |
DE (1) | DE4005088A1 (de) |
ES (1) | ES2021949A6 (de) |
GB (1) | GB2231063A (de) |
IT (1) | IT1240776B (de) |
NL (1) | NL9000308A (de) |
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- 1990-02-21 ES ES9000522A patent/ES2021949A6/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-23 BE BE9000202A patent/BE1003583A5/fr not_active IP Right Cessation
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |