BE1003583A5 - Composition et procede de revetement a l'aide d'un metal. - Google Patents

Composition et procede de revetement a l'aide d'un metal. Download PDF

Info

Publication number
BE1003583A5
BE1003583A5 BE9000202A BE9000202A BE1003583A5 BE 1003583 A5 BE1003583 A5 BE 1003583A5 BE 9000202 A BE9000202 A BE 9000202A BE 9000202 A BE9000202 A BE 9000202A BE 1003583 A5 BE1003583 A5 BE 1003583A5
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
sep
nickel
per liter
composition
electrolytic
Prior art date
Application number
BE9000202A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Omi Internat Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omi Internat Corp filed Critical Omi Internat Corp
Application granted granted Critical
Publication of BE1003583A5 publication Critical patent/BE1003583A5/fr

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • C23C18/34Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
    • C23C18/36Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

La formation de dépôts non électrolytiques de nickel uniformément noirci à des fins décoratives ou fonctionnelles peut être réalisée en incorporant de la saccharine à une composition de dépôt non électrolytique du nickel, puis en formant un revêtement de conversion sur le dépôt de nickel non électrolytique par un traitement dans un bain au chromate. Des ions nitrate peuvent être incorporés au bain de conversion à base de chromate pour conduire à des résultats particulièrement uniformes pour ce qui est de la profondeur de nuance.

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Composition et procédé de revêtement à l'aide d'un métal. 



   La présente invention concerne la production de dépôts non électrolytiques de nickel noir. 



   La formation d'un dépôt non électrolytique de nickel est connue depuis un certain temps. Des articles portant un dépôt non électrolytique de nickel sont décrits, par exemple, dans le document US-A-3 088 846. Il existe actuellement dans l'industrie un besoin général, imposé en partie par des questions de mode, de dépôts non électrolytiques de nickel noir, à titre principal mais non exclusif pour la décoration. Ces dépôts sont typiquement requis, par exemple, sur les organes métalliques visibles et/ou les boîtiers d'appareils de télévision, d'enregistreurs de vidéocassettes et de matériels de haute fidélité. 



   Le document   EP-A-O   094 127 propose une solution au problème de former des dépôts non électrolytiques de nickel noir. Il indique qu'un article revêtu de nickel non électrolytique peut être traité dans un bain comprenant des ions chromate, des ions phosphate et facultativement des ions sulfate et être soumis à un courant inversé périodiquement. Le document   EP-A-O   094 127 suggère que le nickel non électrolytique peut être déposé à partir d'un bain commercialisé par Enthone sous le nom d'ENPLATE 415. 



  (Le   terme"ENPLATE"est   une marque de produit.)
Il a cependant été observé que les dépôts qui sont formés à l'aide du bain ENPLATE 415 et qui sont convertis ensuite ne donnent un dépôt noir convenable que lorsque le bain de dépôt non électrolytique est âgé de plus de 1, mais pas de plus de 3 épuisements du métal.

   (Un épuisement du métal est atteint lorsque le bain de dépôt a déposé le poids d'ions métalliques présent à l'origine dans le bain ; pendant le dépôt, le bain est reconstitué par un apport d'ions métalliques, généralement avec un agent   réducteur.)  
Du fait que le bain de dépôt non électrolytique ne peut être utilisé efficacement que pendant deux 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 épuisements du métal dont aucun n'est le premier, si le dépôt de nickel doit être ensuite noirci, le gaspillage des agents du bain de dépôt est considérable sauf si le bain de dépôt est utilisé à d'autres fins pendant le premier épuisement et après le troisième. 



   La Demanderesse a découvert à présent que la présence de saccharine dans un bain de dépôt non électrolytique du nickel permet de déposer le nickel pendant toute la durée de vie utile du bain et que l'alliage nickelphosphore déposé peut être ensuite noirci uniformément ou au moins de meilleure façon que ce qui a été possible jusqu'à présent. 



   Suivant un premier aspect, la présente invention a pour objet une composition pour le dépôt non électrolytique du nickel qui comprend de la saccharine. La saccharine doit de façon générale être présente en une quantité efficace pour permettre que le nickel déposé soit ensuite noirci. 



   Il convient d'entendre que les mentions d'un "dépôt de nickel"faites dans le présent mémoire désignent aussi un dépôt d'alliage de nickel et d'un autre élément quelconque, comme le phosphore, comme le dépôt non électrolytique du nickel en produit typiquement. 



   La source du nickel peut être le sulfate de nickel ou tout autre sel soluble approprié du nickel. La quantité de nickel présente dans le bain peut s'échelonner de 0, 1 à 50 g par litre, par exemple de 1 à 25 g par litre et typiquement de 2 à 10 g par litre. Dans les bains de dépôt non électrolytique des métaux, l'ion métallique est réduit non par l'électricité, mais par un agent réducteur chimique. Tout agent réducteur approprié pour les ions nickel peut être utilisé dans le bain, mais en pratique, l'agent réducteur préféré sera probablement l'hypophosphite de sodium, qui donne lieu à un dépôt de nickel-phosphore. 



  L'agent réducteur peut être présent dans la composition pour le dépôt non électrolytique en une quantité de 1 à 100 g par litre, par exemple de 5 à 50 g par litre et typiquement de 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 20 à 40 g par litre. 



   Pour éviter une réduction prématurée des ions nickel dans la masse de la solution, une composition pour le dépôt non électrolytique du nickel comprend habituellement un agent complexant pour les ions nickel. Tout agent complexant approprié peut être utilisé, mais l'acide lactique est un agent complexant préféré. (Il convient d'observer que les mentions de l'acide lactique ou de tout autre acide organique faible faites dans la présente description désignent aussi les ions lactate ou autres correspondants du fait que l'espèce exacte en présence   dépend évidemment du pH. ) D'autres agents complexants qui   pourraient être utiles en dehors de l'acide lactique sont notamment l'acide succinique, l'acide glycolique, l'acide malique et l'acide citrique.

   L'agent complexant peut être présent en une quantité de 1 à 100 g par litre, par exemple de 5 à 50 g par litre et typiquement de 20 à 40 g par litre. 



  D'autres agents complexants, notamment leurs mélanges peuvent être utilisés. 



   La saccharine est en règle générale présente dans le bain ou ajoutée à celui-ci sous une forme soluble. Une forme soluble appropriée de la saccharine est la saccharine sodique, mais d'autres sels solubles conviennent aussi. La saccharine doit être présente dans le bain à raison d'au moins 0, 7 g par litre pour donner de bons résultats. D'autre part, s'il y a plus de 2 g par litre de saccharine en présence, on peut parfois observer qu'elle donne lieu à un effet de mouchetage après le noircissement. Une quantité de saccharine entre 1, 0 et 1,8 g par litre, par exemple de 1,5 g par litre, s'est révélée particulièrement appropriée.

   Comme indication supplémentaire, on peut préciser qu'il a été expérimentalement établi que pour entretenir le bain, une addition de 25 à 200 mg de saccharine par g de nickel consommé donne de bons résultats, les proportions préférées se situant entre 75 et 125 mg de saccharine par g de nickel, une addition d'environ 100 mg de saccharine par g de nickel étant apparemment optimale. 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 



   Un tampon peut être présent dans le bain. Le tampon peut être un système acide   acétique/acétate,   bien que tout autre tampon, par exemple à base d'un acide organique faible et de son sel, puisse être utilisé. Le tampon peut être présent en une quantité de 1 à 50 g par litre, par exemple de 5 à 40 g par litre et typiquement de 20 à 30 g par litre. Si l'acétate de sodium sert de tampon, il peut être apporté sous la forme du sel trihydraté. 



   La composition peut contenir de surcroît un ou plusieurs stabilisants. En quantités appropriées, le plomb s'est révélé être un stabilisant convenable pour les systèmes de dépôt non électrolytique du nickel. Le plomb peut être apporté sous la forme d'acétate de plomb ou de tout autre sel soluble approprié du plomb. Le plomb peut être présent en une quantité de 0, 1 à 5 mg par litre, par exemple de 0,2 à 3 mg par litre et typiquement de 0,5 à 1,5 mg par litre. 



   Les composés contenant du soufre constituent une autre classe de stabilisants utiles. Un composé utile dans cette classe est l'acide   3- ( (aminoiminométhyl) thio) -1-   propane-sulfonique, mais d'autres peuvent être utilisés. Le composé contenant du soufre peut être présent en une quantité de 0, 1 à 10 mg par litre, par exemple de 0, 2 à 5 mg par litre et typiquement de 0,5 à 3 mg par litre. 



   Le pH de la composition pour le dépôt non électrolytique du nickel se situe habituellement dans le domaine acide. Il peut s'échelonner de 3 à 6, par exemple de 4 à 5,5 et typiquement de 4,5   à 5.   



   Suivant un deuxième aspect, l'invention a pour objet un procédé pour préparer un dépôt de nickel non électrolytique noir, le procédé comprenant la mise en contact d'un substrat pour le dépôt avec une composition de dépôt non électrolytique du nickel comprenant de la saccharine, et la formation d'une couche de conversion comprenant du chrome. La couche de conversion peut comprendre du phosphore et facultativement du soufre. La couche de conversion peut en particulier comprendre un 

 <Desc/Clms Page number 5> 

 phosphate de chrome basique hydraté comprenant les composants   Crp04   et Cr (OH) 3, dans lequel   CrSOg   peut être présent, et où le rapport pondéral Cr : P : S vaut 1 : (0,2 à 1,5) : (0 à 0, 5). 



   Lors de la formation du dépôt non électrolytique de nickel, la température de la composition de dépôt peut s'échelonner de 40 à   99OC,   par exemple de 60 à   950C   et typiquement de 85 à   900C.   Le dépôt peut avoir lieu pendant toute durée appropriée, par exemple 5 minutes à 5 heures, suivant l'épaisseur requise. Des durées de dépôt de 20 minutes à 2 heures sont habituelles, une durée de 30 à 45 minutes étant typique pour obtenir un dépôt d'une épaisseur d'environ 10 m. 



   La couche de conversion peut comprendre du chrome, du phosphore et du soufre, dont le rapport Cr : P : S vaut 1 : 1 : (0 à 0,2). 



   La couche de conversion est généralement formée sur un article revêtu de nickel non électrolytique traité avec inversion périodique du courant, comme décrit dans le document EP-A-0 094 127. La fréquence d'inversion du courant peut s'échelonner de 0, 1 à 50 Hz, par exemple de 0,5 à 25 Hz et être typiquement d'environ 1 Hz. 



   Le rapport du temps pendant lequel l'article revêtu de nickel non électrolytique est la cathode au temps pendant lequel il est l'anode pour un cycle de courant donné   (tcat/t) ne   doit pas être égal à 1. Un rapport   te. Jt de   0,05 à 20 peut en règle générale convenir, mais un rapport   tcat./tan   inférieur à 1 est préféré. Les rapports tcat/tan de 0, 1 à 0,8 inclusivement se sont révélés les plus satisfaisants. 



   La densité de courant peut normalement être de 0, 1 à 1 ampère par dm2, par exemple de 0,2 à 0,5 ampère par dm2 et typiquement d'environ 0,25 ampère par dm2. 



   Une importante particularité préférée de l'invention est qu'on a découvert que si des ions nitrate sont présents dans la composition de conversion, la performance s'en trouve améliorée : des améliorations du pouvoir 

 <Desc/Clms Page number 6> 

 couvrant ont été observées et la tendance à l'apparition de nuances verdâtres dans les régions à haute densité de courant est significativement réduite. La composition de conversion contient donc de préférence des ions nitrate, qui peuvent être ajoutés sous la forme d'acide nitrique. Une quantité d'acide nitrique (à 65%) de 1 à 10 ml par litre, par exemple de 5 à 10 ml par litre s'est révélée appropriée, une quantité d'environ 7,5 ml par litre étant optimale. 



   Les ions chromate dans la composition de conversion peuvent être présents en une quantité de 1 à 40 par litre de   Croc,   par exemple de 2 à 20 g par litre et typiquement de 5 à 15 g par litre. Les ions phosphate peuvent être présents en une quantité qui serait fournie par un apport d'acide phosphorique concentré de 1 à 60 ml par litre, par exemple de 2 à 40 ml par litre et typiquement de 10 à 30 ml par litre. Les ions sulfate peuvent être présents en une quantité qui serait fournie par un apport d'acide sulfurique concentré de 0 à 10 ml par litre, par exemple de 0, 1 à 5 ml par litre et typiquement de 0,5 à 3 ml par litre. 



   D'autres particularités préférées de la composition de conversion et du procédé de conversion sont données dans le document   EP-A-O   094 127. 



   L'invention est illustrée par les exemples suivants. 



  Exemple 1
On prépare une composition de dépôt non électrolytique du nickel dans de l'eau de la façon suivante : 
 EMI6.1 
 
<tb> 
<tb> Ni <SEP> (sous <SEP> forme <SEP> de <SEP> sulfate <SEP> de <SEP> nickel) <SEP> 6,2 <SEP> g/l
<tb> Acide <SEP> lactique <SEP> (à <SEP> 80% <SEP> p/v) <SEP> 30,0 <SEP> ml/l
<tb> CHgCOONa.

   <SEP> SHzO <SEP> 24,0 <SEP> g/l
<tb> Hypophosphite <SEP> de <SEP> sodium <SEP> 30,0 <SEP> g/1
<tb> Pub2+ <SEP> (sous <SEP> forme <SEP> d'acétate <SEP> de <SEP> plomb) <SEP> 1,3 <SEP> mg/l
<tb> Acide <SEP> 3- <SEP> ( <SEP> (aminoiminométhyl) <SEP> thio) <SEP> -
<tb> 1-propane-sulfonique <SEP> 2,0 <SEP> mg/1
<tb> NaOH, <SEP> environ <SEP> 3,6 <SEP> g/l
<tb> Saccharine <SEP> sodique <SEP> 1,5 <SEP> g/l
<tb> PH <SEP> 4,8
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 7> 

 
On revêt une tôle d'acier à l'aide de la composition ci-dessus pendant 35 minutes à pH 4,9 à une température de   89OC.   



  Exemple 2
On traite la tôle d'acier recouverte de nickel obtenue dans l'exemple 1 dans une solution de la constitution suivante : 
 EMI7.1 
 
<tb> 
<tb> Croc <SEP> 10 <SEP> g/1
<tb> H3P04 <SEP> (85%) <SEP> 20 <SEP> ml/l
<tb> H2SO4 <SEP> (98%) <SEP> 2 <SEP> ml/l
<tb> 
 
 EMI7.2 
 avec inversion périodique du courant, comme décrit de façon générale dans le document EP-A-O 094 127, mais en prenant les paramètres spécifiques suivants : 
 EMI7.3 
 
<tb> 
<tb> Temps <SEP> anodique <SEP> 0, <SEP> 8 <SEP> seconde
<tb> Temps <SEP> cathodique <SEP> 0,2 <SEP> seconde
<tb> Densité <SEP> de <SEP> courant <SEP> 0,25 <SEP> A/dm2
<tb> Température <SEP> 20-22OC
<tb> 
 
On poursuit le traitement électrolytique pendant 30 minutes. On obtient un excellent dépôt noir uniforme. 



  Exemple 3
On revêt des tôles d'acier comme décrit dans l'exemple 1. Pendant la formation du dépôt, on ajoute du nickel, avec des suppléments appropriés d'hypophosphite et de stabilisant, pour ramener les constituants à leurs concentrations d'origine. On ajoute un supplément d'acide lactique pour empêcher la précipitation de l'orthophosphite de nickel qui est un sous-produit inévitable du procédé. Après 1,2, 3,4 et 5 épuisements du métal, on soumet une tôle d'acier au procédé de conversion décrit dans l'exemple 2. Dans chaque cas, on obtient un excellent dépôt noir uniforme. 



  Exemple de comparaison
On revêt une tôle d'acier de nickel non électrolytique dans une composition telle que décrite dans l'exemple   1,   sauf qu'on y a omis la saccharine sodique. 



  Après un épuisement du métal, on retire la tôle d'acier et on la soumet au procédé de conversion décrit dans 

 <Desc/Clms Page number 8> 

 l'exemple 2. Les régions à haute densité de courant du dépôt de nickel converti sont vert foncé, celles à moyenne densité de courant sont noires avec des irisations et celles à basse densité de courant sont irisées et foncées, mais un dépôt noir satisfaisant n'est pas obtenu.

Claims (10)

