JP2750525B2 - 帯電防止剤の製造方法及びメタクリル樹脂組成物 - Google Patents
帯電防止剤の製造方法及びメタクリル樹脂組成物Info
- Publication number
- JP2750525B2 JP2750525B2 JP63133190A JP13319088A JP2750525B2 JP 2750525 B2 JP2750525 B2 JP 2750525B2 JP 63133190 A JP63133190 A JP 63133190A JP 13319088 A JP13319088 A JP 13319088A JP 2750525 B2 JP2750525 B2 JP 2750525B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methacrylic resin
- methacrylic
- antistatic agent
- general formula
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 title claims description 28
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 title claims description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 claims description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical group COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 11
- 229920000359 diblock copolymer Polymers 0.000 claims description 9
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 claims description 6
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 claims description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 cationic quaternary ammonium salt Chemical class 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)F QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLPKMFJVYUDOQG-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC[Si](C)(C)C BLPKMFJVYUDOQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2,2'-azo-bis-isobutyronitrile Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005497 Acrypet® Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008406 diethyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZXGXYBOQYQXQD-UHFFFAOYSA-N methyl benzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CZXGXYBOQYQXQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/16—Anti-static materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F287/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to block polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F297/00—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer
- C08F297/02—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer using a catalyst of the anionic type
- C08F297/026—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer using a catalyst of the anionic type polymerising acrylic acid, methacrylic acid or derivatives thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はメタクリル樹脂に恒久的な帯電防止性を付与
することが可能な新規な帯電防止剤の製造方法、並び
に、その方法により製造された帯電防止剤により恒久的
な帯電防止性を付与されたメタクリル樹脂組成物に関す
る。
することが可能な新規な帯電防止剤の製造方法、並び
に、その方法により製造された帯電防止剤により恒久的
な帯電防止性を付与されたメタクリル樹脂組成物に関す
る。
メタクリル樹脂はその優れた透明性、表面光沢、美し
い外観、良好な機械的性質等により照明器具、看板、建
材、装飾品等に広く利用されているが、表面抵抗値が高
いために容易に帯電し、ゴミ、ほこり等を吸着して外観
を損ねるだけでなく、人体、エレクトロニクス部品等に
電撃を与えるという問題をおこしている。
い外観、良好な機械的性質等により照明器具、看板、建
材、装飾品等に広く利用されているが、表面抵抗値が高
いために容易に帯電し、ゴミ、ほこり等を吸着して外観
を損ねるだけでなく、人体、エレクトロニクス部品等に
電撃を与えるという問題をおこしている。
メタクリル樹脂に帯電防止性を付与する方法としては
従来より、 (1) 界面活性剤の内部添加 (2) 界面活性剤の表面塗布 の方法が一般に行われている。
従来より、 (1) 界面活性剤の内部添加 (2) 界面活性剤の表面塗布 の方法が一般に行われている。
又、メチルメタクリレート系モノマーと4級アンモニ
ウム塩を有する(メタ)アクリレート系モノマーをラン
ダム共重合させる方法も提案されている(特公昭48−15
471号、特公昭54−23395号)。
ウム塩を有する(メタ)アクリレート系モノマーをラン
