DE3787366T2 - Keramische/organische mehrschichtenanschlussplatte. - Google Patents
Keramische/organische mehrschichtenanschlussplatte.Info
- Publication number
- DE3787366T2 DE3787366T2 DE88900711T DE3787366T DE3787366T2 DE 3787366 T2 DE3787366 T2 DE 3787366T2 DE 88900711 T DE88900711 T DE 88900711T DE 3787366 T DE3787366 T DE 3787366T DE 3787366 T2 DE3787366 T2 DE 3787366T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ceramic
- organic
- multilayer board
- layers
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 66
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 60
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 6
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 claims description 3
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4644—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
- H05K3/4647—Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits by applying an insulating layer around previously made via studs
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/11—Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K1/111—Pads for surface mounting, e.g. lay-out
- H05K1/112—Pads for surface mounting, e.g. lay-out directly combined with via connections
- H05K1/113—Via provided in pad; Pad over filled via
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
- H05K3/4626—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4688—Composite multilayer circuits, i.e. comprising insulating layers having different properties
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/11—Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K1/117—Pads along the edge of rigid circuit boards, e.g. for pluggable connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0183—Dielectric layers
- H05K2201/0195—Dielectric or adhesive layers comprising a plurality of layers, e.g. in a multilayer structure
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/06—Thermal details
- H05K2201/068—Thermal details wherein the coefficient of thermal expansion is important
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09145—Edge details
- H05K2201/0919—Exposing inner circuit layers or metal planes at the side edge of the printed circuit board [PCB] or at the walls of large holes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10613—Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
- H05K2201/10621—Components characterised by their electrical contacts
- H05K2201/10727—Leadless chip carrier [LCC], e.g. chip-modules for cards
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/06—Lamination
- H05K2203/063—Lamination of preperforated insulating layer
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0733—Method for plating stud vias, i.e. massive vias formed by plating the bottom of a hole without plating on the walls
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing the conductive pattern
- H05K3/243—Reinforcing the conductive pattern characterised by selective plating, e.g. for finish plating of pads
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4602—Manufacturing multilayer circuits characterized by a special circuit board as base or central core whereon additional circuit layers are built or additional circuit boards are laminated
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
- H05K3/4611—Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/901—Printed circuit
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
- Y10T428/24926—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including ceramic, glass, porcelain or quartz layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf keramisch/organische Mehrschichtverbindungsplatten. Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf gedruckte Schaltungsplatten, die eine neuartige Konstruktion von keramischen und organischen Schichten oder Lagen verwenden, um Schwierigkeiten zu vermindern, die üblicherweise bei Plattenmaterialien und daran befestigten Komponenten angetroffen werden, die unterschiedliche Wärmeausdehnungskoeffizienten besitzen.
- Mehrschichtplatten sind als praktisches und kostengünstiges Mittel verwendet worden zum Befestigen und miteinander Verbinden diskreter elektrischer Bauteile. Insbesondere werden Mehrschichtplatten aus einem dielektrischen Substrat mit leitenden metallischen Bahnen versehen, die elektrische Verbindungen zwischen, darauf angebrachten Bauteilen definieren. Die metallischen Anschlußdrähte oder Leitungen der Bauteile können an die leitenden Bahnen gelötet werden, um die erwünschten elektrischen Verbindungen zu vervollständigen.
- Das dielektrische Substrat, das verwendet wird zum Bilden der gedruckten Leiter- oder Schaltungsplatte, ist üblicherweise ein Glasfasergewebe, das mit einer Harzzusammensetzung, wie beispielsweise Epoxid- oder Polyimid, imprägniert wurde. Der Wärmeausdehnungskoeffizient des dielektrischen Substrats ist deutlich größer als der der diskreten Bauteile. Diese Verschiedenheit zwischen den Wärmeausdehnungskoffizienten hat bisher kein unüberwindliches Problem dargestellt, da die Flexibilität der Metallanschlüsse der diskreten Bauteile das thermische Mißverhältnis ausgleichen würde. Selbst in Situationen, wo Schaltungsanordnungen häufigen und großen Temperaturveränderungen oder -wanderungen ausgesetzt sind, kann ein Hersteller die thermische Fehlabstimmung ausgleichen durch Vorsehen einer Schaltungslayoutgestaltung oder -anordnung, die Ausdehnungsschleifen aufweist, und wobei die Bauteilleiter oder -anschlüsse die verschiedenen Ausdehnungen oder Zusammenziehungen der Elemente absorbieren, wodurch Belastung der Lötverbindungen verhindert wird, was ein Hauptgrund für Schaltungsversagen ist.
- In letzter Zeit haben Hersteller Bauteile entwickelt, die in Chipträgern ohne Anschlußdrähte bzw. anschlußlosen Chipträgern aufgenommen sind. Die Gehäuse der anschlußlosen Bauteilträger werden üblicherweise aus Aluminiumoxid gebildet und werden direkt auf einer Leiterplatte oder auf eine leitende Schicht einer Mehrschichtplatte befestigt. Es wurde festgestellt, daß der Unterschied der Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen dem dielektrischen Substrat und dem anschluß- oder leitungsdrahtlosen Chipträger aus Aluminiumoxid ein hohes Maß an Lötverbindungsversagen ergeben hat (wobei die Lötverbindungen zur Befestigung an Mehrschichtplatten verwendet wurden). Genauer ist der Wärmeausdehnungskoeffizient einer herkömmlichen Epoxid-Glas-Mehrschichtplatte im Bereich von 15-20·10&supmin;&sup6; m/m pro Grad-Celsius. Im Gegensatz dazu besitzen Aluminiumoxid-Chipbauteile einen viel niedrigeren Wärmeausdehnungskoeffizienten, im allgemeinen ungefähr 6,7·10&supmin;&sup6; m/m pro Grad-Celsius. Wenn ein Leiterplattenlaminat mit anschlußlosen Bauteilen hohen Temperaturschwankungen (beispielsweise in Bereichen von mehr als -55ºC bis +125ºC) ausgesetzt wird, haben somit die Lötverbindungen zwischen den Bauteilen und dem Laminat häufig versagt, da keine Flexibilität zwischen den Bauteilen und dem Laminat vorhanden war, um die unterschiedlichen Ausdehnungsgrößen aufzunehmen oder zu kompensieren. Die aufgetretenen Fehler bestanden typischerweise in der Form von Rissen oder Brüchen in den Lötverbindungen.
- Es ist daher deutlich, daß es wünschenswert wäre, eine Mehrschichtplatte vorzusehen mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten, der besser zu dem Wärmeausdehnungskoeffizienten der Aluminiumoxid-Chipbauteile paßt, um ein Versagen der gewünschten elektrischen Verbindungen zu verhindern. Ferner wäre es wünschenswert, eine Mehrschichtleiterplatte vorzusehen, die weiterhin organische Glas-Epoxid-Substrate für den Leiterplattenaufbau verwendet, da letztere beträchtliche Kostenvorteile bieten und relativ leicht herzustellen sind. US-A-377 220 und 4 522 667 sprechen das oben genannte Problem an und liefern gewisse Lösungen.
- Zusätzlich zu den Problemen nicht angepaßter Ausdehnungskoeffizienten gibt es auch Probleme mit der thermischen Dissipation oder dem Wärmeübergang, die mit der Verwendung von anschluß- oder anschlußdrahtlosen Bauteilen assoziiert werden. Integrierte Schaltungen, die in anschlußlosen Bauteilen ausgeführt sind, werden nicht lange überdauern oder ordnungsgemäß arbeiten, wenn sie überhitzt werden. Die Wärmeschienen, die bisher auf Standardmehrschichtplatten verwendet wurden, um Überhitzungsprobleme zu beseitigen, können nicht mit anschlußlosen Bauteilen verwendet werden, da die Anschlüsse dabei aus allen vier Seiten des Chipträgers herauskommen und keinen Weg auf den Standardmehrschichtplatten lassen für herkömmliche Wärmeschienen.
- Aus dem Vorgenannten sollte der Bedarf deutlich werden für eine neue und verbesserte Mehrschichtleiterplatte mit sowohl einem Wärmeausdehnungskoeffizienten als auch einer Wärmedissipationsfähigkeit, die besonders zweckmäßig sind in Verbindung mit anschlußlosen Bauteilen. Entsprechend kann ein besseres Verständnis der Erfindung erhalten werden durch Bezugnahme auf die Zusammenfassung der Erfindung und die genaue Beschreibung des bevorzugten Ausführungsbeispiels, zusätzlich zu dem in den Ansprüchen definierten Bereich der Erfindung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen.
- Die Erfindung wird durch die beigefügten Ansprüche definiert, wobei ein spezielles Ausführungsbeispiel in den beigefügten Zeichnungen gezeigt ist. Um die Erfindung zusammen zu fassen, weist die Erfindung eine verbesserte Mehrschichtplatte auf mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten, die besonders geeignet ist zur Verwendung in Verbindung mit anschlußlosen Bauteilen. Genauer ist eine Mehrschichtplatte gezeigt mit einer Vielzahl von planaren oder ebenen Lagen oder Schichten, die in aneinander haftender Weise zu einer Laminatstruktur verbunden sind, und zwar über Verbindungs- oder Haftschichten, die aus organischem, epoxidimprägniertem Glasgewebe gebildet sind.
- Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel umfaßt das Schaltungs- oder Leiterplattenlaminat der vorliegenden Erfindung eine oberste ebene Keramik-Aluminiumoxid- Schicht mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten, der geringer ist als der Wärmeausdehnungskoeffizient, den die Verbundlaminatstruktur allein haben würde. Eine oberste nachgiebige Haft- oder Klebemittelschicht ist direkt unterhalb der keramischen, obersten Schicht und zwischen einer Schicht aus einer herkömmlichen gedruckten Leiterplatte angeordnet. Eine unterste, nachgiebige Haft- oder Klebemittelschicht, ähnlich zu der obersten, nachgiebigen Haft- oder Klebemittelschicht, ist direkt unterhalb der Schicht aus der herkömmlichen gedruckten Leiterplattenschicht und zwischen einer untersten, keramischen Aluminiumoxidschicht ähnlich zu der obersten, keramischen Aluminiumoxidschicht angeordnet. Sowohl die oberste als auch die unterste keramische Aluminiumoxidschicht ist geeignet, anschlußlose Aluminiumoxidbauteile aufzunehmen. Das sich ergebende Leiterplattenlaminat besitzt einen Wärmeausdehnungskoeffizienten, der genau zu dem der anschlußlosen Bauteilträger paßt, die daran befestigt werden sollen. Herkömmliche Wärmeschienen werden zur Wärmedissipation nicht benötigt, da die äußersten Aluminiumoxidschichten 100% der keramisch/organischen Mehrschichtverbindungsplattenoberfläche einnehmen und als relativ guter Wärmedissipator oder -verbraucher wirken, wodurch das Erfordernis für platzverbrauchende Materialien vermindert wird.
- Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein neues und verbessertes Mehrschichtleiterplattenlaminat mit einem Wärmeausdehnungskoffizienten vorzusehen, das in Verbindung mit anschlußlosen Bauteilen besonders zweckmäßig ist.
- Es ist ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Mehrschichtleiterplattenlaminat vorzusehen, das wesentliche Temperaturzyklen oder -schwankungen aufnehmen kann.
- Es ist noch ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Mehrschichtleiterplattenlaminat vorzusehen, das relativ kostengünstig und leicht herzustellen ist.
- Es ist noch ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Mehrschichtleiterplattenlaminat vorzusehen, das verbesserte Wärmedissipationseigenschaften besitzt.
- Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, zu gestatten, daß verschiedene Bauteile, Module und ähnliches direkt auf der Oberfläche des Mehrschichtleiterplattenlaminats befestigt werden.
- Noch ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, ein Mehrschichleiterplattenlaminat vorzusehen mit Wärmedissipationseigenschaften und mit einer strukturell starken oder festen Packung, die bei der Dissipation von Wärmeenergie von direkt angebrachten Halbleitern und anderen Bauteilen hilft.
- Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Mehrschichtleiterplattenlaminat vorzusehen, das leicht und wirtschaftlich zur Verwendung mit herkömmlichen Mehrschichtplatten angepaßt werden kann, ohne die Schaltungsdichte auf den herkömmlichen Mehrschichtplatten zu beeinflussen.
- Die genannte Zusammenfassung der Erfindung umreißt einige der naheliegenderen Ziele der Erfindung. Die Ziele sollen nur als Veranschaulichung von einigen der mehr vorstechenen Merkmale und Anwendungen der beabsichtigten Erfindung angesehen werden. Viele andere vorteilhafte Ergebnisse können durch die Anwendung der gezeigten Erfindung erhalten werden. Die Zusammenfassung umreißt die naheliegenderen und wichtigen Merkmale der vorliegenden Erfindung ziemlich breit, so daß die folgende genaue Beschreibung der Erfindung besser verstanden werden kann, so daß der vorliegende Fortschritt der Technik besser eingeschätzt werden kann. Zusätzliche Merkmale der Erfindung, die den Gegenstand der Ansprüche der Erfindung bilden, werden im weiteren beschrieben.
- Weitere Ziele und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden deutlich aus der folgenden Beschreibung des bevorzugten Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den begleitenden Zeichnungen, in denen:
- Fig. 1 eine Draufsicht einer keramisch/organischen Mehrschichtplatte ist;
- Fig. 2 eine perspektivische Ansicht, teilweise im Schnitt und teilweise im Aufriß, gesehen entlang der Linien 2-2 von Fig. 1.
- Ähnliche Bezugszeichen bezeichnen ähnliche Teile in der gesamten Zeichnung.
- 10 keramisch/organische Mehrschichtverbindungsplatte
- 12 oberste, keramische Aluminiumoxidschicht
- 14 herkömmliche Mehrschichtleiterplatte
- 16 Verbinderkante von 10
- 18 Verbinderkontakte von 34
- 20 elektrisch leitende Fußabdrücke oder Kontaktflächen
- 22 elektrisch leitender Ausrichtungsfußabdruck oder -kontaktfläche
- 24 Trennungspunkt zwischen 12 und 34
- 26 oberste nachgiebige Haftmittelschicht
- 28 unterste nachgiebige Haftmittelschicht
- 30 herkömmliche, plattierte Mehrschichtplattenpfosten
- 32 unterste, keramische Aluminiumoxidschicht
- 34 Kantenkartenverbinderoberfläche
- 36 Fußabdruck- oder Kontaktflächenmuster
- 38 Kissen oder Flächen von 14
- Mit Bezug nunmehr auf die Zeichnungen und insbesondere auf die Fig. 1 und 2 davon ist eine keramisch/organische Mehrschichtverbindungsplatte gezeigt, die allgemein mit dem Bezugszeichen 10 bezeichnet ist. Genauer zeigt Fig. 2 eine perspektivische Ansicht teilweise im Schnitt und teilweise als Aufriß gesehen entlang der Linien 2-2 von Fig. 1. Die in Fig. 2 gezeigte keramisch/organische Mehrschichtverbindungsplatte 10 weist eine oberste, keramische Aluminiumoxidschicht 12 auf. Eine oberste nachgiebige Haftmittelschicht 26 ist direkt unterhalb der obersten keramischen Aluminiumoxidschicht 12 und zwischen einer herkömmlichen gedruckten Leiterplatte 14 angeordnet. Eine unterste nachgiebige Haftmittelschicht 28, ähnlich zu der obersten nachgiebigen Haftmittelschicht 26, ist direkt unterhalb der herkömmlichen gedruckten Leiterplatte 14 und zwischen einer untersten keramischen Aluminiumoxidschicht 32, ähnlich zu der obersten keramischen Aluminiumoxidschicht 26, angeordnet.
- Fig. 2 zeigt auch eine Vielzahl herkömmlicher, plattierter Mehrschichtplattenpfosten 30, die durch die jeweiligen obersten und untersten keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32, durch die obersten und untersten nachgiebigen Haftmittelschichten 26 bzw. 28 und zu der herkömmlichen Mehrschichtplatte 14 ragen. Die herkömmliche Mehrschichtplatte 14 ist mit einer Vielzahl elektrisch leitender Bahnen (nicht gezeigt) versehen, die Schaltungs- oder Leiterbahnen definieren zu Bauteilen, die auf den elektrisch leitenden Fußabdrücken oder Kontaktflächen 20 angebracht sind.
- Die herkömmliche Mehrschichtplatte 14, die hier in Betracht gezogen wird, kann entweder eine Mehrschichtplatte sein, die durchgehende plattierte Löcher besitzt oder eine Mehrschichtplatte, die aufplattierte Pfosten besitzt. Die Materialien, die beim Aufbau dieser herkömmlichen Mehrschichtplatten verwendet werden, welche besonders geeignet sind für die Anwendung, die von der vorliegenden Vorrichtung 10 beabsichtigt ist, sind Polyimid-Quarz-Teflon-Glas, Epoxidglas und Polyimidglas. Diese Materialien werden typischerweise bevorzugt wegen ihrer wünschenswerten Wärmeausdehnungskoeffizienten hinsichtlich Aluminiumoxid und wegen ihrer Wärmedissipationseigenschaften.
- Fig. 1 ist eine Draufsicht auf die keramisch/organische Mehrschichtverbindungsplatte 10 und zeigt eine Vielzahl dieser elektrisch leitenden Fußabdrücke oder Kontakt flächen 20, die in einer Kontaktflächenkonfiguration 36 angeordnet wurden, um die direkt gelötete Verbindung typischer anschlußloser Komponenten darauf aufzunehmen. Eine dieser Kontaktflächen 22 ist länger als die anderen leitenden Kontaktflächen 20 und dient zur ordnungsgemäßen Ausrichtung der anschlußlosen Bauteile auf der Mehrschichtverbindungsplatte 10. Da die anschlußlosen Chipbauteile aus Aluminiumoxid bestehen und da die oberste Schicht 12 der keramisch/organischen Mehrschichtverbindungsplatte auch aus Aluminiumoxid besteht, passen die Wärmeausdehnungskoeffizienten gut zusammen. Dieses Zusammenpassen gestattet, daß sich die obersten und untersten keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 mit ungefähr der gleichen Rate ausdehnen wie die extern angebrachten, anschlußlosen Bauteilträger. Diese nahezu gleiche Ausdehnungsrate hält die Unversehrtheit oder Integrität der elektrischen Verbindungen zwischen den anschlußlosen Chipbauteilträgern und der keramisch/organischen Mehrschichtplatte 10 aufrecht.
- Mit Bezug wiederum auf Fig. 2 ist ersichtlich, daß die obersten und unteren keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 über nachgiebige Haftmittelschichten 26 bzw. 28 mit der herkömmlichen Mehrschichtleiterplatte 14 verbunden wurden. Dieses nachgiebige Haftmittel ist vorzugsweise im Bereich zwischen 0,0051 und 0,015 cm dick und sieht daher einen Dämpfungseffekt vor, um die Fehlabstimmung der Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen den darüberliegenden Aluminiumoxidschichten 12 und 32 und dem die herkömmliche Mehrschichtleiterplatte 14 aufweisenden organischen Material zu vermindern. Genauer wird während Temperaturschwankungen bzw. Wärmezyklen jegliche Positionsbewegung, die unterschiedlich ist, zwischen den keramischen Aluminiumoxidschichten 12 und 32 und der organischen herkömmlichen Mehrschichtleiterplatte 14, durch die nachgiebigen Haftmittelschichten 26 und 28 aufgenommen oder absorbiert werden, die die Aluminiumoxidschichten 12 und 32 von der Polyimidglas-Leiterplatte 14 trennen. Zusätzlich fließt das nachgiebige Haftmittel, das die nachgiebigen Haftmittelschichten 26 bzw. 28 aufweist, hoch und um die aufplattierten Pfosten 30 herum und funktioniert zum Abfedern oder Dämpfen der Pfosten 30 bezüglich der Wirkungen oder Effekte jeglicher Bewegung der keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 gegen die Pfosten 30.
- Die Zusammensetzung der obersten und untersten nachgiebigen Haftmittelschichten 26 bzw. 28 ist wichtig. Ein Haft- oder Klebematerial mit einem niedrigen Elastizitätsmodul, das ein Epoxidnitril- oder ein acrylisches Haftmittel aufweist, welches für Flexibilität modifiziert wurde, ist gemäß der vorliegenden Erfindung vorgesehen. Es sei auch bemerkt, daß eine große Anzahl anderer Materialien als keramisches Aluminiumoxid für den Aufbau der obersten und untersten keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 verwendet werden kann. Beispielsweise kann Material, z. B. Mullit, Beryllium, Siliciumnitrid, Siliciumcarbid, Aluminiumnitrid oder jegliche Kombination davon verwendet werden und wäre immer noch in dem in Erwägung gezogenen Bereich der vorliegenden Erfindung, wobei die tatsächliche Auswahl der Materialien abhängig ist von der erforderlichen Wärmedissipation, den Kosten der Materialien, der Leichtigkeit der Herstellung und der Geeignetheit für einen bestimmten Zweck.
- Die herkömmlichen, aufplattierten Mehrschichtplattenpfosten 30 werden typischerweise aus Kupfer hergestellt und können daher Scherbelastungen im Bereich zwischen 1540 und 1960 kg/cm² aushalten. Die große Belastbarkeit hinsichtlich Scherbelastungen der Pfosten 30 dient ferner zum Ausgleichen der Belastungen, die auf die Lötverbindungen angelegt werden, welche typischerweise nur Scherbelastungen im Bereich von 280 kg/cm² aushalten können.
- Eine genauere Betrachtung von Fig. 1 zeigt eine Kantenkartenverbinderoberfläche 34, die eine herkömmliche Mehrschichtleiterplattenschicht 14 aufweist und mit Verbinderkontakten 18 besitzt. Die Kantenkartenverbinderoberfläche 34 ist eine Verlängerung der herkömmlichen Mehrschichtleiterplattenschicht 14, jedoch ohne die jeweiligen Haftmittelschichten 26 und 28 (wie in Fig. 2 gezeigt) und ohne die obersten und untersten keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 (wobei 32 in Fig. 2 gezeigt ist). Der Punkt der Trennung zwischen der obersten keramischen Aluminiumoxidschicht 12 und der Kantenkartenverbinderoberfläche 34 ist durch das Bezugszeichen 24 angezeigt. Der Punkt der Trennung zwischen der untersten keramischen Aluminiumoxidschicht 32 und der Kantenkartenverbinderoberfläche 34 ist in den Figuren nicht gezeigt, aber aus Gründen der Vollständigkeit sei bemerkt, daß der Punkt der Trennung dort zwischen identisch ist mit dem abgebildeten Punkt der Trennung 24 zwischen der obersten keramischen Aluminiumoxidschicht 12 und der Kantenkartenverbinderoberfläche 34. Dadurch, daß die keramischen Aluminiumoxidschichten 12 und 32 kürzer geschnitten oder zurückgesetzt sind, d. h. bis zum Punkt der Trennung 24, wie es in Fig. 1 gezeigt ist, kann eine Wärmeausdehnungskoeffizientenabstimmung mit den Verbindern erhalten werden, die auf externen Mehrschichtplatten positioniert sind. Genauer sind die nachgiebigen Haftmittelschichten 26 und 28, die zum Trennen der Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 von der herkömmlichen Mehrschichtleiterplatte 14 dienen, nicht verfügbar, um irgendeine Bewegung der keramischen Aluminiumoxidschicht 12 bzw. 32 gegen externe Verbinder, die auf fremden Mehrschichtplatten positioniert sind, auszugleichen. Entsprechend besitzt das durch das Kurzschneiden oder Absetzen der keramischen Aluminiumoxidschicht 12 freigelegte Material auf der Verbinderkante 34, wie es in Fig. 1 gezeigt ist typischerweise einen Wärmeausdehnungskoeffizienten, der mehr dem der Verbinder auf einer fremden Mehrschichtplatte ähnelt. Die Abstimmung der Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen benachbarten Mehrschichtplatten verbessert die Verbindbarkeit dieser Platten, während Wärmeschwankungen, da sie sich mit ähnlichen oder fast gleichen Raten ausdehnen und zusammenziehen.
- Es ist durch die vorhergehende Beschreibung der Verbinderkante 34 nicht beabsichtigt, daß die vorliegende Erfindung auf dieses bestimmte Ausführungsbeispiel beschränkt ist. Beispielsweise kann es in bestimmten Fällen wünschenswert sein, die keramisch/organische Mehrschichtverbindungsplatte 10 über gelötete Verbindungen direkt mit Einrichtungen und Platten zu verbinden, die extern zu der Vorrichtung 10 sind. In diesen Situationen ist eine Abstimmung von verschiedenen Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen benachbarten Platten oder Einrichtungen nicht erforderlich, daher sind die keramischen Aluminiumoxidschichten 12 und 32 nicht kurzgabgeschnitten und erstrecken sich über die gesamten Oberflächen der herkömmlichen Mehrschichtplatte 14.
- Eine Anzahl von Verfahren, die in der Technik bekannt sind, kann verwendet werden, um die tatsächliche Herstellung der vorliegenden Erfindung zu erreichen. Eine kurze Umschreibung eines bevorzugten Herstellungsverfahrens beginnt mit einer vollständigen oder fertigen, herkömmlichen Mehrschichtleiterplatte 14, auf die plattierte Pfostenverbindungen auf Flächen oder Kissen 38 von der Oberfläche der Platte 14 abgelagert oder abgeschieden werden, und zwar auf ein anderes Niveau, das die Oberfläche der obersten, keramischen Aluminiumoxidschicht 12 und/oder der untersten keramischen Aluminiumoxidschicht 32 ist. Die herkömmliche Mehrschichtplatte 10 wird gereinigt. Als nächstes wird chemischer Kupferniederschlag oder elektroplattierte Zwischenkupferung (dünnes Kupfer) auf den obersten und untersten keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 abgelagert oder abgeschieden, um eine Kontinuität zwischen den Kupferspuren oder -bahnen (nicht gezeigt) vorzusehen, die auf den Oberflächen der Platte 14 vorhanden sind. Eine Filmplattiermaske wird dann gebohrt, die verwendet wird, um nachfolgend die Pfosten 30 zu plattieren. Die gebohrte Filmplattiermaske wird dann auf die kurzgeschlossenen Kupferspuren auf den Oberflächen der Mehrschichtleiterplatte 14 aufgebracht. Sobald diese Maske aufgebracht wurde, werden die elektrisch leitenden Pfosten 30 durch die Maske elektroplattiert. Die plattierten Pfosten 30 ragen über die Oberfläche der Maske in einer pilzartigen Weise und werden abgeschliffen, um mit der Maske glatt abzuschließen. Die Maske wird dann entfernt durch einfaches Abziehen. Die Oberfläche der herkömmlichen Mehrschichtleiterplatte 14 wird gereinigt durch herkömmliche Waschverfahren und dann wird die kurzschließende Zwischenkupferung weggeätzt.
- Die obersten und untersten keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 werden dann lasergebohrt, wobei Löcher mit dem Pfosten 30 zusammenfallen, die auf den Oberflächen der Mehrschichtplatte 10 plattiert wurden. Als nächstes wird die gebohrte keramische Aluminiumoxidschicht haftend mit der Oberfläche der herkömmlichen Mehrschichtplatte 14 verbunden unter Verwendung eines nachgiebigen Haftmittels, wie es oben beschrieben wurde. Dieses Verbinden ergibt, daß die Pfosten 30 über die Oberflächen der obersten und untersten keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 hinausragen. Die Pfosten 30 werden abgeschliffen, so daß sie mit den Oberflächen der obersten und untersten keramischen Schichten 12 bzw. 32 glatt abschließen. Eine Metallisierung des Aluminiumoxids erfolgt während des darauffolgenden chemischen Kupferniederschlags, der im weiteren beschrieben wird. (Alternativ dazu können die keramischen Aluminiumoxidschichten 12 und 32 metallisiert werden, bevor sie mit der Mehrschichtplatte 10 verbunden werden. Wenn dies getan wird, stoppt das Abschleifen der Pfosten an der metallisierten Oberfläche der keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32.) Zusätzlich wird irgendwelches überschüssige Haftmittel, das auf die obersten oder untersten Oberflächen 12 und 32 gelaufen sein könnte, während dieses Schrittes entfernt. Als nächstes wird die Verbindung des leitenden Materials, das auf den keramischen Aluminiumoxidoberflächen 12 bzw. 32 ist, mit dem Pfosten 30, die durch die Löcher der Keramik ragen, erreicht durch die Verwendung bekannter chemischer Kupferniederschlagsprozesse. Die leitenden Kontaktflächen 20 werden dann in einem Photomuster erstellt, um das Kontaktflächenmuster 36 zu Erzeugen, das den Kontaktflächen oder Fußabdrücken der anschlußlosen Bauteilträger entspricht, die nachfolgend auf den obersten und untersten keramischen Aluminiumoxidschichten 12 bzw. 32 angebracht werden. Nachdem dieses Photomuster erreicht wurde, werden die Kontaktflächenmuster 36 auf die erforderliche Dicke normalerweise 0,0038 cm) aufplattiert. Das sich ergebende Kontaktflächenmuster 36 ist in Fig. 1 gezeigt. Dieses Kontaktflächenmuster 36 wird dann mit Lot überzogen und das Resistmaterial wird entfernt. Der Endschritt ist das Wegätzen des verbindenden Kupfers zwischen den einzelnen Kontaktflächen 20.
- Die vorliegende Offenbarung umfaßt diejenige in den beigefügten Ansprüchen sowie diejenige der vorhergegangenen Beschreibung. Obwohl diese Erfindung in ihrer bevorzugten Form mit einem gewissen Grad der Besonderheit beschrieben wurde, sei bemerkt, daß die vorliegende Offenbarung in ihrer bevorzugten Form nur als Beispiel gegeben wurde.
Claims (11)
1. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) die zum
Reduzieren von Fehlabstimmungen der
Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen Bauteilträgern dient,
die auf der Mehrschichtplatte angebracht sind, wobei
in Kombination folgendes vorgesehen ist:
eine organische Innenschicht (14), die eine
gedruckte Schaltungs- oder Leiterplatte bildet und
eine obere und eine untere Oberfläche besitzt;
ein Paar von nachgiebigen Haftmittelschichten (26,
28), die jeweils auf der oberen bzw. der unteren
Oberfläche positioniert sind;
ein Paar von keramischen Schichten (12, 32), wobei
jede entsprechend an den nachgiebigen
Haftmittelschichten (26, 28) anhaftet und wobei die
nachgiebigen Haftmittelschichten (26, 28) allgemein aus
einer Gruppe mit einer guten Wärmeleitfähigkeit und
einem geringen Elastizitätsmodul aufgebaut sind, die
Epoxynitril- oder modifiziertes akrylisches
Haftmittel aufweist.
2. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) nach
Anspruch 1, wobei die keramischen Schichten (12, 32)
allgemein aus einer Gruppe von Materialien aufgebaut
sind, die folgendes aufweist: Mullit, Beryllium,
Siliziumnitrit, Aluminiumnitrit und irgendeine
Kombination dieser Materialien.
3. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) nach
Anspruch 1 oder 2, wobei die keramischen Schichten
(12, 32) ferner elektrisch leitende Fußabdrücke oder
Kontaktflächen (20) aufweisen, die darauf
positioniert sind und die durch die Haftmittelschichten
(26, 28) hindurch mit der Vielzahl von elektrisch
leitenden Pfaden oder Bahnen verbunden sind.
4. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) nach
Anspruch 1, wobei die keramischen Schichten (12, 32)
kurz abgeschnitten bzw. zurückgesetzt sind, um die
organische innere Schicht (14) zur direkten
elektrischen Verbindung mit äußeren Einrichtungen frei
zulegen.
5. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) nach
einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die oberen und
unteren Oberflächen der inneren Schicht leitende
Kissen oder Flächen (38) darauf besitzen, die mit
der Vielzahl elektrisch leitenden Pfaden oder Bahnen
verbunden sind.
6. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) nach
einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Platte
(10) eine Kompositstruktur besitzt.
7. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) nach
einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die
organische Innenschicht (14) eine Mehrschichtplatte
ist.
8. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) nach
Anspruch 6 oder 7, wobei die keramische/organische
Mehrschichtplatte (10) elektrische Verbindungen
besitzt, die aus der folgenden Gruppe ausgewählt
sind: plattierte durchgehende Löcher, plattierte
aufrechtstehende Pfosten, und eine Kombination
beider.
9. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) nach
einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die
keramischen Schichten (12, 32) im allgemeinen aus
einer Gruppe von Materialien mit einem
Wärmeausdehnungskoeffizienten
ähnlich dem von Aluminiumoxid
aufgebaut ist.
10. Keramisch/organische Mehrschichtplatte (10) nach
Anspruch 3, wobei die elektrisch leitenden
Fußabdrücke oder Kontaktflächen (20) durch die
Haftmittelschichten (26, 28) hindurch mit der
Mehrschichtplatte (14) elektrisch verbunden sind.
11. Mehrschichtplatte (10), die in Kombination folgendes
aufweist:
eine organische Schicht (14), die eine gedruckte
Leiterplatte bildet;
eine nachgiebige Haftmittelschicht (26, 28), die auf
der organischen Schicht (14) positioniert ist;
eine keramische Schicht (12, 32), die auf der
nachgiebigen Haftmittelschicht (26, 28) positioniert
ist; und
wobei die nachgiebige Haftmittelschicht (26, 28) im
allgemeinen aus einer Gruppe mit einer guten
Wärmeleitfähigkeit und einem geringen Elastizitätsmodul
aufgebaut ist, die Epoxynitril oder modifiziertes
akrylisches Haftmittel aufweist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/931,324 US4740414A (en) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | Ceramic/organic multilayer interconnection board |
PCT/US1987/001196 WO1988003868A1 (en) | 1986-11-17 | 1987-05-26 | Ceramic/organic multilayer interconnection board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3787366D1 DE3787366D1 (de) | 1993-10-14 |
DE3787366T2 true DE3787366T2 (de) | 1994-05-05 |
Family
ID=25460601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE88900711T Expired - Fee Related DE3787366T2 (de) | 1986-11-17 | 1987-05-26 | Keramische/organische mehrschichtenanschlussplatte. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4740414A (de) |
EP (1) | EP0290598B1 (de) |
AU (1) | AU593455B2 (de) |
DE (1) | DE3787366T2 (de) |
WO (1) | WO1988003868A1 (de) |
Families Citing this family (46)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5080958A (en) * | 1989-08-01 | 1992-01-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Multilayer interconnects |
US4991285A (en) * | 1989-11-17 | 1991-02-12 | Rockwell International Corporation | Method of fabricating multi-layer board |
US5030499A (en) * | 1989-12-08 | 1991-07-09 | Rockwell International Corporation | Hermetic organic/inorganic interconnection substrate for hybrid circuit manufacture |
US5123164A (en) * | 1989-12-08 | 1992-06-23 | Rockwell International Corporation | Hermetic organic/inorganic interconnection substrate for hybrid circuit manufacture |
JP2551224B2 (ja) * | 1990-10-17 | 1996-11-06 | 日本電気株式会社 | 多層配線基板および多層配線基板の製造方法 |
US5209798A (en) * | 1991-11-22 | 1993-05-11 | Grunman Aerospace Corporation | Method of forming a precisely spaced stack of substrate layers |
US5367764A (en) * | 1991-12-31 | 1994-11-29 | Tessera, Inc. | Method of making a multi-layer circuit assembly |
US5282312A (en) * | 1991-12-31 | 1994-02-01 | Tessera, Inc. | Multi-layer circuit construction methods with customization features |
DE69329501T2 (de) * | 1992-07-17 | 2001-05-03 | Vlt Corp., San Antonio | Verpackung für elektronische Komponenten |
US5329695A (en) * | 1992-09-01 | 1994-07-19 | Rogers Corporation | Method of manufacturing a multilayer circuit board |
JP2570617B2 (ja) * | 1994-05-13 | 1997-01-08 | 日本電気株式会社 | 多層配線セラミック基板のビア構造及びその製造方法 |
US5782891A (en) * | 1994-06-16 | 1998-07-21 | Medtronic, Inc. | Implantable ceramic enclosure for pacing, neurological, and other medical applications in the human body |
US5644103A (en) * | 1994-11-10 | 1997-07-01 | Vlt Corporation | Packaging electrical components having a scallop formed in an edge of a circuit board |
US5876859A (en) * | 1994-11-10 | 1999-03-02 | Vlt Corporation | Direct metal bonding |
US5906310A (en) * | 1994-11-10 | 1999-05-25 | Vlt Corporation | Packaging electrical circuits |
US5945130A (en) * | 1994-11-15 | 1999-08-31 | Vlt Corporation | Apparatus for circuit encapsulation |
US5728600A (en) * | 1994-11-15 | 1998-03-17 | Vlt Corporation | Circuit encapsulation process |
JP2732823B2 (ja) * | 1995-02-02 | 1998-03-30 | ヴィエルティー コーポレーション | はんだ付け方法 |
US6031726A (en) * | 1995-11-06 | 2000-02-29 | Vlt Corporation | Low profile mounting of power converters with the converter body in an aperture |
US6177728B1 (en) | 1998-04-28 | 2001-01-23 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit chip device having balanced thermal expansion |
US6191952B1 (en) | 1998-04-28 | 2001-02-20 | International Business Machines Corporation | Compliant surface layer for flip-chip electronic packages and method for forming same |
US6234842B1 (en) | 1998-11-20 | 2001-05-22 | Vlt Corporation | Power converter connector assembly |
JP2000216550A (ja) * | 1999-01-25 | 2000-08-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | 積層プリント配線基板 |
US6316737B1 (en) | 1999-09-09 | 2001-11-13 | Vlt Corporation | Making a connection between a component and a circuit board |
US6434005B1 (en) | 2000-10-27 | 2002-08-13 | Vlt Corporation | Power converter packaging |
US6985341B2 (en) * | 2001-04-24 | 2006-01-10 | Vlt, Inc. | Components having actively controlled circuit elements |
US7443229B1 (en) | 2001-04-24 | 2008-10-28 | Picor Corporation | Active filtering |
TW573444B (en) * | 2003-04-22 | 2004-01-21 | Ind Tech Res Inst | Substrate having organic and inorganic functional package |
JP4343082B2 (ja) * | 2003-12-25 | 2009-10-14 | アルプス電気株式会社 | 電子回路ユニット、及びその製造方法 |
ITUD20040034A1 (it) * | 2004-02-27 | 2004-05-27 | Eurotech Spa | Scheda di espansione multistrato per apparecchiatura elettronica e relativo |
WO2005107350A1 (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Ibiden Co., Ltd. | 多層プリント配線板 |
US10373870B2 (en) | 2010-02-16 | 2019-08-06 | Deca Technologies Inc. | Semiconductor device and method of packaging |
US8922021B2 (en) * | 2011-12-30 | 2014-12-30 | Deca Technologies Inc. | Die up fully molded fan-out wafer level packaging |
US9177926B2 (en) | 2011-12-30 | 2015-11-03 | Deca Technologies Inc | Semiconductor device and method comprising thickened redistribution layers |
US9576919B2 (en) | 2011-12-30 | 2017-02-21 | Deca Technologies Inc. | Semiconductor device and method comprising redistribution layers |
JP5763887B2 (ja) * | 2010-02-24 | 2015-08-12 | 千住金属工業株式会社 | 銅カラム及びその製造方法 |
US9831170B2 (en) | 2011-12-30 | 2017-11-28 | Deca Technologies, Inc. | Fully molded miniaturized semiconductor module |
US9613830B2 (en) | 2011-12-30 | 2017-04-04 | Deca Technologies Inc. | Fully molded peripheral package on package device |
US10050004B2 (en) | 2015-11-20 | 2018-08-14 | Deca Technologies Inc. | Fully molded peripheral package on package device |
WO2013102146A1 (en) | 2011-12-30 | 2013-07-04 | Deca Technologies, Inc. | Die up fully molded fan-out wafer level packaging |
US10672624B2 (en) | 2011-12-30 | 2020-06-02 | Deca Technologies Inc. | Method of making fully molded peripheral package on package device |
WO2018026002A1 (ja) * | 2016-08-04 | 2018-02-08 | 大日本印刷株式会社 | 貫通電極基板及び実装基板 |
US11056453B2 (en) | 2019-06-18 | 2021-07-06 | Deca Technologies Usa, Inc. | Stackable fully molded semiconductor structure with vertical interconnects |
US11647582B1 (en) * | 2020-08-26 | 2023-05-09 | Ian Getreu | Rapid implementation of high-temperature analog interface electronics |
KR20220160967A (ko) * | 2021-05-28 | 2022-12-06 | (주)티에스이 | 이종 재질의 다층 회로기판 및 그 제조 방법 |
KR20230068722A (ko) * | 2021-11-11 | 2023-05-18 | 삼성전기주식회사 | 복합 전자부품 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3777220A (en) * | 1972-06-30 | 1973-12-04 | Ibm | Circuit panel and method of construction |
US4338380A (en) * | 1976-04-05 | 1982-07-06 | Brunswick Corporation | Method of attaching ceramics to metals for high temperature operation and laminated composite |
JPS55133597A (en) * | 1979-04-06 | 1980-10-17 | Hitachi Ltd | Multilayer circuit board |
US4247361A (en) * | 1979-06-18 | 1981-01-27 | Rockwell International Corporation | Method of etching a surface of a body |
US4522667A (en) * | 1980-06-25 | 1985-06-11 | General Electric Company | Method for making multi-layer metal core circuit board laminate with a controlled thermal coefficient of expansion |
US4556598A (en) * | 1983-06-16 | 1985-12-03 | Cts Corporation | Porcelain tape for producing porcelainized metal substrates |
JPS6014494A (ja) * | 1983-07-04 | 1985-01-25 | 株式会社日立製作所 | セラミツク多層配線基板およびその製造方法 |
JPS60254697A (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-16 | 富士通株式会社 | 多層セラミック回路基板および製法 |
DE3785487T2 (de) * | 1986-06-02 | 1993-07-29 | Japan Gore Tex Inc | Verfahren zur herstellung von traegern fuer gedruckte schaltungen. |
US4698277A (en) * | 1986-11-12 | 1987-10-06 | General Electric Company | High-temperature laminated insulating member |
-
1986
- 1986-11-17 US US06/931,324 patent/US4740414A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-05-26 EP EP88900711A patent/EP0290598B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-26 WO PCT/US1987/001196 patent/WO1988003868A1/en active IP Right Grant
- 1987-05-26 DE DE88900711T patent/DE3787366T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-05-26 AU AU11081/88A patent/AU593455B2/en not_active Ceased
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0290598B1 (de) | 1993-09-08 |
US4740414A (en) | 1988-04-26 |
EP0290598A4 (de) | 1989-11-07 |
DE3787366D1 (de) | 1993-10-14 |
AU1108188A (en) | 1988-06-16 |
AU593455B2 (en) | 1990-02-08 |
EP0290598A1 (de) | 1988-11-17 |
WO1988003868A1 (en) | 1988-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3787366T2 (de) | Keramische/organische mehrschichtenanschlussplatte. | |
DE69218319T2 (de) | Mehrschichtige Leiterplatte aus Polyimid und Verfahren zur Herstellung | |
DE69730629T2 (de) | Leiterplatte und Elektronikkomponente | |
EP0035093B1 (de) | Anordnung zum Packen mehrerer schnellschaltender Halbleiterchips | |
DE10295940B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Halbleitereinrichtung mit einem plattenförmigen Schaltungsblock | |
DE69120198T2 (de) | Mehrschichtige, gedruckte Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE69428181T2 (de) | Vorrichtung mit Chipgehäuse und Verfahren zu Ihrer Herstellung | |
DE69125354T2 (de) | Biegsame Leiterplatte | |
DE69106225T2 (de) | Integrierte Schaltungseinheit mit flexiblem Substrat. | |
DE3888552T2 (de) | Elektronische Packungsstruktur. | |
DE3177304T2 (de) | Metallschichten zur Verwendung in einem Verbindungssystem für elektronische Schaltung. | |
DE68913806T2 (de) | Elektronische Packungsanordnung mit biegsamem Träger und Verfahren zu ihrer Herstellung. | |
DE69431740T2 (de) | Mehrlagige Verdrahtungsplatine und ihre Herstellung | |
DE3784213T2 (de) | Elektronischer apparat mit einem keramischen substrat. | |
DE2247902A1 (de) | Gedruckte schaltungsplatte und verfahren zu deren herstellung | |
DE60032067T2 (de) | Mehrschichtige Leiterplatte und Verfahren zu deren Herstellung | |
EP1532681A1 (de) | Mehrlagiger schaltungsträger und herstellung desselben | |
DE102014101238A1 (de) | In Leiterplatten eingebettetes Leistungsmodul | |
DE2355471A1 (de) | Aus mehreren ebenen bestehende packung fuer halbleiterschaltungen | |
DE3616494A1 (de) | Integrierte schaltungspackung und verfahren zur herstellung einer integrierten schaltungspackung | |
DE102013203919B4 (de) | Halbleitergehäuse und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
EP1192841B1 (de) | Intelligentes leistungsmodul | |
DE19509441C2 (de) | Integrierte Hybrid-Leistungsschaltungsvorrichtung | |
DE2536316A1 (de) | Elektrische schaltungsanordnung in kompaktbauweise | |
DE102007029713A1 (de) | Leiterplatte und Verfahren zu deren Herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |