DE3750285D1 - Gerät zur Untersuchung einer elektronischen Vorrichtung in fester Baugruppe. - Google Patents

Gerät zur Untersuchung einer elektronischen Vorrichtung in fester Baugruppe.

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Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3750285T2 (de) * 1986-10-03 1995-03-30 Omron Tateisi Electronics Co Gerät zur Untersuchung einer elektronischen Vorrichtung in fester Baugruppe.
US5093797A (en) * 1987-01-13 1992-03-03 Omron Tateisi Electronics Co. Apparatus for inspecting packaged electronic device
JP2517637B2 (ja) * 1988-02-15 1996-07-24 キヤノン株式会社 マ―ク位置検出方法及びそれが適用される装置
US5245671A (en) * 1988-05-09 1993-09-14 Omron Corporation Apparatus for inspecting printed circuit boards and the like, and method of operating same
JPH01284743A (ja) * 1988-05-10 1989-11-16 Toshiba Corp 半導体装置の樹脂モールドの外観検査方法とその検査装置
JPH02140886A (ja) * 1988-11-21 1990-05-30 Omron Tateisi Electron Co 画像の前処理装置
US5144681A (en) * 1989-03-31 1992-09-01 Dainnippon Screen Mfg. Co., Ltd. Method of and apparatus for inspecting conductive pattern on printed board
US5027417A (en) * 1989-03-31 1991-06-25 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Method of and apparatus for inspecting conductive pattern on printed board
JPH03188358A (ja) * 1989-12-19 1991-08-16 Hajime Sangyo Kk 物体の表面検査装置
JP3092809B2 (ja) * 1989-12-21 2000-09-25 株式会社日立製作所 検査方法、並びに検査プログラムデータの自動作成機能を有する検査装置
EP0435660B1 (de) * 1989-12-29 1997-06-04 Canon Kabushiki Kaisha Bildverarbeitungsverfahren zur Bewertung von Objekten und Vorrichtung zur Qualitätsprüfung zur Durchführung des Verfahrens
US5243665A (en) * 1990-03-07 1993-09-07 Fmc Corporation Component surface distortion evaluation apparatus and method
EP0459489B1 (de) * 1990-05-30 1997-01-22 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Verfahren zum Lesen einer optischen Abbildung einer untersuchten Oberfläche und dafür einsetzbare Bildleseeinrichtung
GB9021444D0 (en) * 1990-10-02 1990-11-14 Delco Electronic Overseas Corp Light mask
US5598345A (en) * 1990-11-29 1997-01-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for inspecting solder portions
EP0526080B1 (de) * 1991-07-22 1996-10-02 Omron Corporation Lehrmethode und System zur Kontrolle der angeschlossenen Bauteile
US5237622A (en) * 1991-12-04 1993-08-17 Micron Technology, Inc. Semiconductor pick-and-place machine automatic calibration apparatus
GB2262339B (en) * 1991-12-13 1995-09-06 Honda Motor Co Ltd Method of inspecting the surface of a workpiece
US5495535A (en) * 1992-01-31 1996-02-27 Orbotech Ltd Method of inspecting articles
EP0594146B1 (de) * 1992-10-22 2002-01-09 Advanced Interconnection Technology, Inc. Einrichtung zur automatischen optischen Prüfung von Leiterplatten mit darin verlegten Drähten
US5392360A (en) * 1993-04-28 1995-02-21 International Business Machines Corporation Method and apparatus for inspection of matched substrate heatsink and hat assemblies
US5566244A (en) * 1993-11-22 1996-10-15 Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha Method of inspecting a workpiece surface including a picturing system with a shortened focal plane
MY127829A (en) * 1996-05-30 2006-12-29 Sony Emcs Malaysia Sdn Bhd Mounting system.
IE80676B1 (en) * 1996-08-02 1998-11-18 M V Research Limited A measurement system
DE19653403C2 (de) * 1996-10-21 2001-05-10 Koenig & Bauer Ag Verfahren zum Transport von Bogen
JPH10143660A (ja) 1996-11-11 1998-05-29 Hitachi Ltd 欠陥判定処理方法およびその装置
KR19980039109A (ko) * 1996-11-27 1998-08-17 배순훈 클린칭 검사기능을 갖는 자삽경로 작성장치와 그 검사방법
US6047084A (en) * 1997-11-18 2000-04-04 Motorola, Inc. Method for determining accuracy of a circuit assembly process and machine employing the same
JP2000326495A (ja) * 1999-05-24 2000-11-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd クリーム半田印刷の検査方法
US6542630B1 (en) 1999-09-14 2003-04-01 Teradyne, Inc. Inspecting component placement relative to component pads
JP3870872B2 (ja) * 2002-08-06 2007-01-24 オムロン株式会社 検査データ作成方法およびこの方法を用いた基板検査装置
DE10261865A1 (de) * 2002-12-20 2004-07-15 Uwe Braun Sonnenlichtleitsysteme Lichtsysteme Gmbh Verfahren, Vorrichtung und Computerprogramm zur optischen Oberflächenerfassung
GB0324638D0 (en) * 2003-10-22 2003-11-26 Gore W L & Ass Uk An on-line inspection system
CN1662132B (zh) * 2004-02-26 2010-08-18 欧姆龙株式会社 安装错误检测方法和采用该方法的基板检测装置
JP4165538B2 (ja) * 2004-07-21 2008-10-15 オムロン株式会社 部品実装検査方法および部品実装検査装置
JP4935109B2 (ja) * 2005-03-17 2012-05-23 オムロン株式会社 基板検査装置並びにその検査ロジック設定方法および検査ロジック設定装置
JP4595705B2 (ja) * 2005-06-22 2010-12-08 オムロン株式会社 基板検査装置並びにそのパラメータ設定方法およびパラメータ設定装置
EP2382532B1 (de) * 2009-01-24 2020-10-21 Hewlett-Packard Development Company, L.P. System und verfahren für verbesserten sicherheitsdruck
US11084225B2 (en) 2018-04-02 2021-08-10 Nanotronics Imaging, Inc. Systems, methods, and media for artificial intelligence process control in additive manufacturing
US10481579B1 (en) * 2019-02-28 2019-11-19 Nanotronics Imaging, Inc. Dynamic training for assembly lines
US11209795B2 (en) 2019-02-28 2021-12-28 Nanotronics Imaging, Inc. Assembly error correction for assembly lines
CN110534411B (zh) * 2019-08-21 2021-07-13 大同新成新材料股份有限公司 一种芯片硅的加工方法
EP4028228A4 (de) 2019-09-10 2023-09-27 Nanotronics Imaging, Inc. Systeme, verfahren und medien für herstellungsverfahren
KR20220133712A (ko) * 2021-03-25 2022-10-05 현대자동차주식회사 차량의 품질 관리 시스템 및 그 방법