  1. EMI9.1
    R E V E N D I C A T I O N S REVENDICATIONS 1. - Procédé pour préparer un dépôt non électrolytique de nickel noir, caractérisé en ce qu'il comprend la mise en contact d'un substrat pour le dépôt avec une composition de dépôt non électrolytique du nickel comprenant de la saccharine, et la formation d'une couche de conversion avec inversion périodique du courant et comprenant du chrome.
  2. 2.-Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de conversion comprend en outre du phosphore et facultativement du soufre.
  3. 3.-Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche de conversion comprend un phosphate de chrome basique hydraté comprenant les composants CrPO4 et Cr (OH) 3 dans lequel Cr2 (S04) 3 peut être présent, et où le rapport pondéral Cr : P : S vaut 1 : (0,2 à 1,5) : (0 à 0,5).
  4. 4.-Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche de conversion est formée par contact avec une composition de conversion comprenant des ions nitrate.
  5. 5.-Procédé suivant la revendication 4, caractérisé en ce que les ions nitrate sont présents en une quantité telle qu'apportée par environ 5 à environ 10 ml par litre d'acide nitrique (à 65%).
  6. 6.-Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la conversion a lieu par contact avec une composition EMI9.2 comprenant environ 2 à environ 20 g par litre de Croc.
  7. 7.-Procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la conversion a lieu par contact avec une composition comprenant des ions phosphate en une quantité telle qu'apportée par environ 2 à environ 40 ml par litre d'acide phosphorique concentré.
  8. 8. - Procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la conversion <Desc/Clms Page number 10> a lieu par contact avec une composition comprenant des ions sulfate en une quantité telle qu'apportée par environ 0, 1 à environ 5 ml par litre d'acide sulfurique concentré.
  9. 9.-Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la fréquence d'inversion du courant est d'environ 0,5 à environ 25 Hz.
  10. 10. - Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le rapport du temps pendant lequel l'article revêtu de nickel non électrolytique est la cathode au temps pendant lequel il est l'anode pour un cycle de courant donné (tcat/tan) est d'environ 0, 1 à environ 0,8.
BE9000202A 1989-02-27 1990-02-23 Composition et procede de revetement a l'aide d'un metal. BE1003583A5 (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8904435A GB2231063A (en) 1989-02-27 1989-02-27 Electroless plating composition containing saccharin

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE1003583A5 true BE1003583A5 (fr) 1992-04-28

Family

ID=10652386

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE9000202A BE1003583A5 (fr) 1989-02-27 1990-02-23 Composition et procede de revetement a l'aide d'un metal.

Country Status (8)

Country Link
JP (1) JPH0317277A (fr)
BE (1) BE1003583A5 (fr)
CH (1) CH680449A5 (fr)
DE (1) DE4005088A1 (fr)
ES (1) ES2021949A6 (fr)
GB (1) GB2231063A (fr)
IT (1) IT1240776B (fr)
NL (1) NL9000308A (fr)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10246453A1 (de) 2002-10-04 2004-04-15 Enthone Inc., West Haven Verfahren zur stromlosen Abscheidung von Nickel
JP4705776B2 (ja) * 2004-12-17 2011-06-22 日本カニゼン株式会社 リン酸塩被膜を有する無電解ニッケルめっき膜の形成方法およびその形成膜
WO2011003116A2 (fr) 2009-07-03 2011-01-06 Enthone Inc. Electrolyte contenant un acide bêta-aminé et procédé de dépôt d'une couche métallique
CN111850534B (zh) * 2020-06-16 2022-03-01 中国石油天然气集团有限公司 一种马氏体不锈钢油管低应力预钝化膜及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3586524A (en) * 1969-07-10 1971-06-22 Shell Oil Co Consolidation of formations by electroless metal plating process
JPS6075583A (ja) * 1983-09-29 1985-04-27 Komatsu Ltd 超砥粒の無電解めつき法
GB2160897A (en) * 1984-05-24 1986-01-02 Aisin Seiki Electroless plating solution

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3088846A (en) * 1962-01-24 1963-05-07 Gen Am Transport Processes of treating nickel-phosphorus alloy coatings and the resulting modified coatings
US3215700A (en) * 1964-02-03 1965-11-02 Harshaw Chem Corp Certain 2-(hydroxyalkynyl)-substituted saccharins
DE2111136A1 (de) * 1971-03-09 1972-09-28 Kalle Ag Verfahren zur Herstellung von metallisierten Formkoerpern aus makromolekularem Material
JPS5437088B2 (fr) * 1972-02-18 1979-11-13
CA1016488A (fr) * 1974-04-01 1977-08-30 Oxy Metal Industries Corporation Depot galvanoplastique des depots de ferronickel brillant
GB1553503A (en) * 1976-05-14 1979-09-26 Oxy Metal Industries Corp Electrodeposition of bright nickel-iron deposits
US4179343A (en) * 1979-02-12 1979-12-18 Oxy Metal Industries Corporation Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits
NL8201849A (nl) * 1982-05-06 1983-12-01 Philips Nv Voorwerp met een laag van een nikkel-fosfor-legering en met een conversielaag bedekt.
CA1274754A (fr) * 1985-09-06 1990-10-02 Gary A. Reghi Methode et composition pour la passivation des alliages de zinc et aluminium

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3586524A (en) * 1969-07-10 1971-06-22 Shell Oil Co Consolidation of formations by electroless metal plating process
JPS6075583A (ja) * 1983-09-29 1985-04-27 Komatsu Ltd 超砥粒の無電解めつき法
GB2160897A (en) * 1984-05-24 1986-01-02 Aisin Seiki Electroless plating solution

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHEMICAL ABSTRACTS, vol. 88, Columbus, Ohio, US; abstract no. 10638V, PLOKHOV: 'action of leveling additives during electroless plating' page 218 ; *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 9, no. 211 (C-300)(1934) 29 Août 1985 & JP-A-60 075 583 ( KOMATSU SEISAKUSHO ) 27 Avril 1985 *

Also Published As

Publication number Publication date
ES2021949A6 (es) 1991-11-16
JPH0317277A (ja) 1991-01-25
GB8904435D0 (en) 1989-04-12
DE4005088A1 (de) 1990-08-30
NL9000308A (nl) 1990-09-17
IT9047670A0 (it) 1990-02-23
CH680449A5 (fr) 1992-08-31
GB2231063A (en) 1990-11-07
IT9047670A1 (it) 1990-08-28
IT1240776B (it) 1993-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2357943T5 (es) Procedimiento para la deposición de metales sin corriente
FR2699556A1 (fr) Bains pour former un dépôt électrolytique de cuivre et procédé de dépôt électrolytique utilisant ce bain.
FR2672306A1 (fr) Solutions perfectionnees de zincate pour le traitement de l&#39;aluminium et des alliages d&#39;aluminium.
EP0497302B1 (fr) Procédé pour électroplaquer directement en zinc une bande à base d&#39;aluminium
JP4790191B2 (ja) パラジウム又はその合金を電気化学的に析出させるための電解浴
BE1003583A5 (fr) Composition et procede de revetement a l&#39;aide d&#39;un metal.
US20220074066A1 (en) Iron tungsten coating formulations and processes
WO2009139384A1 (fr) Bain galvanoplastique d&#39;alliage cuivre-zinc et procédé de placage l&#39;utilisant
EP1268347B1 (fr) Sel complexe de palladium et son utilisation pour ajuster la concentration en palladium d&#39;un bain electrolytique destine au depot du palladium ou d&#39;un de ses alliages
JP4861436B2 (ja) コバルト系列合金無電解鍍金溶液及び無電解鍍金方法
FR2572422A1 (fr) Bain d&#39;activation et d&#39;affinage perfectionne pour procede de phosphatation au zinc et concentre correspondant
US5194139A (en) Pretreating solution for silver plating and silver plating treating process using the solution
EP0227518B1 (fr) Bain à l&#39;hydrazine pour le dépôt chimique de nickel et/ou de cobalt, et procédé de fabrication d&#39;un tel bain
US4238300A (en) Gold electroplating process
BE1003584A5 (fr) Composition et procede de conversion.
WO2009093499A1 (fr) Bain de placage au chrome trivalent
WO2010027021A1 (fr) Bain galvanoplastique d&#39;alliage cuivre-zinc
FR2560609A1 (fr) Bain aqueux pour deposer des alliages nickel-phosphore par voie non electrolytique et son procede d&#39;utilisation employant un compose de sulfonium betaine
JP5274817B2 (ja) 銅−亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法
FR2538815A1 (fr) Procede pour former, par electrolyse, un revetement de cuivre sur un substrat, a partir d&#39;un bain exempt de cyanure, et anode pour la mise en oeuvre de ce procede
JP3086762B2 (ja) 無電解銅メッキ液および該メッキ液を用いた銅薄膜の形成方法
JPH05271981A (ja) 白金合金めっき浴及びそれを用いた白金合金めっき品の製造方法
FR2493881A1 (fr) Compositions et procede pour le depot electrolytique a grande vitesse d&#39;argent brillant, employant un compose de selenium a valence 3
JP3422595B2 (ja) アルミニウム合金用亜鉛置換処理浴
JPH08218161A (ja) 硫化鉄薄膜の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
RE Patent lapsed

Owner name: OMI INTERNATIONAL CORP.

Effective date: 19930228