DE3810197C2 - - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Plasma-Bearbeitungseinrichtung zur Bearbeitung eines Substrats gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 und 6.

Fig. 23 zeigt im Schnitt und teilweise in Blockform den Aufbau einer bekanntern Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach der JP-OS 79 621/1982. Die bekannte Plasma-Bearbeitungseinrichtung umfaßt einen Plasmaerzeugungsteil 1. Dieser hat ein Plasmaerzeugungsgefäß, z. B. eine Glasröhre 2, einen elektrischen HF-Felderzeuger, z. B. einen HF-Wellenleiter 3, der die Plasmaerzeugungs-Glasröhre 2 aufnimmt und ein nichtgleichförmiges elektrisches HF-Feld senkrecht zu einer Axialrichtung (die als z-Richtung angenommen wird) erzeugt, und einen magnetostatischen Erzeuger, z. B. eine Magnetspule 5, die den HF-Wellenleiter 3 umgibt und an eine Gleichstromversorgung 4 angeschlossen ist, so daß sie ein nichtgleichförmiges magnetostatisches Feld in Axialrichtung erzeugt. HF-Energie wird dem HF-Wellenleiter 3 durch ein Magnetron 7 zugeführt, das auf dem oberen Teil des HF-Wel­ lenleiters 3 angeordnet und an eine Antriebsenergieversorgung 6 angeschlossen ist. Ferner wird ein Gas, z. B. ein Reaktionsgas, der Plasmaerzeugungs-Glasröhre 2 durch eine Gasförderleitung 8 zugeführt.

Ferner weist die bekannte Plasma-Bearbeitungseinrichtung einen Plasmareaktionsteil 9 auf. In diesem befindet sich eine Plattform 10, auf der ein mit Plasma zu bearbeitendes Substrat 11 angeordnet ist. Die Gasförderleitung 8 ist an den oberen Abschnitt des Plasmareaktionsteils 9 angeschlossen. Eine Ausströmleitung 12 zur Abführung des verbrauchten Gases ist an den unteren Abschnitt des Plasmareaktionsteils 9 angeschlossen.

Die bekannte Plasma-Bearbeitungseinrichtung ist wie beschrieben aufgebaut und erzeugt das Plasma aufgrund von Elektronenzyklotronresonanz, die nachstehend erläutert werden soll.

Dabei bezeichnet B(z) die Stärke des nichtgleichförmigen magnetostatischen Feldes in Axialrichtung. Die elektrische HF-Leistung, die dem HF-Wellenleiter 3 vom Magnetron 7 zugeführt wird, bildet in dem Plasmaerzeugungsteil 1 ein nichtgleichförmiges elektrisches HF-Feld E_rf(z) aus, wobei der Plasmaerzeugungsteil eine solche Form hat, daß er entsprechend der Frequenz der HF-Energie in Resonanz tritt. Die Stärke des magnetostatischen Feldes in z-Richtung, die die Elektronenzyklotronresonanz mit dem elektrischen HF- Feld E_rf(z) in dem Plasmaerzeugungsteil 1 bewirkt, liegt in einem in Fig. 24 gezeigten Bereich innerhalb des Plasmaer­ zeugungsteils 1. Fig. 24 ist ein Verteilungsdiagramm, das Resonanzpunkte in radialer Richtung r von der Mitte des Plasmaerzeugungsteils 1 zu dessen Seitenwandfläche und in Axialrichtung z unter der oberen Wandfläche des Plasmaer­ zeugungsteils 1 zeigt. Eine Kurve vom Punkt A zum Punkt B erhält man durch Verbinden der Punkte der magnetischen Feldstärken, bei denen die magnetostatische Feldstärke B_z(z) in z-Richtung die Resonanz mit dem elektrischen HF-Feld E_rf(z) bewirkt.

Elektronen führen eine wohlbekannte Zyklotronbewegung in dem magnetostatischen Feld B aus, und die Winkelfrequenz ω_c der Zyklotronbewegung wird ausgedrückt durch ω_c = eB/m (mit e = Absolutwert der elektronischen Ladung und m = Masse des Elektrons). Wenn ω die Winkelfrequenz des elektrischen HF-Feldes E_rf(z) in dem Plasmaerzeugungsteil 1 bezeichnet und die Zyklotronresonanzbedingung ω = ω_c gilt, so wird die Energie der HF-Leistung dem Elektron kontinuierlich zugeführt, und die Energie des Elektrons nimmt zu.

Unter diesen Zyklotronresonanzbedingungen wird ein Gas mit geeignetem Gasdruck in die Gasförderleitung 8 eingeführt. Dann wird den in einem vorläufigen Entladungszustand erzeugten Elektronen kontinuierlich Energie von der HF-Lei­ stungseinheit zugeführt, so daß sie einen energiereichen Zustand annehmen, und das Plasma wird durch die Kollisionen ausgebildet. Die HF-Leistung wird unter den Resonanzbedingungen weiter in das so erzeugte Plasma geleitet.

Wenn nun beispielsweise angenommen wird, daß das durch die Gasförderleitung 8 eingeleitete Gas SiH₄ ist, so wird zusätzlich zum Gasdruck die HF-Leistung richtig eingestellt, so daß die Arten, Konzentrationen oder/und Energieniveaus der jeweiligen Ionen wie Si⁺, SiH⁺, SiH₂⁺ und SiH₃⁺ und gleichzeitig die Arten, Konzentrationen oder/und Energieniveaus von Radikalen wie Si* und SiH_x* gesteuert werden können.

Eine durch die nachstehende Gleichung gegebene axiale Kraft F_z wirkt auf das Elektron in Anwesenheit des nichtgleichförmigen magnetostatischen Feldes B(z) und des nichtgleichförmigen elektrischen Feldes E_rf(z), so daß das Elektron in Axialrichtung beschleunigt wird:

mit
µ = ein magnetisches Moment,
B = Magnetflußdichte,
z = Entfernung in Axialrichtung,
ω₀ = Energie der Kreisbewegung des Elektrons,
B₀ = Magnetflußdichte im Plasmaerzeugungsteil 1,
m = Masse des Elektrons und
M = Masse des Ions.

Somit werden also die Elektronen in dem vom Plasmaerzeugungsteil 1 nach Fig. 23 erzeugten Plasma in Axialrichtung zum Plasmareaktionsteil 9 beschleunigt. Infolgedessen wird in der Axialrichtung innerhalb des Plasmas ein die Ionen beschleunigendes elektrostatisches Feld E₀(z) ausgebildet. Dieses elektrostatische Feld E₀(z) beschleunigt das gesamte Plasma in Axialrichtung, so daß in dem Plasmareaktionsteil 9 ein Plasmastrom 13 auftritt, der in Axialrichtung verläuft. Da von der Magnetspule 5 erzeugte magnetische Kraftlinien Komponenten in r-Richtung in dem Plasmareaktionsteil 9 haben, breitet sich der Plasmastrom 13 entlang den ma­ gnetischen Kraftlinien aus.

Eine solche Plasma-Bearbeitungseinrichtung kann für verschiedene Oberflächen-Behandlungsverfahren wie Plasma-Ätzen, Plasma-CVD und Plasma-Oxidation eingesetzt werden und diese Verfahren wirkungsvoll durchführen.

Bei der bekannten Plasma-Bearbeitungseinrichtung, die mit Elektronenzyklotronresonanz arbeitet, sind die Stärken des magnetostatischen Feldes B_z(z) und des elektrischen HF-Feldes E_rf(z) in der Radialrichtung nicht gleichmäßig. Dies führt zu dem Problem, daß es allgemein schwierig ist, eine Gleichmäßigkeit des Plasmaverfahrens zu erzielen. Wenn z. B. ein Film mittels Plasma-CVD gebildet wird, wird die Dickenverteilung des Films insbesondere bei einem Substrat mit großem Durchmesser ungleichmäßig, wie Fig. 25 zeigt. Diese Figur ist ein Verteilungsdiagramm, wobei auf der Abszisse der Abstand von der Substratmitte in r-Richtung und auf der Ordinate die Dickenverteilung des Films aufgetragen ist.

Von der Magnetspule 5 erzeugte magnetische Kraftlinien breiten sich ferner innerhalb des Plasmareaktionsteils 9 aus, wie Fig. 26 zeigt, so daß sich auch der Plasmastrom 13 ausbreitet und streut. Dies führt zu dem Problem, daß das Plasma die Kammerwandungen, die den Plasmareaktionsteil 9 begrenzen, verspritzt, so daß das Substrat 11 mit von den Wandungen abprallenden Stoffen kontaminiert werden kann. Ein weiteres Problem besteht darin, daß der Wirkungsgrad des Plasma-Bearbeitungsverfahrens verringert wird, da der das Substrat erreichende Plasmaanteil vermindert ist.

Aus dem J. Electrochem. Soc. Band 126 (1979), Seiten 1024 bis 1028, insbesondere Fig. 23, ist ebenfalls eine Plasma-Bearbeitungseinrichtung entnehmbar, die prinzipiell der vorbeschriebenen Bearbeitungseinrichtung entspricht. Auch im Zusammenhang mit dieser bekannten Bearbeitungseinrichtung treten daher die geschilderten Probleme auf.

In der nachveröffentlichten DE-OS 37 29 347 wird im Hinblick auf die geschilderten Probleme vorgeschlagen, das magnetostatische Feld der Magnetspule durch weitere u. a. auch bewegte Magnetfelder von Magnetspulen zu überlagern, die zueinander und zur Magnetspule des magnetostatischen Feldes achsparallel aber nicht koaxial ausgerichtet sind. Hierzu sind wenigstens einige dieser zusätzlichen Magnetspulen bewegbar ausgebildet, um wenigstens einen Teil des resultierenden Magnetfeldes veränderbar, insbesondere auch ortsveränderbar auszugestalten.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist daher die Bereitstellung einer Plasma-Bearbeitungseinrichtung, mit der auch ein Substrat mit großem Durchmesser gleichmäßig bearbeitet werden kann. Dabei soll es möglich sein, mit der Plasma-Bearbeitungseinrichtung den Durchmesser des Plasmastroms zu ändern; ferner soll es möglich sein, eine Streuung des Plasmas zu unterdrücken; außerdem soll dabei eine Kontaminierung eines Substrats infolge eines Verspritzens der Kammerwandungen unterbunden werden und eine hohe Plasma-Bearbeitungsgeschwindigkeit erreichbar sein.

Die Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach der Erfindung zur Bearbeitung eines Substrats unter Anwendung eines aus einem Reaktionsgas durch Elektronenzyklotronresonanz erzeugten Plasmas, mit einer Magnetspule, die in einer Reaktionsgas­ atmosphäre ein magnetostatisches Feld erzeugt, und mit einem HF-Wellenleiter, der ein zu dem magnetostatischen Feld senkrechtes elektrisches Feld erzeugt, ist gekennzeichnet durch eine Vorrichtung mit wenigstens einem weiteren Magneten zur Erzeugung eines bewegten Magnetfeldes, das das magnetostatische Feld zwischen der Magnetspule und dem Substrat schneidet und sich bewegt, wobei der weitere Magnet so angeordnet ist, daß die Verbindungslinie zwischen seinem Nord- und seinem Südpol etwa senkrecht zur Mittelachslinie der Magnetspule verläuft.

Mit der vorgenannten Erfindung lassen sich die obigen Probleme der bekannten Plasma-Bearbeitungseinrichtungen lösen. Es sei jedoch an dieser Stelle darauf hingewiesen, daß aus der nachveröffentlichten EP 02 32 651 A1 sowie aus den US-PSen 46 31 438 und 44 17 178 jeweils sogenannte "cusp"-Anordnungen weiterer, jedoch nicht beweglicher Magnete bekannt sind, bei denen die Verbindungslinien zwischen den Nord- und den Südpolen der Magnete senkrecht zur Mittelachslinie der Hauptmagnetspule verlaufen.

Nach einer Ausführungsform der Erfindung besteht die Vorrichtung zur Erzeugung des bewegten Magnetfeldes aus Elektromagneten, die in einem Plasmaerzeugungsteil oder einem Plasmareaktionsteil zwischen der Magnetspule und dem Substrat ein bewegtes Magnetfeld erzeugen, und einer die Elektromagnete erregenden Stromversorgung.

Die Elektromagnete und die Stromversorgung können gemäß einer anderen Ausbildung der Erfindung durch einen Dauermagnet und einen Rotationsmechanismus ersetzt werden, der den Dauermagnet drehantreibt. Der Rotationsmechanismus kann aus Zahnrädern oder gemäß einer weiteren Ausbildung aus umlaufenden Scheiben und einem Riemen bestehen.

Eine weitere vorteilhafte Ausbildung der Erfindung sieht vor, daß die Vorrichtung zur Erzeugung des bewegten Magnetfeldes eine Mehrzahl von Magnetwerkstoffplatten aus einem Magnetwerkstoff hoher Permeabilität, die in dem Plasmaerzeugungsteil zwischen der Magnetspule und dem Substrat ein Magnetfeld erzeugen, und einem Antriebsmechanismus besteht, der die Magnetwerkstoffplatten in zur Achse der Magnetspule senkrechten Richtungen hin- und herbewegt.

Eine weitere vorteilhafte Ausbildung der Erfindung sieht vor, daß die Vorrichtung zur Erzeugung des bewegten Magnetfeldes eine Mehrzahl Magnetwerkstoffplatten aus einem Magnetwerkstoff hoher Permeabilität, die Magnetfelder um einen Raum zwischen einer Plasmadurchführungsöffnung und dem Substrat im Inneren des Plasmareaktionsteils erzeugen, und einen Antriebsmechanismus für die Ma­ gnetwerkstoffplatten aufweist.

Anhand der Zeichnung wird die Erfindung beispielsweise näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 einen Schnitt, teilweise in Blockform, der den Aufbau der ersten Ausführungsform der Erfindung zeigt;

Fig. 2 eine Draufsicht auf die Anordnung der Elektromagnete, die in der ersten Ausführungsform der Erfindung verwendet werden;

Fig. 3A bis 3H Wellenformen, die die zeitlichen Änderungen von Strömen wiedergeben, die durch vier Paare von Elektromagneten fließen;

Fig. 4A bis 4D Draufsichten, die die Situation wiedergeben, in der ein Magnetfeld rotiert, wenn die Ströme nacheinander zum Fließen durch die Elektromagnete gebracht werden;

Fig. 5 einen Schnitt durch den Aufbau der ersten Ausführungsform, wobei ein Punkt P in der Plasma- Bearbeitungseinrichtung angegeben ist;

Fig. 6A und 6B Vektordiagramme von resultierenden Magnetfeldern, die erzeugt werden, wenn die Ströme nicht bzw. wenn sie durch die Elektromagnete fließen;

Fig. 7 ein erläuterndes Diagramm, das die Situation wiedergibt, in der die Verteilung der magnetischen Kraftlinien durch das Magnetfeld der Elektromagnete geändert wird;

Fig. 8 einen Schnitt, teils in Blockform, durch den Aufbau einer Abwandlung der Ausführungsform nach Fig. 1;

Fig. 9 einen Schnitt, teils in Blockform, durch den Aufbau einer zweiten Ausführungsform der Erfindung;

Fig. 10 eine Draufsicht auf ein Beispiel eines Dauermagneten und eines Rotationsmechanismus dafür, die bei der zweiten Ausführungsform eingesetzt werden;

Fig. 11 eine Draufsicht, die ein weiteres Beispiel des Dauermagneten und des Rotationsmechanismus dafür zeigt;

Fig. 12 einen Schnitt, teils in Blockform, durch den Aufbau einer Abwandlung der zweiten Ausführungsform nach Fig. 9;

Fig. 13 einen Schnitt, teils in Blockform, durch den Aufbau einer dritten Ausführungsform der Erfindung;

Fig. 14 eine Draufsicht auf ein Beispiel von Magnetwerkstoffplatten und eines Antriebsmechanismus für diese zur Verwendung in der dritten Ausführungsform;

Fig. 15 ein Verteilungsdiagramm der magnetischen Kraftlinien, die erzeugt werden, wenn die Magnetwerkstoffplatten maximal außen liegen;

Fig. 16 ein Verteilungsdiagramm der magnetischen Kraftlinien, die erzeugt werden, wenn die Magnetwerkstoffplatten maximal innen liegen;

Fig. 17 und 18 Draufsichten auf ein weiteres Beispiel der Magnetwerkstoffplatten und des Antriebsmechanismus dafür;

Fig. 19 einen Schnitt, teils in Blockform, durch den Aufbau einer Abwandlung der dritten Ausführungsform nach Fig. 13;

Fig. 20 eine Draufsicht auf Magnetwerkstoffplatten und einen Antriebsmechanismus dafür zur Verwendung in der Abwandlung nach Fig. 19;

Fig. 21 ein Verteilungsdiagramm der magnetischen Kraftlinien, die erzeugt werden, wenn die Magnetwerkstoffplatten in der Abwandlung nach Fig. 19 maximal außen liegen;

Fig. 22 ein Verteilungsdiagramm der magnetischen Kraftlinien, die erzeugt werden, wenn die Magnetwerkstoffplatten in der Abwandlung nach Fig. 19 maximal innen liegen;

Fig. 23 einen Schnitt, teilweise in Blockform, der den Aufbau einer bekannten Plasma-Bearbeitungseinrichtung zeigt;

Fig. 24 ein Verteilungsdiagramm, das Resonanzpunkte in Radialrichtung von der Mitte eines Plasmaerzeugungsteils zu dessen Seitenwandfläche und in Axialrichtung unter der oberen Wandfläche des Plasmaerzeugungsteils innerhalb der bekannten Plasma-Bearbeitungseinrichtung zeigt;

Fig. 25 ein Diagramm, das die Dickenverteilung eines Dünnfilms zeigt, der mit der bekannten Plasma- Bearbeitungseinrichtung hergestellt wird;

Fig. 26 ein Verteilungsdiagramm, das die Magnetflußlinien nahe dem Plasmaerzeugungsteil und dem Plasmareaktionsteil der bekannten Einrichtung zeigt.

Bei der ersten Ausführungsform der Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach Fig. 1 enthält ein Plasmaerzeugungsteil 1 eine Plasmaerzeugungs-Glasröhre 2, einen HF-Wellenleiter 3 und eine Magnetspule 5 sowie außerdem wenigstens ein Paar Elektromagnete 14 (vier Paare bei der ersten Ausführungsform, wie noch erläutert wird), die um den HF-Wellenleiter 3 herum und auf der einem Substrat 11 näheren Seite der Magnetspule 5 unter Bildung von N- und S-Polen angeordnet sind. Diese Elektromagnete 14 sind an eine Stromversorgung 15 angeschlossen, so daß nacheinander Ströme verschiedener Phase durch die jeweiligen Elektromagnete fließen, wodurch eine Vorrichtung zur Erzeugung eines bewegten Magnetfeldes gebildet ist. Wie bei der bekannten Bearbeitungseinrichtung wird elektrische HF-Leistung dem HF-Wellenleiter 3 durch ein Magnetron 7 zugeführt, das an eine Antriebsstromversorgung 6 angeschlossen ist, die Magnetspule 5 ist mit einer Gleichstromversorgung 4 verbunden, und der Plasma­ erzeugungs-Glasröhre 2 wird ein Gas durch eine Gasförder­ leitung 8 zugeführt.

Ein Plasmareaktionsteil 9 entspricht praktisch dem Teil 9 von Fig. 23. Dabei sind eine Plattform 10 und eine Abström­ leitung 12 vorgesehen.

Auch bei der hier angegebenen Plasma-Bearbeitungseinrichtung wird ein Plasma durch Elektronenzyklotronresonanz erzeugt. Im vorliegenden Fall wird jedoch die Elektronen­ zyklotronresonanz durch ein elektrisches HF-Feld E_rf(z) und ein resultierendes Magnetfeld B_z(z), das durch die Magnetspule 5 und die vier Paare von Elektromagneten 14 ausgebildet ist, induziert.

Wenn das resultierende Magnetfeld B_z ein ungleichförmiges Magnetfeld ist, wird eine Kraft F_z, die in Axialrichtung auf ein Elektron wirkt, ebenso wie bei der bekannten Bear­ beitungseinrichtung durch die folgende Gleichung ausgedrückt:

Somit werden die Elektronen in dem Plasma, das von dem Plasmaerzeugungsteil 1A in Fig. 1 erzeugt wird, in Axial­ richtung zum Plasmareaktionsteil 9 hin beschleunigt. Infolgedessen wird ein Ionen beschleunigendes elektrostatisches Feld E₀(z) in Axialrichtung in dem Plasma ausgebildet. Dieses elektrostatische Feld E₀(z) beschleunigt das Plasma insgesamt in Axialrichtung, so daß ein in Axialrichtung verlaufender Plasmastrom 13 in dem Plasmareaktionsteil 9 erscheint.

Die Draufsicht von Fig. 2 zeigt die Anordnung der vier Elektromagnetpaare von Fig. 5. Die vier Elektromagnetpaare 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ sind um den HF- Wellenleiter 3 herum so angeordnet, daß sie zwischen den jeweils benachbarten Paaren z. B. Winkel von 45° definieren. Die Wellenformen von Fig. 7A-H zeigen Ströme, die durch die vier Elektromagnetpaare 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ zum Fließen gebracht werden. In jedem dieser Diagramme ist auf der Abszisse die Zeit und auf der Ordinate der Strom aufgetragen. Ferner bezeichnen Pfeile H_R in den Fig. 8A-D Magnetfelder, die ausgebildet werden, wenn die Ströme i_a, i_b, i_c und i_d der Fig. 7A-D zum Fließen durch die Elektromagnetpaare 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ gebracht werden.

Wenn der Strom i_a (Fig. 3A) durch die Elektromagnete 14a, 14a′ fließt, während die übrigen Elektromagnete 14b, 14b′; 14c, 14c′; und 14d, 14d′ entregt sind, wird das Magnetfeld H_R in einer in Fig. 8A gezeigten Richtung erzeugt. Wenn anschließend der Strom i_b (Fig. 3B) durch die Elektromagnete 14b, 14b′ fließt, während die übrigen Elektromagnete 14a, 14a′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ entregt sind, wird das Magnetfeld H_R in einer Richtung entsprechend Fig. 4B erzeugt und gegenüber der Richtung des Magnetfeldes H_R der Elektromagnete 14a, 14a′ um 45° gedreht. Ebenso werden, wenn die Ströme i_c und i_d (Fig. 3C und 3D) nacheinander zum Fließen durch die Elektromagnete 14c, 14c′ und 14d, 14d′ gebracht werden, die Richtungen der Magnetfelder H_R in Winkelabständen von jeweils 45° gedreht, wie durch die Pfeile in den Fig. 4C und 4D angedeutet ist.

Wenn ferner die Ströme i_e, i_f, i_g und i_h in der Fig. 3E-H nacheinander zum Fließen durch die Elektromagnete 14a, 14a′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ gebracht werden, werden die erzeugten Magnetfelder H_R in gleicher Drehrichtung um 180° gedreht. Auf diese Weise fahren die Magnetfelder H_R fort zu rotieren, wenn die Ströme nach den Fig. 3A-H aufrechterhalten werden.

Wenn Strom durch die Magnetspule 5 geschickt wird, während die Elektromagnete 14 entregt sind, entsprechen Stärke und Richtung eines Magnetfelds am Punkt P (Fig. 5) des Plasma­ erzeugungsteils 1A der Darstellung von Fig. 6A. Die Stärke H des Magnetfeldes am Punkt P ist die Stärke eines resul­ tierenden Magnetfelds, die aus der Stärke H_z eines Magnetfelds in Richtung der z-Achse und der Stärke H_r eines Magnetfelds in r-Richtung (Radialrichtung des Plasmaerzeugungsteils 1A) zusammengesetzt ist. Wenn der Strom durch die Magnetspule 5 fließt und der Strom außerdem durch ein Paar Elektromagnete, z. B. 14b, 14b′, der vier Elektroma­ gnetpaare 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ fließt, unterliegt der Punkt P den Magnetfeldern, die durch die Magnetspule 5 ausgebildet sind, sowie dem Magnetfeld H_R, das durch das Elektromagnetpaar 14b, 14b′ ausgebildet ist, und ein solches resultierendes Magnetfeld ist in Fig. 6B gezeigt.

Aus Fig. 6B ist ersichtlich, daß in Richtung der z-Achse die Stärke H_z des Magnetfelds unverändert bleibt, daß jedoch in r-Richtung die Stärke des resultierenden Magnetfelds H derart ist, daß das durch die beiden Elektromagnete 14b, 14b′ ausgebildete Magnetfeld H_R zu dem Magnetfeld H_r hinzuaddiert ist, und das resultierende Magnetfeld H ist stärker als in Fig. 6A in r-Richtung verschwenkt. Es wurde zwar hier auf den Punkt P von Fig. 5 Bezug genommen, aber die Richtungen der magnetischen Kraftlinien werden durch die Resultierende der genannten Magnetfelder in einem Bereich geändert, in dem das durch ein Elektromagnetpaar 14b, 14b′ erzeugte Magnetfeld existiert.

Fig. 7 zeigt, daß die magnetischen Kraftlinien durch das von einem Elektromagnetpaar erzeugte Magnetfeld in Radialrichtung von Vollinien kurvenförmig in Strichlinien übergehen, und somit wird die Verteilung der magnetischen Kraftlinien geändert. Dabei ist die seitliche Richtung die Radialrichtung (r-Richtung), während die Vertikalrichtung die Axialrichtung (z-Richtung) ist. Wenn somit die Ströme nacheinander durch die vier Elektromagnetpaare 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ fließen, laufen die Magnetfelder H_R um, so daß Teile, an denen die Richtungen der Linien der Magnetfelder geändert werden, umlaufen und die Verteilungen der magnetischen Kraftlinien entsprechend verdrehen.

Somit wird das in dem Plasmaerzeugungsteil 1A erzeugte Plasma in den Plasmareaktionsteil 9 durch das sogenannte elektrostatische Feld E₀(z) geführt, und in dem Plasma­ reaktionsteil 9 wird der Plasmastrom 13 durch die von den vier Elektromagnetpaaren 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ gebildeten Magnetfelder beeinflußt, und seine Achse wird relativ zu der Mittenachse der Magnetspule 5 versetzt, wie Fig. 1 zeigt. Da die von den vier Elektroma­ gnetpaaren 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ gebildeten Magnetfelder gedreht werden, wird auch der Plasmastrom 13 mit demselben Durchmesser und derselben Rotations­ geschwindigkeit wie die Magnetfelder um die z-Achse gedreht. Aufgrund dieser Betriebsweise wird der Plasmastrom 13 über einen großen Bereich des Substrats 11 ausgebildet, so daß eine großflächige Plasmabearbeitung erfolgen und ein gleichmäßiges Plasmaverfahren durchgeführt werden kann.

Wenn man z. B. annimmt, daß das durch die Gasförderleitung 8 zugeführte Gas SiH₄ ist, so werden durch die Elektronen­ zyklotronresonanz in dem Plasmaerzeugungsteil 1A Ionen wie Si⁺, SiH⁺, SiH₂⁺ und SiH₃⁺ und Radikale wie Si* und SiH_x* erzeugt, das Plasma wird in Axialrichtung durch das vorgenannte elektrostatische Feld E₀(z) beschleunigt, und der Plasmastrom 13 wird von dem umlaufenden Magnetfeld gedreht. Daher wird in dem Plasmareaktionsteil 9 ein amorpher Siliciumfilm mit gleichmäßiger Dickenverteilung auf dem großen Durchmesser aufweisenden Substrat 11 gebildet.

Die Abwandlung nach Fig. 8 unterscheidet sich von der Ausführungsform nach Fig. 1 nur dadurch, daß die Elektromagnete 14 um den Plasmareaktionsteil 9 zwischen dem Substrat 11 und der Magnetspule 5 angeordnet sind.

Mit dieser abgewandelten Einrichtung werden die gleichen Auswirkungen wie mit der ersten Ausführungsform erzielt. Insbesondere wird das im Plasmaerzeugungsteil 1A erzeugte Plasma durch das elektrostatische Feld E₀(z) in den Plas­ mareaktionsteil 9 geführt. In diesem wird der Plasmastrom 13 durch die von den vier Elektromagnetpaaren 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ erzeugten Magnetfelder beeinflußt, und die Achse des Plasmastroms 13 weicht von der Mittenachse der Magnetspule 5 entsprechend Fig. 8 ab. Da die von den vier Elektromagnetpaaren 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ erzeugten Magnetfelder umlaufen, läuft der Plasmastrom 13 ebenfalls mit gleichem Durchmesser und gleicher Geschwindigkeit wie die Magnetfelder um die z-Achse um. Ebenso wie bei der ersten Ausführungsform ermöglicht diese Betriebsweise die Durchführung eines Plasma-Bearbeitungsverfahrens mit dem Plasmastrom 13 über eine große Fläche und mit großer Gleichmäßigkeit.

Die erste Ausführungsform nimmt auf das Beispiel Bezug, bei dem die Ströme nach den Fig. 3A-H durch die vier Elektro­ magnetpaare 14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′ fließen, um das umlaufende Magnetfeld zu erzeugen, aber die Anzahl Elektromagnete kann wenigstens ein Paar sein. In dieser Hinsicht unterliegt das axiale Magnetfeld einer geradlinigen Bewegung im Fall eines Elektromagnetpaars und einer Rotationsbewegung im Fall von zwei oder mehr Elektro­ magnetpaaren.

Zur Wellenform der Ströme ist folgendes zu sagen: Auch wenn Ströme wie eine Wechselstrom-Halbwelle, eine Dreieckwelle oder eine Impulswellenform, die nicht der Wellenform der Fig. 3A-H entsprechen, nacheinander durch die Elektromagnete fließen, werden die gleichen Auswirkungen wie bei der ersten Ausführungsform erzielt. Wenn ferner Ströme verschiedener Phasen nacheinander durch die Elektromagnete fließen, können die Ströme von benachbarten Elektromagneten einander überlappen. Wesentlich ist, daß die Ströme so zum Fließen gebracht werden, daß das erzeugte Magnetfeld bewegt wird.

Die Plasma-Bearbeitungseinheit kann bei den verschiedensten Oberflächen-Bearbeitungsverfahren wie Plasma-Ätzen, Plasma- CVD und Plasma-Oxidation Anwendung finden und kann eine gleichmäßige Bearbeitung über eine große Fläche durchführen.

Bei der zweiten Ausführungsform nach Fig. 9 umfaßt ein Plasmaerzeugungsteil 1B eine Plasmaerzeugungs-Glasröhre 2, einen HF-Wellenleiter 3 und eine Magnetspule 5 sowie außerdem einen Dauermagnet 16, der um den HF-Wellenleiter 3 herum und auf der einem Substrat 11 näheren Seite der Magnetspule 5 angeordnet ist, ein umlaufendes Zahnrad 17, auf dem der Dauermagnet 16 angeordnet ist, ein weiteres, mit dem Zahnrad 17 umlaufendes Zahnrad 18, eine an dem Zahnrad 18 befestigte Welle 19 und einen Drehantrieb 20, der die Welle 19 antreibt und dreht. Diese Teile, nämlich der Dauermagnet 16, die Zahnräder 17 und 18, die Welle 19 und der Drehantrieb 20, bilden eine Erzeugungsvorrichtung für ein bewegtes Magnetfeld. Ebenso wie bei der bekannten Einrichtung wird dem HF-Wellenleiter 3 durch ein mit einer Antriebsstromversorgung 6 verbundenes Magnetron 7 elektrische Leistung zugeführt, die Magnetspule 5 ist mit einer Gleichstromversorgung 4 verbunden, und der Plasmaerzeugungs- Glasröhre 2 wird durch eine Gasförderleitung 8 ein Gas zugeführt.

Der Plasmareaktionsteil 9 entspricht vollständig demjenigen von Fig. 23 und enthält eine Plattform 10 sowie eine Abströmleitung 12.

Auch bei dieser Ausführungsform wird ein Plasma durch Elek­ tronenzyklotronresonanz erzeugt. In diesem Fall wird die Elektronenzyklotronresonanz jedoch von einem elektrischen HF-Feld E_rf(z) und einem resultierenden Magnetfeld B_z(z) erzeugt, wobei letzteres durch die Magnetspule 5 und den die Elektromagnete 14 ersetzenden Dauermagnet 16 ausgebildet wird. Die Erzeugung des Plasmastroms 13 entspricht derjenigen beim ersten Ausführungsbeispiel.

Der Rotationsmechanismus für den Dauermagnet von Fig. 9 ist in Fig. 10 gezeigt. Der Dauermagnet 16 wird um den HF-Wellenleiter 3 des Plasmaerzeugungsteils 1B von dem Rotationsmechanismus gedreht. Wenn dabei der Drehantrieb 20 läuft, wird das über die Welle 19 damit verbundene Zahnrad 18 gedreht, und die Drehbewegung wird auf das Zahnrad 17 übertragen. Da der Dauermagnet 16 auf dem Zahnrad 17 angeordnet ist, führt er zusammen mit dem Zahnrad 17 eine Drehbewegung aus, und in dem Plasmaerzeugungsteil 1B bildet sich ein umlaufendes Magnetfeld aus. Der Zustand, in dem Strom durch die Magnetspule 5 fließt und in dem der Dauermagnet 16 nicht gedreht wird, entspricht demjenigen, der unter Bezugnahme auf die Fig. 9, 10B und 11 beschrieben wurde.

Fig. 11 zeigt ein weiteres Beispiel für einen Rotations­ mechanismus. Dabei sind umlaufende Scheiben 21 und 22 durch einen Riemen 23 so miteinander verbunden, daß der auf der Scheibe 21 angeordnete Dauermagnet 16 gedreht wird.

Die in Fig. 12 gezeigte Abwandlung des Ausführungsbeispiels nach Fig. 2 unterscheidet sich nur dadurch, daß der Dauermagnet 16 und sein Rotationsmechanismus 17-20 zwischen dem Substrat 11 und der Magnetspule 5 um den Plasmareaktionsteil 9 herum angeordnet sind.

Bei der dritten Ausführungsform nach Fig. 13 umfaßt ein Plasmaerzeugungsteil 1C eine Plasmaerzeugungs-Glasröhre 2, einen HF-Wellenleiter 3 und eine Magnetspule 5 sowie außerdem mehrere Magnetwerkstoffplatten (von denen nur die Platten 24a und 24d in Fig. 13 gezeigt sind), die aus einem Magnetwerkstoff hoher Permeabilität bestehen und um den HF-Wellenleiter 3 herum und auf der näher am Substrat 11 liegenden Seite der Magnetspule 5 angeordnet sind, ferner bewegliche Halterungen, z. B. 26a, die jeweils mit den Magnetwerkstoffplatten verbunden sind und mit Wellen, z. B. 25a, mittels Schrauben in Eingriff gehalten sind und dazu dienen, die jeweilige Magnetwerkstoffplatte, z. B. 24a, senkrecht zur Achse der Magnetspule 5, also in r-Richtung, hin- und herzubewegen, ferner Antriebsmotoren, z. B. 27a, deren Abtriebswellen (nicht gezeigt) mit den entsprechenden Wellen, z. B. 25a, verbunden sind und diese drehen, und eine Steuereinheit 28, die sämtliche Antriebsmotoren steuert.

Die Draufsicht von Fig. 14 zeigt die Anordnung der das bewegte Magnetfeld erzeugenden Mittel, bestehend aus den Magnetwerkstoffplatten 24a-24f hoher Permeabilität, den Wellen 25a-25f, den beweglichen Halterungen 26a-26f, den Antriebsmotoren 27a-27f und der Steuereinheit 28.

Wenn die Magnetwerkstoffplatten hoher Permeabilität nicht in der Plasma-Bearbeitungseinrichtung vorhanden sind, was bei der bekannten Einrichtung der Fall ist, ist die Verteilung der magnetischen Kraftlinien nahe dem Plasmaerzeugungsteil 1C und dem Plasmareaktionsteil 9 entsprechend Fig. 26. Wenn dagegen die Magnetwerkstoffplatten 24a-24f hoher Permeabilität um den HF-Wellenleiter 3 des Plasma­ erzeugungsteils 1C zwischen der Magnetspule 5 und dem Substrat 11 angeordnet sind, wie dies bei der dritten Ausführungsform vorgesehen ist, verlaufen einige der magnetischen Kraftlinien durch die Magnetwerkstoffplatten 24a-24f niedrigen magnetischen Widerstands, und die Verteilung der magnetischen Kraftlinien ändert sich. Da ein durch Elek­ tronenzyklotronresonanz erzeugter Plasmastrom 13 entlang den magnetischen Kraftlinien in den Plasmareaktionsteil 9 geleitet wird, ändert sich durch die Verteilung der magnetischen Kraftlinien auch der Durchmesser des Plasmastroms 13 nahe dem Substrat 11. Wenn die Magnetwerkstoffplatten 24a-24f von den Antriebsmotoren 27a-27f zur äußersten Seite gezogen werden, werden die magnetischen Kraftlinien nahe der Mitte des Plasmaerzeugungsteils 1C beeinflußt, wie Fig. 15 zeigt. Somit unterscheidet sich in diesem Fall der Durchmesser des Plasmastroms 13 nicht wesentlich von dessen Durchmesser bei Nichtvorhandensein der Magnetwerkstoffplatten. Wenn dagegen die Magnetwerkstoffplatten 24a-24f an der innersten Seite positioniert sind, werden selbst die magnetischen Kraftlinien nahe der Mitte beeinflußt, und die Verteilung der magnetischen Kraftlinien entspricht dann Fig. 16. Somit wird der Durchmesser des Plasmastroms 13 vergrößert im Vergleich zu dem Durchmesser bei Anordnung der Magnetwerkstoffplatten 24a-24f an der Außenseite.

Durch die Ausbildung nach den Fig. 13 und 14 werden also auf diese Weise die Magnetwerkstoffplatten 24a-24f von den Antriebsmotoren 27a-27f in r-Richtung hin- und herbewegt zur Änderung des Durchmessers des Plasmastroms 13. Wenn diese Bewegung als ständige Hin- und Herbewegung ausgeführt wird, wird der Versatz des Plasmastroms 13 beseitigt, so daß ein gleichmäßiges Plasmabearbeitungsverfahren durchgeführt und auch ein Substrat 11 mit großem Durchmesser bearbeitet werden kann.

Die dritte Ausführungsform nimmt auf eine Ausbildung Bezug, bei der zum Zweck der Hin- und Herbewegung der Magnetwerk­ stoffplatten 24a-24f hoher Permeabilität diese Platten jeweils mit den beweglichen Halterungen 26a-26f, den Wellen 25a-25f und den Antriebsmotoren 27a-27f versehen und die Antriebsmotoren 27a-27f von der Steuereinheit 28 gesteuert sind. Zum Bewegen der Magnetwerkstoffplatten in r-Richtung kann jedoch beispielsweise auch eine Konstruktion gemäß Fig. 17 angewandt werden.

Fig. 17 zeigt ein weiteres Beispiel der Magnetwerkstoffplatten sowie des Antriebsmechanismus. Die Magnetwerkstoffplatten 24a, 24b, . . . hoher Permeabilität sind an einem ortsfesten Ring 29 und einem beweglichen Ring 30 befestigt. Der bewegliche Ring 30 ist mit einem einzigen Antriebsmotor 27 über ein Zahnrad 31 gekoppelt, und der Antriebsmotor 27 ist mit der Steuereinheit 28 verbunden. Wenn der Antriebsmotor 27 unter Steuerung durch die Steuereinheit 28 um einen bestimmten Winkel R (Fig. 17) gedreht wird, werden die Magnetwerkstoffplatten 24a, 24b, . . . in Gegenrichtung um den Winkel R gedreht (Fig. 18). Danach wird der Motor in den Ausgangszustand zurückgedreht. Diese Bewegungen werden wiederholt. Wenn der Antriebsmotor 27 gemäß Fig. 17 im Uhrzeigersinn gedreht wird, werden die Abstände von der Mitte 0 des Plasmaerzeugungsteils 1C zu den Magnetwerk­ stoffplatten 24a, 24b, . . . zu r₁ bzw. r₂ (r₁ < r₂). Damit sind die Bewegungen tatsächlich einer Bewegung der Magnet­ werkstoffplatten 24a, 24b, . . . in Radialrichtung (r-Richtung) äquivalent.

Fig. 19 zeigt den Aufbau einer Modifikation der dritten Ausführungsform von Fig. 13. Der Plasmaerzeugungsteil 1 ist gleich demjenigen von Fig. 1, es ist jedoch ein Plasmareaktionsteil 9A mit Mitteln zur Erzeugung eines bewegten Magnetfelds vorgesehen. Dabei umfaßt der Plasmareaktionsteil 9 eine Plattform 10 und ein Substrat 11 sowie außerdem mehrere Magnetwerkstoffplatten (Fig. 19 zeigt nur die Platten 24a und 24d) aus einem Magnetwerkstoff hoher Perme­ abilität, die so angeordnet sind, daß sie einen Raum zwischen einer Plasmadurchführungsöffnung 13a und dem Substrat 11 umgeben, geradlinige Bewegungsorgane (Fig. 19 zeigt nur die Organe 32a und 32d), die die jeweiligen Magnetwerk­ stoffplatten senkrecht zur Achse der Magnetspule 5 hin- und herbewegen, Antriebsmotoren (Fig. 19 zeigt nur die An­ triebsmotoren 27a und 27d) zum Antreiben der geradlinigen Bewegungsorgane sowie eine Steuereinheit 28, die sämtliche Antriebsmotoren steuert.

Fig. 20 zeigt die Anordnung der Vorrichtung zur Erzeugung eines bewegten Magnetfelds, bestehend aus den Magnetwerkstoffplatten 24a-24f hoher Permeabilität, den geradlinigen Bewegungsorganen 32a-32f, den Antriebsmotoren 24a-24f und der Steuereinheit 28.

Wenn, wie bei der bekannten Plasma-Bearbeitungseinrichtung, die Magnetwerkstoffplatten hoher Permeabilität nicht vorhanden sind, ist die Verteilung der magnetischen Kraftlinien nahe dem Plasmaerzeugungsteil 1 und dem Plasmareaktionsteil 9A entsprechend Fig. 26. Wenn dagegen die Magnet­ werkstoffplatten 24a-24f hoher Permeabilität in dem Raum zwischen der Plasmadurchführungsöffnung 13a und dem Substrat 11 vorgesehen sind (Fig. 13), verlaufen einige der magnetischen Kraftlinien durch die Magnetwerkstoffplatten 24a-24f mit niedrigem magnetischen Widerstand, und es tritt eine Änderung der Verteilung der magnetischen Kraftlinien ein. Da ein durch Elektronenzyklotronresonanz erzeugter Plasmastrom 13 in den Plasmareaktionsraum 9A entlang den magnetischen Kraftlinien geleitet wird, ändert sich durch die Änderung der Verteilung der magnetischen Kraftlinien auch der Durchmesser des Plasmastroms 13 nahe dem Substrat 11. Wenn die Magnetwerkstoffplatten 24a-24f von den An­ triebsmotoren 27a-27f zur Außenseite gezogen werden, werden die magnetischen Kraftlinien nahe dem Mittelteil des Plas­ maerzeugungsteils 1 kaum beeinflußt, wie Fig. 21 zeigt. In diesem Fall unterscheidet sich also der Durchmesser des Plasmastroms 13 nicht wesentlich von demjenigen bei Nicht­ vorhandensein der Magnetwerkstoffplatten. Wenn dagegen die Magnetwerkstoffplatten 24a-24f ganz innen liegen, werden selbst die magnetischen Kraftlinien nahe dem Mittenteil beeinflußt, und die Verteilung der magnetischen Kraftlinien entspricht dann der Verteilung nach Fig. 22. Somit wird der Durchmesser des Plasmastroms 13 gegenüber seinem Durchmesser bei Positionierung der Magnetwerkstoffplatten 24a-24f an der Außenseite größer.

Gemäß der Modifikation nach Fig. 19 werden also aufgrund der in den Fig. 19 und 20 gezeigten Ausbildung die Magnet­ werkstoffplatten 24a-24f in r-Richtung von den Antriebs­ motoren 27a-27f hin- und herbewegt unter Änderung des Durchmessers des Plasmastroms 13. Wenn diese Bewegung in Form kontinuierlicher Hin- und Herbewegungen ausgeführt wird, wird der Versatz des Plasmastroms 13 beseitigt, so daß ein gleichmäßiges Bearbeitungsverfahren durchgeführt und auch ein Substrat 11 mit großen Durchmesser bearbeitet werden kann. Da ferner der Plasmastrom 13 von den Magnet­ werkstoffplatten 24a-24f umschlossen ist, kann eine Streuung des Plasmas verhindert werden, und die Plasmadichte nahe dem Substrat 11 wird gesteigert, wodurch wiederum die Bearbeitungsrate des Substrats erhöht wird.

Claims (9)

1. Plasma-Bearbeitungseinrichtung zur Bearbeitung eines Substrats (11) unter Anwendung eines aus einem Reaktionsgas durch Elektronenzyklotronresonanz erzeugten Plasmas, mit: einer Magnetspule (5), die in einer Reaktionsgasatmosphäre ein magnetostatisches Feld erzeugt, und mit einem HF-Wellenleiter (3), der ein zu dem magnetostatischen Feld senkrechtes elektrisches HF-Feld erzeugt, gekennzeichnet durch eine Vorrichtung (14, 15, 16) mit wenigstens einem weiteren Magneten (14, 16) zur Erzeugung eines bewegten Magnetfeldes, das das magnetostatische Feld zwischen der Magnetspule (5) und dem Substrat (11) schneidet, wobei der weitere Magnet (14, 16) so angeordnet ist, daß die Verbindungslinie zwischen seinem Nord- und Südpol etwa senkrecht zur Mittelachslinie der Magnetspule (5) verläuft.

2. Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zur Erzeugung eines bewegten Magnetfeldes Elektro­ magnete (14a, 14a′; 14b, 14b′; 14c, 14c′; 14d, 14d′), die ein Magnetfeld in einem Plasmaerzeugungsteil (1A) oder in einem Plasmareaktionsteil (9) zwischen der Magnetspule (5) und dem Substrat (11) erzeugen, aufweist.

3. Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zur Erzeugung eines bewegten Magnetfeldes einen Dauermagnet (16), der ein Magnetfeld in einem Plasmaerzeugungsteil (1B) oder in einem Plasmareaktionsteil (9) zwischen der Magnetspule (5) und dem Substrat (11) erzeugt, und einen Rotationsmechanismus (17-20; 21-23) aufweist, der den Dauermagnet (16) dreht.

4. Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Rotationsmechanismus Zahnräder (17, 18) aufweist.

5. Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Rotationsmechanismus umlaufende Scheiben (21, 22) und einen Riemen (23) aufweist.

6. Plasma-Bearbeitungseinrichtung zur Bearbeitung eines Substrats (11) unter Anwendung eines aus einem Reaktionsgas durch Elektronenzyklotronresonanz erzeugten Plasmas, mit: einer Magnetspule (5), die in einer Reaktionsgasatmosphäre ein magnetostatisches Feld erzeugt, und mit einem HF-Wellenleiter (3), der ein zu dem magnetostatischen Feld senkrechtes elektrisches HF-Feld erzeugt, gekennzeichnet durch eine Vorrichtung zur Erzeugung eines bewegten Magnetfeldes mit mehreren Magnetwerkstoffplatten (24a-d), die aus einem Magnetwerkstoff hoher Permeabilität bestehen und in einem Plasmaerzeugungsteil (1C) zwischen der Magnetspule (5) und dem Substrat (11) ein Magnetfeld erzeugen, und mit einem Antriebsmechanismus (25a-d, 27a-d, 28, 32a-d), der die Magnetwerkstoffplatten (24a-d) in zu einer Achse der Magnetspule (5) senkrechten Richtungen hin- und herbewegt.

7. Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Antriebsmechanismus bewegliche Halterungen (26a-d), deren jede mit der entsprechenden Magnetwerkstoffplatte (24a-d) verbunden und mit einer entsprechenden Welle (25a-d) in Eingriff gehalten ist, Antriebsmotoren (27a-d), die jeweils mit der entsprechenden Welle (25a-d) verbunden sind und diese drehantreiben, und eine Steuereinheit (28) zur Steuerung sämtlicher Antriebsmotoren (27a-d) aufweist.

8. Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Antriebsmechanismus einen ortsfesten (29) und einen beweglichen (30) Ring, an denen jeweils das eine und das andere Ende jeder der Mehrzahl Magnetwerkstoffplatten (24a-d) befestigt sind, einen einzigen Antriebsmotor (27), der mit dem beweglichen Ring (30) über ein Zahnrad (31) gekoppelt ist, und eine Steuereinheit (28) zur Steuerung des Antriebsmotors (27) aufweist.

9. Plasma-Bearbeitungseinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zur Erzeugung des bewegten Magnetfeldes Magnetfelder um einen Raum zwischen einer Plasmadurchführungsöffnung (13a) und dem Substrat (11) in einem Plasmareaktionsteil (9A) erzeugt.