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1129509B (it) * 1980-01-14 1986-06-04 Tasco Spa Procedimento ed apparecchiatura per il ritrovamento in tempo reale di difetti in oggetti industriali
US4379308A (en) * 1980-02-25 1983-04-05 Cooper Industries, Inc. Apparatus for determining the parameters of figures on a surface
EP0054598B1 (de) * 1980-12-18 1985-04-03 International Business Machines Corporation Verfahren zum Untersuchen und automatischen Sortieren von Objekten bestimmter Gestalt mit festen dimensionalen Toleranzen und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US4473842A (en) * 1981-07-06 1984-09-25 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Apparatus and method for examining printed circuit board provided with electronic parts
JPS5863838A (ja) * 1981-10-14 1983-04-15 Fuji Electric Co Ltd 欠陥検出回路
US4589139A (en) * 1982-02-04 1986-05-13 Nippon Kogaku K. K. Apparatus for detecting defects in pattern
JPS58201185A (ja) * 1982-05-19 1983-11-22 Toshiba Corp 位置検出装置
DE3347645C1 (de) * 1983-12-30 1985-10-10 Dr.-Ing. Ludwig Pietzsch Gmbh & Co, 7505 Ettlingen Verfahren und Einrichtung zum opto-elektronischen Pruefen eines Flaechenmusters an einem Objekt
JPS60263807A (ja) * 1984-06-12 1985-12-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd プリント配線板のパタ−ン欠陥検査装置
FI73329B (fi) * 1984-08-29 1987-05-29 Halton Oy Anordning foer identifiering och registrering av flaskor och/eller flaskkorgar.
US4794647A (en) * 1985-04-08 1988-12-27 Northern Telecom Limited Automatic optical inspection system
US4707734A (en) * 1985-06-17 1987-11-17 The Perkin-Elmer Corporation Coarse flaw detector for printed circuit board inspection
JPS6261390A (ja) * 1985-09-11 1987-03-18 興和株式会社 プリント基板検査方法およびその装置
JPH0762868B2 (ja) * 1985-10-02 1995-07-05 株式会社日立製作所 プリント基板の配線パターン欠陥検査方法
JPS62173731A (ja) * 1986-01-28 1987-07-30 Toshiba Corp 被検査物の表面検査装置
DE3750285T2 (de) * 1986-10-03 1995-03-30 Omron Tateisi Electronics Co Gerät zur Untersuchung einer elektronischen Vorrichtung in fester Baugruppe.
US4760444A (en) * 1987-07-22 1988-07-26 Csd International, Inc. Machine visual inspection device and method
US4876656A (en) * 1987-08-28 1989-10-24 Motorola Inc. Circuit location sensor for component placement apparatus

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Publication number Publication date
ATE109278T1 (de) 1994-08-15
US5027295A (en) 1991-06-25
US4953100A (en) 1990-08-28
EP0263473A3 (en) 1990-10-10
HK36696A (en) 1996-03-08
EP0263473A2 (de) 1988-04-13
EP0263473B1 (de) 1994-07-27
DE3750285T2 (de) 1995-03-30

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