ダム共重合させる方法も提案されている(特公昭48−15
471号、特公昭54−23395号)。
界面活性剤を用いる方法のなかではカチオン系の第四
級アンモニウム塩を含んだ化合物を用いる方法が特に効
果があるが、このような界面活性剤を内部添加して十分
な帯電防止性を得ようとする場合には多量の界面活性剤
の添加が必要となり、メタクリル樹脂のもつ透明性、機
械的性質等の優れた特性を犠牲にしなくてはならなかっ
た。一方、このような界面活性剤を表面に塗布する方法
は簡便ではあるが効果の永続性に問題があり、水洗や摩
擦等により容易にその効果を失ってしまうという問題点
があった。また4級アンモニウム塩基を有する(メタ)
アクリレート系単量体をコモノマーとして使用する提案
は4級アンモニウム塩モノマーとMMAの共通溶媒として
他のモノマーや低分子物を用いるため耐熱性や金型との
剥離性に問題を生じたりし、又、ランダム共重合では4
級アンモニウム塩基がポリマー全体にランダムに分布す
るため4級アンモニウム塩全てを有効に利用するのが困
難で、所定の効果を発現せしめるのに多くの4級アンモ
ニウム塩化合物を必要とし、透明性、耐熱性等に影響を
与え易く、性能バランスをとるのが困難という問題があ
った。
級アンモニウム塩を含んだ化合物を用いる方法が特に効
果があるが、このような界面活性剤を内部添加して十分
な帯電防止性を得ようとする場合には多量の界面活性剤
の添加が必要となり、メタクリル樹脂のもつ透明性、機
械的性質等の優れた特性を犠牲にしなくてはならなかっ
た。一方、このような界面活性剤を表面に塗布する方法
は簡便ではあるが効果の永続性に問題があり、水洗や摩
擦等により容易にその効果を失ってしまうという問題点
があった。また4級アンモニウム塩基を有する(メタ)
アクリレート系単量体をコモノマーとして使用する提案
は4級アンモニウム塩モノマーとMMAの共通溶媒として
他のモノマーや低分子物を用いるため耐熱性や金型との
剥離性に問題を生じたりし、又、ランダム共重合では4
級アンモニウム塩基がポリマー全体にランダムに分布す
るため4級アンモニウム塩全てを有効に利用するのが困
難で、所定の効果を発現せしめるのに多くの4級アンモ
ニウム塩化合物を必要とし、透明性、耐熱性等に影響を
与え易く、性能バランスをとるのが困難という問題があ
った。
本発明者らは上記のごとき問題点を解決すべく鋭意検
討した結果、下記一般式(I)または(II)で表される
化合物を開始剤とし、水分が実質上存在しない雰囲気下
で、HF2 -、(CH3)3SiF2 -、F-から選ばれる1種以上の
アニオンの供給源となる化合物の共存下、アルキル基の
炭素数が1〜17のメタクリル酸エステルのリビング重合
を行い、ついで下記一般式(III)で表されるメタクリ
ル酸エステルが80mol%以上であるメタクリル酸エステ
ルのリビング重合を行ってジブロック共重合体またはト
リブロック共重合体を合成し、ついで一般式(III)で
表されるメタクリル酸エステルから誘導されるセグメン
トのアミノ基を4級化することにより得られるブロック
共重合体が優れた帯電防止能を有し、かつ、メタクリル
樹脂に添加した場合、水洗等の操作で離脱しないためそ
の効果が永続的にすることを見出し、本発明を完成し
た。
討した結果、下記一般式(I)または(II)で表される
化合物を開始剤とし、水分が実質上存在しない雰囲気下
で、HF2 -、(CH3)3SiF2 -、F-から選ばれる1種以上の
アニオンの供給源となる化合物の共存下、アルキル基の
炭素数が1〜17のメタクリル酸エステルのリビング重合
を行い、ついで下記一般式(III)で表されるメタクリ
ル酸エステルが80mol%以上であるメタクリル酸エステ
ルのリビング重合を行ってジブロック共重合体またはト
リブロック共重合体を合成し、ついで一般式(III)で
表されるメタクリル酸エステルから誘導されるセグメン
トのアミノ基を4級化することにより得られるブロック
共重合体が優れた帯電防止能を有し、かつ、メタクリル
樹脂に添加した場合、水洗等の操作で離脱しないためそ
の効果が永続的にすることを見出し、本発明を完成し
た。
但し、式中Rはそれぞれ独立に、HまたはCH3を表
し、R1はHまたは炭素数が1〜6のアルキル基を表す。
し、R1はHまたは炭素数が1〜6のアルキル基を表す。
但し、R2はそれぞれ独立に炭素数が1〜6のアルキル
基を表し、mは1〜6の整数である。
基を表し、mは1〜6の整数である。
本発明において使用されるアルキル基の炭素数が1〜
17のメタクリル酸エステル代表例としてはメタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−ブチ
ル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ラ
ウリル、メタクリル酸シクロヘキシル等を挙げることが
できる。このなかではメタクリル酸メチルが最も好まし
い。
17のメタクリル酸エステル代表例としてはメタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−ブチ
ル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ラ
ウリル、メタクリル酸シクロヘキシル等を挙げることが
できる。このなかではメタクリル酸メチルが最も好まし
い。
また、一般式(III)で表されるメタクリル酸エステ
ルの代表例としては、メタクリル酸ジメチルアミノエチ
ル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル等を挙げること
が出来る。一般式(III)で表されるメタクリル酸エス
テルと共重合可能なメタクリル酸エステルの代表例とし
ては、上記のアルキル基の炭素数が1〜17のメタクリル
酸エステルの他メタクリル酸2−トリメチルシリルエチ
ル、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル等を挙げ
ることができる。
ルの代表例としては、メタクリル酸ジメチルアミノエチ
ル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル等を挙げること
が出来る。一般式(III)で表されるメタクリル酸エス
テルと共重合可能なメタクリル酸エステルの代表例とし
ては、上記のアルキル基の炭素数が1〜17のメタクリル
酸エステルの他メタクリル酸2−トリメチルシリルエチ
ル、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル等を挙げ
ることができる。
本発明における帯電防止剤は前記一般式(I)または
(II)で表される化合物を開始剤とし、不活性ガス雰囲
気中あるいは高真空下等の水分が実質的に存在しない雰
囲気下で、HF2 -、(CH3)3SiF2 -、F-から選ばれる1種
以上のアニオンの供給源となる化合物の共存下、アルキ
ル基の炭素数が1〜17のメタクリル酸エステルのリビン
グ重合を行い、ついで前記一般式(III)で表されるメ
タクリル酸エステルが80mol%以上からなるメタクリル
酸エステルのリビング重合を行ってジブロック共重合体
またはトリブロック共重合体を合成し、ついで一般式
(III)で表されるメタクリル酸エステルから誘導され
るセグメントのアミノ基を4級化することより製造され
る。
(II)で表される化合物を開始剤とし、不活性ガス雰囲
気中あるいは高真空下等の水分が実質的に存在しない雰
囲気下で、HF2 -、(CH3)3SiF2 -、F-から選ばれる1種
以上のアニオンの供給源となる化合物の共存下、アルキ
ル基の炭素数が1〜17のメタクリル酸エステルのリビン
グ重合を行い、ついで前記一般式(III)で表されるメ
タクリル酸エステルが80mol%以上からなるメタクリル
酸エステルのリビング重合を行ってジブロック共重合体
またはトリブロック共重合体を合成し、ついで一般式
(III)で表されるメタクリル酸エステルから誘導され
るセグメントのアミノ基を4級化することより製造され
る。
出発原料のアルキル基の炭素数が1〜17のメタクリル
酸エステルおよび一般式(III)で表されるメタクリル
酸エステルとしては上述のものが単独または混合して用
いられる。ただし、一般式(III)で表されるメタクリ
ル酸エステルを主体とするセグメントの形成にあたって
は、20mol%以下であれば他のメタクリル酸エステルを
混合して用いても良い。一般式(III)で表されるメタ
クリル酸エステルと共重合可能な他のメタクリル酸エス
テルの代表例としては、アルキル基の炭素数が1〜17の
メタクリル酸エステルの他メタクリル酸2−トリメチル
シリルエチル、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチ
ル等を挙げることが出来る。これらのその他のメタクリ
ル酸エステルの比率は20mol%以下であることが重要で
あり、20mol%を越えると最終生成物の帯電防止性が低
下する。
酸エステルおよび一般式(III)で表されるメタクリル
酸エステルとしては上述のものが単独または混合して用
いられる。ただし、一般式(III)で表されるメタクリ
ル酸エステルを主体とするセグメントの形成にあたって
は、20mol%以下であれば他のメタクリル酸エステルを
混合して用いても良い。一般式(III)で表されるメタ
クリル酸エステルと共重合可能な他のメタクリル酸エス
テルの代表例としては、アルキル基の炭素数が1〜17の
メタクリル酸エステルの他メタクリル酸2−トリメチル
シリルエチル、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチ
ル等を挙げることが出来る。これらのその他のメタクリ
ル酸エステルの比率は20mol%以下であることが重要で
あり、20mol%を越えると最終生成物の帯電防止性が低
下する。
開始剤としては一般式(I)または(II)の化合物を
使用することが出来るが、RおよびR1のいずれもがメチ
ル基である化合物であることがより好ましい。
使用することが出来るが、RおよびR1のいずれもがメチ
ル基である化合物であることがより好ましい。
本発明におけるブロック共重合体の各々のセグメント
の長さおよび全体の分子量は使用するモノマーと開始剤
のモル比およびモノマーの分子量で決定される。従っ
て、使用する開始剤の量は目的とするブロック共重合体
の分子量から計算することができる。通常の場合には、
使用する全モノマー量の0.05〜0.002mol%の範囲が適当
である。使用する開始剤の量が使用する全モノマー量の
0.05mol%以上では生成するブロック共重合体の分子量
が小さく成りすぎて効果の恒久性が得られなくなるし、
逆に、0.002mol%以下になると重合自体がスムーズにい
かなくなることが多い。
の長さおよび全体の分子量は使用するモノマーと開始剤
のモル比およびモノマーの分子量で決定される。従っ
て、使用する開始剤の量は目的とするブロック共重合体
の分子量から計算することができる。通常の場合には、
使用する全モノマー量の0.05〜0.002mol%の範囲が適当
である。使用する開始剤の量が使用する全モノマー量の
0.05mol%以上では生成するブロック共重合体の分子量
が小さく成りすぎて効果の恒久性が得られなくなるし、
逆に、0.002mol%以下になると重合自体がスムーズにい
かなくなることが多い。
開始剤として化合物(I)を用いた場合にはA−B型
のジブロック共重合体が生成し、化合物(II)を用いた
場合にはA−B−A型のトリブロック共重合体が生成す
る。
のジブロック共重合体が生成し、化合物(II)を用いた
場合にはA−B−A型のトリブロック共重合体が生成す
る。
触媒として作用するHF2 -、(CH3)3SiF2 -、F-等のア
ニオンの供給源となる化合物の代表的な具体例として
は、HF2 -あるいは(CH3)3SiF2 -のトリスジメチルスル
ホニウム塩(以下、TAS塩と略記する。)、すなわち、T
AS+HF2 -、TAS+(CH3)3SiF2 -のような化合物、テトラブ
チルアンモニウムフルオライド等を挙げることが出来
る。触媒の使用量としては開始剤量に対して0.1〜0.005
mol%が適当である。0.005mol%以下の量では触媒とし
て十分に作用しないし、0.1mol%以上になると副反応を
引き起こしやすくなるので好ましくない。
ニオンの供給源となる化合物の代表的な具体例として
は、HF2 -あるいは(CH3)3SiF2 -のトリスジメチルスル
ホニウム塩(以下、TAS塩と略記する。)、すなわち、T
AS+HF2 -、TAS+(CH3)3SiF2 -のような化合物、テトラブ
チルアンモニウムフルオライド等を挙げることが出来
る。触媒の使用量としては開始剤量に対して0.1〜0.005
mol%が適当である。0.005mol%以下の量では触媒とし
て十分に作用しないし、0.1mol%以上になると副反応を
引き起こしやすくなるので好ましくない。
本発明におけるブロック共重合体を合成するための重
合反応は無溶媒で行うことも可能であるが、一般的には
適当な溶媒中で行うほうが好ましい。適当な溶媒の例と
してはテトラヒドロフラン(THF)、トルエン、アセト
ニトリル等をあげることができる。塩化エチレン、クロ
ロホルム等のハロゲン化炭化水素系の溶媒は好ましくな
い。これら溶媒を使用する場合には常法に従って十分に
脱水・精製したものを使用する必要がある。脱水・精製
の不十分な溶媒を使用した場合にはメタクリル酸エステ
ルの重合はリビング重合にならず目的とするブロック共
重合体は得られない。同様に反応は十分に脱水・精製し
た不活性ガス中あるいは高真空下で行うことが必要であ
る。
合反応は無溶媒で行うことも可能であるが、一般的には
適当な溶媒中で行うほうが好ましい。適当な溶媒の例と
してはテトラヒドロフラン(THF)、トルエン、アセト
ニトリル等をあげることができる。塩化エチレン、クロ
ロホルム等のハロゲン化炭化水素系の溶媒は好ましくな
い。これら溶媒を使用する場合には常法に従って十分に
脱水・精製したものを使用する必要がある。脱水・精製
の不十分な溶媒を使用した場合にはメタクリル酸エステ
ルの重合はリビング重合にならず目的とするブロック共
重合体は得られない。同様に反応は十分に脱水・精製し
た不活性ガス中あるいは高真空下で行うことが必要であ
る。
本発明におけるブロック共重合体の製造は−100℃か
ら100℃の温度範囲で実施できる。好ましい温度範囲は
−75℃から60℃である。
ら100℃の温度範囲で実施できる。好ましい温度範囲は
−75℃から60℃である。
本発明で製造されるブロック共重合体はA−B型また
はB−A−B型の構造のものである。このうち、Aセグ
メントがアルキル基の炭素数が1〜17のメタクリル酸エ
ステルからなるセグメントであり、Bセグメントが一般
式(III)で表されるメタクリル酸エステルを主成分と
するセグメントである。
はB−A−B型の構造のものである。このうち、Aセグ
メントがアルキル基の炭素数が1〜17のメタクリル酸エ
ステルからなるセグメントであり、Bセグメントが一般
式(III)で表されるメタクリル酸エステルを主成分と
するセグメントである。
Aセグメントの分子量は1000〜20000の範囲にあるこ
とが必要であり、より好ましい範囲は5000〜15000であ
る。Aセグメントの分子量が1000以下では恒久的な帯電
防止性は得られない。Aセグメントの分子量を20000以
上にしてもあまりメリットが無くブロック共重合体の製
造が困難になるという不便がある。また、Bセグメント
の分子量も1000〜20000、好ましくは5000〜15000の範囲
にあるのが良い。Bセグメントの分子量が1000以下では
帯電防止性が不十分であり、20000以上にしても、やは
りメリットが無い。
とが必要であり、より好ましい範囲は5000〜15000であ
る。Aセグメントの分子量が1000以下では恒久的な帯電
防止性は得られない。Aセグメントの分子量を20000以
上にしてもあまりメリットが無くブロック共重合体の製
造が困難になるという不便がある。また、Bセグメント
の分子量も1000〜20000、好ましくは5000〜15000の範囲
にあるのが良い。Bセグメントの分子量が1000以下では
帯電防止性が不十分であり、20000以上にしても、やは
りメリットが無い。
ブロック共重合体全体の分子量としては2000〜50000
の範囲にあるのが好ましい。全体の分子量が2000以下の
場合には恒久的な帯電防止性が得られないばかりでな
く、耐熱性等の低下を招き好ましくない。
の範囲にあるのが好ましい。全体の分子量が2000以下の
場合には恒久的な帯電防止性が得られないばかりでな
く、耐熱性等の低下を招き好ましくない。
上記の方法で製造されたブロック共重合体に帯電防止
剤としての機能を付与するためには、一般式(III)で
示されるアミノ基を有するメタクリル酸エステルを四級
化する必要がある。四級化はブロック共重合体をベンゼ
ン等の適当な溶媒に溶解し、アルキル硫酸、スルホン酸
エステル等の四級化剤で処理することにより容易に達成
できる。四級化剤の具体例としてはジメチル硫酸、ジエ
チル硫酸、p−トルエンスルホン酸メチル、ベンゼンス
ルホン酸メチル、ベンジルクロライド等を挙げることが
できる。
剤としての機能を付与するためには、一般式(III)で
示されるアミノ基を有するメタクリル酸エステルを四級
化する必要がある。四級化はブロック共重合体をベンゼ
ン等の適当な溶媒に溶解し、アルキル硫酸、スルホン酸
エステル等の四級化剤で処理することにより容易に達成
できる。四級化剤の具体例としてはジメチル硫酸、ジエ
チル硫酸、p−トルエンスルホン酸メチル、ベンゼンス
ルホン酸メチル、ベンジルクロライド等を挙げることが
できる。
本発明における帯電防止性に優れたメタクリル樹脂組
成物はメタクリル樹脂100重量部に対し、上記の方法で
製造された帯電防止剤0.1〜20重量部配合することによ
り製造出来る。
成物はメタクリル樹脂100重量部に対し、上記の方法で
製造された帯電防止剤0.1〜20重量部配合することによ
り製造出来る。
本発明におけるメタクリル樹脂とはメタクリル酸メチ
ルの単独重合体およびメタクリル酸メチルと他の共重合
可能なモノマーとの共重合体のうちメタクリル酸メチル
単位が60重量%以上のものであり、通常、成形材料、キ
ヤスト板として市販されている程度の分子量のものをさ
す。メタクリル酸メチルと共重合可能な他のモノマーの
代表例としてはメタクリル酸メチル以外のメタクリル酸
エステル類、アクリル酸エステル類、芳香族ビニル化合
物等をあげることができる。
ルの単独重合体およびメタクリル酸メチルと他の共重合
可能なモノマーとの共重合体のうちメタクリル酸メチル
単位が60重量%以上のものであり、通常、成形材料、キ
ヤスト板として市販されている程度の分子量のものをさ
す。メタクリル酸メチルと共重合可能な他のモノマーの
代表例としてはメタクリル酸メチル以外のメタクリル酸
エステル類、アクリル酸エステル類、芳香族ビニル化合
物等をあげることができる。
メタクリル樹脂と本発明における帯電防止剤の混合は
種々の方法で可能であり、例えば (1) メタクリル樹脂のぺレットあるいは懸濁重合粒
子と粉末状の帯電防止剤をミキサー等で混合した後、ス
クリュー式の混練押出機を用いてペレット状に賦形し、
次いで、射出成形により成形品に成形する方法 (2) メタクリル樹脂を形成するためのモノマーおよ
びその部分重合物の混合物に本発明における帯電防止剤
を混合し、通常、セルキヤスト法として知られている方
法、あるいは、連続キヤスト法として知られている方法
により鋳形重合する方法 等をあげることが出来る。
種々の方法で可能であり、例えば (1) メタクリル樹脂のぺレットあるいは懸濁重合粒
子と粉末状の帯電防止剤をミキサー等で混合した後、ス
クリュー式の混練押出機を用いてペレット状に賦形し、
次いで、射出成形により成形品に成形する方法 (2) メタクリル樹脂を形成するためのモノマーおよ
びその部分重合物の混合物に本発明における帯電防止剤
を混合し、通常、セルキヤスト法として知られている方
法、あるいは、連続キヤスト法として知られている方法
により鋳形重合する方法 等をあげることが出来る。
鋳形重合の場合には帯電防止剤をモノマー溶液に混合
せずに、帯電防止剤溶液をキヤストに使用するガラス
板、金属板、ステンレスベルト等の表面に塗布する方法
もメタクリル樹脂に恒久的な帯電防止性を付与する方法
としては好ましい方法である。通常の界面活性剤などの
場合にはこのような方法で帯電防止性を付与しても恒久
的な効果は得られないが、本発明の帯電防止剤の場合に
はメタクリル樹脂と相溶性の良い成分のセグメントを有
しているため、その部分がメタクリル樹脂中に取り込ま
れた、いわゆるアンカー効果のために恒久的な効果を付
与することができる。
せずに、帯電防止剤溶液をキヤストに使用するガラス
板、金属板、ステンレスベルト等の表面に塗布する方法
もメタクリル樹脂に恒久的な帯電防止性を付与する方法
としては好ましい方法である。通常の界面活性剤などの
場合にはこのような方法で帯電防止性を付与しても恒久
的な効果は得られないが、本発明の帯電防止剤の場合に
はメタクリル樹脂と相溶性の良い成分のセグメントを有
しているため、その部分がメタクリル樹脂中に取り込ま
れた、いわゆるアンカー効果のために恒久的な効果を付
与することができる。
メタクリル樹脂100重量部に対する本発明の帯電防止
剤の配合量は0.1〜20重量部、好ましくは0.5〜10重量部
である。0.1重量部以下では良好な帯電防止性が付与出
来ず、20重量部を越えるとメタクリル樹脂本来の物性を
損ねるうえ、コスト高になり好ましくない。
剤の配合量は0.1〜20重量部、好ましくは0.5〜10重量部
である。0.1重量部以下では良好な帯電防止性が付与出
来ず、20重量部を越えるとメタクリル樹脂本来の物性を
損ねるうえ、コスト高になり好ましくない。
以下、本発明を実施例にてより具体的に説明するが、
本発明は必ずしもそれらに限定されるものではない。
本発明は必ずしもそれらに限定されるものではない。
なお、例中の「部」はいずれも「重量部」である。
例中に示した分子量・分子量分布の値はTHFを溶媒と
してGPC法により求めたポリスチレン換算分子量であ
る。
してGPC法により求めたポリスチレン換算分子量であ
る。
また、例中に示した電気的性質は23℃、相対湿度65%
で1日調湿した後、測定した。電荷半減時間はスタティ
ックオネストメーターを使用し、印加電圧10000V、試料
回転速度1300rpm、印加時間30秒、測定温度23℃、測定
湿度65%の条件で測定し、電圧印加後試料電圧が初期電
圧(電圧印加時の試料電圧)の半分になるまでの時間を
半減期とした。表面抵抗値については、超絶縁抵抗計
(タケダ理研製)を使用し、測定温度23℃、測定湿度65
%の条件で印加電圧500Vで1分後の表面抵抗値(Ω)を
測定した。洗浄は30℃の温水中で超音波洗浄を30分間行
った。耐熱性については試料をアニール後、ASTM D648
に準じてHDTを測定した。透明性については積分球式ヘ
ーズメーター(日本精密光学製)を使用して曇価を測定
した。
で1日調湿した後、測定した。電荷半減時間はスタティ
ックオネストメーターを使用し、印加電圧10000V、試料
回転速度1300rpm、印加時間30秒、測定温度23℃、測定
湿度65%の条件で測定し、電圧印加後試料電圧が初期電
圧(電圧印加時の試料電圧)の半分になるまでの時間を
半減期とした。表面抵抗値については、超絶縁抵抗計
(タケダ理研製)を使用し、測定温度23℃、測定湿度65
%の条件で印加電圧500Vで1分後の表面抵抗値(Ω)を
測定した。洗浄は30℃の温水中で超音波洗浄を30分間行
った。耐熱性については試料をアニール後、ASTM D648
に準じてHDTを測定した。透明性については積分球式ヘ
ーズメーター(日本精密光学製)を使用して曇価を測定
した。
実施例1 〔ブロック共重合体の製造〕 アルゴン導入管、撹拌機、排気管等を備えた1の反
応容器を十分にアルゴン置換した後、反応容器内に十分
に脱水精製したTHF300ml、トリスジメチルアミノスルホ
ニウムビフルオライド0.5ml(CH3CN 0.04mol溶液)およ
び開始剤として〔(2−メトキシ−2−メチル−1−プ
ロペニル)オキシ〕トリメチルシラン1ml(5mmol)を仕
込み、撹拌下、反応系の温度を0℃に設定した。ついで
メタクリル酸メチル(MMA)25g(250mmol)を反応系の
温度が50℃を越えないように注意しながら20分かけて滴
下した。反応系の温度が20℃に下がるまでそのままゆっ
くりと撹拌を続け、反応系の温度が20℃になったところ
で少量サンプリングした後、メタクリル酸ジエチルアミ
ノエチル(DE)25g(135mmol)を反応系の温度が50℃を
越えないように注意しながら20分かけて滴下し、更に1
時間反応させて重合反応を完了させた。ついで0.1molの
塩酸をふくむメタノール10mlを添加し、10分間撹拌する
ことにより、重合体の生長末端を失活させ、反応を停止
した。
応容器を十分にアルゴン置換した後、反応容器内に十分
に脱水精製したTHF300ml、トリスジメチルアミノスルホ
ニウムビフルオライド0.5ml(CH3CN 0.04mol溶液)およ
び開始剤として〔(2−メトキシ−2−メチル−1−プ
ロペニル)オキシ〕トリメチルシラン1ml(5mmol)を仕
込み、撹拌下、反応系の温度を0℃に設定した。ついで
メタクリル酸メチル(MMA)25g(250mmol)を反応系の
温度が50℃を越えないように注意しながら20分かけて滴
下した。反応系の温度が20℃に下がるまでそのままゆっ
くりと撹拌を続け、反応系の温度が20℃になったところ
で少量サンプリングした後、メタクリル酸ジエチルアミ
ノエチル(DE)25g(135mmol)を反応系の温度が50℃を
越えないように注意しながら20分かけて滴下し、更に1
時間反応させて重合反応を完了させた。ついで0.1molの
塩酸をふくむメタノール10mlを添加し、10分間撹拌する
ことにより、重合体の生長末端を失活させ、反応を停止
した。
ついで、ポリマーをメタノールに沈澱させて回収し、
乾燥して白色の粉末状のPMMA−PDEジブロック共重合体
を得た。
乾燥して白色の粉末状のPMMA−PDEジブロック共重合体
を得た。
途中でサンプリングしたPMMAの分子量は5000、分子量
分布は1.1であった。また、このブロック共重合体の数
平均分子量は10000、分子量分布は1.3であった。
分布は1.1であった。また、このブロック共重合体の数
平均分子量は10000、分子量分布は1.3であった。
撹拌機を備えた反応容器に得られたブロック共重合体
50gを入れ、ベンゼン200mlを加えて溶解後、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル1gを入れ、ついで激しく撹拌し
ながらジメチル硫酸40gメタノール20gの混合物を反応容
器内の温度が30℃を越えないように、ゆっくりと滴下
し、滴下終了後、更に1時間撹拌してブロック共重合体
の四級化を行った。
50gを入れ、ベンゼン200mlを加えて溶解後、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル1gを入れ、ついで激しく撹拌し
ながらジメチル硫酸40gメタノール20gの混合物を反応容
器内の温度が30℃を越えないように、ゆっくりと滴下
し、滴下終了後、更に1時間撹拌してブロック共重合体
の四級化を行った。
ついで溶媒を除去し、洗浄・乾燥して、粉末状のPMMA
をAセグメント、四級化されたPDEをBセグメントとす
るジブロック共重合体を得た。
をAセグメント、四級化されたPDEをBセグメントとす
るジブロック共重合体を得た。
メタクリル酸メチル部分重合体(粘度100センチポイ
ズ、重合率8%)100部に上記ジブロック共重合体1
部、重合開始剤として2,2−アゾビスイソブチロニトリ
ル0.05部を溶解させた後、減圧にして溶存空気を除去
し、ガスケットおよび2枚の強化ガラスにより形成さ
れ、あらかじめ厚さ3mmになるように設定されたセル中
に注いだ。重合は60℃で10時間、110℃で4時間行っ
た。このキヤスト板は表面抵抗率が9.0×1010Ω、電荷
半減期2.7秒、曇価1.5であった。また、HDTの値は100℃
であった。
ズ、重合率8%)100部に上記ジブロック共重合体1
部、重合開始剤として2,2−アゾビスイソブチロニトリ
ル0.05部を溶解させた後、減圧にして溶存空気を除去
し、ガスケットおよび2枚の強化ガラスにより形成さ
れ、あらかじめ厚さ3mmになるように設定されたセル中
に注いだ。重合は60℃で10時間、110℃で4時間行っ
た。このキヤスト板は表面抵抗率が9.0×1010Ω、電荷
半減期2.7秒、曇価1.5であった。また、HDTの値は100℃
であった。
また、得られた板につき水洗処理を行い、ただちに帯
電防止性能を評価したところ、表面抵抗率が9.3×1010
Ω、電荷半減期2.7秒であった。
電防止性能を評価したところ、表面抵抗率が9.3×1010
Ω、電荷半減期2.7秒であった。
比較例1 本発明品である帯電防止剤を添加しない他は実施例1
と同様にしてPMMAのキヤスト板を得た。このキヤスト板
は表面抵抗率が1016Ω以上であり、電荷半減期120秒以
上、曇価1.0であり、HDTの値は100℃であった。
と同様にしてPMMAのキヤスト板を得た。このキヤスト板
は表面抵抗率が1016Ω以上であり、電荷半減期120秒以
上、曇価1.0であり、HDTの値は100℃であった。
実施例2〜4、比較例2 実施例1と全く同様にして表1に示した構造のジブロ
ック共重合体を合成し、実施例1と同様に四級化したの
ち、実施例1と同じ方法でメタクリル樹脂組成物のキヤ
スト板を得、同様に評価した。結果は表1に示した。
ック共重合体を合成し、実施例1と同様に四級化したの
ち、実施例1と同じ方法でメタクリル樹脂組成物のキヤ
スト板を得、同様に評価した。結果は表1に示した。
実施例のキヤスト板はいずれも良好な帯電防止性を示
している。
している。
実施例5〜7、比較例3 帯電防止剤の添加量を表2に示した量にかえる以外は
実施例1と同じ方法でメタクリル樹脂組成物のキヤスト
板を得、同様に評価した。結果は表2に示した。
実施例1と同じ方法でメタクリル樹脂組成物のキヤスト
板を得、同様に評価した。結果は表2に示した。
実施例のキヤスト板はいずれも良好な帯電防止性を示
している。
している。
実施例8 実施例1で用いたメタクリル酸ジエチルアミノエチル
(DE)を同重量のメタクリル酸ジメチルアミノエチル
(DM)にかえる以外は実施例1と全く同様にして各々の
セグメントの分子量がいずれも5000のPMMA−PDMジブロ
ック共重合体を合成し、実施例1と同様に四級化したの
ち、実施例1と同じ方法でメタクリル樹脂組成物のキヤ
スト板を得、同様に評価した。結果は以下の通りであ
る。
(DE)を同重量のメタクリル酸ジメチルアミノエチル
(DM)にかえる以外は実施例1と全く同様にして各々の
セグメントの分子量がいずれも5000のPMMA−PDMジブロ
ック共重合体を合成し、実施例1と同様に四級化したの
ち、実施例1と同じ方法でメタクリル樹脂組成物のキヤ
スト板を得、同様に評価した。結果は以下の通りであ
る。
水洗前:表面抵抗率=9.8×1010Ω、電荷半減期=2.9
秒、曇価=1.6 水洗後:表面抵抗率=9.6×1010Ω、電荷半減期=2.9
秒、曇価=1.6 また、HDTの値はいずれも100℃であった。
秒、曇価=1.6 水洗後:表面抵抗率=9.6×1010Ω、電荷半減期=2.9
秒、曇価=1.6 また、HDTの値はいずれも100℃であった。
実施例9 開始剤として下記の化合物を用い(実施例1と同モル
量)、使用するメタクリル酸ジエチル アミノエチル(DE)の量を倍にかえる以外は実施例1と
全く同様にして各々のセグメントの分子量がいずれも50
00のPDE−PMMA−PDEトリブロック共重合体を合成し、実
施例1と同様に四級化したのち、実施例1と同じ方法で
メタクリル樹脂組成物のキヤスト板を得、同様に評価し
た。結果は以下の通りである。
量)、使用するメタクリル酸ジエチル アミノエチル(DE)の量を倍にかえる以外は実施例1と
全く同様にして各々のセグメントの分子量がいずれも50
00のPDE−PMMA−PDEトリブロック共重合体を合成し、実
施例1と同様に四級化したのち、実施例1と同じ方法で
メタクリル樹脂組成物のキヤスト板を得、同様に評価し
た。結果は以下の通りである。
水洗前:表面抵抗率=7.4×109Ω、電荷半減期=2.2
秒、曇価=1.9 水洗後:表面抵抗率=7.6×109Ω、電荷半減期=2.3
秒、曇価=1.9 また、HDTの値はいずれも100℃であった。
秒、曇価=1.9 水洗後:表面抵抗率=7.6×109Ω、電荷半減期=2.3
秒、曇価=1.9 また、HDTの値はいずれも100℃であった。
実施例10 市販のビーズ状メタクリル樹脂(三菱レイヨン(株)
製、アクリペットVHK)100部に対し実施例9で製造した
帯電防止剤3部を配合し、ミキサーで混合後、スクリユ
ー式の混練押出機を用いてペレット状に賦形した。さら
にそのペレットを十分に乾燥後10cm角で厚み3mmの板を
成形し、実施例1と同様の評価を行った。結果は以下の
通りである。
製、アクリペットVHK)100部に対し実施例9で製造した
帯電防止剤3部を配合し、ミキサーで混合後、スクリユ
ー式の混練押出機を用いてペレット状に賦形した。さら
にそのペレットを十分に乾燥後10cm角で厚み3mmの板を
成形し、実施例1と同様の評価を行った。結果は以下の
通りである。
水洗前:表面抵抗率=8.9×108Ω、電荷半減期=2.2
秒、曇価=2.1 水洗後:表面抵抗率=9.1×108Ω、電荷半減期=2.1
秒、曇価=2.1
秒、曇価=2.1 水洗後:表面抵抗率=9.1×108Ω、電荷半減期=2.1
秒、曇価=2.1
Claims (2)
- 【請求項1】下記一般式(I)または(II)で表される
化合物を開始剤とし、水分が実質上存在しない雰囲気下
で、HF2 -、(CH3)3SiF2 -、F-から選ばれる1種以上の
アニオンの供給源となる化合物の共存下、アルキル基の
炭素数が1〜17のメタクリル酸エステルのリビング重合
を行い、ついで下記一般式(III)で表されるメタクリ
ル酸エステルが80mol%以上であるメタクリル酸エステ
ルのリビング重合を行ってジブロック共重合体またはト
リブロック共重合体を合成し、ついで一般式(III)で
表されるメタクリル酸エステルから誘導されるセグメン
トのアミノ基を4級化することを特徴とするメタクリル
樹脂用の帯電防止剤の製造方法。 但し、式中Rはそれぞれ独立に、HまたはCH3を表し、R
1はHまたは炭素数が1〜6のアルキル基を表す。 但し、R2はそれぞれ独立に炭素数が1〜6のアルキル基
を表し、mは1〜6の整数である。 - 【請求項2】メタクリル酸メチル単位が60重量%以上を
しめるメタクリル樹脂100重量部と請求項1記載の製造
方法により製造される帯電防止剤0.1〜20重量部とから
なる帯電防止性にすぐれたメタクリル樹脂組成物。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63133190A JP2750525B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 帯電防止剤の製造方法及びメタクリル樹脂組成物 |
KR1019890006962A KR960000864B1 (ko) | 1988-05-31 | 1989-05-24 | 대전방지제의 제조방법 및 메타크릴수지조성물 |
DE68917376T DE68917376T2 (de) | 1988-05-31 | 1989-05-29 | Verfahren zur Herstellung eines Antistatischen Mittels und Methacrylharz-Zusammensetzung. |
CA000600975A CA1333642C (en) | 1988-05-31 | 1989-05-29 | Process for preparation of antistatic agent and methacrylic resin composition |
EP89109674A EP0344692B1 (en) | 1988-05-31 | 1989-05-29 | Process for preparation of antistatic agent and methacrylic resin composition |
US07/359,704 US5164452A (en) | 1988-05-31 | 1989-05-31 | Process for preparation of antistatic agent and methacrylic resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63133190A JP2750525B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 帯電防止剤の製造方法及びメタクリル樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01301783A JPH01301783A (ja) | 1989-12-05 |
JP2750525B2 true JP2750525B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=15098808
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63133190A Expired - Fee Related JP2750525B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 帯電防止剤の製造方法及びメタクリル樹脂組成物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5164452A (ja) |
EP (1) | EP0344692B1 (ja) |
JP (1) | JP2750525B2 (ja) |
KR (1) | KR960000864B1 (ja) |
CA (1) | CA1333642C (ja) |
DE (1) | DE68917376T2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3481733B2 (ja) * | 1995-07-13 | 2003-12-22 | 株式会社クラレ | ブロック共重合体および樹脂組成物 |
KR100441421B1 (ko) * | 2001-10-25 | 2004-07-23 | 한국섬유개발연구원 | 내구성 대전방지제 및 그 제조방법 |
EP2226343A4 (en) * | 2007-12-25 | 2011-04-13 | Nippon Soda Co | POLYMER WITH ONIUM SALT CONTENT |
US10676575B2 (en) * | 2016-10-06 | 2020-06-09 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Tri-block prepolymers and their use in silicone hydrogels |
FR3068704B1 (fr) * | 2017-07-06 | 2021-02-19 | Centre Nat Rech Scient | Materiau solide organique antibacterien |
US10996491B2 (en) | 2018-03-23 | 2021-05-04 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Ink composition for cosmetic contact lenses |
US11891526B2 (en) | 2019-09-12 | 2024-02-06 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Ink composition for cosmetic contact lenses |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4357435A (en) * | 1971-04-23 | 1982-11-02 | Rohm And Haas Company | Novel polymers of alkyl methacrylates |
US3816314A (en) * | 1972-05-31 | 1974-06-11 | Exxon Research Engineering Co | Block copolymers of unsaturated ester and a nitrogen containing monomer as v.i.improving and dispersant additives for oils |
CA1085522A (en) * | 1976-10-26 | 1980-09-09 | American Cyanamid Company | Process for clarifying raw water |
US4508880A (en) * | 1981-06-30 | 1985-04-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | "Living" polymers and process for their preparation |
US4859727A (en) * | 1986-08-22 | 1989-08-22 | Mitsubishi Rayon Company Ltd. | Antistatic thermoplastic resin composition |
JPH0764940B2 (ja) * | 1986-09-16 | 1995-07-12 | 三菱レイヨン株式会社 | 帯電防止性に優れた合成樹脂成形品の製造法 |
AU7895387A (en) * | 1986-09-29 | 1988-03-31 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Living polymers from unsaturated si, sn or ge initiators |
US4755563A (en) * | 1986-12-29 | 1988-07-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Block copolymer dispersants containing ionic moieties |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP63133190A patent/JP2750525B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-05-24 KR KR1019890006962A patent/KR960000864B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-05-29 DE DE68917376T patent/DE68917376T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-29 EP EP89109674A patent/EP0344692B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-05-29 CA CA000600975A patent/CA1333642C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-31 US US07/359,704 patent/US5164452A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1333642C (en) | 1994-12-20 |
KR890017336A (ko) | 1989-12-15 |
US5164452A (en) | 1992-11-17 |
EP0344692B1 (en) | 1994-08-10 |
DE68917376T2 (de) | 1995-03-30 |
DE68917376D1 (de) | 1994-09-15 |
JPH01301783A (ja) | 1989-12-05 |
KR960000864B1 (ko) | 1996-01-13 |
EP0344692A3 (en) | 1991-06-12 |
EP0344692A2 (en) | 1989-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2604344B2 (ja) | (メタ)アクリルモノマーのアニオン重合開始系 | |
US6822056B2 (en) | Microgels and process for their preparation | |
CN101528782A (zh) | 酸官能化的梯度嵌段共聚物 | |
JPH02603A (ja) | ポリエチレンイミン誘導体鎖を有するアクリル型マクロモノマー及びその製造方法 | |
JPH06206943A (ja) | 非線形光学的性質を有する共重合体およびその使用法 | |
JP2750525B2 (ja) | 帯電防止剤の製造方法及びメタクリル樹脂組成物 | |
JPH0725858B2 (ja) | 星形共重合体とその製造方法 | |
US5171809A (en) | Silicone polymers, copolymers and block copolymers and a method for their preparation | |
JPH02258815A (ja) | (メタ)アクリレート共重合体 | |
EP0519444B1 (en) | Method for preparing graft copolymer | |
JPS59230057A (ja) | 合成高分子材料用帯電防止剤 | |
US5162396A (en) | Silicone polymers, copolymers and block copolymers and a method for their preparation | |
JP2598672B2 (ja) | 帯電防止性合成樹脂成型品およびその製造方法 | |
JP4787418B2 (ja) | (メタ)アクリル酸オリゴスチレン・エステルと(メタ)アクリル酸メチルとの共重合体及びその製造方法 | |
KR100931650B1 (ko) | 영구성 대전방지제를 공중합시킨 폴리메틸메타크릴레이트의제조 | |
JP2795718B2 (ja) | 重合体組成物 | |
JPH0798884B2 (ja) | 帯電防止性に優れたメタクリル樹脂キャスト板の製法 | |
KR20000057461A (ko) | 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 음이온 중합 방법 | |
JP2777411B2 (ja) | 末端に官能基を有する重合体の製法 | |
JPH037203B2 (ja) | ||
JPH10279528A (ja) | イタコン酸エステルおよび重合体 | |
CN1047089A (zh) | 制备复合沥青组合物的方法 | |
JPH04173805A (ja) | (メタ)アクリル酸エステルのアニオン重合方法 | |
JP2000219715A (ja) | シロキサンセグメント含有アニオン系ブロック共重合体及びその取得方法 | |
JP2021095468A (ja) | 配位結合性リガンド含有アクリレートモノマー、配位結合性リガンドを均一に含有するアクリレート共重合体及びそれらの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |