DE3711796A1 - Lichtempfindliches element - Google Patents

Lichtempfindliches element

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Description

In der Elektrofotografie sind die folgenden Verfahren allgemein bekannt: Das Direktverfahren bei dem die Oberfläche einer fotoleitfähigen Schicht eines lichtempfindlichen Elementes elektrisch geladen und belichtet wird, um ein elektrostatisch latentes Bild zu erzeugen, das mit einem Entwickler entwickelt wird, um das Bild sichtbar zu machen, worauf das sichtbar gemachte Bild direkt auf dem lichtempfindlichen Element fixiert wird, um ein Kopierbild zu erzeugen; das Tonerbild-Übertragungverfahren, bei dem ein sichtbares Bild von einem lichtempfindlichen Element auf einen Übertragungsträger, beispielsweise Papier, übertragen wird, wo das übertragene Bild fixiert wird, um ein Kopierbild zu schaffen; und das Verfahren zum Übertragen eines elektrostatisch latenten Bildes, bei dem ein elektrostatisch latentes Bild von einem lichtempfindlichen Element auf ein Übertragungspapier übertragen wird, das dann auf dem Papier entwickelt und fixiert wird.
Es ist bekannt, daß anorganische, fotoleitfähige Materialien, wie beispielsweise Selen, Cadmium, Sulfat, Zinkoxid u. dgl. als fotoleitfähige Materialien verwendet werden, um die lichtempfindliche Schicht eines lichtempfindlichen Elementes zu bilden, welches bei den vorstehend beschriebenen elektrofotografischen Verfahren verwendet wird. Diese fotoleitfähigen Materialien haben verschiedene Vorteile; sie können auf ein genaues Potential elektrisch geladen werden; ihr Ladungsabfluß bei Dunkelheit ist kleiner und die Ladung kann durch Bestrahlung mit Licht schnell neutralisiert werden. Solche Materialien haben jedoch auch zahlreiche Nachteile. Beispielsweise führen lichtempfindliche Materialien aus Selen zu höheren Herstellkosten und erfordern eine vorsichtige Handhabung, da sie gegenüber Wärme und mechanischen Stößen empfindlich sind. Lichtempfindliche Elemente aus Cadmiumsulfat und Zinkoxid können unter hoher Luftfeuchtigkeit weder eine stabile Sensibilität noch über eine längere Zeitdauer stabile Eigenschaften entwickeln, da ein in den Elementen enthaltenes Farbmaterial infolge Coronaladung eine Verschlechterung der Ladungsorientierung und infolge der Belichtung ein Schwinden der Farbe verursacht.
Andererseits sind zahlreiche organische fotoleitfähige Polymere mit Polyvinylcarbazol bereits vorgeschlagen worden. Verglichen mit den vorstehend genannten anorganischen fotoleitfähigen Materialien haben diese Polymere bezüglich ihrer Beschichtungseigenschaften und Leichtigkeit überragende Eigenschaften, bezüglich Sensibilität, Lebensdauer und Stabilität gegenüber Umweltbeeinflussung jedoch minderwertigere Eigenschaften.
Niedermolekulare, organische fotoleitfähige Materialien sind vorzuziehen, da ihre Beschichtungseigenschaften oder elektrofotografischen Eigenschaften durch beliebige Bestimmung des Typs, der Zusammensetzung u. dgl. eines bei den Bestandteilen verwendeten Binders reguliert werden können. Die kombinierte Verwendung mit einem Binder macht es jedoch erforderlich, daß jeder der Bestandteile mit dem Binder verträglich sein muß.
Das lichtempfindliche Element, welches hochmolekulare oder niedermolekulare organische fotoleitfähige Bestandteile aufweist, die in dem Binderharz dispergiert sind, haben Nachteile, wie ein größeres Restpotential infolge der größeren Anziehung der Trägerteilchen, was zu einer geringen Sensibilität führt. Demgemäß wurde vorgeschlagen, ein Ladungstransportmaterial in eine organische, fotoleitfähige Zusammensetzung einzumischen, um die vorstehenden Nachteile zu beseitigen.
Es wurden verschiedene organische Zusammensetzungen als Ladungstransportmaterialien vorgeschlagen, diese Zusammensetzungen haben jedoch zahlreiche Nachteile. Die aus der US-PS 31 89 447 bekannten, 2,5-bi(P-diethylaminophenyl)- 1,3,4-Oxadiazole haben beispielsweise eine geringe Verträglichkeit mit einem Binder, und neigen zu Kristallisation. Die in der US-PS 38 20 989 beschriebenen Diarylalkan-Derivate haben eine zufriedenstellende Verträglichkeit mit einem Binder, haben jedoch bei wiederholter Verwendung eine Verschlechterung der Sensibilität. Die in der JP-PA 59 143/1979 beschriebenen Hydrozon-Zusammensetzungen haben vergleichsweise gute Restpotentialeigenschaften, sind jedoch bezüglich Sensibilität und Ladungskapazität unterlegen.
Tatsache ist, daß es wenige Ladungstransportmaterialien gibt, die Eigenschaften aufweisen, welche in der Praxis beim Herstellen eines lichtempfindlichen Elementes von Vorteil sind.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein für die Herstellung von fotoempfindlichen Elementen geeignetes Ladungstransportmaterial zu schaffen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein fotoempfindliches Element, gekennzeichnet durch eine Enaminverbindung als Ladungstransportmaterial. Das fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung hat ausgezeichnete Ladungstransporteigenschaften, ein stabiles Anfangsoberflächenpotential und weist eine zufriedenstellende Ladungskapazität auf. Mit seinen ausgezeichneten Ladungstransporteigenschaften und seiner geringen Anzahl Fangstellen im Träger hat das fotoempfindliche Element eine sehr viel höhere Sensibilität als sie mit einem herkömmlichen Ladungstransportmaterial erzeugt werden kann.
Ausführungsformen der Erfindung werden anhand der folgenden Figuren im einzelnen beschrieben. Es zeigt:
Fig. 1, 4 und 5 jeweils den Aufbau eines fotoempfindlichen Elementes gemäß der vorliegenden Erfindung vom Dispersionstyp mit einem elektrisch leitfähigen Substrat, auf dem eine fotoempfindliche Schicht ausgebildet ist, und
Fig. 2 und 3 jeweils den Aufbau eines fotoempfindlichen Elementes vom Funktionstrenntyp mit einem elektrisch leitfähigen Substrat, auf dem eine ladungserzeugende und eine Ladungstransportschicht ausgebildet ist.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein fotoempfindliches Element mit einer fotoempfindlichen Schicht, bestehend aus einer Enaminverbindung als ein Ladungstransportmaterial, die durch die folgende allgemeine Formel (I) ausgedrückt ist:
wobei T und W unabhängig von einander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe, oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Alkylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe oder eine Gruppe der allgemeinen Formel
(mit Ar eine Arylgruppe und m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die jeweils einen oder mehrere unterschiedliche Substituenten aufweist, wobei wenigstens eine Gruppe von T und W eine Alkylgruppe, di- substituierte Aminoarylgruppe, Akylarylgruppe, halogenisierte Arylgruppe, eine Gruppe mit der allgemeinen Formel
(mit Ar ist eine Arylgruppe und m = 1 oder 2), heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen können und X und Y unabhängig von einander Wasserstoff, eine Alkylgruppe oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, sind, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme der Alkyl- und/oder di-substituierten Aminogruppe aufweisen, mit Ausnahme, daß X und Y beide Wasserstoff sind.
Die Charakteristik des fotoempfindlichen Elementes gemäß der vorliegenden Erfindung ist, daß die Enaminverbindung mit einem spezifischen Substituenten auf einem Kohlenstoffatom der Enamingrundstruktur, als Ladungstransportschicht des fotoempfindlichen Elementes verwendet wird. Das erzielte fotoempfindliche Element hat überragende Ladungstransporteigenschaften, ein stabiles Anfangsoberflächenpotential und erzeugt eine zufriedenstellende Ladungskapazität.
In der vorstehenden Formel (1) sind T und W unabhängig von einander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe, oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine Gruppe der Formel
(Ar ist eine Arylgruppe und m ist 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die jeweils wenigstens einen oder mehrere Substituenten aufweisen, die so ausgewählt sind, daß wenigstens eine Gruppe von T und W eine Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Alkylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine Gruppe der Formel
(mit Ar ist eine Arylgruppe und m ist 1 oder 2) heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen. X und Y sind unabhängig von einander Wasserstoff, eine Alkylgruppe, oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von einer Alkyl- und/oder di-substituierten Aminogruppe, aufweisen können,mit Ausnahme, daß X und Y beide Wasserstoff sind.
Die Alkylgruppe kann linear, verzweigt, gesättigt oder ungesättigt sein und vorzugsweise haben gesättigte Kohlenwasserstoffe ein bis vier Kohlenstoffatome (im nachfolgenden als C1-C4-Alkylgruppe bezeichnet).
Als Halogen wird vorzugsweise Chlor oder Fluor verwendet.
Als Alkoxyarylgruppe wird eine Arylgruppe verwendet, die vorzugsweise eine oder mehrere C1-C3-Alkoxygruppen aufweist und die Arylgruppe enthält Phenyl, Naphthyl und Anthryl. Insbesondere wird eine C1-C3-Alkoxyphenylgruppe verwendet. Diese Arylgruppe kann einen anderen Substituenten wie beispielsweise eine Alkylgruppe, Wasserstoff und dgl. aufweisen.
Als Aralkylgruppe wird eine Benzylgruppe verwendet, die einen oder mehrere Substituenten, wie beispielsweise Wasserstoff, eine Alkylgruppe, eine di-substituierte Aminogruppe, eine Dioxaalkylengruppe, Alkoxygruppe und dgl. aufweist.
Als di-substituierte Aminoarylgruppe wird eine Arylgruppe verwendet, wie beispielsweise Phenyl, Naphthyl, Anthryl und dgl. mit einer (di-C1-C4-Alkyl) Aminogruppe, Morpholinylgruppe, Piperidylgruppe, Piperazinylgruppe, 2,3-Dihydropyridylgruppe oder Tetrahydroquinolylgruppe.
Die halogenierte Arylgruppe ist vorzugsweise eine Chlor- oder Fluorgruppe.
Die heterozyklische Gruppe ist vorzugsweise eine Pyridyl-, Pyrrolyl-, Purinyl- Carbazolyl- Indolyl-, Thienyl-, Furyl-, Quinolyl-, Phenothiazinyl-, Indolinyl-, Tetrahydroquinolyl-, Thiophenyl-, 2,3-Dihydrobenzofuryl-, Dihydrobenzopyryl-, Benzothiazolyl-, Benzooxazolyl-, Benzoimidazolyl-, Thiazolyl- oder Dibenzofurylgruppe.
Die kondensierte polyzyklische Gruppe ist vorzugsweise eine Naphthyl-, Alkoxy-, di-substituierte Aminonaphthyl- oder Anthrylgruppe.
In der Gruppe gemäß der allgemeinen Formel
kann Ar ein Phenyl, Naphthyl, Anthryl oder dgl. sein, welches einen Substituenten, wie beispielsweise eine Alkylgruppe, Wasserstoff usw. aufweist, und m ist vorzugsweise eine ganze Zahl 1 oder 2.
Wenn T und/oder W eine halogenierte Phenylgruppe ist, ist X und/oder Y vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe.
Wenn T und/oder W eine di-substituierte Aminoarylgruppe ist, ist X und/oder Y vorzugsweise eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe.
Wenn T und/oder W eine heterozyklische Gruppe ist, ist X und/oder Y vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe,
Wenn T und W eine Gruppe repräsentiert durch die Formel
(mit m = 1 oder 2), dann ist X und/ oder W vorzugsweise eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe.
Wenn T und/oder W eine kondensierte polyzyklische Gruppe ist, ist X und/oder Y vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe.
Wenn T und W irgend einen der vorstehenden Substituenten aufweisen, kann das fotoempfindliche Element überragende elektrofotografische Eigenschaften einschließlich der Fotoempfindlichkeit, dem Restpotential, der Bildmüdigkeit und anderer Eigenschaften, aufweisen, die jeweils für eine lange Zeitdauer stabil sind.
Die Enaminverbindungen gemäß der vorliegenden Erfindung, wie sie durch die allgemeine Formel (I) repräsentiert sind, sind vorzugsweise solche, wie sie durch die folgenden Formeln (I-1)-(I-9) ausgedrückt sind. Hierbei ist jedoch anzumerken, daß der Schutzumfang der Erfindung nicht auf diese Verbindungen begrenzt ist.
Die Beispiele für die vorstehend genannten Enaminverbindungen, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden, bestehen aus solchen, wie sie durch die folgende allgemeine Formel repräsentiert sind.
wobei R1 und R2 unabhängig von einander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Akylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine Gruppe der Formel
(mit Ar eine Arylgruppe und m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe sind, die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen können, und so ausgebildet sind, daß wenigstens ein Bestandteil R1 und R2 eine Aminoarylgruppe mit Alkylgruppen, einer Morpholinylgruppe, Piperidylgruppe, Piperazinylgruppe, 2,3-Dihydropyridylgruppe oder Tetrahydroquinolylgruppe ist und eine Arylgruppe eine Phenyl-, Naphthyl-, oder Anthrylgruppe ist; R3 und R4 unabhängig von einander Wasserstoff, eine Alkylgruppe, oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe sind, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme einer Alkyl- und/oder di- substituierten Aminogruppe und mit Ausnahme, daß R3 und R4 beide Wasserstoff sind. R3 und/oder R4 sind vorzugsweise eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe.
Typische Beispiele für die Enaminverbindungen haben eine der folgenden Strukturen.
Weitere Enaminverbindungen, die für die Erfindung verwendbar sind, sind solche, wie sie durch die folgende allgemeine Formel ausgedrückt sind:
wobei R5 und R6 unabhängig von einander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Aminoarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine Gruppe der Formel
(mit Ar eine Arylgruppe und m = 1 oder 2), heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe sind, die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen können, die so ausgewählt sind, daß wenigstens eines von R5 und R6 eine heterozyklische Gruppe ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einer Pyridyl-, Pyrrolyl-, Purinyl-, Carbazolyl-, Indolyl-, Thienyl-, Furyl-, Quinolyl-, Phenothiazinyl-, Indolinyl-, Tetrahydroquinolyl-, Thiophenyl-, 2,3-Dihydrobenzofuryl-, Dihydrobenzopyryl-, Benzothiazolyl-, Benzooxazlyl-, Benzoimidazolyl-, Thiazolyl- oder Dibenzofurylgruppe ist; und mit R7 und R8 unabhängig von einander Wasserstoff, eine Alkylgruppe oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von Alkyl und/oder eine di- substituierten Aminogruppe, mit Ausnahme, daß R7 und R8 beide Wasserstoff sind. R5 und/oder R6 sind vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe.
Die typischen Beispiele einer Enaminverbindung gemäß der Erfindung, ausgedrückt durch die allgemeine Formel (I-2) haben die folgenden Strukturen.
Anzumerken ist, daß der Schutzumfang der Erfindung jedoch nicht auf diese Beispiele begrenzt ist.
Weitere Enaminverbindungen, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden sind durch die folgende allgemeine Gleichung ausgedrückt:
mit R9 und R10 unabhängig von einander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe, oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Alkylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine Gruppe der Formel
(mit Ar eine Arylgruppe und m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen können, die so ausgewählt sind, daß wenigstens eins von beiden R9 und R10 eine Gruppe der Formel
(mit m = 1 oder 2 und Ar eine Arylgruppe) ist, und mit R11 und R12 unabhängig von einander Wasserstoff, eine Alkylgruppe oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme einer Alkyl- und/oder di-substituierten Aminogruppe haben, mit Ausnahme, daß beide R11 und R12 Wasserstoff sind. R11 und/oder R12 sind vorzugsweise eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe.
Die typischen bevorzugten Enaminverbindungen die durch die allgemeine Formel (I-3) ausgedrückt sind, haben die folgenden Strukturen.
Weitere Enaminverbindungen sind durch die folgende allgemeine Formel ausgedrückt:
mit R13 und R14 unabhängig von einander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe oder Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Alkylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine Gruppe der Formel
(mit Ar eine Arylgruppe und m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen können, die so ausgewählt sind, daß wenigstens eins von beiden R13 und R14 eine halogenierte Arylgruppe ist; und mit R15 und R16 unabhängig von einander Wasserstoff, eine Alkylgruppe, oder Phenylgruppe, eine Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme einer Alkyl- und/oder di-substituierten Aminogruppe aufweisen, mit Ausnahme, daß beide R15 und R16 Wasserstoff sind. R15 und/oder R16 sind vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe.
Die typischen bevorzugten Enaminverbindungen gemäß der allgemeinen Formel (I-4) haben die folgenden Strukturen.
Weitere Enaminverbindungen, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden, sind durch die folgende allgemeine Formel ausgedrückt:
mit R17 und R18 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe oder Alkoxyarylgruppe, Aralylgruppe, Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Akylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine Gruppe der Formel
(mit Ar ist eine Arylgruppe und m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen können, die so ausgewählt sind, daß wenigstens eines von R17 und R18 eine kondensierte polyzyklische Gruppe ist; und mit R19 und R20 unabhängig von einander Wasserstoff, eine Alkylgruppe oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme einer Alkyl- und/oder di-substituierten Aminogruppe aufweisen, mit Ausnahme, daß R19 und R20 beide Wasserstoff sind. R19 und R20 sind vorzugsweise eine Phenylgruppe der Alkoxyphenylgruppe.
Die typischen bevorzugten Enaminverbindungen gemäß der allgemeinen Formel (I-5) haben die folgenden Strukturen:
Weitere Enaminverbindungen, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden, sind durch die folgende allgemeine Formel ausgedrückt:
mit R21 und R22 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe, oder Alkokyarylgruppe, Alkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Alkylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe, eine Gruppe der Formel
(mit Ar eine Arylgruppe und m ist 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe, die jeweils einen oder mehrere andere Substituenten aufweisen, die so ausgewählt sind, daß wenigstens R21 und R22 eine C1-C4-Alkylgruppe ist; und mit R23 und R24 unabhängig voneinander Wasserstoff, eine Alkylgruppe, oder Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe oder Aralkylgruppe, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme einer Alkyl- und/oder der substituierten Aminogruppe aufweisen, mit Ausnahme daß R23 und R24 beide Wasserstoff sind. R23 und/oder R24 sind vorzugsweise eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe.
Typische Beispiele für eine Enaminverbindung gemäß der allgemeinen Formel (I-6) haben die folgenden Srukturen:
Die Enaminverbindungen gemäß der allgemeinen Formel (I) gemäß der vorliegenden Erfindung können auf einfache Art und Weise durch ein bekanntes Verfahren hergestellt werden.
Beispielsweise werden gewöhnliche Enaminverbindungen durch ein Verfahren synthetisiert, wie es in der Zeitschrift "New Experimental Chemistry Course" 14-III, S. 1417-1427 unter dem Titel "Shin Jikken Kagaku Koza" von Maruzen Co., Ltd., veröffentlicht ist.
Die Enaminverbindungen können hergestellt werden, indem beispielsweise eine Aminverbindung, ausgedrückt durch die allgemeine Formel (II)
mit X und Y gleichgroß X und Y der Formel (I) und eine Aldehydverbindung, ausgedrückt durch die allgemeine Formel (III)
mit T und W gleich T und W der Formel (I) einer Kondensation über eine Dehydration unterzogen werden.
Die Kondensationsreaktion wird üblicherweise durch Entfernen des erzeugten Wassers durch eine azeotropische Destillation durchgeführt unter Verwendung eines Lösungsmittels, wie beispielsweise Benzol, Toluen, Xylen oder dgl., oder indem ein Katalisator, wie beispielsweise Pottasche, p-Toluenschwefelsäure, Essigsäure, Dowex 50 oder Montmorillonitkatalisator K10 verwendet wird.
Die verwendeten Trockenmittel enthalten ein Molekularsieb, Calciumoxid, Calciumchlorid, Calciumcarbonat und dgl.
Beispiele für den Aufbau eines fotoempfindlichen Elementes, bei dem die Enaminverbindung gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet ist, sind schematisch in den Fig. 1 bis 5 dargestellt.
Fig. 1 zeigt ein fotoempfindliches Element bestehend aus einem Substrat 1, auf dem eine fotoempfindliche Schicht 4 aufgebracht ist, mit einem Bindemittel bestehend aus einer Mischung aus fotoleitfähigem Material 3 und Ladungstransportmaterial 2. Als das Ladungstransportmaterial wird eine Enaminverbindung gemäß der Erfindung verwendet.
Fig. 2 zeigt ein fotoempfindliches Element vom Funktionstrenntyp, bei dem in einer fotoempfindlichen Schicht eine ladungserzeugende Schicht 6 und ein Ladungstransportelement 5 enthalten ist. Die Ladungstransportschicht 5 ist auf der Oberfläche der ladungserzeugenden Schicht 6 aufgebracht. In die Ladungstransportschicht 5 ist eine Enaminverbindung gemäß der vorliegenden Erfindung eingemischt.
Fig. 3 zeigt ein fotoempfindliches Element vom Funktionstrenntyp gemäß Fig. 2, das sowohl die ladungserzeugende Schicht 6 als auch die Ladungstransportschicht 5 aufweist. Im Gegensatz zur Fig. 2 ist jedoch die ladungserzeugende Schicht auf der Oberfläche der Ladungstransportschicht 5 aufgebracht.
In der Fig. 4 ist zusätzlich auf der Oberfläche des fotoempfindlichen Elementes gemäß Fig. 1 eine Oberflächenschutzschicht 7 aufgebracht und es kann eine fotoempfindliche Schicht 4 vom Funktionstrenntyp vorgesehen sein, bei der eine ladungserzeugende Schicht 6 und eine Ladungstransportschicht 5 getrennt vorgesehen sind.
In der Fig. 5 ist zwischen einem Substrat 1 und einer fotoempfindlichen Schicht 4 eine Zwischenschicht 8 vorgesehen. Eine solche Zwischenschicht 8 kann vorgesehen sein, um die Haftung und Beschichtungseigenschaften zu verbessern, das Substrat zu schützen, und um die Eigenschaften zum Eindringen von Ladung aus dem Substrat in die fotoleitfähige Schicht zu verbessern. Für eine Zwischenschicht wird vorteilhafterweise ein Polyimidharz, Polyesterharz, Polyvinilbutyralharz, Casein und dgl. verwendet. Ein fotoempfindliches Element gemäß dieser Art kann eine fotoempfindliche Schicht vom Funktionstyp aufweisen.
Das fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung kann durch Lösen oder Dispergieren einer Enaminverbindung gemäß der allgemeinen Formel (I) zusammen mit einem Bindemittel in einem zweckmäßig ausgewählten Lösungsmittel hergestellt werden, indem ein fotoleitfähiges Material, eine elektronenanziehende Verbindung oder ein Sensibilisierungsfarbstoff und andere Pigmente gemäß den weiteren Anforderungen zugefügt sind; und die so hergestellte Beschichtungslösung wird auf ein elektrisch leitfähiges Substrat aufgebracht und getrocknet, um so eine fotoempfindliche Schicht mit einer Dicke von üblicherweise 5 bis 30 µm, vorzugsweise 6 bis 20 µm herzustellen.
Ein fotoempfindliches Element vom Funktionstrenntyp mit einem Aufbau gleich dem in Fig. 2 gezeigten, hat eine Schicht und eine Ladungstransportschicht, und ist hergestellt, indem eine ladungserzeugende Schicht durch Vakuumabscheiden eines fotoleitfähigen Materials auf einem elektrisch leitfähigen Substrat oder indem auf ein elektrisch leitfähiges Substrat eine Beschichtungslösung, die durch Dispergieren eines fotoleitfähigen Materials in einem geeignetem Lösungsmittel oder Lösungsmittel mit einem darin gelösten Bindeharz, aufgetragen und getrocknet ist, und durch Aufbringen einer Lösung, die durch Lösen einer Enaminverbindung und eines Bindemittels in einem geeigneten Lösungsmittel hergestellt worden ist, auf die ladungserzeugende Schicht, um eine Ladungstransportschicht zu erzeugen. Die Dicke einer solchen ladungserzeugenden Schicht ist weniger als 4 µm, oder vorzugsweise weniger als 2 µm. Die Dicke einer derartigen Ladungstransportschicht beträgt 3 bis 30 µm oder 5 bis 20 µm. Der vorteilhafte Gehalt an Enaminverbindung in einer Ladungstransportschicht beträgt 0,02 bis 2 Gewichtsteile oder vorzugsweise 0,03 bis 1,3 Gewichtsteile bezogen auf die Gewichtsanteile Bindemittel. Zusätzlich kann ein anderes Ladungstransportmaterial verwendet werden. Durch die Verwendung eines hochpolymeren Ladungstransportmaterials, welches selbst als ein Bindemittel verwendet werden kann, kann die Verwendung eines anderen Bindemittels vermieden werden. Ein fotoempfindliches Element, welches ähnlich wie das Element gemäß Fig. 3 aufgebaut ist, hat einen solchen Aufbau, bei dem auf einem elektrisch leitfähigen Substrat eine Ladungstransportschicht und auf dieser eine ladungserzeugende Schicht weiterhin angeordnet ist.
Ein fotoempfindliches Element vom Dispersionstyp, bestehend aus einem elektrisch leitfähigen Substrat, auf dem eine fotoempfindliche Schicht aufgebracht ist, und das einen Aufbau identisch dem gemäß Fig. 1 aufweist, wird hergestellt, indem Teilchen eines fotoleitfähigen Materials in einer Lösung dispergiert werden, in der eine Enaminverbindung und ein Harz gelöst worden sind, und indem die Lösung auf ein elektrisch leitfähiges Substrat aufgestrichen und getrocknet wird. Die Dicke der fotoleitfähigen Schicht beträgt 3 bis 30 µm oder vorzugsweise 5 bis 20 µm. Eine zu kleine Menge an photoleitfähigem Material führt zu einer schwachen Sensibilität. Eine zu große Menge an fotoleitfähigem Material führt zu schlechten Ladungseigenschaften und geringerer mechanischer Festigkeit der fotoempfindlichen Schicht. Demgemäß beträgt der Anteil an fotoleitfähigem Material in der fotoempfindlichen Schicht 0,01 bis 2 Gewichtsteils oder vorzugsweise 0,05 bis 1 Gewichtsteil bezogen auf die Gewichtsanteile des Harzes. Der Gehalt an Enaminverbindung beträgt 0,01 bis 2 Gewichtsteils, vorzugsweise 0,02 bis 1,2 Gewichtsteile bezogen auf die Gewichtsanteile des Harzes. Zusätzlich kann eine Enaminverbindung kombiniert mit einem hochmolekularen fotoleitfähigen Material, wie beispielsweise einem Polyvinilcarbazol oder dgl. verwendet werden, welche selbst als ein Bindemittel zu verwenden ist. Eine Enaminverbindung kann auch zusammen mit einem anderen Ladungstransportmaterial, wie beispielsweise einer Hydrazonverbindung, verwendet werden.
Solche, bei einem fotoempfindlichen Element gemäß der vorliegenden Erfindung verwendeten fotoleitfähigen Materialien sind wie folgt: Organische Materialien, wie beispielsweise ein Bisazopigment, Triarylmethanfarbstoff, Thiazinfarbstoff, Oxazinfarbstoff, Xanthenfarbstoff, Cyaninfärbemittel, Styrylfarbstoff, pyryliumfarbstoff, Azopigment, Quinachrydonfarbstoff, Indigopigment, Perylenpigment, polyzyklisches Quinonpigment, Bisbenzimidazolpigment, Indanthronpigment, Squalyliumpigmente und dgl.; und anorganische Materialien wie beispielsweise Selen, Selen-Tellur, Selen-Arsen, Cadmiumsulfid, amorphes Silizium und dgl. Für diesen Zweck kann auch irgendein anderes Material als die vorstehend angegebenen Materialien verwendet werden, sofern es Licht absorbieren kann und einen sehr wirksamen Ladungsträger erzeugt.
Als Bindemittel können bei der vorliegenden Erfindung die folgenden Materialien verwendet werden: Elektrisch isolierende und bekannte thermoplastische Harze; wärmehärtbare Harze und fotohärtbare Harze und fotoleitfähige Harze.
Beispiele, die jedoch nicht den Schutzumfang der Erfindung begrenzen sollen, für geeignete Bindeharze sind wie folgt: Thermoplastische Bindemittel, wie beispielsweise gesättigtes Polyesterharz, Polyamidharz, Acrylharz, Äthylenvinylacetatcopolymer, ionenüberbrücktes Olefincopolymer (Ionomer), Styren-Butadienblockcopolymer, Polyallylat, Polycarbonat, Vinylchlorid-Vinylacetatcopolymer, Zelluloseester, Polyimid, Styrenharz und dgl.; wärmehärtbare Bindemittel, wie beispielsweise Epoxyharz, Urethanharz, Siliconharz, Phenolharz, Melaminharz, Xylenharz, Alkydharz, wärmehärtbares Acrylharz und dgl.; fotohärtbare Harze; fotoleitfähige Harze, wie beispielsweise Poly-N-Vinylcarbazol, Polyvinylpyren, Polyvinylanthracen und dgl.; und andere Harze. Diese Harze können unabhängig von einander oder mit anderen Harzen kombiniert verwendet werden.
Jedes dieser elektrisch isolierenden Harze hat unabhängig von einander gemessen, einen Volumenwiderstand größer als 1 × 1012 Ω cm. Die bevorzugten Harze sind Polyesterharze, Polycarbonatharz und Acrylharz.
Zusätzlich zu einem Bindemittel kann jedes der im folgenden aufgeführten Materialien in einem fotoempfindlichen Element enthalten sein: Weichmacher, wie beispielsweise halogeniertes Paraffin, polychloriertes Biphenyl, Dimethylnaphthalen, Dibutylphthalat, O- Terphenyl und dgl.; Elektronen anziehende Sensibilisierungsmittel, wie beispielsweise Chloranyl, Tetracyanoethylen, 2,4,7-Trinitro9-Fluorenon, 5,6-Dicyanobenzoquinon, Tetracyanoquinodimethan, Tetrachlorophthalanhydrid, 3,5-Dinitrobenzolsäure und dgl.; Sensibilisierungsmittel, wie beispielsweise Methylviolett, Rhodamin B, Zyaninfarbstoff, Pyryliumsalz, Thiapyryliumsalz und dgl..
Ein so zusammengesetztes fotoempfindliches Element, kann wie in der Fig. 4 und 5 dargestellt und in Übereinstimmung mit speziellen Anforderungen eine Haftschicht, eine Zwischenschicht 8 und eine Oberflächenschutzschicht 7 aufweisen.
Beispiel 1
Ein Gewichtsteil Disazopigment, repräsentiert durch die unten stehende allgemeine Formel (A), ein Gewichtsteil Polyesterharz (Vylon 200 der Firma Toyobo Co., Ltd.) und 50 Gewichtsteile Tetrahydrofuran wurden in einer Kugelmühle 24 Stunden vermahlen und dadurch miteinander vermischt, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung zu erzeugen. Die Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat aufgestrichen und dann getrocknet, um eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 0,5 µm herzustellen.
Allgemeine Formel:
Es wurde eine Beschichtungslösung hergestellt, indem zehn Gewichtsteile der vorstehend genannten Enaminverbindung (1-2) und zehn Gewichtsteile Polycarbonatharz (Panlite K-1300 der Firma Teÿin Chemicals Ltd.) in 80 Gewichtsteilen Tetrahydrofuran gelöst wurden, und auf die ladungserzeugende Schicht aufgetragen und getrocknet wurden, um eine Ladungstransportschicht mit einer Dicke von 15 µm herzustellen. Auf diese Art und Weise wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Unter Verwendung eines kommerziellen elektrofotografischen Kopiergerätes (EP360Z der Firma Minolta Camera Co., Ltd.) wurde das hergestellte fotoempfindliche Element mit einer Coronaladung von -6,0 kV und dann dem Ausgangspotential V0 (V) beaufschlagt, Der Belichtung von E 1/2 (lux · sec) unterworfen, die zur Verringerung des Anfangspotentials auf die Hälfte erforderlich ist und dann wurde die Reduktionsgeschwindigkeit DDR 5 (%) des Anfangspotentials gemessen, nachdem das fotoempfindliche Element für fünf Sekunden in Dunkelheit belassen worden war.
Beispiel 2
Zwei Gewichtsteile Trisazopigment, repräsentiert durch die folgende allgemeine Formel (B), ein Gewichtsteil Polyesterharz und 100 Gewichtsteile Methylethylketon wurden in einer Kugelmühle 24 Stunden vermahlen und damit vermischt, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung zu erzeugen. Die Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat aufgebracht und getrocknet, um eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 1 µm zu erzeugen.
Allgemeine Formel:
Es wurde eine Beschichtungslösung hergestellt, indem zehn Gewichtsteile der vorstehend genannten Enaminverbindung (1-9) und zehn Gewichtsteile Polyallylatharz (U-100, der Firma Unitika Ltd.) in 100 Gewichtsteilen Chlorbenzol gelöst wurden, und die Lösung wurde auf die ladungserzeugende Schicht aufgetragen und getrocknet, um eine Ladungstransportschicht mit einer Dicke von 15 µm zu erzeugen. Auf diese Art und Weise wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurden die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 durch ein Verfahren gemäß dem Beispiel 1, gemessen.
Beispiel 3
Zwei Gewichtsteile Squalensäurepigment, repräsentiert durch die unten stehende allgemeine Formel (C), fünf Gewichtsteile Polyesterharz und 100 Gewichtsteile Methylethyketon wurden für 24 Stunden in einer Kugelmühle vermahlen, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung herzustellen. Die Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat aufgetragen und getrocknet, um eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 1 µm zu erzeugen.
Allgemeine Formel:
Es wurde eine Beschichtungslösung hergestellt, indem zehn Gewichtsteile der Enaminverbindung (1-5) und zehn Gewichtsteile Polycarbonatharz in 80 Gewichtsteilen Tetrahydrofuran gelöst wurden und diese Lösung wurde auf die ladungserzeugende Schicht aufgetragen und getrocknet, um eine Ladungstransportschicht mit einer Dicke von 15 µm herzustellen. Auf diese Art und Weise wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurden mit einem Verfahren gemäß dem vom Beispiel 1 die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiel 4
50 Gewichtsteile Kupferphthalocyanin und 0,2 Gewichtsteile Tetranitrokupferphthalocynain wurden durch Rühren in 500 Gewichtsteilen 98%iger Schwefelsäure gelöst, diese Lösung wurde in 5000 Gewichtsteile Wasser gegossen, damit eine Mischung aus fotoempfindlichem Material, bestehend aus Kupferphthalocyanin und Tetranitrokupferphthalocyanin sich niederschlägt. Dann wurde der Niederschlag abgefiltert, mit Wasser gewaschen und bei 120°C und verringertem Druck getrocknet.
Zehn Gewichtsteile der erhaltenen fotoleitfähigen Zusammensetzung wurden in eine Kugelmühle zusammen mit 22,5 Gewichtsteilen wärmehärtbarem Acrylharz (Acrydic A 405 der Firma Dainippon Ink & Chemical, Inc.) 7,5 Gewichtsteilen Menaminharz (Super Beckamine J820 der Firma Dainippon Ink & Chemical Inc.) zehn Gewichtsteilen der vorstehend genannten Enaminverbindung (1-8) und 100 Gewichtsteilen gemischtem Lösungsmittel aus gleichen Anteilen Methylethylketon und Xylen gegeben. Diese Bestandteile wurden in der Kugelmühle 48 Stunden gemahlen, um eine fotoleitfähige Beschichtungslösung zu erzeugen, die auf ein Aluminiumsubstrat aufgetragen und dann getrocknet wurde, um eine fotoempfindliche Schicht mit einer Dicke von ungefähr 50 µm zu erzeugen. Auf diese Art und Weise wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurden mit einem Verfahren gemäß dem Beispiel 1, mit Ausnahme daß das Element mit einer Coronaladung von +6 kV beaufschlagt wurde, die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiele 5 bis 7
Es wurden die fotoempfindlichen Elemente J, K und L, die unabhängig von einander einen Aufbau identisch dem des Beispiels 4 aufwiesen, durch das Verfahren gemäß dem Beispiel 4 hergestellt, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-8) des Beispieles 4, die Enaminverbindungen (1-12), (1-13) und (1-14) jeweils verwendet wurden.
Bei den so hergestellten fotoempfindlichen Elementen wurden mit einem Verfahren gemäß dem Beispiel 4 die Werte für V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Die Meßergebnisse für V 0, E 1/2 und DDR 5 der Beispiele 1 bis 7 sind in der Tabelle 1 aufgeführt.
Tabelle 1
Wie aus der Tabelle 1 zu ersehen ist, hat jedes fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung, welches eine Enaminverbindung als Ladungstransportmaterial enthält, ein Oberflächenpotential über 600 V, eine ausgezeichnete Sensibilität, eine kleinere Dunkelreduktionsgeschwindigkeit und ausgezeichnete elektrofotografische Eigenschaften.
Beispiel 8
Es wurde auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 1, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-2) die Enaminverbindung (2-1) verwendet wurde, ein elektrofotografisches Element hergestellt.
Beispiel 12
Es wurden zwei Gewichtsteile Trisazopigment (B) und ein Gewichtsteil Polyesterharz und 100 Gewichtsteile Methylethylketon in einer Kugelmühle für 24 Stunden vermahlen und damit vermischt, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung zu erzeugen. Die Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat aufgetragen und getrocknet, um eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 1 µm zu bilden. Dann wurden zehn Gewichtsteile der Enaminverbindung (2-10) in einem Lösungsmittel gelöst, bestehend aus zehn Gewichtsteilen Polyallylatharz und 100 Gewichtsteilen Chlorobenzol, um eine Beschichtungslösung zu erzeugen, die auf die ladungserzeugende Schicht aufgetragen und getrocknet wurde, um auf dieser eine Ladungstransportschicht mit einer Dicke von 15 µm zu erzeugen. Auf diese Art und Weise wurde ein elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Beispiele 13 bis 14
Es wurden auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 12, mit Ausnahme, daß jeweils die Enaminverbindungen (2-11) und (2-14) verwendet wurden, fotoempfindliche Elemente hergestellt.
Beispiel 15
Es wurde auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 3, mit Ausnahme, daß anstatt der Enaminverbindung (1-5) die Enaminverbindung (2-9) verwendet wurde, ein elektrofotografisches lichtempfindliches Element hergestellt.
Beispiel 16
Es wurde auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 4, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-8) die Enaminverbindung (2-17) verwendet wurde, ein elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Beispiele 17 bis 19
Es wurden auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 4, mit Ausnahme, daß jeweils die Enaminverbindungen (2-21), (2-22) und (2-23) verwendet wurden, fotoempfindliche Elemente hergestellt. Um die elektrofotografischen Eigenschaften zu überprüfen, wurden die so hergestellten elektrofotografischen fotoempfindlichen Elemente gemäß der Beispiele 8 bis 15 unter Verwendung eines kommerziellen elektrofotografischen Kopiergerätes mit einer Coronaladung von -6,0 kV beaufschlagt. Bei den Elementen gemäß der Beispiele 16 bis 19 wurde ein ähnliches Kopiergerät mit einer eingebauten Modifikation verwendet, um die Elemente mit einer Coronaladung von +6,0 kV zu beaufschlagen, um die entsprechenden Eigenschaften zu überprüfen.
Bei jedem Element wurde das Anfangsoberflächenpotential V 0 (V), die Belichtung E 1/2 (lux · sec), die erforderlich ist, um das Anfangspotential auf die Hälfte zu verringern, und die Dunkelreduktionsgeschwindigkeit DDR 5 (%) des Anfangspotentials, nachdem das Element 5 Sekunden im Dunkeln belassen wurde, gemessen. Die Meßergebnisse sind in der Tabelle 2 aufgeführt.
Tabelle 2
Beispiel 20
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 1, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-2) die Enaminverbindung (3-1) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Unter Verwendung eines kommerziellen elektrofotografischen Kopiergerätes wurde das erhaltene fotoempfindliche Element mit einer Coronaladung von -6,0 kV beaufschlagt, dann wurde das Anfangspotential V0 (V), die Belichtung E 1/2 (lux · sec), die zur Reduktion des Anfangspotentials auf die Hälfte erforderlich ist und die Reduktionsgeschwindigkeit DDR 5 (%) des Anfangspotentials, nachdem das lichtempfindliche Element für 5 Sekunden im Dunkeln belassen worden war, gemessen.
Beispiele 21 bis 22
Unter Verwendung eines Verfahrens identisch dem des Beispieles 1 wurden fotoempfindliche Elemente, die unabhängig von einander den gleichen Aufbau wie beim Beispiel 1 aufwiesen, hergestellt, indem anstatt der beim Beispiel 1 verwendeten Enaminverbindung (1-2) jeweils die Enaminverbindungen (3-5) und (3-13) verwendet wurden.
Bei jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente wurde durch ein Verfahren gemäß dem vom Beispiel 1 die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiele 23 bis 24
Unter Verwendung eines Verfahrens identisch dem vom Beispiel 2 wurden fotoempfindliche Elemente, die unabhängig davon den gleichen Aufbau wie beim Beispiel 2 aufwiesen, hergestellt, indem anstatt der beim Beispiel 2 verwendeten Enaminverbindung (1-9) jeweils die Enaminverbindungen (3-14) und (3-15) verwendet wurden.
Bei jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente wurde nach einem Verfahren gemäß dem vom Beispiel 1 die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiel 25
Nach einem Verfahren gemäß Beispiel 3, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-5) die Enaminverbindung (3-16) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element, wurden durch ein Verfahren gemäß dem Beispiel 1, die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiel 26
Unter Verwendung eines Verfahrens gemäß dem Beispiel 4, wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt, das unabhängig davon den selben Aufbau wie beim Beispiel 4 aufweist, wobei anstatt der Enaminverbindung (3-19) vom Beispiel 4 die Enaminverbindung (3-17) verwendet wurde.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurde nach einem Verfahren gemäß dem Beispiel 1, mit Ausnahme, daß das Element mit einer Coronaladung von +6 kV beaufschlagt wurde, die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Die Meßergebnisse für V 0, E 1/2 und DDR 5 der fotoempfindlichen Elemente gemäß der Beispiele 20 bis 26 sind in der Tabelle 3 aufgeführt.
Tabelle 3
Wie aus der Tabelle 3 zu ersehen ist, hat jedes fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung ein stabiles Oberflächenpotential von mehr als 600 V und ausgezeichnete Ladungseigenschaften, da ihre Dunkelreduktionsgeschwindigkeit für die praktische Verwendung als fotoempfindliches Element klein genug ist. Die Tabelle zeigt weiterhin, daß jedes fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung eine hohe Sensibilisierung aufweist.
Beispiel 27
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 1, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-2) die Enaminverbindung (4-3) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Unter Verwendung eines kommerziellen elektrofotografischen Kopiergerätes wurde das erhaltene fotoempfindliche Element mit einer Coronaladung von -6,0 kV beaufschlagt, dann wurde das Anfangspotential V 0 (V), die Belichtung E 1/2 (lux · sec), die für die Reduktion des Anfangspotentials auf die Hälfte erforderlich ist und die Reduktionsgeschwindigkeit DDR 5 (%) des Anfangspotentials, nachdem das fotoempfindliche Element 5 Sekunden im Dunkeln belassen war, gemessen.
Beispiele 28 bis 30
Unter Verwendung eines Verfahrens gemäß dem Beispiel 1 wurden fotoempfindliche Elemente hergestellt, die unabhängig davon den selben Aufbau wie beim Beispiel 1 aufwiesen, wobei anstatt der beim Beispiel 1 verwendeten Enaminverbindung (1-2) jeweils die Enaminverbindungen (4-4), (4-6) und (4-7) verwendet wurden. Bei jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente wurden durch ein Verfahren gemäß dem Beispiel 1 die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiel 31
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 2, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-9) die Enaminverbindung (4-8) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente, wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 1 die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiele 32 bis 33
Unter Verwendung eines Verfahrens gemäß Beispiel 2 wurden fotoempfindliche Elemente, die unabhängig davon den selben Aufbau wie beim Beispiel 2 aufwiesen, hergestellt, wobei anstatt der beim Beispiel 2 verwendeten Enaminverbindung (1-9) jeweils die Enaminverbindungen (4-11) und (4-12) verwendet wurden.
Bei jedem der so hergestellten fotoempfindlichen Elemente, wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 1 die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiel 34
Es wurden auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 3, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-5) die Enaminverbindung (4-13) verwendet wurde, ein elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei den so hergestellten fotoempfindlichen Elementen wurden durch ein Verfahren gemäß dem Beispiel 1 die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiel 35
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 4, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-8) die Enaminverbindung (4-16) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 1, mit Ausnahme, daß das Element mit einer Coronaladung von +6 kV beaufschlagt wurde, die Wert V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Die Meßergebnisse der Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 der fotoemfpindlichen Elemente gemäß der Beispiele 27 bis 35 sind in der Tabelle 4 aufgeführt.
Tabelle 4
Wie aus der Tabelle 4 zu ersehen ist, hat jedes fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung, welches eine Enaminverbindung enthält, ungeachtet dessen, ob es ein Funktionstrenntyp oder ein Dispersionstyp ist, ein Anfangsoberflächenpotential von mehr als 600 V und ausgezeichnete Ladungseigenschaften, da die Dunkelreduktionsgeschwindigkeit für die praktische Verwendung des fotoempfindlichen Elementes klein genug ist. Die Tabelle zeigt weiterhin, daß jedes fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung ausgezeichnete elektrofotografische Eigenschaften hat und insbesondere, daß die Belichtung zur Reduktion des Anfangsoberflächenpotentials auf die Hälfte, ungefähr 2 bis 4 lux · sec infolge der stabilen Sensibilität, aufweist.
Beispiel 36
Auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 2, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindung (1-9) die Enaminverbindung (5-2) verwendet wurde, wurde ein elektrofotografisches fotoempfindliches Element hergestellt.
Unter Verwendung eines kommerziellen elektrofotografischen Kopiergerätes, wurde das so hergestellte fotoempfindliche Element mit einer Coronaladung von +6 kV beaufschlagt, dann wurde das Anfangspotential V 0 (V), die Belichtung E 1/2 (lux · sec), die zur Reduktion des Anfangspotentials auf die Hälfte erforderlich ist und die Reduktionsgeschwindigkeit DDR 5 (%) des Anfangspotentials, nachdem das fotoemfpindliche Element für fünf Sekunden im Dunkeln belassen worden war, gemessen.
Beispiel 37
Unter Verwendung eines Verfahrens gemäß Beispiel 2 wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt, das denselben Aufbau wie beim Beispiel 2 aufweist, wobei anstatt der beim Beispiel 2 verwendeten Enaminverbindung (1-9) die Enaminverbindung (5-3) verwendet wurde.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 36 die Werte gemäß V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiel 38
Ein Gewichtsteil einer Mischung aus fotoleitfähigem Material, wie beim Beispiel 36 hergestellt, mit Kupferphthalocynin und Tetranitrokupferphthalocyanin, ein Gewichtsteil Polyesterharz und 100 Gewichtsteile Methylethylketon wurden in einer Kugelmühle 24 Stunden gemahlen und dadurch gemischt, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung herzustellen. Die Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat aufgebracht und getrocknet, um eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 1 µm herzustellen.
Durch Lösen von zehn Gewichtsteilen der vorstehend genannten Enaminverbindung (5-4) und zehn Gewichtsteilen Polycarbonatharz in 100 Gewichtsteilen Tetrahydrofuran wurde eine Beschichtungslösung hergestellt und auf die ladungserzeugende Schicht aufgetragen und getrocknet, um eine Ladungstransportschicht mit einer Dicke von 15 µm zu erzeugen. Auf diese Art und Weise wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurden durch ein Verfahren gemäß Beispiel 36, mit Ausnahme, daß das Element mit einer Coronaladung von -6 kV beaufschlagt wurde, die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Beispiel 39
Es wurden zwei Gewichtsteile Disazopigment, repräsentiert durch die allgemeine Formel (A), ein Gewichtsteil Polyesterharz und 100 Gewichtsteile Methylethylketon in einer Kugelmühle für 24 Stunden gemahlen und dadurch vermischt, um eine fotoempfindliche Beschichtungslösung zu erzeugen. Die Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat aufgetragen und getrocknet, um eine ladungserzeugende Schicht mit einer Dicke von 1 µm zu bilden.
Durch Lösen von zehn Gewichtsteilen der vorstehend genannten Enaminverbindung (5-11) in einem Lösungsmittel, bestehend aus Polyallylatharz und 100 Gewichtsteilen Chlorbenzol, wurde eine Beschichtungslösung hergestellt und auf die ladungserzeugende Schicht aufgebracht und getrocknet, um eine Ladungstransportschicht mit einer Dicke von 15 µm zu bilden. Auf diese Art und Weise wurde ein fotoempfindliches Element hergestellt.
Bei dem so hergestellten fotoempfindlichen Element wurden durch ein Verfahren gemäß dem Beispiel 36 die Werte für V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen.
Die Meßergebnisse für die Werte V 0, E 1/2 und DDR 5 der fotoempfindlichen Elemente gemäß der Beispiele 36 bis 39 sind in der Tabelle 5 aufgeführt.
Tabelle 5
Wie aus der Tabelle 5 zu ersehen ist, hat jedes fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung einen stabilen Wert V 0 von mehr als 600 V und ausgezeichnete Ladungseigenschaften, da die Dunkelreduktionsgeschwindigkeit für die praktische Verwendung eines fotoempfindlichen Elementes klein genug ist. Die Tabelle zeigt weiterhin, daß jedes fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung einen kleineren Wert für E 1/2, von 1,6 bis 2,6 lux · sec und eine hohe Sensibilität aufweist. Weiterhin wurde unter Verwendung eines elektrofotografischen Kopiergerätes die Kopieroperation wiederholt, indem die fotoempfindlichen Elemente gemäß des Beispiels 36 positiv geladen wurden. Bei 10.000 Kopierfolgen konnte sowohl beim ersten, als auch beim letzten Kopiervorgang ein Kopierbild mit ausgezeichneter Helligkeitsabstufung erzielt werden. Ohne irgendeine Änderung der Sensibilität wurden über 10.000 Kopien hinweg scharfe Kopierbilder erhalten. Somit hat jedes fotoempfindliche Element gemäß der vorliegenden Erfindung bei Kopierwiederholung ein stabiles Verhalten.
Vergleichsbeispiele 1 bis 8
Es wurden auf dieselbe Art und Weise wie beim Beispiel 4, mit Ausnahme, daß statt der Enaminverbindungen (1-8) die im folgenden aufgeführten Enaminverbindungen (a) bis (h) verwendet wurden, fotoempfindliche Elemente hergestellt.
Bei den so hergestellten fotoempfindlichen Elementen wurden mit einem Verfahren gemäß dem Beispiel 4 die Werte für V 0, E 1/2 und DDR 5 gemessen. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 6 aufgeführt.
Tabelle 6
An der Oberfläche der fotoempfindlichen Elemente gemäß der Vergleichsbeispiele 2, 4 und 8 wurden die Kristalle der verwendeten Enaminverbindungen getrennt und auf den Kopierbildern konnten viele weiße Punkte beobachtet werden.

Claims (20)

1. Fotoempfindliches Element mit einer fotoempfindlichen Schicht, die als ladungstransportierende Substanz mindestens eine Enaminverbindung der allgemeinen Formel enthält, bei der T und W unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, eine Alkylgruppe, Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, Alkylarylgruppe, halogenierte Arylgruppe,
eine kondensierte polyzyklische Gruppe oder heterozyklische Gruppe darstellen, die jeweils auch eine oder mehrere Substituenten haben können, wobei jedoch von T und W mindestens eines eine kondensierte polyzyklische Gruppe, heterozyklische Gruppe, Alkyl-Arylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe, halogenisierte Arylgruppe oder eine Gruppe der Formel (wobei Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2),
die jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können, ist und wobei X und Y unabhängig voneinander Wasserstoff, eine Alkylgruppe, Phenylgruppe, Alkoxyarylgruppe, Aralkylgruppe, gegebenenfalls mit einem oder mehreren Substituenten, ausgenommen Alkyl und/oder di-substituierte Aminogruppe bedeuten, X und Y aber nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
2. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ar-Gruppe in der Formel eine Phenylgruppe oder Naphthylgruppe ist.
3. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die von X oder Y repräsentierte Phenylgruppe eine Phenylgruppe, eine Alkoxyphenylgruppe, die eine C1-C4 Alkylgruppe haben kann, oder eine halogenierte Phenylgruppe ist.
4. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die von T und/oder W repräsentierte di-substituierte Aminoarylgruppe eine Aminophenylgruppe, die eine C1-C4 Alkylgruppe haben kann, oder eine Morpholinyl-, Piperidyl-, Piperazinyl-, 2-3-Dihydropyridyl- oder Tetrahyrochinolylgruppe ist.
5. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die von T und/oder W repräsentierte halogenierte Phenylgruppe eine Chlorphenyl- oder Fluorphenylgruppe ist.
6. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die von T und/oder W repräsentierte heterozyklische Gruppe eine Pyridyl-, Pyrrolyl-, Purinyl-, Karbozolyl-, Indolyl-, Thienyl-, Furyl-, Chinolyl-, Phenothiazinyl-, Indolinyl-, Tetrahyrochinolyl-, Thiophenyl-, 2,3-Dihydrobenzofuryl-, Dihydrobenzopyryl-, Benzothiazolyl-, Benzooxazolyl-, Benzoimidazolyl-, Thiazyolyl- oder Dibenzofurylgruppe ist.
7. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die von T und/oder W repräsentierte kondensierte polyzyklische Gruppe eine Naphthyl-, Alkoxy-, di-substituierte Aminonaphthylgruppe oder Anthrylgruppe ist.
8. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die von T und/oder W repräsentierte Phenylgruppe eine Phenylgruppe, C1-C4 Alkoxyphenylgruppe oder halogenierte Phenylgruppe ist.
9. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die von T und/oder W repräsentierte Aralkylgruppe eine Benzylgruppe ist, die einen oder mehrere Substituenten haben kann.
10. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß T und/oder W eine halogenierte Phenylgruppe und X und/oder Y eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe ist.
11. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß T und/oder W eine di-substituierte Aminoarylgruppe, und X und/oder Y eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe ist.
12. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß T und/oder W eine heterozyklische Gruppe und X und/oder Y eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe ist.
13. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß T und/oder W eine Gruppe der Formel (m = 1 oder 2)
und X und/oder Y eine Phenylgruppe, Alkoxyphenylgruppe oder Benzylgruppe ist.
14. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß T und/oder W eine kondensierte polyzyklische Gruppe und X oder Y eine Phenylgruppe oder Alkoxyphenylgruppe ist.
15. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung der allgemeinen Formel ist, wobei R1 und R2 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-, Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe (Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können, wobei jedoch von R1 und R2 mindestens das eine eine Aminoarylgruppe mit einer C1-C4 Alkylgruppe oder eine Morpholinyl-, Piperidyl-, Piperazinyl-, 2,3-Dihydropyridyl- oder Tetrahydrochinolylgruppe ist und die Arylgruppe eine Phenyl-, Naphthyl- oder Anthrylgruppe ist, und wobei R3 und R4 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von Alkyl und/oder einer di-substituierten Aminogruppe haben können und wobei R3 und R4 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
16. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung eine Verbindung der allgemeinen Formel ist, wobei R5 und R6 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder ein Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-, Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe (Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, von denen jedes einen oder mehrere Substituenten haben kann, wobei jedoch von R5 und R6 mindestens das eine eine heterozyklische Gruppe, nämlich eine Pyridyl-, Pyrrolyl-, Purinyl-, Karbazolyl-, Indolyl-, Thienyl-, Furyl-, Chinolyl-, Phenothiazinyl-, Indolinyl-, Tetrahydrochinolyl-, Thiophenyl-, 2,3-Dihydrobenzofurly-, Dihydrobenzopyryl-, Benzothiazolyl-, Benzooxazolyl-, Benzoimidazolyl-, Thiazolyl- oder Dibenzofurylgruppe ist und R7 und R8 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von Alkyl und/oder einer di-substituierten Aminogruppe haben können und wobei R7 und R8 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
17. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung eine Verbindung der allgemeinen Formel ist, wobei R9 und R10 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-, Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe (Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können, vorausgesetzt, daß von R5 und R6 mindestens das eine eine Gruppe der Formel (Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2) ist und R11 und R12 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von Alkyl und/oder einer di-substituierten Aminogruppe haben können und wobei R11 und R12 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
18. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung eine Verbindung der allgemeinen Formel ist, wobei R13 und R14 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-, Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe (Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können, wobei von R13 und R14 mindestens das eine eine halogenierte Arylgruppe ist, und wobei R15 und R16 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von Alkyl und/oder einer di-substituierten Aminogruppe haben können und wobei R15 und R16 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
19. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung eine Verbindung der allgemeinen Formel ist, wobei R17 und R18 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-, Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe (Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die jeweils einen oder mehrere Substituenten haben können, wobei von R17 und R18 mindestens eines eine kondensierte polyzyklische Gruppe ist, und wobei R19 und R20 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von Alkyl und/oder einer di-substituierten Aminogruppe haben können und wobei R19 und R20 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.
20. Fotoempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Enaminverbindung eine Verbindung der allgemeinen Formel ist, wobei R21 und R22 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder eine Alkyl-, Alkoxyaryl-, Aralkyl-, Alkylaryl-, halogenierte Arylgruppe, di-substituierte Aminoarylgruppe (Ar = Arylgruppe, m = 1 oder 2), eine heterozyklische Gruppe oder kondensierte polyzyklische Gruppe ist, die jeweils einen oder mehere Substituenten haben können, wobei von R21 und R22 mindestens eines eine C1-C4 Alkylgruppe ist, und wobei R23 und R24 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Alkyl-, Phenyl-, Alkoxyaryl- oder Aralkylgruppe bedeuten, die jeweils einen oder mehrere Substituenten mit Ausnahme von Alkyl und/ oder einer di-substituierten Aminogruppe haben können und wobei R23 und R24 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind
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