DE3932094A1 - Verfahren zum entfernen einer selenhaltigen schicht von einem elektrophotographischen photorezeptor - Google Patents

Verfahren zum entfernen einer selenhaltigen schicht von einem elektrophotographischen photorezeptor

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5429715A (en) * 1993-11-01 1995-07-04 Xerox Corporation Method for rendering imaging member substrates non-reflective
US5352329A (en) * 1993-12-09 1994-10-04 Xerox Corporation Removing portions of imaging member layers from a substrate
US5378315A (en) * 1993-12-09 1995-01-03 Xerox Corporation Removing imaging member layers from a substrate
DE102012011041A1 (de) * 2012-06-05 2013-12-05 Leybold Optics Gmbh Verfahren zum Entfernen von Selen-Niederschlägen auf Kühlfallen der Solarzellenproduktion

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53147703A (en) * 1977-05-26 1978-12-22 Hoechst Ag Method of removing selenium layer
JPS55149949A (en) * 1979-05-14 1980-11-21 Fuji Electric Co Ltd Separation of selenium material from selenium photoreceptor
JPS58217412A (ja) * 1982-06-14 1983-12-17 Nippon Light Metal Co Ltd 乾式複写ドラムから金属セレンを回収する方法
JPS5918104A (ja) * 1982-07-16 1984-01-30 Olympus Optical Co Ltd 蒸着セレンの剥離方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL40576C (https=) * 1934-06-23
US2269195A (en) * 1940-12-18 1942-01-06 Gen Electric Electric heater
GB755784A (en) * 1954-06-18 1956-08-29 Poor & Co Improvements in or relating to methods of pickling and pickling compositions
GB957366A (en) * 1961-07-03 1964-05-06 Bendix Corp Sonic cleaner
DE1546163A1 (de) * 1965-03-13 1970-04-16 Metallgesellschaft Ag Verfahren zur Entfernung von OElkohle und anderen organischen Verunreinigungen von Metalloberflaechen
GB1151649A (en) * 1967-10-17 1969-05-14 Dow Chemical Co Removal of Ferrous Sulfide Deposits
GB1257177A (https=) * 1967-12-27 1971-12-15
GB1300442A (en) * 1970-02-25 1972-12-20 Dow Chemical Co Cleaning metal surfaces
GB1438339A (https=) * 1973-10-17 1976-06-03
US4026797A (en) * 1976-04-19 1977-05-31 Amax Inc. Precipitation of selenium from copper electrowinning solutions
FR2419336A1 (fr) * 1978-03-08 1979-10-05 Centre Rech Metallurgique Procede pour ameliorer la proprete de surface de toles metalliques telles que des toles en acier
JPS6218563A (ja) * 1985-07-18 1987-01-27 Takeshi Suzuki アルミニウム製感光部材の処理方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53147703A (en) * 1977-05-26 1978-12-22 Hoechst Ag Method of removing selenium layer
JPS55149949A (en) * 1979-05-14 1980-11-21 Fuji Electric Co Ltd Separation of selenium material from selenium photoreceptor
JPS58217412A (ja) * 1982-06-14 1983-12-17 Nippon Light Metal Co Ltd 乾式複写ドラムから金属セレンを回収する方法
JPS5918104A (ja) * 1982-07-16 1984-01-30 Olympus Optical Co Ltd 蒸着セレンの剥離方法

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Publication number Publication date
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GB2224750B (en) 1992-12-02
JPH07109515B2 (ja) 1995-11-22
DE3932094C2 (https=) 1992-07-23
GB8921488D0 (en) 1989-11-08
JPH02191962A (ja) 1990-07-27

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