DE3788188T2 - Formgegenstand aus Kunstharz mit ausgezeichneter antistatischer Eigenschaft und Verfahren zu seiner Herstellung. - Google Patents
Formgegenstand aus Kunstharz mit ausgezeichneter antistatischer Eigenschaft und Verfahren zu seiner Herstellung.Info
- Publication number
- DE3788188T2 DE3788188T2 DE3788188T DE3788188T DE3788188T2 DE 3788188 T2 DE3788188 T2 DE 3788188T2 DE 3788188 T DE3788188 T DE 3788188T DE 3788188 T DE3788188 T DE 3788188T DE 3788188 T2 DE3788188 T2 DE 3788188T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- synthetic resin
- monomer
- molded article
- resin molded
- article according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 47
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 84
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 61
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 61
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 55
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 40
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 11
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl prop-2-enoate Chemical compound C=CCOC(=O)C=C QTECDUFMBMSHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 7
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 16
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 14
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 9
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 6
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- -1 alkyl phosphates Chemical class 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 230000003578 releasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 2
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBXWUCXDUUJDRB-UHFFFAOYSA-N 1-octadecoxyoctadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCCCCCCCC HBXWUCXDUUJDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKDHHIOILCFABI-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-dihydroxyethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCNCC(O)O VKDHHIOILCFABI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHVBLSNVXDSMEB-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C=C QHVBLSNVXDSMEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBMRSUNAEQGDLK-UHFFFAOYSA-N 2-(dipropylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCN(CCC)CCOC(=O)C(C)=C OBMRSUNAEQGDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCCOC(=O)C(C)=C WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKUJYMZERNLLT-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCCCOC(=O)C(C)=C OAKUJYMZERNLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJFAYQIBOAGBLC-BYPYZUCNSA-N Selenium-L-methionine Chemical compound C[Se]CC[C@H](N)C(O)=O RJFAYQIBOAGBLC-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 150000001347 alkyl bromides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005600 alkyl phosphonate group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008406 diethyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- OXDOANYFRLHSML-UHFFFAOYSA-N dimethoxyphosphorylbenzene Chemical compound COP(=O)(OC)C1=CC=CC=C1 OXDOANYFRLHSML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZXGXYBOQYQXQD-UHFFFAOYSA-N methyl benzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CZXGXYBOQYQXQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S524/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S524/91—Antistatic compositions
- Y10S524/913—Contains nitrogen nonreactant material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31909—Next to second addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31928—Ester, halide or nitrile of addition polymer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31935—Ester, halide or nitrile of addition polymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft einen Formgegenstand aus synthetischem Harz mit einer guten und dauerhaften antistatischen Eigenschaft und ein Verfahren zur Herstellung desselben.
- Obgleich viele derzeit im Handel erhältliche Formgegenstände aus synthetischem Harz verschiedene ausgezeichnete Eigenschaften besitzen, da sie im allgemeinen einen hohen elektrischen Widerstandswert aufweisen, werden sie sehr leicht durch Reibung oder dergleichen geladen, und Staub und Schmutz werden leicht von der Oberfläche derselben angezogen, wodurch sich das äußere Erscheinungsbild verschlechtert.
- Als Mittel bzw. Methoden, um einen Formgegenstand aus synthetischem Harz mit einer antistatischen Eigenschaft zu versehen, können (1) der interne Zusatz eines oberflächenaktiven Mittels; (2) ein Oberflächenüberzug mit einem oberflächenaktiven Mittel; (3) ein Oberflächenüberzug mit einer Siliciumverbindung und (4) eine Oberflächenmodifikation mittels einer Plasmabehandlung erwähnt werden. Da die Methoden (3) und (4) teuer sind, werden die Methoden (1) und (2) im allgemeinen gewählt.
- Bei der Methode der internen Zugabe eines oberflächenaktiven Mittels können die Herstellungsschritte vereinfacht werden, da das oberflächenaktive Mittel vor der Polymerisation im harzbildenden Ausgangsmaterial oder in einem synthetischen Harz vor dem Formen eingebaut oder dispergiert wird. Um allerdings eine gewünschte antistatische Eigenschaft zu erhalten, ist es im allgemeinen notwendig, die Menge des hinzugesetzten oberflächenaktiven Mittels zu erhöhen, und wenn die Menge des oberflächenaktiven Mittels erhöht wird, verschlechtern sich die inhärenten mechanischen Charakteristiken des synthetischen Harzes, und die erhaltene antistatische Eigenschaft geht leicht durch das Waschen mit Wasser oder durch Reibung verloren.
- Bei der Methode des Überziehens der Oberfläche mit einem oberflächenaktiven Mittel werden die physikalischen Eigenschaften eines synthetischen Harzes als Grundmaterial nicht verschlechtert, und es kann mit einer geringen Menge des oberflächenaktiven Mittels eine befriedigende antistatische Eigenschaft erhalten werden. Da allerdings der Beschichtungsschritt notwendig ist, sind die Kosten erhöht, und es besteht die Möglichkeit, daß sich das inhärente schöne Aussehen verschlechtert. Ebenfalls geht die antistatische Eigenschaft durch Waschen mit Wasser oder durch Reibung leicht verloren.
- In Chemical Abstracts, Band 81, Teil 20, 18.11.74, Seite 66, Nr. 121923j wird die Herstellung von Polymethylmethacrylatplatten mit verbesserten Oberflächeneigenschaften offenbart, wobei es gemäß dieser Herstellung erforderlich ist, zuerst eine mehr als 40 Gew.-% eines Vernetzungsmonomeren enthaltende Monomerlösung in einer Form zur Bildung einer Oberflächenschicht zu polymerisieren und dann Methylmethacrylat auf der Oberflächenschicht zu polymerisieren. Ferner ist eine besondere Ausrüstung, wie eine UV-Bestrahlungsapparatur und ein Polymerisationsbad, zur Bildung der Polymeroberflächenschicht in der Form erforderlich. Das Copolymer ist stark vernetzt, und somit ist es brüchig und in Lösungsmitteln unlöslich. Da die Oberflächenschicht stark vernetzt ist, ist diese Schicht gelöst in oder aufgequellt mit zum Beispiel einem Methylmethacrylatmonomer, welches zur Bildung des Körperbereichs des Laminats verwendet wird. Folglich ist die Oberflächenschicht nur physikalisch mit der Oberfläche einer Polymethylmethacrylatplatte verbunden. Somit können die Oberflächenschicht und die Polymethylmethacrylatplatte klar voneinander unterschieden werden. Als Folge passiert es manchmal, daß sich die Oberflächenschicht ablöst, wenn das Laminat aus der Form genommen wird.
- Die US-A-4 060 678 betrifft kationische Hydrogele, welche für Ionenaustauschharze oder Fasern mit verbesserter Farbstoffaufnahmefähigkelt verwendet werden können. Zur Herstellung der Hydrogele ist es erforderlich, ein Vernetzungsmittel mit zwei (Meth)acryloyloxygruppen als wesentlicher Bestandteil zu verwenden.
- Aus der vorstehenden Beschreibung ist ersichtlich, daß kein Formgegenstand aus synthetischem Harz vorgeschlagen wurde, der eine gute und dauerhafte antistatische Eigenschaft besitzt und die inhärenten physikalischen Eigenschaften des synthetischen Harzes beibehält.
- Es ist deshalb ein vorherrschendes Ziel der vorliegenden Erfindung, einen Formgegenstand aus synthetischem Harz mit guter und dauerhafter antistatischer Eigenschaft als auch ein Verfahren zur Herstellung desselben bereitzustellen.
- Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Formgegenstand aus synthetischem Harz mit ausgeprägterer antistatischer Eigenschaft bereitgestellt, umfassend einen Körper aus einem synthetischen Harz (B) mit einer Oberflächenschicht, welche vorwiegend ein antistatisches Polymer (A) umfaßt und mit dem Körper ein Ganzes bildet, dadurch gekennzeichnet, daß das antistatische Polymer (A) in Ethanol löslich ist und 20 bis 100 Gew.-% Einheiten, welche aus einem Monomer mit einer quaternären Ammoniumbase der folgenden allgemeinen Formel (1) abgeleitet sind:
- worin R&sub1; ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R&sub2; bis R&sub4; ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 9 Kohlenstoffatomen, welche einen Substituenten aufweisen kann, in eine ganze Zahl von 1 bis 10 und X- ein Anion eines Quaternisierungsmittels bedeuten, und
- 0 bis 80 Gew.-% Einheiten umfaßt, welche aus mindestens einem damit copolymerisierbaren Monomer abgeleitet sind, welches aus Monomeren mit einer copolymerisierbaren Doppelbindung im Molekül und Allylacrylat und Allylmethacrylat gewählt ist; wobei der Formgegenstand aus synthetischem Harz erhalten wird durch Ausbilden eines Films aus dem antistatischen Polymer (A) auf der Formoberfläche einer Gießform, Gießen eines polymerisierbaren Materials, welches zu dem synthetischen Harz (B) geformt werden soll, als Grundmaterial in die Gießform und Polymerisieren des polymerisierbaren Materials zur Bildung eines Körpers aus dem synthetischen Harz (B), wobei gleichzeitig der Film aus dem antistatischen Polymer (A) mit dem Körper des Grundmaterials ein Ganzes bildet.
- Gemäß eines weiteren Aspekts der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz mit erhöhter antistatischer Eigenschaft bereitgestellt, gekennzeichnet durch die Stufen: Ausbilden auf der Formoberfläche einer Gießform eines Films, welcher vorwiegend das oben erwähnte antistatische Polymer (A) umfaßt, Gießen eines polymerisierbaren Materials für ein synthetisch es Harz (B) als Grundmaterial in die Gießform, polymerisieren des polymerisierbaren Materials zur Bildung eines Körpers aus dem synthetischen Harz (B), wobei der Film aus dem antistatischen Polymeren (A) gleichzeitig mit dem Körper des Grundmaterials ein Ganzes bildet; und anschließendes Entnehmen des resultierenden Formgegenstandes aus der Gießform.
- Die Fig. 1 erläutert ein Beispiel einer Apparatur zur kontinuierlichen Herstellung einer Methacrylsäureharzplatte, welche mit einer Vorrichtung zur Bildung eines Films aus dem antistatischen Polymer (A) versehen ist.
- Das eine quaternäre Ammoniumbase aufweisende Monomer, welches zur Herstellung des antistatischen Polymeren (A) bei der vorliegenden Erfindung verwendet wird, wird durch die nachfolgende allgemeine Formel (1) angegeben:
- worin R&sub1; ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R&sub2; bis R&sub4; ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 9 Kohlenstoffatomen, welche einen Substituenten aufweisen kann, m eine ganze Zahl von 1 bis 10 und X&supmin; ein Anion eines Quaternisierungsmittels bedeuten.
- Dieses Monomer wird durch Quaternisierung eines Acrylats oder Methacrylats mit einer Aminogruppe mittels eines Quaternisierungsmittels erhalten. Als Acrylat oder Methacrylat mit einer Aminogruppe können folgende Erwähnung finden: Dimethylaminoethylmethacrylat, Diethylaminoethylmethacrylat, Dimethylaminopropylmethacrylat, Dimethylaminoethylacrylat, Diethylaminoethylacrylat, Dimethylaminobutylmethacrylat, Dihydroxyethylaminoethylmethacrylat, Dipropylaminoethylmethacrylat und Dibutylaminoethylmethacrylat.
- Als Quaternisierungsmlttel können Alkylsulfate wie Dimethylsulfat, Diethylsulfat und Dipropylsulfat, Sulfonsäureester wie Methyl-p-toluolsulfonat und Methylbenzolsulfonat, Alkylphosphate wie Trimethylphosphat, Alkylphosphonate wie Dimethylphenylphosphonat und Halogenide wie Alkylbenzylchlorid, Benzylchlorid, Alkylchlorid und Alkylbromid erwähnt werden. Im Hinblick auf die Beständigkeit gegenüber der thermischen Zersetzung sind Alkylsulfate und Sulfonsäureester besonders bevorzugt. In der allgemeinen Formel (I) ist m eine ganze Zahl von 1 bis 10, aber vorzugsweise ist m eine ganze Zahl von 2 bis 6.
- Als mit dem eine quaternäre Ammoniumbase aufweisenden Monomer copolymerisierbares Monomer können bekannte Monomere verwendet werden, die eine copolymerisierbare Doppelbindung im Molekül besitzen. Zum Beispiel können Methacrylsäureester wie Methylmethacrylat und Ethylmethacrylat, Acrylsäureester wie Methylacrylat und Ethylacrylat, ungesättigte Carbonsäuren wie Acrylsäure und Methacrylsäure, Säureanhydride wie Maleinsäureanhydrid und Itaconsäureanhydrid, Maleinsäureimidderivate wie N-Phenylmaleinsäureimid, Hydroxylgruppen enthaltende Monomere wie 2-Hydroxyethylacrylat und 2-Hydroxypropylmethacrylat, Stickstoff enthaltende Monomere wie Acrylamid und Acrylnitril, Epoxygruppen enthaltende Monomere wie Allylglycidylether und Glycidylacrylat und Macromere wie Polymethylmethacrylat mit endständigem Methacrylat, Polymethylmethacrylat mit endständigem Styryl, Polystyrol mit endständigem Methacrylat, Polyethylenglykol mit endständigem Methacrylat und Acrylnitril- Styrol- Copolymer mit endständigem Methacrylat erwähnt werden. Allylmethacrylat und Allylacrylat können ebenfalls als Monomer verwendet werden, das mit dem eine quaternäre Ammoniumbase aufweisenden Monomer copolymerisierbar ist. Das antistatische Polymer (A) der vorliegenden Erfindung ist in Ethanol löslich.
- Im Hinblick auf die Verträglichkeit zwischen dem antistatischen Polymer (A) und dem synthetischen Harz (B) als Grundmaterial ist das copolymerisierbare Monomer vorzugsweise das gleiche Monomer, das zu dem synthetischen Harz (B) gebildet wird, oder es ist ein Monomer, das zur Bildung eines Harzes in der Lage ist, welches eine gute Verträglichkeit mit dem synthetischen Harz (B) besitzt.
- Vorzugsweise wird ein Monomer, ausgewählt aus jenen der folgenden Formel (II):
- worin R&sub5; ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R&sub6; eine Alkyl-, Allyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, A eine Alkylengruppe mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen und n eine ganze Zahl von 0 bis 500 bedeuten,
- als Monomer verwendet, das mit dem eine quaternäre Ammoniumbase aufweisenden Monomer copolymerisierbar ist.
- Als Monomer der allgemeinen Formel (II), in welcher n = 0 ist, kann Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Butylmethacrylat, Laurylmethacrylat, Ethylhexylmethacrylat, Stearylmethacrylat, Methylacrylat, Ethylacrylat, Benzylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Allylmethacrylat und Allylacrylat erwähnt werden. In dem Fall, daß das synthetisch es Grundharz (B) ein Polymer ist, das hauptsächlich aus Methylmethacrylat besteht, wird, wenn ein Monomer der allgemeinen Formel (II), in welcher n = 0 ist, verwendet wird, die Verträglichkeit zwischen dem synthetischen Grundharz (B) und dem antistatischen Polymer (A) verbessert, und der Film aus dem antistatischen Polymer (A) verbleibt nicht in der Gießform, wenn der Formgegenstand aus der Gießform entfernt wird, und es kann sich eine gute antistatische Eigenschaft in stabiler Weise ausbilden, unabhängig von der Art der Gießform. Insbesondere, wenn einbifunktionelles Monomer wie Allylmethacrylat oder Allylacrylat verwendet wird, kann eine nicht umgesetzte Doppelbindung in dem antistatischen Polymer (A) verbleiben, und es tritt eine Pfropfpolymerisation in dem Polymer (A) auf, wenn das polymerisierbare Material für das synthetische Grundharz (B) polymerisiert wird. Folglich wird die Verträglichkeit zwischen dem synthetischen Grundharz (B) und dem antistatischen Polymer (A) weiter verbessert.
- Als Monomer der allgemeinen Formel (II), in welcher n eine ganze Zahl von 1 bis 500 ist, kann folgendes erwähnt werden: Polyethylenglykol(4)-monomethacrylat, Polyethylen(23)-monomethacrylat, Polyethylenglykol(300)-monomethacrylat, Polyethylenglykol(23)-monoacrylat, Polypropylenglykol(23)-monomethacrylat, Polybutylenglykol(23)-monomethacrylat, Polyethylenglykol(23)-monomethacrylatmonomethylether, Polyethylenglykol(23)-monomethacrylatmonobutylether, Polyethylenglykol(23)-monomethacrylatmonostearylether, Polyethylenglykol(23)-monomethacrylatmonophenylether, Polyethylenglykol(23)-monomethacrylatmonobenzylether, Polyethylenglykol(23)-monomethacrylatmonoallylether und Polyethylenglykol(23)-monomethacrylat-monooleylether (jeder in Klammern gesetzte numerische Wert gibt die Anzahl der Alkylenoxideinheiten im Polyalkylenglykolteil an).
- In dem Fall, daß das synthetische Grundharz (B) ein hauptsächlich aus Methylmethacrylat bestehendes Polymer ist, wird, falls ein Monomer der allgemeinen Formel (II), in welcher n eine ganze Zahl von 1 bis 500 ist, verwendet wird, die Eigenschaft des Trennens von der Gießform des erhaltenen Formgegenstandes aus synthetischem Harz, insbesondere die Eigenschaft des Trennens bei hoher Temperatur, in der Regel verbessert, und es kann ein Formgegenstand aus antistatischem synthetischen Harz in stabiler Weise erhalten werden.
- Das bei der vorliegenden Erfindung verwendete antistatische Polymer (A) umfaßt 20 bis 100 Gew.-% Einheiten, welche aus dem Monomer mit einer quaternären Ammoniumbase abgeleitet sind, und 0 bis 80 Gew.-% Einheiten, die aus dem copolymerisierbaren Monomer abgeleitet sind. Wenn die Menge an dem Monomer mit einer quaternären Ammoniumbase weniger als 20 Gew.-% beträgt, kann ein erhaltener Formgegenstand aus synthetischem Harz, zum Beispiel eine Methacrylsäureharzgußplatte, nicht mit einer guten antistatischen Eigenschaft versehen werden. Um in stabiler Weise eine gute antistatische Eigenschaft zu erhalten, ist die Copolymerisation des Monomeren mit einer quaternären Ammoniumbase mit einem copolymerisierbaren Monomer einer Homopolymerisation dieses Monomeren zu bevorzugen. Eine bevorzugte Monomermischung umfaßt 20 bis 90 Gew.-% des eine quaternäre Ammoniumbase aufweisenden Monomeren und 10 bis 80 Gew.-% an copolymerisierbarem Monomer.
- Vorzugsweise hat das bei der vorliegenden Erfindung verwendete antistatische Polymer (A) ein Molekulargewicht von mindestens 1000. Wenn das Molekulargewicht des antistatischen Polymeren (A) geringer als 1000 ist, passiert es häufig, daß keine Schicht mit einer guten und dauerhaften antistatischen Eigenschaft erhalten werden kann und/oder daß die Oberflächenglätte des Formgegenstandes oder die Entfernbarkeit des Films von der Form verschlechtert ist.
- Als spezifische Beispiele der bei der vorliegenden Erfindung verwendeten Gießform können Gießformen erwähnt werden, die aus anorganischen Gläsern wie Hartglas und Metallen wie rostfreiem Stahl, Aluminium und verchromtem Stahl gebildet sind. Die Oberfläche der Glas- oder Metallgießform ist im allgemeinen eine spiegelpolierte Oberfläche, aber nach Bedarf kann eine Form mit einer ein Satin-Finish aufweisenden Oberfläche verwendet werden.
- Die Art des bei der vorliegenden Erfindung verwendeten synthetischen Grundharzes (B) ist nicht besonders kritisch. Allerdings sollte bei dem Herstellungverfahren das polymerislerbare Material für das synthetische Grundharz verwendet werden. Mit dem Ausdruck "polymerisierbares Material" ist ein Material gemeint, das dazu in der Lage ist, den Polymerisationsgrad und/oder andere Charakteristiken durch Polymerisation, Vernetzung oder andere Reaktionen zu verändern. Es ist nicht nur ein Monomer allein, sondern auch eine Polymermischung oder eine Polymer/Monomer-Mischung gemeint. Es kann nämlich jedes beliebige Material ohne irgendwelche besondere Beschränkung verwendet werden, sofern der Polymerisationsgrad und/oder die -charakteristiken durch Polymerisation, Vernetzung oder dergleichen während der Reaktion in der Gießform verändert werden. Zum Beispiel können radikalisch polymerisierbare Monomere wie Methylmethacrylat und Styrol, Mischungen aus solchen Monomeren mit Polymeren, Polyol/Polyisocyanat-Mischungen, Mischungen aus an beiden Enden epoxidierten Oligomeren und Polyaminen oder Polyamiden, ungesättigte Polyester, Novolak- Polymer/Bisoxazolin-Mischungen, reaktive Siliconkautschukoligomere und cyclische Polycarbonatoligomere erwähnt werden.
- Ein Methacrylharz aus Methylmethacrylat, eine Monomermischung, welche mindestens 50 Gew.-% Methylmethacrylat und bis zu 50 Gew.-% mindestens eines damit copolymerisierbaren Monomeren umfaßt oder ein teilweises Polymerisationsprodukt daraus ist als synthetisches Grundharz (B) bei der vorliegenden Erfindung am meisten bevorzugt.
- Als mit Methylmethacrylat copolymerislerbares Monomer können Methacrylsäureester wie Ethylmethacrylat, Butylmethacrylat und 2 -Ethylhexylmethacrylat, Acrylsäureester wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Butylacrylat und 2-Ethylhexylacrylat, ungesättigte Carbonsäuren wie Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäure und Itaconsäure, Säureanhydride wie Maleinsäureanhydrid und Itaconsäureanhydrid, Maleinsäureimidderivate wie N-Phenylmaleinsäureimid, N-Cyclohexylmaleinsäureimid und N-t-Butylmaleinsäureimid, Hydroxylgruppen enthaltende Monomere wie 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat und 2-Hydroxypropylmethacrylat, Stickstoff enthaltende Monomere wie Acrylamid, Methacrylamid, Acrylnitril, Methacrylnitril, Diacetonacrylamld und Dimethylaminoethylmethacrylat Epoxygruppen enthaltende Monomere wie Allylglycldylether, Glycldylacrylat und Glycldylmethacrylat, Monomere vom Styroltyp wie Styrol und α-Methylstyrol, Vernetzungsmittel wie Ethylenglykoldiacrylat Allylacrylat, Ethylenglykoldimethacrylat, Allylmethacrylat, Divinylbenzol und Trimethylolpropantriacrylat erwähnt werden, obgleich verwendbare Monomere sich nicht auf jene oben beispielhaft angegebenen beschränken.
- Die Art und Menge des copolymerisierbaren Monomeren wird entsprechend des gewünschten Formgegenstandes aus synthetischem Harz in geeigneter Weise ausgewählt.
- Es können Zusatzstoffe in das polymerisierbare Material für das synthetische Grundharz der vorliegenden Erfindung eingebaut werden. Als Zusatzstoffe kann ein Färbemittel, ein Trennmittel, ein UV-Absorptionsmittel, ein Hitzestabllisator und ein Füllstoff erwähnt werden.
- Wenn bei der vorliegenden Erfindung ein Film aus dem antistatischen Polymer (A) auf der Oberfläche der Gießform gebildet wird, wird bevorzugt eine Methode gewählt, bei der die Formoberfläche mit dem antistatischen Polymer (A) in Form einer Lösung in Wasser und /oder eines organischen Lösungsmittels überzogen wird, da die Methode einfach ist. Alternativ wird eine Methode vorzugsweise gewählt, bei der die Formoberfläche mit einer Mischung aus einer größeren Menge (das heißt, mindestens 50 Gew.-%) an antistatischem Polymer (A) und einer kleineren Menge (das heißt, nicht mehr als 50 Gew.-%) an polymerisierbarem Material für das synthetische Grundharz überzogen wird. Zum Beispiel kann in dem Fall, wenn das synthetische Grundharz (B) ein Methacrylsäureharz ist, das antistatische Polymer (A) auf der Oberfläche der Gießform in Form einer Mischung desselben mit Methylmethacrylat, in Form einer Monomermischung, die aus mindestens 50 Gew.-% Methylmethacrylat und bis zu 50 Gew.-% eines copolymerisierbaren Monomeren besteht, oder in Form eines teilweisen Polymerisationsproduktes daraus aufbeschichtet werden.
- Es kann ein Trennmittel, ein Entschäumungsmittel, ein Egalislermittel, ein Monomer, ein Vernetzungsmittel und dergleichen der Lösung oder Mischung des antistatischen Polymeren (A) hinzugesetzt werden, sofern sich die antistatische Eigenschaft eines aus der Lösung oder der Mischung erhaltenen Films, die Polymerisierbarkelt des polymerisierbaren Materials für das synthetische Grundharz und die physikalischen Eigenschaften des Grundharzes nicht verschlechtern.
- Für das Aufbeschichten der Lösung oder Mischung des antistatischen Polymeren auf der Oberfläche der Gießform kann eine Sprühbeschichtungsmethode, eine Fließbeschichtungsmethode, eine Stabbeschichtungsmethode und eine Tauchbeschichtungsmethode angewandt werden.
- Wenn eine Methacrylsäureharzplatte als Formgegenstand gemäß der vorliegenden Erfindung hergestellt wird, wird vom Standpunkt der Produktivität vorzugsweise eine kontinuierliche Gießmethode gewählt, bei der eine Gießform, die zwei gegenüberstehende Bänder aus rostfreiem Stahl mit jeweils einer spiegelpolierten Oberfläche, und zwei Dichtungen umfaßt, verwendet wird, wobei die Bänder und die Dichtung mit der gleichen Geschwindigkeit in die gleiche Richtung laufen.
- Gemäß der vorliegenden Erfindung kann ein Formgegenstand aus einem synthetischen Harz mit einer guten und dauerhaften antistatischen Eigenschaft bereitgestellt werden, bei dem die inhärenten physikalischen Eigenschaften des synthetischen Grundharzes nicht verschlechtert sind. Somit können die Probleme, die durch die Anhäufung einer statischen Ladung bei der Anwendung der synthetischen Harze auftreten, in vorteilhafter Weise eliminiert werden.
- Die Oberflächenschicht des Formgegenstandes, welche vorwiegend ein antistatisches Polymer (A) umfaßt, bildet mit dem Körper des synthetischen Grundharzes (B) ein Ganzes. Deshalb ist die antistatische Eigenschaft des Formgegenstandes von guter Beständigkeit. Wenn ein polymerisierbares Material für das synthetische Grundharz (B) in eine Form gegossen wird, quillt der auf der Formoberfläche gebildete Film aus dem antistatischen Polymer (A) mit dem polymerisierbaren Material auf, und dadurch bildet der Film aus dem antistatischen Polymer (A) mit dem Körper des Grundmaterials ein Ganzes. Die antistatische Eigenschaft verschlechtert sich nicht, selbst wenn mit Wasser gewaschen oder gerieben wird. Dies steht ganz im Gegensatz zu dem mit einem oberflächenaktiven Mittel beschichteten Formgegenstand des Standes der Technik, bei dem die erhaltene antistatische Eigenschaft leicht durch das Waschen mit Wasser oder durch Reibung verloren geht.
- Ferner liegt das antistatische Polymer (A) nur in der Oberflächenschicht des Formgegenstandes der vorliegenden Erfindung vor, wobei eine befriedigende antistatische Eigenschaft selbst mit einer geringen Menge des antistatischen Polymeren (A) erhalten werden kann.
- Die vorliegende Erfindung wird nun genauer unter Bezug auf die nachfolgenden Beispiele, die auf keinen Fall den Umfang der Erfindung beschränken sollen, beschrieben.
- Die elektrischen Eigenschaften aller Proben wurden nach der Feuchtekonditionierung bei einer Temperatur von 23ºC und einer relativen Feuchtigkeit von 65% während eines Tages durchgeführt. Die Ladungshalbwertszeit wurde unter folgenden Bedingungen bestimmt: einer angelegten Spannung von 10 000 V, einer Rotationsgeschwindigkeit der Probe von 1300 U/min, einer Zeit von 30 Sekunden, einer Meßtemperatur von 23ºC und einer relativen Feuchtigkeit von 65% bei der Messung mittels eines statischen "Honestmeters" (erhalten von Shishido Shokai); und die für die Verminderung der anfänglichen Probenspannung (das heißt, die zur Zeit der Anwendung der Spannung beobachtete Spannung) auf die Hälfte nach der Anwendung der Spannung erforderliche Zeit wurde als Ladungshalbwertszeit (Sekunden) genommen. Der Oberflächenwiderstand (Ω) wurde bei verschiedenen Punkten bei einer Meßtemperatur von 23ºC und einer relativen Feuchtigkeit von 65% nach dem Ablauf von einer Minute unter Anwendung einer Spannung von 500 V mittels eine Hoch-Megaohm-Meters (Modell TR-8601, bezogen von Takeda Riken) bestimmt, und der Durchschnittswert wurde berechnet. Normalerweise wurde keine wesentliche Streuung der gemessenen Werte beobachtet. Waschprozesse mit Wasser wurden in auf 30ºC gehaltenem warmen Wasser während 30 Minuten unter Anwendung von Ultraschallwellen durchgeführt. Bezüglich der Wärmebeständigkeit wurde die HDT (ºC) gemäß ASTM D648 nach dem Tempern bzw. Spannungsfreimachen der Probe bestimmt. Bezüglich der mechanischen Festigkeit wurde der Zugfestigkeitstest gemäß ASTM D638 durchgeführt, und es wurden der Zug-Elastizitätsmodul und die Reißfestigkeit bestimmt. Bezüglich der Durchsichtigkeit wurde die Trübung mittels eines integrierenden Kugel-Trübungsmeters (Modell SEP-H-SS, bezogen von Nippon Seimitsu Kogaku) bestimmt.
- Wenn nicht anders angegeben, beziehen sich % und Teile in den Beispielen auf das Gewicht.
- Ein mit Rührblättern versehener 3-Liter-Glaskolben wurde mit 374 Teilen Diethylaminoethylmethacrylat und 450 Teilen Methanol gefüllt. Eine Mischung aus 252 Teilen Dimethylsulfat und 80 Teilen Methanol wurde unter Rühren tropfenweise hinzugesetzt, so daß die Temperatur 30ºC nicht überstieg. Nach der Beendigung der tropfenweisen Zugabe wurde die Mischung 30 Minuten lang gerührt, wodurch eine Lösung (M-1) aus einem eine quaternäre Ammoniumbase aufweisenden Monomeren erhalten wurde.
- Der Lösung wurden 6 Teile Azobisisobutyronitril, 4 Teile n-Octylmercaptan, 480 Teile Methanol und 620 Teile Polyethylenglykol(23)-monomethacrylatmonoethylether hinzugesetzt. Die Polymerisation wurde bei 60ºC in einer Stickstoffatmosphäre 4 Stunden lang durchgeführt. Nach der Polymerisation wurde die Reaktionsmischung vakuumgetrocknet, wodurch ein antistatisches Copolymer (P-1) erhalten wurde.
- Dann wurden 5% des Copolymeren (P-1) in 95% Ethanol gelöst, und zwar zur Bildung eines filmbildenden Ausgangsmaterials. Eine Platte aus rostfreiem Stahl mit einer Länge von 600 mm, einer Breite von 450 mm und einer Dicke von 3 mm, die eine spiegelpolierte Oberfläche aufwies, wurde mit dem derart erhaltenen filmbildenden Ausgangsmaterial auf der Seite der spiegelpolierten Oberfläche unter nachfolgendem Trocknen sprühbeschichtet. Ein polymerisierbares Material für ein synthetisches Grundharz, das durch Auflösen von 0,05 Teilen 2,2'-Azobisisobutyronitril als Polymerisationsinitiator in 100 Teilen eines teilweisen Polymerisationsproduktes [Viskosität = 0,1 Pa·s (100 cP) (die nachfolgend angegebene Viskosität steht für den bei 20ºC gemessenen Wert), Umwandlung = 8%] von Methylmethacrylat und Entfernen von gelöster Luft unter reduziertem Druck gebildet wurde, wurde in eine Gießform gegossen, die aus zwei der derart behandelten Platten aus rostfreiem Stahl und Dichtungen so aufgebaut war, daß die Dicke des Gießproduktes 3 mm betrug. Die Polymerisation wurde 10 Stunden lang bei 60ºC und 4 Stunden bei 110ºC durchgeführt. Dann wurde die Temperatur auf die normale Temperatur gesenkt, und die Einsatzplatte wurde von der Form abgelöst. Der Oberflächenwiderstand der erhaltenen Methacrylsäureharzplatte betrug 1,3·10&sup9; Ω, die Ladungshalbwertszeit war kürzer als 1 Sekunde und die Trübung betrug 1,2%.
- Die erhaltene Platte wurde einer Waschbehandlung mit Wasser unterzogen, und die antistatische Eigenschaft wurde bestimmt. Der Oberflächenwiderstand betrug 1,8·10&sup9; Ω, und die Ladungshalbwertszeitbetrug weniger als 1 Sekunde. Ein Teststück wurde gemäß ASTM D648 vorbereitet, und die HDT wurde nach dem Spannungsfreimachen bestimmt. Es zeigte sich, daß die HDT 100ºC betrug. Mittels des Zugtests gemäß ASTM D638 wurde herausgefunden, daß das Zug-Elastizitätsmodul 29,4·10&sup4; N/cm² (3·10&sup4; kg/cm²) und die Reißfestigkeit 7.448 N/cm² (760 kg/cm²) betrugen.
- Eine Methacrylsäureharzplatte wurde in gleicher Weise wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt, außer daß nicht mit dem antistatischen Polymer behandelte, spiegelpolierte Platten aus rostfreiem Stahl, verwendet wurden.
- Der Oberflächenwiderstand der erhaltenen Platte betrug mehr als 10¹&sup6; Ω, die Ladungshalbwertszeit betrug mehr als 120 Sekunden, und die Trübung zeigte den Wert von 1,0%.
- Die HDT war 100ºC, der Zug-ElastIzitäts-Modul betrug 29,4·10&sup4; N/cm² (3·10&sup4; kg/cm²), und die Reißfestigkeit wies den Wert von 7.448 N/cm² (760 kg/cm²) auf.
- Eine Methacrylsäureharzplatte mit einer Dicke von 3 mm wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt, außer daß gesinterte Glasplatten mit einer Länge von 600 mm, einer Breite von 450 mm und einer Dicke von 6 mm verwendet wurden.
- Der Oberflächenwiderstand der erhaltenen Platte war geringer als 10&sup9; Ω, die Ladungshalbwertszeit betrug weniger als 1 Sekunde, und die Trübung wies den Wert von 1,2% auf.
- Der Oberflächenwiderstand nach der Waschbehandlung mit Wasser war geringer als 10&sup9; Ω, und die Ladungshalbwertszelt betrug weniger als 1 Sekunde.
- Eine Methacrylsäureharzplatte mit einer Dicke von 3 mm wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt, außer daß eine flüssige Mischung aus 2,0 Gew.-% des Copolymeren (P-1), 51,0 Gew.-% Methylmethacrylat und 47,0 Gew.-% eines teilweisen Polymerisationsproduktes (Viskosität = 0,1 Pa·s (100 cP) und Umwandlung = 8%) von Methylmethacrylat als filmbildendes Ausgangsmaterial verwendet wurde.
- Der Oberflächenwiderstand der erhaltenen Platte betrug 1,5·10&sup9; Ω, die Ladungshalbwertszelt war kürzer als 1 Sekunde und die Trübung besaß eine Wert von 1,3%.
- Der Oberflächenwiderstand nach der Waschbehandlung mit Wasser betrug 2,0·10&sup9; Ω, und die Ladungshalbwertszeit war kürzer als 1 Sekunde.
- Die in Tabelle 1 gezeigten Copolymere (P-2) bis (P-10) wurden gemäß der gleichen Arbeitsschritte wie in Beispiel 1 beschrieben unter Anwendung der Monomerlösung (M-1) hergestellt.
- Methylsäureharzplatten mit einer Dicke von 3 mm wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben unter Anwendung dieser Copolymere hergestellt.
- Die Ergebnisse der Beurteilung dieser Platten sind in Tabelle 1 gezeigt.
- Die eine quaternäre Ammoniumbase aufweisenden Copolymere (P-11) bis (P-15) wurden gemäß der gleichen Arbeitsschritte wie in Beispiel 1 beschrieben, unter Anwendung einer in Tabelle 2 gezeigten Kombination aus einem Aminogruppen enthaltenden Acrylat oder Methacrylat mit einem Quaternisierungsmittel hergestellt.
- Methacrylsäureharzplatten mit einer Dicke von 3 mm wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben, unter Verwendung dieser Polymeren hergestellt.
- Die Ergebnisse der Beurteilung dieser Harzplatten sind in Tabelle 3 dargestellt.
- Eine Vorrichtung für die kontinuierliche Herstellung einer Methacrylsäureharzplatte, wie in der Zeichnung gezeigt, wurde als Gießform verwendet.
- Auf die Zeichnung Bezug nehmend, wurden die Bänder 1 und 1', welche spiegelpolierte Bänder aus rostfreiem Stahl mit einer Breite von 1,5 m und einer Dicke von 1 mm waren, mit einer Geschwindigkeit von 2 m/min durch den Antrieb einer Hauptlaufrolle 2' bewegt. Die anfängliche Spannung an den Bändern wurde durch eine an den Laufrollen 2 und 2' angeordnete hydraulische Presse vermittelt, und wurde bezüglich des Bandbereiches auf 9,8·10³ Pa (10 kg/mm²) gesetzt. Jede der Bezugsziffern 3 und 3' steht für eine Laufrolle.
- Die filmbildenden Ausgangsmaterialien 5 und 5', die 2,0% des Copolymeren (P-1), 51,0% Methylmethacrylat und 47,0% eines teilweisen Polymerisationsproduktes von Methylmethacrylat (Viskosität = 0,1 Pa·s (100 cP), Umwandlung = 8%) umfassen, wurden mittels der Walzenbeschichter 6 und 6' auf die spiegelpolierten Oberflächen der Bänder 1 und 1' aufbeschichtet.
- Es wurde eine Gegenüberstellung der derart filmbeschichteten Bänder bewirkt, und beide Seitenbereiche wurden mittels röhrenförmiger Dichtungen 15 aus Polyvinylchlorid, das eine beträchtliche Menge an einem darin eingebauten Weichmacher enthielt, versiegelt bzw. abgedichtet. Ein polymerisierbares Material 14 für ein synthetisches Grundharz, das 100 Gew. -Teile eines teilweisen Polymerisationsproduktes (der Gehalt eines Polymeren mit einem durchschnittlichen Polymerisationsgrad von 1800 betrug 21%) von Methylmethacrylat, 0,05 Teile 2,2'- Azobis(2,4-dimethylvaleronitril) und 0,01 Teile Tinuvin P (UV-Absorptionsmittel, Handelsname für 2(2'-Hydroxy-5-methylphenyl)benzotriazol, bezogen von Ciba- Geigy) umfaßte, wurde über eine Gießvorrichtung mittels einer Dosierpumpe zugeführt.
- Die Gesamtlänge der Polymerisationszone betrug 96 m. Im ersten Bereich mit einer Länge von 66 m wurde der Abstand zwischen den Bandoberflächen mittels den Stützwalzen 4 und 4', die in Intervallen von 15 cm angeordnet waren, reguliert. Auf 80ºC gehaltenes warmes Wasser wurde auf die äußere Oberfläche der Bänder mittels einer Düse gesprüht, um das Gießmaterial zu erwärmen. Im hinteren Bereich mit einer Länge von 30 m wurden die Bänder mit in einem Abstand von 1 m angeordneten Stützwalzen gestützt, und das Gießmaterial wurde bei etwa 130ºC mittels eines Infrarotheizelementes 17 erhitzt und dann abgekühlt. Nach dem Abkühlen wurde das Gießmaterial von den Bändern abgetrennt, und auf diese Weise wurde eine Methacrylsäureharzplatte mit einer Dicke von 3 mm in kontinuierlicher Weise hergestellt.
- Der Oberflächenwiderstand der erhaltenen Harzplatte betrug 1,5·10&sup9; Ω, die Ladungshalbwertszeit war kürzer als 1 Sekunde, und der Trübungswert betrug 1 , 1 %.
- Der Oberflächenwiderstand nach der Waschbehandlung mit Wasser betrug 1,3·10&sup9; Ω, und die Ladungshalbwertszeit war kürzer als 1 Sekunde.
- Eine Methacrylsäureharzplatte mit einer Dicke von 3 mm wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt, außer daß ein filmbildendes Ausgangsmaterial verwendet wurde, das 20% des Copolymeren (P-6) und 80% Methylmethacrylat umfaßte.
- Der Oberflächenwiderstand der Harzplatte betrug 1,3·10&sup9;Ω, die Ladungshalbwertszeit war kürzer als 1 Sekunde, und die Trübung betrug 1,2%.
- Der Oberflächenwiderstand nach der Waschbehandlung mit Wasser betrug 1,5·10&sup9; Ω, und die Ladungshalbwertszeit war kürzer als 1 Sekunde.
- Die in der Tabelle 1 gezeigten Copolymere (P-16) und (P-17) wurden gemäß der gleichen wie in Beispiel 1 beschriebenen Arbeitsschritte unter Verwendung der Monomerlösung (M-1) hergestellt.
- Methacrylsäureharzplatten mit einer Dicke von 3 mm wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben, unter Verwendung dieser Copolymere hergestellt. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 1 gezeigt. Filmbildendes Copolymer Copolymerzusammensetzung Monomer Oberflächenwiderstand Ladungshalbwertszeit Oberflächenwiderstand nach dem Waschen mit Wasser Trübung Beispiel Vergleichsbeispiel
- Anmerkung: PEG(23): Polyethylenglykol(23)-monomethacrylat-monomethylether PEG(500): Polyethylenglykol(500)-monomethacrylat-monomethylether (jede eingeklammerte Ziffer gibt die Anzahl der Ethylenoxideinheiten in dem Polyalkylenglykolteil an) MMA: Methylmethacrylat PMMAMA: Polymethylmethacrylat mit endständigem Methacrylat (Molekulargewicht = 2000) P-10*: die Polymerisation wurde in dem 20% Toluol enthaltenden Lösungsmittel durchgeführt. Tabelle 2 Aminogruppen enthaltendes Acrylat oder Methacrylat Quaternisierungsmittel Beispiel Diethylaminoethylmethacrylat Diethylsulfat Methyl-p-toluolsulfonat Methylchlorid Dimethylaminoethylmethacrylat Dimethylsulfat Diethylaminoethylacrylat Tabelle 3 Filmbildendes Copolymer Oberflächenwiderstand Ladungshalbwertszeit Oberflächenwiderstan nach dem Waschen mit Wasser Trübung Beispiel
- Eine Methacrylsäureharzplatte mit einer Dicke von 3 mm wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 4 beschrieben hergestellt, außer daß spiegelpolierte gehärtete Glasblätter mit einer Länge von 600 mm, einer Breite von 450 mm und einer Dicke von 6 mm für die Polymerisationsgießform verwendet wurden.
- Der Oberflächenwiderstand der erhaltenen Harzplatte war an den meisten Meßpunkten niedriger als 10&sup9; Ω, aber an einigen Meßpunkten überstieg der Oberflächenwiderstand 10¹&sup6; Ω.
- Aus dem vorhergehenden Ergebnissen ist ersichtlich, daß unter bestimmten Gießformbedingungen die Verwendung eines antistatischen Polymeren (A), das eine Comonomerkomponente in Ergänzung zu einem eine quaternäre Ammoniumbase aufweisenden Monomer umfaßt, zum stabilen Erhalt eines guten antistatischen Effektes vorteilhaft ist.
- Eine Harzplatte, die durch Ausführen der Polymerisation in gleicher Weise wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt wurde, wurde bei 100ºC von der Gießform getrennt. Die Trennung konnte ohne besondere Schwierigkeiten vorgenommen werden. Der Oberflächenwiderstand der erhaltenen Methacrylsäureharzplatte betrug 2,4·10&sup9; Ω.
- Die Trennung einer Harzplatte, die in der gleichen Weise wie in Beispiel 11 beschrieben erhalten wurde, von der Gießform wurde bei 100ºC versucht, jedoch war die Abtrennung unmöglich. Wenn die Form auf 60ºC abgekühlt wurde, war die Abtrennung möglich. Der Oberflächenwiderstand der erhaltenen Methacrylsäureharzplatte betrug 7,2·10&sup9; Ω.
- Aus den in den Beispielen 21 und 22 erhaltenen Ergebnissen versteht sich, daß, wenn ein Monomer der allgemeinen Formel (II), in welcher n eine ganze Zahl von 1 bis 500 ist, als Comonomer des antistatischen Copolymeren (A) verwendet wird, die Abtrennungseigenschaft bei einer hohen Temperatur verbessert wird.
- Eine Methacrylsäureharzplatte mit einer Dicke von 3 mm wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt, außer daß eine 10%ige Lösung eines eine quaternäre Ammoniumbase aufweisenden antistatischen Mittels vom Beschichtungstyp (Staticide, Handelsname, erhalten von Analytical Chemical Laboratories) in Isopropylalkohol als filmbildendes Ausgangsmaterial verwendet wurde.
- Der Oberflächenwiderstand der erhaltenen Harzplatte betrug 1,6·10&sup9; Ω, die Ladungshalbwertszeit war kürzer als 1 Sekunde, und die antistatische Eigenschaft war gut. Allerdings wurden viele rauhe Bereiche auf der Oberfläche der Harzplatte gebildet, aufgrund des teilweisen Ablösens von der Oberfläche der Gießform während der Polymerisation, so daß die Harzplatte keinen kommerziellen Wert besaß.
Claims (21)
1. Formgegenstand aus synthetischem Harz mit einer guten antistatischen
Eigenschaft, umfassend einen Körper aus einem synthetischen Harz (B) mit einer
Oberflächenschicht, welche vorwiegend ein antistatisches Polymer (A) umfaßt
und mit dem Körper ein Ganzes bildet dadurch gekennzeichnet, daß das
antistatische Polymer (A) in Ethanol löslich ist und 20 bis 100 Gew.-% Einheiten,
welche aus einem Monomer mit einer quaternären Ammoniumbase der folgenden
allgemeinen Formel (I) abgeleitet sind:
worin R&sub1; ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe. R&sub2; bis R&sub4; ein
Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 9 Kohlenstoffatomen, welche einen
Substituenten aufweisen kann, m eine ganze Zahl von 1 bis 10 und X&supmin; ein Anion eines
Quaternisierungsmittels bedeuten, und
0 bis 80 Gew.-% Einheiten umfaßt, welche aus mindestens einem damit
copolymerisierbaren Monomer abgeleitet sind, welches aus Monomeren mit einer copolymerisierbaren
Doppelbindung im Molekül und Allylacrylat und Allylmethacrylat
gewählt ist; wobei der Formgegenstand aus synthetischem Harz erhalten wird
durch Ausbilden eines Films aus dem antistatischen Polymer (A) auf der
Formoberfläche einer Gießform, Gießen eines polymerisierbaren Materials, welches zu
dem synthetischen Harz (B) geformt werden soll, als Grundmaterial in die
Gießform und Polymerisieren des polymerisierbaren Materials zur Bildung eines
Körpers aus dem synthetischen Harz (B), wobei gleichzeitig der Film aus dem
antistatischen Polymer (A) mit dem Körper des Grundmaterials ein Ganzes bildet.
2. Formgegenstand aus synthetischem Harz nach Anspruch 1, wobei das
antistatische Polymer (A) 20 bis 90 Gew.-% Einheiten, welche aus dem Monomer mit
einer quaternären Ammoniumbase der allgemeinen Formel (I) abgeleitet sind und
10 bis 80 Gew.-% des copolymerisierbaren Monomeren umfaßt.
3. Formgegenstand aus synthetischem Harz nach Anspruch 1 oder 2, wobei die
aus dem copolymerisierbaren Monomeren in dem antistatischen Polymer (A)
abgeleiteten Einheiten die gleichen sind, wie die Einheiten, welche aus dem
Monomer abgeleitet sind, welches zu dem synthetischen Harz (B) als Grundmaterial
geformt werden soll, oder Einheiten aus einem Monomer sind, welches fähig ist, ein
Harz mit guter Verträglichkeit mit dem synthetischen Harz (B) als dem
Grundmaterial zu bilden.
4. Formgegenstand aus synthetischem Harz nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 3, wobei das synthetische Harz (B) als Grundmaterial 50 bis 100
Gew.-% von Methylmethacrylat abgeleitete Einheiten und 0 bis 50 Gew.-% von
mindestens einem damit copolymerisierbaren Monomer abgeleitete Einheiten
umfaßt.
5. Formgegenstand aus synthetischem Harz nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 4, wobei das Monomer mit einer copolymerisierbaren
Doppelbindung im Molekül der folgenden allgemeinen Formel (II) entspricht:
worin R&sub5; ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R&sub6; ein Wasserstoffatom
oder eine Alkyl-, Allyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, A
eine Alkylengruppe mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen und n eine ganze Zahl von 0 bis
500 bedeuten.
6. Formgegenstand aus synthetischem Harz nach Anspruch 5, wobei n in der
allgemeinen Formel (II) 0 ist.
7. Formgegenstand aus synthetischem Harz nach Anspruch 5, wobei n in der
allgemeinen Formel (II) eine ganze Zahl von 1 bis 500 ist.
8. Formgegenstand aus synthetischem Harz nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 7, wobei das Gegenanion X&supmin; der quaternären Ammoniumbase der
folgenden allgemeinen Formel entspricht:
R&sub7;SO&sub3; oder R&sub7;OSO&sub3;&supmin;
worin R&sub7; ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20
Kohlenstoffatomen, welche eine Phenylgruppe enthalten kann, bedeutet.
9. Formgegenstand aus synthetischem Harz nach mindestens einem der
Ansprüche 1 bis 8, wobei das Durchschnittsmolekulargewicht des antistatischen
Polymeren (A) mindestens 1000 beträgt.
10. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
mit guter antistatischer Eigenschaft, gekennzeichnet durch die Stufen:
Ausbilden auf der Formoberfläche einer Gießform eines Films, welcher vorwiegend ein
antistatisches Polymer (A) umfaßt, wobei das Polymer (A) in Ethanol löslich ist
und erhalten wird durch Polymerisieren eines eine quaternäre Ammoniumbase
aufweisenden Monomeren der folgenden allgemeinen Formel (I):
worin R&sub1; ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R&sub2; bis R&sub4; ein
Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 9 Kohlenstoffatomen, welche einen
Substituenten aufweisen kann, in eine ganze Zahl von 1 bis 10 und X&supmin; ein Anion eines
Quaternisierungsmittels bedeuten,
oder einer Mischung, welche mindestens 20 Gew.-% des Monomeren und bis zu 80
Gew.-% mindestens eines damit copolymerisierbaren Monomeren umfaßt,
welches aus Monomeren mit einer copolymerisierbaren Doppelbindung im Molekül
und Allylacrylat und Allylmethacrylat gewählt wird
Gießen eines polymerisierbaren Materials für ein synthetisches Harz (B) als
Grundmaterial in die Gießform,
Polymerisieren des polymerisierbaren Materials zur Bildung eines Körpers aus
dem synthetischen Harz (B), wobei der Film aus dem antistatischen Polymeren (A)
gleichzeitig mit dem Körper des Grundmaterials ein Ganzes bildet; und
Entnehmen des resultierenden Formgegenstandes aus der Gießform.
11. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach Anspruch 10, wobei der vorwiegend das antistatische Polymer (A)
umfassende Film durch Polymerisieren einer Monomerenmischung, welche 20 bis 90 Gew.-%
des Monomeren mit einer quaternären Amnioniumbase der allgemeinen Formel (I)
und 10 bis 80 Gew.-% des copolymerisierbaren Monomeren umfaßt, erhalten
wird.
12. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach Anspruch 10 oder 11, wobei das zur Herstellung des antistatischen
Polymeren (A) verwendete copolymerisierbare Monomer das gleiche Monomer ist, wie das
zu dem synthetischen Harz (B) als Grundmaterial zu bildende Monomer oder ein
Monomer, welches zur Bildung eines Harzes mit guter Verträglichkeit mit dem
synthetischen Harz (B) als dem Grundmaterial fähig ist.
13. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach mindestens einem der Ansprüche 10 bis 12, wobei das synthetische Harz (B)
als Grundmaterial aus Methylmethacrylat, einer Monomermischung, welche
mindestens 50 Gew.-% Methylmethacrylat und bis zu 50 Gew.-% mindestens eines
damit copolymerisierbaren Monomeren umfaßt oder aus einem teilweisen
Polymerisationsprodukt daraus gebildet wird.
14. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach mindestens einem der Ansprüche 10 bis 13, wobei ein Monomer der
folgenden allgemeinen Formel (II):
worin R&sub5; ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R&sub6; ein Wasserstoffatom
odereineAlkyl-, Allyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, A
eine Alkylengruppe mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen und n eine ganze Zahl von 0 bis
500 bedeuten,
als mit dem Monomer mit einer quaternären Ammoniumbase zu
copolymerisierendes Monomer verwendet wird.
15. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach Anspruch 14, wobei n in der allgemeinen Formel (II) 0 ist.
16. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach Anspruch 14, wobei n in der allgemeinen Formel (II) eine ganze Zahl von 1 bis
500 ist.
17. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach mindestens einem der Ansprüche 10 bis 16, wobei das Gegenanion X&supmin; der
quaternären Ammoniumbase der folgenden allgemeinen Formel entspricht:
R&sub7;SO&sub3;&supmin; oder R&sub7;OSO&sub3;&supmin;
worin R&sub7; ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20
Kohlenstoffatomen, welche eine Phenylgruppe enthalten kann, bedeutet.
18. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach mindestens einem der Ansprüche 10 bis 17, wobei das
Durchschnittsmolekulargewicht des antistatischen Polymeren (A) mindestens 1000 beträgt.
19. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach mindestens einem der Ansprüche 10 bis 18, wobei das antistatische Polymer
(A) in Form einer Lösung in einem Lösungsmittel, welches aus der aus Wasser und
organischen Lösungsmittel bestehenden Grippe gewählt wird, auf die
Formoberfläche der Gießform zur Bildung eines Films aufbeschichtet wird.
20. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach mindestens einem der Ansprüche 10 bis 18, wobei der Film aus dem
antistatischen Polymeren (A) durch Beschichten einer Mischung aus dem antistatischen
Polymeren (A) mit Methylmethacrylat, mit einer Mischung, welche mindestens 50
Gew.-% Methylmethacrylat und bis zu 50 Gew.-% eines damit
copolymerisierbaren Monomeren umfaßt, oder mit einem teilweisen Polymerisationsprodukt
hiervon auf die Formoberfläche der Gießform ausgebildet wird.
21. Verfahren zur Herstellung eines Formgegenstandes aus synthetischem Harz
nach mindestens einem der Ansprüche 10 bis 20, wobei eine Gießform verwendet
wird, welche zwei gegenüberliegende nichtrostende endlose Stahlbänder, wobei
jedes eine spiegelpolierte Oberfläche besitzt, und zwei Dichtungen umfaßt, wobei
sich die Bänder und Dichtungen mit gleicher Geschwindigkeit in die gleiche
Richtung bewegen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61217601A JPH0764940B2 (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 帯電防止性に優れた合成樹脂成形品の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3788188D1 DE3788188D1 (de) | 1993-12-23 |
DE3788188T2 true DE3788188T2 (de) | 1994-06-09 |
Family
ID=16706847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3788188T Expired - Lifetime DE3788188T2 (de) | 1986-09-16 | 1987-09-14 | Formgegenstand aus Kunstharz mit ausgezeichneter antistatischer Eigenschaft und Verfahren zu seiner Herstellung. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4877687A (de) |
EP (1) | EP0263985B1 (de) |
JP (1) | JPH0764940B2 (de) |
KR (1) | KR910002646B1 (de) |
CA (1) | CA1287722C (de) |
DE (1) | DE3788188T2 (de) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5169903A (en) * | 1987-12-28 | 1992-12-08 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Methacrylic resin cast plate having transparency and impact resistance and process for preparation thereof |
US5338804A (en) * | 1987-12-28 | 1994-08-16 | Mitsubishi Rayon Company, Inc. | Methacrylic resin cast plate having transparency and impact resistance, and process for preparation thereof |
JP2598672B2 (ja) * | 1988-04-21 | 1997-04-09 | 三菱レイヨン株式会社 | 帯電防止性合成樹脂成型品およびその製造方法 |
US5171501A (en) * | 1988-04-21 | 1992-12-15 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Process of molding antistatic resin shaped articles |
JP2750525B2 (ja) * | 1988-05-31 | 1998-05-13 | 三菱レイヨン株式会社 | 帯電防止剤の製造方法及びメタクリル樹脂組成物 |
JPH02225536A (ja) * | 1989-02-27 | 1990-09-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 帯電防止性に優れた合成樹脂成形品及びその製造法 |
JP2803830B2 (ja) * | 1989-03-03 | 1998-09-24 | 三菱レイヨン株式会社 | 帯電防止性に優れた合成樹脂成形品及びその製造法 |
US5175059A (en) * | 1990-09-05 | 1992-12-29 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Synthetic resin molded article having good antistatic property and process for preparation thereof |
WO1993003911A1 (en) * | 1991-08-19 | 1993-03-04 | Packard Instrument Company, Inc. | Static free coated sample vials for scintillation spectrometry |
GB2301050B (en) * | 1995-05-12 | 1999-06-23 | Kimoto Company Limited | Masking films |
US5869179A (en) | 1996-05-08 | 1999-02-09 | Rexam Graphics, Incorporated | Imaging element having a conductive polymer layer |
US5883212A (en) * | 1996-05-08 | 1999-03-16 | Rexam Graphics, Inc. | Conductivity exaltation in radiation cured electrically conductive coatings |
US5707554A (en) * | 1996-05-08 | 1998-01-13 | Rexam Graphics, Incorporated | Electrically conductive surface release polymers |
US7781498B2 (en) | 2003-07-03 | 2010-08-24 | Mallard Creek Polymers, Inc. | Cationic latex as a carrier for bioactive ingredients and methods for making and using the same |
US7491753B2 (en) | 2003-07-03 | 2009-02-17 | Mallard Creek Polymers, Inc. | Antimicrobial and antistatic polymers and methods of using such polymers on various substrates |
US7981946B2 (en) | 2003-07-03 | 2011-07-19 | Mallard Creek Polymers, Inc. | Antimicrobial and antistatic polymers and methods of using such polymers on various substrates |
EP1728832A4 (de) * | 2004-03-23 | 2013-06-05 | Sanyo Chemical Ind Ltd | Harzformkörper für schneidoperation, material zu dessen herstellung und modell |
US20070048249A1 (en) | 2005-08-24 | 2007-03-01 | Purdue Research Foundation | Hydrophilized bactericidal polymers |
CA2661348A1 (en) | 2006-08-24 | 2008-07-24 | Mallard Creek Polymers, Inc. | Anionic latex as a carrier for bioactive ingredients and methods for making and using the same |
US9220725B2 (en) | 2006-08-24 | 2015-12-29 | Mallard Creek Polymers, Inc. | Cationic latex as a carrier for bioactive ingredients and methods for making and using the same |
FR2941238B1 (fr) * | 2009-01-22 | 2012-06-08 | Arkema France | Utilisation d'une composition transparente pour photobioreacteurs. |
US20180340046A1 (en) | 2017-05-27 | 2018-11-29 | Poly Group LLC | Dispersible antimicrobial complex and coatings therefrom |
US20180362678A1 (en) | 2017-06-16 | 2018-12-20 | Poly Group LLC | Polymeric antimicrobial surfactant |
CN110951231A (zh) * | 2019-12-10 | 2020-04-03 | 深圳市佳美达光电有限公司 | 一种车灯点光源透镜及其制备方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1189275B (de) * | 1963-02-18 | 1965-03-18 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von loeslichen, kationenaktiven Copolymerisaten |
US3574158A (en) * | 1968-04-10 | 1971-04-06 | American Cyanamid Co | Dyeable acrylonitrile polymer compositions |
JPS4939514B2 (de) * | 1971-08-16 | 1974-10-25 | ||
JPS5144498B2 (de) * | 1971-09-01 | 1976-11-29 | ||
US3868432A (en) * | 1972-04-13 | 1975-02-25 | Warner Lambert Co | Denture adhesive preparation |
JPS5415074B2 (de) * | 1972-09-14 | 1979-06-12 | ||
FR2268094B1 (de) * | 1974-04-16 | 1976-10-08 | Rhone Poulenc Textile | |
JPS5653488B2 (de) * | 1974-04-30 | 1981-12-19 | ||
US4060678A (en) * | 1975-02-11 | 1977-11-29 | Plastomedical Sciences, Inc. | Cationic hydrogels based on hydroxyalkyl acrylates and methacrylates |
JPS52155191A (en) * | 1976-06-18 | 1977-12-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Antistatic composition |
JPS6017298B2 (ja) * | 1977-12-20 | 1985-05-02 | ダイセル化学工業株式会社 | 水性被覆用組成物 |
JPS6039023B2 (ja) * | 1978-01-17 | 1985-09-04 | 帝人株式会社 | 被覆処理されたポリエステルフイルム |
NL8006410A (nl) * | 1980-11-25 | 1982-06-16 | Philips Nv | Werkwijze voor de vervaardiging van geintegreerde optische golfgeleider circuits en circuits verkregen met deze werkwijze. |
US4526918A (en) * | 1982-02-18 | 1985-07-02 | Ethyl Corporation | Phenolic phosphite antioxidant and process for preparation thereof |
JPS5939736A (ja) * | 1982-08-25 | 1984-03-05 | Hitachi Cable Ltd | 偏波面保存光フアイバ母材の製造法 |
JPS6079919A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-07 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | スキン層を有するフエノ−ル樹脂発泡体の連続的製造法 |
JPS6116815A (ja) * | 1984-07-04 | 1986-01-24 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光デイスク基板の製造方法 |
EP0232033B1 (de) * | 1986-01-24 | 1993-04-07 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Durchsichtige, elektrisch leitfähige, plastisch geformte Gegenstände |
-
1986
- 1986-09-16 JP JP61217601A patent/JPH0764940B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-09-14 DE DE3788188T patent/DE3788188T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-14 EP EP87113416A patent/EP0263985B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-14 US US07/095,671 patent/US4877687A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-15 CA CA000546906A patent/CA1287722C/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-16 KR KR1019870010236A patent/KR910002646B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4877687A (en) | 1989-10-31 |
EP0263985A3 (en) | 1989-09-20 |
EP0263985B1 (de) | 1993-11-18 |
JPH0764940B2 (ja) | 1995-07-12 |
CA1287722C (en) | 1991-08-20 |
KR880004008A (ko) | 1988-06-01 |
KR910002646B1 (ko) | 1991-04-27 |
EP0263985A2 (de) | 1988-04-20 |
DE3788188D1 (de) | 1993-12-23 |
JPS63108040A (ja) | 1988-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3788188T2 (de) | Formgegenstand aus Kunstharz mit ausgezeichneter antistatischer Eigenschaft und Verfahren zu seiner Herstellung. | |
DE3788544T2 (de) | Antistatische thermoplastische Formmasse. | |
DE69912223T2 (de) | Methylmethacrylat-Zusammensetzung | |
DE69508718T2 (de) | Kation-modifizierte Acrylamid- und Methacrylamid-Copolymere und diese Copolymere enthaltende antistatische Hilfsmittel, thermoplastische Harzzusammensetzungen, wässrige Zusammensetzungen und thermoplastische Harzlaminate | |
DE69802129T2 (de) | Durch Aktivierungsenergiestrahlen härtbare Beschichtungszusammensetzung | |
DE3612791C2 (de) | Polymethacrylatformmasse mit hoher Wärmeformbeständigkeit und hoher thermischer Stabilität, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zur Herstellung von Formkörpern | |
DE3609459C2 (de) | Oberflächentrennmittel | |
DE19540167A1 (de) | Methacrylsäuremethylesterpolymer | |
DE2613095A1 (de) | Polycarbonatharzformgegenstand, verfahren zu dessen herstellung und hiermit verwendbare grundiermassen | |
US3967045A (en) | Pre-coated metal sheet | |
DE69005630T2 (de) | Formgegenstand aus Kunstharz mit ausgezeichneter antistatischer Eigenschaft und Verfahren zu seiner Herstellung. | |
DE69026017T2 (de) | Verfahren zur Formung einer gehärteten Harzschicht mit antistatischer Oberfläche | |
DE4436381A1 (de) | Verbunde aus thermoplastischen Kunststoffschichten für Sanitärartikel | |
DE69221236T2 (de) | Hochtransparenter Verbundwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE3840955A1 (de) | Zusammengesetzte polyvinylchlorid-plastisol-beschichtung und verfahren zu ihrem aufbringen auf ein metallblech | |
DE3784202T2 (de) | Gegossene platte aus methacrylharz mit guten antistatischen eigenschaften und verfahren zu deren herstellung. | |
DE69313981T2 (de) | Zusammensetzung einer kationischen mikroemulsion und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE69206892T2 (de) | Kunstharzgegenstand mit antistatischer Eigenschaft | |
DE1694970A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von schlagfesten Gegenstaenden aus Nitrilpolymeren | |
DE68913321T2 (de) | Feuchtigkeitsundurchlässige Überzugszusammensetzung. | |
DE2018607C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Formmassen | |
JP2598672B2 (ja) | 帯電防止性合成樹脂成型品およびその製造方法 | |
DE2820391C2 (de) | Beschichtungsverfahren | |
DE1921744B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines vernetzten Mischpolymeren | |
DE4127927A1 (de) | Waermehaertendes beschichtungsharz und verfahren zu dessen herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition |