DE3706853C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3706853C2 DE3706853C2 DE3706853A DE3706853A DE3706853C2 DE 3706853 C2 DE3706853 C2 DE 3706853C2 DE 3706853 A DE3706853 A DE 3706853A DE 3706853 A DE3706853 A DE 3706853A DE 3706853 C2 DE3706853 C2 DE 3706853C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- tantalum
- powder
- taf
- sodium
- reactor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
- H01G9/052—Sintered electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
- B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
- B22F9/24—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from liquid metal compounds, e.g. solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B34/00—Obtaining refractory metals
- C22B34/20—Obtaining niobium, tantalum or vanadium
- C22B34/24—Obtaining niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B5/00—General methods of reducing to metals
- C22B5/02—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes
- C22B5/04—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes by aluminium, other metals or silicon
Description
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur
Herstellung von Tantalpulver oder von Niobpulver für
Kondensatoren, bei dem eine Tantal- bzw.
Niobverbindung mit Reduktionsmetall, insbesondere
Alkalimetallen, reduziert wird, das dadurch
gekennzeichnet ist, daß die Tantal- oder
Niobverbindung kontinuierlich oder in schrittweisen
Teilmengen während der Reduktionsreaktion in den
Reaktor eingebracht wird.
Kondensatoren aus festem Tantal und Niob wurden
bislang typischerweise derart hergestellt, daß
Tantal- bzw. Niobpulver durch Pressen in die Form
eines Pellets überführt wird, und daß das Pellet in
einem Brennofen gesintert wird, um die Ausbildung
eines porösen Körpers zu erreichen, wonach der
Körper einer Eloxierung in einem geeigneten
Elektrolyten unterworfen wird, um einen
einheitlichen, dielektrischen Oxidfilm auf dem
gesinterten Körper zu erzeugen.
Die Entwicklung von Tantalpulvern, die zur
Verwendung in festen Kondensatoren geeignet sind,
basierte auf Bemühungen von Kondensatorherstellern
sowie Tantal-Produzenten gleichermaßen, um die
charakteristischen Eigenschaften, die von diesen
Tantalpulvern gefordert werden, zu bestimmen, um
damit deren beste Verwendung bei der Herstellung von
Qualitätskondensatoren zu erzielen. Derartige
Charakteristika umfassen Oberflächengröße, Reinheit,
Schrumpfungseigenschaften, Bruchfestigkeit des
ungesinterten Pellets sowie Fließeigenschaften.
Hauptsächlich sollte das Pulver durch eine
ausreichende Oberflächengröße charakterisiert sein.
Da die Kapazität einer Tantal-Anode eine Funktion
der Oberflächengröße ist, ist die Kapazität der
Anode, die aus diesem Pulver hergestellt wurde, um
so größer, je größer die Oberfläche des
Tantalpulvers nach dem Sintern ist.
Die Reinheit des Pulvers stellt ebenso einen
kritischen Faktor dar. Metallische sowie
nichtmetallische Verunreinigungen führen dazu, daß
die dielektrischen Eigenschaften herabgesetzt
werden. Hohe Temperaturen während der Sinterung
bewirken eine Entfernung von flüchtigen
Verunreinigungen. Andererseits haben hohe
Temperaturen während des Herstellungsprozesses zur
Folge, daß die Netto-Oberflächengröße und somit die
Kapazität des Kondensators reduziert werden. Es ist
somit ein Erfordernis, den Verlust an Oberfläche
unter den Sinterbedingungen auf ein Minimum zu
begrenzen, um den Kapazitätswert des Tantalpulvers
zu bewahren.
Die Fließfähigkeit des Tantalpulvers und die
Bruchfestigkeit der ungesinterten Anode stellen für
den Kondensatorhersteller kritische Parameter dar,
um eine leistungsfähige Herstellung zu
gewährleisten. Eine gute Fließfähigkeit des Pulvers
erlaubt eine reibungslose Füllung der Preßform
während der Preßoperationen; eine hohe mechanische
Bruchfestigkeit des ungesinterten Pellets gestattet
die Handhabung des Produktes sowie den Transport
ohne überhöhten Bruch.
Bislang wurden verschiedene Methoden zur Herstellung
von Tantalpulvern durch die Reduktion einer
Tantalverbindung mit reduzierenden Metallen
angewandt. Typische Verfahren - wie sie in der US-PS
41 49 876 ausgeführt sind - werden im folgenden
beschrieben:
Kaliumheptafluortantalat (K2TaF7) kann in einem Schmelzbad mit verdünnten Kalium- oder Natriumchloriden oder -fluoriden elektrolytisch zu Tantal reduziert werden. Die Produktionsrate ist dabei durch die Elektrolyseparameter wie Elektrolysestrom und -spannung begrenzt. Weil die feststehenden Konzentrationsgradienten das Erzielen einer hohen Ausbeute verhindern, ist die Produktionsrate relativ klein. Die daraus resultierenden Tantalpulver neigen dazu, in ihrer Beschaffenheit rauh und dendritisch zu sein und liefern Anoden für Elektrolytkondensatoren, die eine sehr kleine kapazitive Ladung aufweisen. Bedeutende Verunreinigungen können gemäß der galvanischen Korrosionsaktivität der Komponenten des Reaktionsgefäßes in das Produkt eingebracht werden. Das Tantalpulver kann ebenso durch eine exotherme Reaktion in einem geschlossenen Gefäß hergestellt werden, wobei das K2TaF7 in alternierenden Schichten mit dem Reduktionsmittel vorliegt. Das eingeschlossene Reaktionsgut wird indirekt geheizt, bis die exotherme Reaktion spontan initiiert wird. Die sich daraus ergebende unkontrollierbare Reaktion liefert Pulver, die einen weiten Bereich von Partikelgrößen aufweisen. Obgleich diese Pulver pro Gewichtseinheit eine größere Oberfläche als diejenigen aufweisen, die auf elektrolytischem Wege hergestellt wurden, müssen diese insgesamt hinsichtlich ihrer Brauchbarkeit bei der Herstellung von Anoden für Elektrolytkondensatoren beurteilt werden.
Kaliumheptafluortantalat (K2TaF7) kann in einem Schmelzbad mit verdünnten Kalium- oder Natriumchloriden oder -fluoriden elektrolytisch zu Tantal reduziert werden. Die Produktionsrate ist dabei durch die Elektrolyseparameter wie Elektrolysestrom und -spannung begrenzt. Weil die feststehenden Konzentrationsgradienten das Erzielen einer hohen Ausbeute verhindern, ist die Produktionsrate relativ klein. Die daraus resultierenden Tantalpulver neigen dazu, in ihrer Beschaffenheit rauh und dendritisch zu sein und liefern Anoden für Elektrolytkondensatoren, die eine sehr kleine kapazitive Ladung aufweisen. Bedeutende Verunreinigungen können gemäß der galvanischen Korrosionsaktivität der Komponenten des Reaktionsgefäßes in das Produkt eingebracht werden. Das Tantalpulver kann ebenso durch eine exotherme Reaktion in einem geschlossenen Gefäß hergestellt werden, wobei das K2TaF7 in alternierenden Schichten mit dem Reduktionsmittel vorliegt. Das eingeschlossene Reaktionsgut wird indirekt geheizt, bis die exotherme Reaktion spontan initiiert wird. Die sich daraus ergebende unkontrollierbare Reaktion liefert Pulver, die einen weiten Bereich von Partikelgrößen aufweisen. Obgleich diese Pulver pro Gewichtseinheit eine größere Oberfläche als diejenigen aufweisen, die auf elektrolytischem Wege hergestellt wurden, müssen diese insgesamt hinsichtlich ihrer Brauchbarkeit bei der Herstellung von Anoden für Elektrolytkondensatoren beurteilt werden.
Gemeinhin wird Tantalpulver kommerziell dadurch
hergestellt, daß Natrium zum K2TaF7, welches
zuvor in einem geschmolzenen Salz aufgelöst wurde,
zugefügt wird. In diesem Verfahren werden das
K2TaF7 und die verdünnenden Salze in einem
Reaktionsgefäß auf eine Temperatur oberhalb des
Schmelzpunktes der Salzmischung erhitzt. Dann wird
geschmolzenes Natrium zugegeben. Das Bad wird unter
im wesentlichen isothermen Bedingungen gehalten,
wobei es gerührt wird, was durch einen intern
angebrachten Rührer ermöglicht wird. Das daraus
resultierende Pulver weist einen großen Bereich von
Partikelgrößen auf. Im Hinblick auf die
Akzeptierbarkeit dieser Materialien für eine
Herstellung von Anoden zur Verwendung in
Elektrolytkondensatoren, können derartige
Materialien eine umfassende Klassifizierung
erfordern, um die gewünschte Verteilung der
Teilchengrößen zu bekommen. Die kapazitive Ladung
von Anoden, die sich von diesen Pulvern ableiten,
liegt in einem Zwischenbereich.
Eine Modifikation dieser gerührten
Flüssigphasen-Reaktion beinhaltet die systematische
Einführung von verdünnenden Salzen in das gerührte
Reaktionsbad. Die Zugabe von Verdünnungssubstanzen
wie NaCl und KCl zum K2TaF7 erlaubt die
Anwendung niedrigerer Badtemperaturen. Dennoch
bestehen die Resultate dieses modifizierten
Prozesses in Agglomeraten von fein-verteiltem
Material, sowie in einer Tendenz des Materials,
Verunreinigungen aufzunehmen und übermäßig feinen
Staub zu produzieren.
In einem anderen Verfahren werden das feste
Verdünner-Salz und das K2TaF7 mit flüssigem
Natrium vermengt, und die Mischung wird bis zu dem
Punkt erhitzt, an dem die spontane exotherme
Reaktion initiiert wird. Diese exotherme Reaktion
kann nicht auf leichte Art und Weise kontrolliert
werden - infolgedessen beinhalten die
Produkt-Charakteristika variierende Teilchengrößen,
weite Teilchengrößenverteilungen und variierende
elektrische Eigenschaften. Diese Materialien
erfordern eine Klassifizierung, um feinen Staub
sowie grobe Partikel vom Endprodukt fernzuhalten,
bevor sie in den Herstellungsprozeß der Anoden für
Elektrolytkondensatoren eingeführt werden.
Wie schon erwähnt, ist die Kapazität eines
Tantal-Pellets eine direkte Funktion der
Oberflächengröße des gesinterten Pulvers. Die
Ausbildung einer größeren Oberfläche kann natürlich
dadurch erreicht werden, daß die Gewichtsmenge
Pulver pro Pellet erhöht wird, jedoch erlegten
Kostenüberlegungen den Zwang auf, die Entwicklungen
darauf zu konzentrieren, daß die Oberflächengröße
pro Gewichtsanteil des verwandten Pulvers erhöht
wird. Weil eine Verminderung der Teilchengröße des
Tantalpulvers eine größere Oberfläche pro
Gewichtseinheit bewirkt, wurden die Bemühungen auf
Verfahrenswege konzentriert, die Tantalpartikel
kleiner zu gestalten, ohne dabei andere nachteilige
Eigenschaften, welche oftmals mit einer
Teilchenverkleinerung verbunden sind, in Kauf nehmen
zu müssen.
Verschiedene Verfahren zur Herstellung von
Tantalpulvern wurden im Hinblick darauf
durchgeführt, die Herstellung eines Pulvers, das
eine ausgewählte, möglichst kleine Teilchengröße
aufweist, zu ermöglichen. In der US-PS 41 49 876
werden z. B. Verfahren offenbart, die eine Kontrolle
der Partikelgröße des Tantalpulver-Produktes
innerhalb eines Reduktionsprozesses gestatten, in
welchem geschmolzenes Natrium zu einem geschmolzenen
Bad aus K2TaF7 und einem Verdünnersalz zugefügt
wird. In diesem Patent wird der Zeitraum der
Gesamtreaktion, in dem die Temperatur des
Reaktionsgutes von der anfänglichen Badtemperatur
bis zur Reduktionstemperatur ansteigt, als
"Bildungszeitraum" (nucleation period) definiert.
Während dieses Bildungszeitraumes wird die Rate der
Natriumzugabe kontrolliert. In den Fällen, in denen
gewünscht wurde, ein Tantalpulver zu erhalten, das
sich durch eine sehr kleine Teilchengröße
auszeichnet, und welches zur Herstellung von Anoden
verwandt werden kann, die ihrerseits bei Herstellung
von Elektrolytkondensatoren mit hoher kapazitiver
Ladung Verwendung finden können, wurde das
metallische Natrium in einer hohen Rate der
Reaktionsmischung zugegeben, bis die
Reaktionstemperatur erreicht war. Es wurde
berichtet, daß die Rate der Natriumeinspeisung
(Zugaberate in den Reaktor) während der
Bildungsperiode einen inversen Effekt auf die
Teilchengröße des letztendlich erhaltenen Produktes
hat. Im speziellen gewann man die Lehre, daß die
ungefähre Teilchengröße des Endproduktes sich
umgekehrt zur Rate des Temperaturanstiegs im
Hinblick auf den Zeitraum der Bildungsperiode
verhielt und ebenso umgekehrt zu der Zeit, welche
benötigt wurde, um die Zugabe der benötigten
stöchiometrischen Menge des Natriums bei dieser
vorgeschriebenen Reduktionstemperatur -
"Wachstumszeitraum" (growth period) genannt - zu
vollenden.
Ein anderer Faktor aus den Erkenntnissen, wie eine
kleinere Partikelgröße erhalten werden kann, wird
durch die Verwendung von größeren Mengen der
Verdünnermaterialien - wie z. B. NaCl, welches ebenso
als interner Wärmeabsorber oder Hitze-Abführer
innerhalb des Systems dienen kann - verkörpert.
Ein weiterer Faktor, welcher erwähnt wurde, um eine
feinere Größe des Tantalproduktes erzeugen zu
können, wird durch den Beginn der Natriumeinspeisung
in das geschmolzene Bad bei der tiefstmöglichen
Temperatur verkörpert. Das Starten der Zugabe bei
einer niedrigen Temperatur bewirkte indirekt den
Verbrauch von einer verhältnismäßig großen Menge
Natrium für jede vorgegebene Rate des
Temperaturanstiegs und verminderte in der Konsequenz
die Dauer der Gesamtverfahrenszeit.
Ein anderer wichtiger Faktor hinsichtlich der
Kontrolle der Partikelgröße, der beschrieben wurde,
besteht in der Temperatur des Reduktionsprozesses.
Temperaturen im Bereich von ca. 760°C bis 850°C
führten dazu, daß kleinere Partikel hergestellt
wurden, während Temperaturen im Bereich von ca.
850°C bis 1000°C dazu führten, daß etwas größere
Partikel produziert wurden.
Als kritisches Element hinsichtlich des
fortwährenden raschen Temperaturanstiegs bei großen
Natrium-Zugaben wurde der Verbrauch eines Teils der
Reaktionswärme, die bei der Reaktion
K2TaF7 + 5 Na --- Ta + 2 KF + 5 NaF frei wird,
durch Vorrichtungen zur forcierten Kühlung der
Reaktionsmasse im Reaktionsgefäß ermittelt. Von der
Verwendung einer forcierten Kühlung wurde berichtet,
daß diese die Gesamtverfahrenszeit auf signifikante
Art und Weise reduziert und weiterhin die
Partikelgröße der Partikel des anfallenden Pulvers
verringert.
In Übereinstimmung mit den aus der US-PS 41 49 876
entnehmbaren Lehren war es besonders vorteilhaft,
die oben genannten Verfahren in deren Kombination -
große Anteile des Verdünner-Salzes, geringe
Anfangstemperatur des geschmolzenen Bades, sehr
schnelle (hohe) Natrium-Zugaberate und die
Verwendung einer forcierten Kühlung, um eine
konstante Temperatur während der Wachstumsperiode
(growth period) - zur Anwendung kommen zu lassen, um
letztendlich ein einheitliches Tantalpulver mit
feiner Partikelgröße herzustellen.
In allen vorangegangenen Reaktionsschemata, die oben
ausgeführt wurden, in denen Tantalpulver durch die
Reduktion einer Tantalverbindung mit einem
reduzierenden Metall hergestellt wird, wurden die
Tantalverbindungen entweder zusammengemischt und
dann in einem geschlossenen Reaktionsgefäß erhitzt,
bis die exotherme Reaktion spontan initiiert wird,
oder es wurde ein geschmolzenes Bad der
Tantalverbindung aufrechterhalten, und das
reduzierende Metall wurde in das Bad eingebracht, um
die Tantalverbindung zu Tantalpulver zu reduzieren.
In der japanischen Patentveröffentlichung Sho 38-8
(1963) wurde gezeigt, daß ein Tantalmetall-Produkt,
welches für metallurgische Zwecke verwendbar ist,
durch ein Verfahren hergestellt werden kann, in
welchem K2TaF7-Kristalle, die auf Temperaturen
von unterhalb ca. 500°C erhitzt wurden, allmählich
in eine Natriumschmelze, die bei einer Temperatur in
der Nähe ihres Siedepunktes gehalten wurde, getropft
werden.
Die spätere japanische Patentveröffentlichung Sho
43-25 910 (1968) beschrieb die oben zitierte
japanische Patentveröffentlichung und führte an, daß
ein derartiges Produkt - welches nach der früheren
Veröffentlichung nach einem Verfahren hergestellt
wurde, welches ein Tantalprodukt liefert, dessen
besonderes Kennzeichen darin besteht, in einer
Reinheit anzufallen, die dieses Produkt für einen
metallurgischen Gebrauch bevorzugt verwendbar
erscheinen läßt - eine Partikelgröße von weniger als
5 µm bis mehr als 100 µm aufweist und somit
für Anwendungen in Kondensatoren ungeeignet ist.
Diese spätere Veröffentlichung fährt dann damit
fort, eine Modifizierung der früheren Methode zu
offenbaren, in welcher geschmolzenes K2TaF7,
welches Verdünnermaterialien enthält, langsam zu
einem gerührten Bad aus geschmolzenem Natrium
zugefügt wird. Es wurde die Herstellung eines
Tantalpulvers mit einer Teilchengröße zwischen 5 und
100 µm beschrieben, das eine spezifische
Oberfläche von weniger als ca. 750 cm2/g aufweist.
Während diese Veröffentlichung das Produkt als
Tantalpulver beschreibt, das für die Verwendung in
Kondensatoren nach den gültigen Maßstäben geeignet
ist, wird dieses Pulver heute jedoch durch eine für
die Verwendung in Kondensatoren unakzeptabel
niedrige Kapazität gekennzeichnet sein.
Die vorliegender Erfindung zugrundeliegende Aufgabe
besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung von
Tantal- oder Niobpulver mit einer verbesserten
Kondensatoreignung zur Verfügung zu stellen.
In Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung
wird ein Reaktionsschema zur Herstellung von Tantal-
und Niobpulver vorgeschlagen, bei dem - im Gegensatz
zu früheren kommerziellen Verfahren - eine Tantal-
bzw. Niobverbindung in kontinuierlichen oder in
schrittweisen Mengen in einen Reaktor während einer
Reduktionsreaktion mit einem Metall, das
reduzierende Eigenschaften besitzt, zugeführt wird.
Nach einem derartigen Reduktionsverfahren kann ein
Tantalpulver hergestellt werden, das dadurch
charakterisiert ist, daß mit diesem Pulver Anoden
hergestellt werden können, die verbesserte
Kapazitätseigenschaften aufweisen. Diejenigen
Tantalpulver, die gemäß der vorliegenden Erfindung
hergestellt wurden, zeichnen sich durch große
Oberflächen aus, welche von der feinen Partikelgröße
und der engen Größenverteilung, die vom jeweiligen
Herstellungsverfahren abhängig sind, herrühren.
Erfindungsgemäß wird eine Tantalverbindung durch die
Reaktion mit einem reduzierenden Metall zu
Tantalpulver reduziert, wobei die Tantalverbindung
in den Reaktor in Form gleichbleibender oder
ansteigender Mengen während des Reaktionsverlaufs
eingespeist wird. Die Rate bei der gleichbleibenden
Zuführung oder der Betrag bei jeder ansteigenden
Zuführung kann in Abhängigkeit von den speziellen,
gewünschten Eigenschaften des Tantalpulverproduktes
variiert werden. Die Zuführung kontinuierlicher
Teile oder die Zuführung kleiner anwachsender Teile
führt zu einer Bevorzugung erhöhter Kapazitätswerte.
Dabei kann die Tantalverbindung durch jedwede
Tantalverbindung verkörpert werden, die durch die
Reaktion mit einem reduzierenden Metall zu einem
Tantalpulver reduziert werden kann. Diese Verbindung
kann in jeder physikalischen Zustandsform, die zur
Ausführung der Reaktion zweckdienlich oder gewünscht
ist, gehandhabt werden. Derartige Substanzen
umfassen typischerweise Kaliumheptafluorotantalat
(K2TaF7), Natriumheptafluorotantalat
(Na2TaF7), Tantal(V)chlorid (TaCl5) und
Mischungen dieser Substanzen. Die bevorzugte
Tantalverbindung wird durch Kaliumfluorotantalat
verkörpert. Das K2TaF7 wird vorzugsweise als
Festkörper in die Reaktionsmischung eingeführt.
Das reduzierende Metall kann durch jedes Metall
verkörpert werden, welches zur Reduktion der
Tantalverbindung zu Tantalmetall befähigt ist.
Solche Metalle beinhalten typischerweise Natrium,
Kalium und deren Mischungen. Das bevorzugte Metall
ist Natrium.
Das reduzierende Agens kann in Form einer
einheitlichen Charge vor der Einführung der
Tantalverbindung in den Reaktor eingebracht werden;
es wird jedoch vorzugsweise in einer
kontinuierlichen, ansteigenden oder
halb-kontinuierlichen Art und Weise während des
Reaktionsverlaufs der Reduktion eingeführt. Die
Einführungsrate des reduzierenden Metalls in den
Reaktor kann in Abhängigkeit zur Einführungsrate der
Tantalverbindung derart beeinflußt werden, daß ein
bestimmtes Tantalpulver, das die gewünschten
Eigenschaften bezüglich der Teilchengröße und der
Sinterungsmerkmale aufweist, die kommerziellen
Pulver mit hohen Kapazitätswerten abverlangt werden,
hergestellt wird. Die Anwesenheit von überschüssigem
Reduktionsmetall während des Reaktionsverlaufs, in
bezug auf die Menge der gegenwärtigen
Tantalverbindung, führt dazu, daß eine verminderte
Teilchengröße sowie ein erhöhter Kapazitätswert des
Tantalproduktes erhalten werden.
Es wurde ganz allgemein festgestellt, daß bei einer
batch-weisen Reaktionsführung, in der das Natrium
kontinuierlich oder semikontinuierlich in einer
typischen Rate in den Reaktor zugeführt wird, die im
Bereich von 0,09 bis 6,8 kg pro Minute liegt, und
die K2TaF7-Zugabe semi-kontinuierlich in
Zunahmen von etwa einem Drittel bis etwa einem
Zehntel der gesamten K2TaF7-Menge erfolgt,
bevorzugte Ergebnisse erhalten werden. Die
Einregelung der Zeiträume der K2TaF7-Zugabe kann
ebenso in der Weise, daß ein Anteil von nicht
reagiertem K2TaF7 in dem Reaktionsgefäß
aufrechterhalten bleibt, beeinflußt werden, so daß
ein kontrolliertes Kornwachstum des Tantalproduktes
gewährleistet ist, wie auch durch andere
Vorrichtungen, um das Tantalprodukt mit den
erwünschten spezifischen Eigenschaften zu erhalten.
Während des gesamten Reaktionsverlaufs wird eine
ausreichende Bewegung der Reaktanden
aufrechterhalten, um die vollständige Reduktion des
K2TaF7 zu gewährleisten.
Die Reaktionstemperatur der Reaktion zwischen
K2TaF7 und dem Natrium liegt typischerweise im
Bereich von 600°C bis 950°C. Höhere Temperaturen
können dazu dienen, einige Verunreinigungen aus dem
Produkt zu entfernen, können aber ebenso dazu
führen, daß der Kapazitätswert des Tantalpulvers
vermindert wird.
Die folgenden Beispiele dienen zur näheren
Erläuterung der Erfindung. Sie sind lediglich
illustrativer Natur und begrenzen den
Anwendungsbereich der Erfindung nicht.
Die Beispiele 1 und 3 verkörpern hierbei typische
Reduktionsverfahren bekannter Art, bei denen das
Reduktionsmetall zu einer gerührten Mischung einer
Tantalverbindung mit den die Reaktionsmischung
verdünnenden Salzen gegeben wird.
In den Beispielen 2, 4, 5 und 6 werden Bedingungen
angewandt, in denen die Mengen der
Verdünner-Substanzen hinsichtlich der einen oder
anderen Größe aus den Vergleichsbeispielen angepaßt
werden; in diesen Vergleichsbeispielen wird das
reduzierende Metall jedoch kontinuierlich in den
Reaktor eingeführt, und die Tantalverbindung wird in
ansteigender Weise (die diskreten Zunahmen liegen in
Zahlen ausgedrückt im Bereich von 3 bis 10) während
der Reaktion zugegeben. Während des
Reaktionsverlaufs wurde ein geringer Überschuß an
Tantalverbindung aufrechterhalten. Beispiel 7
beschreibt eine Reaktion, in der das gesamte
Reduktionsmetall und die gesamte Menge der
verdünnenden Salze zuerst in den Reaktor gegeben
werden, wonach die Tantalverbindung kontinuierlich
in den Reaktor eingeführt wird. Im Beispiel 8 werden
beide, das Reduktionsmetall sowie die
Tantalverbindung, in anwachsenden Mengen während des
Reduktionsvorganges in den Reaktor gegeben. Während
der Reaktion wird ein leichter Überschuß an dem
reduzierenden Metall aufrechterhalten. Beispiel 9
verkörpert eine Reaktion, in der beide, das
reduzierende Metall sowie die Tantalverbindung,
während des Reaktionsverlaufs kontinuierlich in den
Reaktor gegeben werden. Die Beispiele zeigen ein
ausgeprägtes Anwachsen der Kapazitätswerte der
Anoden, die aus dem Tantalpulver, das
erfindungsgemäß erhalten wurde, hergestellt wurden.
Die in den Beispielen angewandte Phosphor-Dotierung
mit H3PO4 bei der Weiterverarbeitung der
Tantalpulver zu Formkörpern (Pellets) ist üblich und
wird bekanntlich z. B. bei der Herstellung von
porösen Sinterformkörpern aus Tantal für
Kondensatoren angewandt.
Die erfindungsgemäß hergestellten Tantalpulver sind
durch eine Teilchengröße, die mit einem
Fisher-Subsieb ermittelt wurde, von weniger als 5 µm
sowie einer BET-Oberfläche von mehr als 2000 cm2/g
gekennzeichnet.
Die Prüfbedingungen zur Bestimmung der
Kapazitätswerte werden im folgenden beschrieben:
Das Tantalpulver wird vermittels einer kommerziellen
Pellet-Presse ohne die Zuhilfenahme von Bindern
zusammengepreßt. Die durch das Pressen erreichte
Dichte belief sich auf 5,0 g/cm3, wobei sich das
Pulvergewicht auf 0,470 g belief, und der
Durchmesser 4,95 mm betrug.
Die zusammengepreßten Pellets wurden in einem
Hochvakuum mit einem Druck, der kleiner als 0,00133 Pa
(10-5 Torr) war, innerhalb eines Zeitraumes von
30 Minuten bei einer Temperatur von 1480°C oder
1560°C - jeweils abhängig vom gewünschten Test -
gesintert.
Die gesinterten Pellets wurden in einem
Eloxierungsbad bei 90± 2°C bei 50 oder 80 V
Gleichstrom eloxiert. Der Elektrolyt bestand aus 0,1
%iger Phosphorsäure. Die Eloxierungsrate wurde auf
einen Wert von 1 Volt pro Minute eingestellt. Nach
einer Zeitspanne von 3 h bei 50 V oder 80 V
Gleichstrom wurden die Pellets gewaschen und
getrocknet.
Die eloxierten Pellets wurden hinsichtlich der
Bestimmung ihres Kapazitätswertes mit 10
vol.-prozentiger H3PO4 als Elektrolyten bei 21°C
geprüft. Die Gegenelektrode bestand aus einer
Testzelle aus platinisiertem Silber mit adäquater
Oberfläche. Die Kapazitätsmessung bestand in einer
Bestimmung der Ladungsübertragung, wobei ein
Hickock-Kapazitätsmesser (Modell DP-200) Verwendung
fand.
Die Bestimmung der Größe der Oberfläche wurde unter
Verwendung der Stickstoff-Adsorptionsmethode nach
Brunauer, Emmet und Teller (BET-Methode) ausgeführt.
Die Partikelgrößen wurden unter Verwendung der
Fisher-Subsieb-Methode (ASTM 30 B330-82) bestimmt.
Ein Reaktor geeigneter Größe aus Nickel, versehen
mit einem Deckel, einem Rührer, einer
Thermometerhülse, Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnungen
sowie Beschickungsöffnungen, wurde auf einer
Wärmequelle angebracht und mit Argon durchspült. Man
ließ den Argonstrom während des Reaktionsverlaufs
zur Aufrechterhaltung einer Schutzgasatmosphäre
bestehen. Der Reaktor wurde mit 136 kg
Alkalihalogenid-Verdünnersalzen beladen, und die
Temperatur auf 825°C erhöht, um die Salze unter
Rühren zum Schmelzen zu bringen. Zu diesem Zeitpunkt
wurden 127 kg K2TaF7 unter Rühren zugefügt; das
K2TaF7 wurde durch die Verdünnersalze aufgelöst,
und die Temperatur wurde auf 825°C erniedrigt.
Darauf wurde flüssiges Natrium in einer Rate von
0,32 kg/min zugefügt, bis insgesamt 37,5 kg Natrium
zugefügt worden waren. Die Temperatur der
Reduktionsmischung wurde bei 825°C gehalten. Nachdem
die Gesamtmenge des Natriums zugegeben worden war,
wurde die Reaktionsmischung für einen Zeitraum von 4 h
unter Argon auf 900°C erwärmt, um die
Vollständigkeit der Reduktion des K2TaF7 zu
Tantalmetall zu gewährleisten. Der Reaktor wurde
danach unter einem Argonstrom auf Raumtemperatur
abgekühlt und der Inhalt entfernt. Die Masse des
Salzes und des Tantalpulvers wurde dergestalt
aufgearbeitet, daß diese mit geeigneten
Lösungsmitteln ausgelaugt wurde, um die Salze
aufzulösen und das Tantalpulver zu erhalten. Das
Tantalpulver-Produkt wurde bei 80°C getrocknet.
Die BET-Oberfläche des auf diese Weise dargestellten
Pulvers wurde auf einen Wert von 4500 cm2/g
bestimmt.
Eine Probe des Tantalpulver-Produktes wurde auf eine
Größe von <250 µm gesiebt, auf einen Wert von 60 ppm
P mit H3PO4 dotiert und für einen Zeitraum
von 30 min unter Hochvakuumbedingungen bei einem
Druck kleiner als 0,00133 Pa bei 1475°C mit Hitze
behandelt. Der Kapazitätswert dieses Produktes
betrug 17 500 µFV/g, nachdem das Tantalpulver in
Pellets gepreßt, bei 1480°C gesintert, unter einer
Spannung von 50 V eloxiert worden war; wurde das
gleiche Pulver bei 1560°C gesintert und unter einer
Spannung von 80 V eloxiert, so wurde ein Wert von
13 600 µFV/g erhalten.
Ein Reaktor geeigneter Größe aus Nickel, versehen
mit einem Deckel, einem Rührer, einer
Thermometerhülse, Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnungen
sowie Beschickungsöffnungen, wurde auf einer
Wärmequelle angebracht und mit Argon durchspült. Der
Argonstrom wurde während des Reaktionsablaufs
aufrechterhalten. Der Reaktor wurde mit 136 kg einer
Mischung der Verdünnersalze aus Alkalihalogeniden -
wie in Beispiel 1 - beladen, und die Temperatur
wurde unter Rühren auf 825°C erhöht, um die Salze
unter Rühren zum Schmelzen zu bringen. Zu diesem
Zeitpunkt wurden 12,7 kg K2TaF7 (1/10 der
Gesamtmenge des K2TaF7, die zugefügt werden
soll) durch die Beschickungsöffnung in den Reaktor
eingebracht, wobei die geschmolzenen Verdünnersalze
gerührt wurden, um das K2TaF7 in Lösung zu
bringen. Nachdem die Temperatur der geschmolzenen
Salze wieder auf 825°C zurückgefallen war, begann
man mit der Einspeisung des Natriums. Die
Natriumzuführung begann mit einer Rate von
0,32 kg/min. Die Rate der Natriumzugabe wurde während der
Reduktion auf diesem Wert gehalten. Nachdem 80% der
12,7 kg der ersten K2TaF7-Beladung in Ta
überführt worden waren, wurden weitere 12,7 kg des
K2TaF7 zugefügt. Die K2TaF7-Zugabe erfolgte
in weiteren Portionen von 12,7 kg, gemäß der Zeit,
nach welcher die nicht umgesetzten 2,5 kg des
K2TaF7 aus der vorangegangenen Zugabe noch
vorhanden waren. Die letzte Beladung zu 12,7 kg
vollendete die Beladung an K2TaF7 zum
Gesamtbetrag von 127 kg. Der Natriumzufluß erfolgte
mit einer konstanten Rate, bis insgesamt 37,5 kg
zugefügt worden waren.
Nachdem die Gesamtmenge des Natriums zugegeben
worden war, wurde die Reduktionsmasse unter Argon
für einen Zeitraum von 4 h auf 900°C erhitzt, um die
vollständige Reduktion des K2TaF7 zu
Tantalmetall zu gewährleisten. Der Reaktor wurde
unter Argon auf Raumtemperatur abgekühlt, und die
Inhaltsstoffe wurden entfernt. Die Masse des Salzes
und des Tantalpulvers wurde dergestalt
aufgearbeitet, daß diese mit geeigneten
Lösungsmitteln ausgelaugt wurde, um die Salze
aufzulösen und das Tantalpulver zu erhalten. Das
Tantalpulver-Produkt wurde bei 80°C getrocknet. Die
BET-Oberfläche des auf diese Art reduzierten Pulvers
wurde auf einen Wert von 5000 cm2/g bestimmt. Eine
Probe dieses Pulvers wurde auf <250 µm gesiebt,
mit H3PO4 auf einen Wert von 60 ppm P dotiert
und bei 1475°C für einen Zeitraum von 30 min unter
Hochvakuum mit Hitze behandelt. Der Kapazitätswert
dieses Produktes belief sich auf 18 700 µFV/g,
nachdem das Tantalpulver in Pellets gepreßt, bei
1480°C gesintert, und unter einer Spannung von 50 V
Gleichstrom eloxiert worden war; wurde das gleiche
Pulver bei 1560°C gesintert und unter einer Spannung
von 80 V eloxiert, so wurde ein Wert von 15 100 µFV/g
erhalten.
Ein Reaktor geeigneter Größe aus Nickel, versehen
mit einem Deckel, einem Rührer, einer
Thermometerhülse, Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnungen
sowie Beschickungsöffnungen, wurde auf einer
Wärmequelle angebracht und mit Argon durchspült. Der
Argonstrom wurde während des Reaktionsablaufs
aufrechterhalten. Der Reaktor wurde mit 122,5 kg
einer Mischung der Verdünnersalze aus
Alkalihalogeniden beladen, und die Temperatur wurde
auf 825°C erhöht, um die Salze unter Rühren zum
Schmelzen zu bringen. An diesem Punkt wurden unter
Rühren 127 kg K2TaF7 zugefügt, das K2TaF7
wurde in den Verdünnersalzen gelöst, wonach die
Temperatur auf 825°C erniedrigt wurde. Darauf wurde
flüssiges Natrium in einer Rate von 0,32 kg/min
zugefügt, bis 37,5 kg des Natriums zugegeben worden
waren. Die Temperatur der Reduktionsmischung wurde
bei 825°C gehalten. Nachdem die gesamte Menge des
Natriums zugegeben worden war, wurde die
Reduktionsmasse unter Argon für einen Zeitraum von 4 h
auf 900°C erwärmt, um die vollständige Reduktion
des K2TaF7 zu Tantalmetall zu gewährleisten. Der
Reaktor wurde unter Argon auf Raumtemperatur
abgekühlt, und die Inhaltsstoffe wurden entfernt.
Die Masse des Salzes und des Tantalpulvers wurden
dergestalt aufgearbeitet, daß diese mit geeigneten
Lösungsmitteln ausgelaugt wurde, um die Salze
aufzulösen, und das Tantalpulver zu erhalten. Das
Tantalpulver-Produkt wurde bei 80°C getrocknet. Die
BET-Oberfläche des derart hergestellten Pulvers
wurde auf einen Wert von 2850 cm2/g bestimmt.
Eine Probe des Pulvers wurde auf <250 µm gesiebt,
mit H3PO4 auf einen Wert von 60 ppm P dotiert
und 30 Minuten lang in einem Hochvakuum bei 1475°C
wärmebehandelt. Der Kapazitätswert dieses Pulvers
belief sich auf 10 400 µFV/g, nachdem das
Tantalpulver in Pellets gepreßt, bei 1480°C
gesintert und bei einer Spannung von 50 V
Gleichstrom eloxiert worden war; wurde das gleiche
Pulver bei 1560°C gesintert und unter einer Spannung
von 80 V eloxiert, so belief sich der Kapazitätswert
auf 8600 µFV/g.
Ein Reaktor geeigneter Größe aus Nickel, versehen
mit einem Deckel, einem Rührer, einer
Thermometerhülse, Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnungen
sowie Beschickungsöffnungen, wurde auf einer
Wärmequelle angebracht und mit Argon durchspült. Wie
in Beispiel 3 angegeben - wurden 112,5 kg des
Alkalihalogenid-Verdünnersalzes in den Reaktor
eingetragen; die Temperatur wurde auf 825°C erhöht.
An diesem Punkt wurden 42,3 kg des K2TaF7 (1/3
der zuzugebenden Gesamtmenge an K2TaF7) durch
die Beschickungsöffnung in den Reaktor gegeben,
wobei die geschmolzenen Verdünnersalze gerührt
wurden, um das zugefügte K2TaF7 aufzulösen.
Nachdem die Temperatur der geschmolzenen Salze auf
825°C zurückgefallen war, wurde mit der
Natriumeinspeisung mit einer Rate von 0,32 kg/min
begonnen. Die Rate der Natriumzugabe wurde während
der Reduktionsreaktion auf diesem konstanten Niveau
gehalten. Nachdem 80% der ersten 42,3 kg des
K2TaF7 zu Tantal umgewandelt worden waren,
wurden weitere 42,3 kg des K2TaF7 zugefügt. Die
K2TaF7-Einspeisung erfolgte in 42,3-kg-Zugaben,
entsprechend der Zeit, die verstrichen war, nach der
8,46 kg des nicht umgesetzten K2TaF7 aus der
vorangegangenen Zugabe noch vorhanden waren. Die
Zugabe der letzten 42,3-kg-Portion vollendete die
Menge des insgesamt zugegebenen K2TaF7 auf den
Endwert von 127 kg. Während der gesamten Zeit wurde
die Zugaberate des Natriums konstant gehalten, bis
insgesamt 37,5 kg zugegeben worden waren. Während
des Reaktionsverlaufs wurde in dem Reaktor eine
Argonatmosphäre aufrechterhalten.
Nachdem die Gesamtmenge des Natriums zugefügt worden
war, wurde die Reduktionsmasse für einen Zeitraum
von 4 h unter Argon auf 900°C erhitzt, um die
vollständige Reduktion des K2TaF7 zu
Tantalmetall zu gewährleisten. Der Reaktor wurde
unter einem ständigen Argonstrom auf Raumtemperatur
abgekühlt, und die Inhaltsstoffe wurden entfernt.
Die Masse des Salzes und des Tantalpulvers wurde
dergestalt aufgearbeitet, daß diese mit geeigneten
Lösungsmitteln ausgelaugt wurde, um die Salze
aufzulösen, und das Tantalpulver zu erhalten. Das
derart gewonnene Tantalpulver-Produkt wurde bei 80°C
getrocknet. Die BET-Oberfläche des auf diese Art und
Weise hergestellten Pulvers wurde auf einen Wert von
3025 cm2/g bestimmt.
Eine Probe des Pulvers wurde auf <250 µm gesiebt,
mit H3PO4 auf einen Wert von 60 ppm P dotiert
und für einen Zeitraum von 30 min im Hochvakuum mit
Hitze behandelt. Der Kapazitätswert des Pulvers
wurde auf 10 950 µFV/g bestimmt, nachdem das
Tantalpulver zu Pellets gepreßt, bei 1480°C
gesintert und unter einer Spannung von 50 V
Gleichstrom eloxiert worden war; wurde das gleiche
Pulver bei 1560°C gesintert und unter einer Spannung
von 80 V Gleichstrom eloxiert, so wurde der
Kapazitätswert auf 9180 µFV/g bestimmt.
Ein Reaktor geeigneter Größe aus Nickel, versehen
mit einem Deckel, einem Rührer, einer
Thermometerhülse, Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnungen
sowie Beschickungsöffnungen, wurde auf einer
Wärmequelle angebracht und mit Argon durchspült.
122,5 kg der Verdünnersalze wurden - wie in Beispiel
3 - in den Reaktor eingewogen; die Temperatur wurde
auf 825°C erhöht, um die Salze unter Rühren zum
Schmelzen zu bringen. Der Argonstrom wurde während
des Reaktionsverlaufs aufrechterhalten. An diesem
Punkt wurden 21,17 kg des K2TaF7 (1/6 der
Gesamtmenge des zuzugebenden K2TaF7) durch eine
Beschickungsöffnung in den Reaktor eingebracht,
wobei die geschmolzenen Verdünnersalze gerührt
wurden, um das zugegebene K2TaF7 aufzulösen.
Nachdem die Temperatur der geschmolzenen Salze auf
einen Wert von 825°C zurückgefallen war, wurde mit
der Natriumeinspeisung mit einer Rate von 0,32 kg/min
begonnen. Die Rate der Natriumzugabe wurde
während der Reduktion auf diesem konstanten Wert
gehalten. Nachdem 80% der ersten 21,17 kg K2TaF7
zu Tantal umgewandelt worden waren, wurden weitere
21,17 kg K2TaF7 zugegeben. Die weiteren
K2TaF7-Zugaben erfolgten in Form von
21,17-kg-Zugaben, und zwar jeweils zu dem Zeitpunkt, wo
noch 4,23 kg K2TaF7 aus der vorangegangenen
Zugabe zurückgeblieben waren. Die letzte Zugabe von
21,17 kg ergänzte die Gesamtmenge des K2TaF7 auf
einen Wert von 127 kg. Die Natriumeinspeisung
verblieb dabei bei der konstanten Rate, bis 37,5 kg
Natrium zugefügt worden waren.
Nachdem die Gesamtmenge des Natriums zugefügt worden
war, wurde die Reduktionsmasse für einen Zeitraum
von 4 h unter Argon auf 900°C erhitzt, um die
vollständige Reduktion des K2TaF7 zu Tantal zu
gewährleisten. Der Reaktor wurde unter Argon auf
Raumtemperatur abgekühlt, und die Inhaltsstoffe
wurden entfernt. Die Masse des Salzes und des
Tantalpulvers wurden dergestalt aufgearbeitet, daß
diese mit geeigneten Lösungsmitteln ausgelaugt
wurde, um die Salze aufzulösen und das Tantalpulver
zu erhalten. Das so erhaltene Tantalpulver-Produkt
wurde bei 80°C getrocknet. Die BET-Oberfläche des
derart hergestellten Pulvers wurde auf einen Wert
von 3625 cm2/g bestimmt.
Eine Probe des Pulvers wurde auf <250 µm gesiebt,
mit H3PO4 auf einen Wert von 60 ppm P dotiert
und für einen Zeitraum von 30 min unter Hochvakuum
bei 1475°C mit Hitze behandelt. Der Kapazitätswert
dieses Pulvers wurde auf einen Wert von 12 690 µFV/g
bestimmt, nachdem das Pulver in Pellets
gepreßt, bei 1480°C gesintert und unter einer
Spannung von 50 V Gleichstrom eloxiert worden war;
wurde das gleiche Pulver bei 1560°C gesintert und
unter einer Spannung von 80 V Gleichstrom eloxiert,
so wurde ein Wert von 10 900 µFV/g gemessen.
Ein Reaktor geeigneter Größe aus Nickel, versehen
mit einem Deckel, einem Rührer, einer
Thermometerhülse, Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnungen
sowie Beschickungsöffnungen, wurde auf einer
Wärmequelle angebracht und mit Argon durchspült. Wie
in Beispiel 3 wurde der Reaktor mit 122,4 kg
Alkalihalogenid-Verdünnersalzen beladen, und die
Temperatur wurde auf 825°C erhöht, um die Salze
unter Rühren zum Schmelzen zu bringen. Der
Argonstrom wurde während des gesamten
Reaktionsverlaufs aufrechterhalten. An diesem Punkt
wurden 12,7 kg des K2TaF7 (1/10 der Gesamtmenge
des zuzugebenden K2TaF7) durch eine
Beschickungsöffnung in den Reaktor eingeführt, wobei
die geschmolzenen Verdünnersalze gerührt wurden, um
das zugegebene K2TaF7 aufzulösen. Nachdem die
Temperatur der geschmolzenen Salze auf einen Wert
von 825°C zurückgefallen war, wurde mit der
Natriumeinspeisung bei einer Rate von 0,32 kg/min
begonnen. Die Rate der Natriumeinspeisung wurde
während des Reaktionsverlaufs auf diesem Wert
belassen. Nachdem 80% der ersten 12,7 kg des
K2TaF7 zu Tantal umgewandelt worden waren,
wurden weitere 12,7 kg K2TaF7 zugefügt. Die
weiteren K2TaF7-Zugaben erfolgten in Form von
12,7-kg-Zugaben, entsprechend der Zeit, nach der 2,5 kg
des noch nicht umgesetzten K2TaF7 aus der
vorangegangenen Zugabe noch vorhanden waren. Die
letzte Zugabe von 12,7 kg ergänzte die Gesamtmenge
des zugegebenen K2TaF7 auf 127 kg. Währenddessen
wurde die Natriumeinspeisung bei der konstanten Rate
gehalten, bis 37,5 kg zugegeben worden waren.
Nachdem sämtliches Natrium zugegeben worden war,
wurde die Reduktionsmischung unter Argon für einen
Zeitraum von 4 h auf 900°C erhitzt, um die
vollständige Reduktion des K2TaF7 zu
Tantalmetall zu gewährleisten. Der Reaktor wurde
unter einem Argonstrom auf Raumtemperatur abgekühlt,
und die Inhaltsstoffe wurden entfernt. Die Masse des
Salzes und des Tantalpulvers wurde dergestalt
aufgearbeitet, daß diese mit geeigneten
Lösungsmitteln ausgelaugt wurden, um die Salze
aufzulösen und das Tantalpulver zu erhalten. Das
Tantalpulver-Produkt wurde bei 80°C getrocknet. Die
BET-Oberfläche des derart hergestellten
Tantalpulvers wurde auf einen Wert von 3975 cm2/g
bestimmt. Eine Probe des Pulvers wurde auf <250 µm
gesiebt, mit H3PO4 auf einen Wert von 60 ppm
P dotiert und im Hochvakuum für einen Zeitraum
von 30 min bei 1475°C erwärmt. Der Kapazitätswert
dieses Pulvers wurde auf einen Wert von 13 700 µFV/g
bestimmt, nachdem es in Pellets gepreßt,
bei 1480°C gesintert und unter einer Spannung von 50 V
Gleichstrom eloxiert worden war; wurde das gleiche
Pulver bei 1560°C gesintert und unter einer Spannung
von 80 V Gleichstrom eloxiert, so wurde ein Wert von
12 000 µFV/g gemessen.
Ein Reaktor geeigneter Größe aus Nickel war mit
einem Deckel, einem Rührer, einer Thermometerhülse,
Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnungen sowie
Beschickungsöffnungen versehen. Der Reaktor wurde
auf einer Wärmequelle angebracht, getrocknet und mit
Inertgas (Argon) durchspült. 88,9 kg
Alkalihalogenid-Verdünnersalze wurden in den Reaktor
eingewogen. Die Temperatur wurde erhöht, um die
Salze zum Schmelzen zu bringen, und der Rührer wurde
in Gang gesetzt. Bei einer Temperatur von 627°C
wurden 5,1 kg geschmolzenes Natrium in den Reaktor
eingeführt. Darauf wurden 15,4 kg festen
Kaliumheptafluorotantalats (K2TaF7) innerhalb
eines Zeitraumes von 10 sec in den Reaktor
eingebracht. Gemäß des exothermen Charakters der
Reaktion stieg die Temperatur innerhalb des
Reaktionsgefäßes auf einen Wert von 709°C an. Die
Reaktionsprodukte wurden daraufhin auf 850°C erhitzt
und für einen Zeitraum von 4,5 h unter Rühren auf
diesem Temperaturniveau gehalten. Die Masse des
Salzes und des Tantalpulvers wurde auf
Raumtemperatur abgekühlt und dergestalt
aufgearbeitet, daß diese mit Wasser ausgelaugt
wurde, um die Salze aufzulösen. Danach wurde das
Tantalpulver mit Fluorwasserstoffsäure ausgelaugt,
mit Wasser gewaschen und anschließend getrocknet.
Das Tantalpulver, das aus dieser Reaktion erhalten
wurde, wies eine ungewohnte einheitliche
Partikelgröße auf, die hauptsächlich im Bereich von
0,6 bis 1,2 µm bezüglich des Durchmessers lag.
Die BET-Oberfläche des derart dargestellten Pulvers
wurde auf einen Wert von 15 300 cm2/g bestimmt.
Eine Probe des auf <250 µm gesiebten Pulvers
wurde mit H3PO4 auf einen Wert von 175 ppm
Phosphor dotiert und darauf auf 100°C erhitzt, um
das in dem Pulver zurückgebliebene Wasser zu
entfernen. Der Kapazitätswert dieses Produktes wurde
auf einen Wert von 22 740 µFV/g bestimmt, nachdem
das Pulver in Pellets gepreßt, bei 1480°C gesintert
und unter einer Spannung von 50 V Gleichstrom
eloxiert worden war.
Ein Reaktor geeigneter Größe aus Nickel war mit
einem Deckel, einem Rührer, einer Thermometerhülse,
Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnungen sowie
Beschickungsöffnungen versehen. Der Reaktor wurde
auf einer Wärmequelle angebracht, getrocknet und mit
Inertgas (Argon) durchspült. In den Reaktor wurden
90 kg Alkalihalogenid-Verdünnersalze eingewogen und
auf 730°C erhitzt, um die Salze zum Schmelzen zu
bringen. Der Rührer wurde in Gang gesetzt. Der
Reaktor wurde dann mit 2,7 kg Natrium und
anschließend mit 9,1 kg K2TaF7 beschickt. Die
Reaktionsmischung wurde auf eine Temperatur von
730°C abkühlen gelassen; danach wurden weitere 12,7 kg
Natrium, gefolgt von einer Zugabe von 9,1 kg
K2TaF7, in den Reaktor eingeführt. Man ließ die
Reaktionsmischung erneut auf 730°C abkühlen, wonach
man eine weitere Menge von 2,7 kg Natrium, gefolgt
von weiteren 9,1 kg K2TaF7 zugab. Dieser Zyklus
wurde im weiteren Verfahrensverlauf dreimal
wiederholt, bis eine Gesamtmenge von 16,3 kg Natrium
sowie 54,4 kg K2TaF7 in den Reaktor eingespeist
worden waren. Das Tantal und die Salze wurden dann
auf eine Temperatur von 860°C erhitzt und unter
Rühren für einen Zeitraum von 4 h auf dieser
Temperatur gehalten. Das Tantalpulver wurde aus der
Mischung von Salz und Metall auf die gleiche Art und
Weise - wie in Versuch 7 beschrieben - isoliert. Die
BET-Oberfläche des auf diese Art hergestellten
Tantalpulvers hatte einen Wert von 8100 cm2/g.
Eine Probe der auf <250 µm gesiebten Fraktion
des Pulvers wurde unter Verwendung von H3PO4 auf
einen Wert von 150 ppm mit Phosphor dotiert und dann
auf 100°C erhitzt, um Rückstände zurückgebliebenen
Wassers zu entfernen. Der Kapazitätswert dieses
Produktes belief sich auf 28 000 µFV/g, nachdem
das Pulver in Pellets gepreßt, bei 1480°C gesintert
und unter einer Spannung von 50 V eloxiert worden
war.
Ein Reaktor geeigneter Größe aus Nickel war mit
einem Deckel, einem Rührer, einer Thermometerhülse,
Gaseinlaß- und Gasauslaßöffnungen sowie
Beschickungsöffnungen versehen. Der Reaktor wurde
auf einer Wärmequelle angebracht, getrocknet und mit
Inertgas (Argon) durchspült. In den Reaktor wurden
72,6 Alkalihalogenid-Verdünnersalze eingewogen, und
es wurde auf eine Temperatur von 780°C erhitzt, um
die Salze zum Schmelzen zu bringen. Der Rührer wurde
in Gang gesetzt. Darauf wurde Natrium in einer Rate
von 0,45 kg/min und K2TaF7 in einer Rate von 1,4
bis 1,6 kg/min in den Reaktor eingespeist, bis eine
Gesamtmenge von 25,2 kg Natrium sowie 81,6 kg
K2TaF7 erreicht worden war. Nachdem die
Gesamtmenge des Natriums und des K2TaF7
zugegeben worden war, wurden die Reaktionsprodukte
auf eine Temperatur von 860°C erhitzt, wonach die
Reaktionsmischung während 4 h unter Rühren auf
diesem Temperaturniveau gehalten wurde. Das Tantal
wurde auf dieselbe Art und Weise, wie in Beispiel 7
beschrieben, aus der Mischung der Salze und des
Metalls isoliert. Die BET-Oberfläche des auf diese
Weise erhaltenen Tantalpulvers belief sich auf einen
Wert von 7700 cm2/g. Eine auf <250 µm gesiebte
Probe des Pulvers wurde unter Verwendung von
Phosphorsäure mit Phosphor auf einen Wert von 150 ppm
P dotiert, wonach das Tantalpulver auf 100°C
erhitzt wurde, um jedwede Wasser-Rückstände aus der
Probe zu entfernen. Der Kapazitätswert der so
erhaltenen Probe belief sich auf 27 200 µFV/g,
nachdem das Pulver in Pellets gepreßt, bei einer
Temperatur von 1480°C gesintert und unter einer
Spannung von 50 V eloxiert worden war. Der
Kapazitätswert dieses Tantalpulvers belief sich auf
15 310 µFV/g, nachdem das Pulver in Pellets
gepreßt, bei einer Temperatur von 1560°C gesintert
und unter einer Spannung von 80 V eloxiert worden
war.
Claims (10)
1. Verfahren zur Herstellung von Tantalpulver oder
von Niobpulver für Kondensatoren, bei dem eine
Tantal- bzw. Niobverbindung mit
Reduktionsmetall, insbesondere Alkalimetallen,
reduziert wird, dadurch gekennzeichnet, daß die
Tantal- oder Niobverbindung kontinuierlich oder
in schrittweisen Teilmengen während der
Reduktionsreaktion in den Reaktor eingebracht
wird.
2. Verfahren zur Herstellung von Tantalpulver nach
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine
feste Tantalverbindung verwendet wird, und daß
während der Reduktionsreaktion gerührt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß das Reduktionsmetall als
Gesamtmenge vor dem Einbringen der
Tantalverbindung in die Reaktionsmischung
eingebracht wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß auch das Reduktionsmetall
kontinuierlich oder in schrittweisen Teilmengen
während der Reduktionsreaktion in den Reaktor
eingebracht wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß als Tantalverbindung
Kaliumfluorotantalat, Natriumfluorotantalat,
Tantalchlorid oder eine Mischung dieser
Verbindungen verwendet wird.
6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch
gekennzeichnet, daß als Reduktionsmetall Natrium
oder Kalium oder eine Mischung dieser Metalle
verwendet wird.
7. Verfahren nach Ansprüchen 5 und 6, dadurch
gekennzeichnet, daß Kaliumfluorotantalat und als
Reduktionsmetall Natrium verwendet werden.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch
gekennzeichnet, daß das Kaliumfluorotantalat in
Form von Teilmengen eingebracht wird, die im
Bereich von der Hälfte bis zu einem Zwanzigstel
der Gesamtbeladungsmenge der Tantalverbindung
liegen.
9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch
gekennzeichnet, daß das Natrium in einer Rate,
die im Bereich von 0,09 bis 6,8 kg/min liegt, in
den Reaktor eingeführt wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Reduktionsreaktion bei einer Temperatur von
600°C bis 950°C ausgeführt wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US83591586A | 1986-03-04 | 1986-03-04 | |
US06/913,159 US4684399A (en) | 1986-03-04 | 1986-09-29 | Tantalum powder process |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3706853A1 DE3706853A1 (de) | 1987-09-10 |
DE3706853C2 true DE3706853C2 (de) | 1990-12-20 |
DE3706853C3 DE3706853C3 (de) | 1997-10-16 |
Family
ID=27125832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3706853A Expired - Lifetime DE3706853C3 (de) | 1986-03-04 | 1987-03-04 | Verfahren zum Herstellen von Tantal- und Niobpulver für Kondensatoren |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4684399A (de) |
AU (1) | AU6964087A (de) |
BE (1) | BE1000560A3 (de) |
BR (1) | BR8701006A (de) |
CA (1) | CA1286896C (de) |
DE (1) | DE3706853C3 (de) |
FR (1) | FR2595278B1 (de) |
GB (1) | GB2188944B (de) |
NL (1) | NL194167C (de) |
Families Citing this family (51)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4740238A (en) * | 1987-03-26 | 1988-04-26 | Fansteel Inc. | Platelet-containing tantalum powders |
JPS6415334A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Toho Titanium Co Ltd | Production of metal from metal halide |
DE3820960A1 (de) * | 1988-06-22 | 1989-12-28 | Starck Hermann C Fa | Feinkoernige hochreine erdsaeuremetallpulver, verfahren zu ihrer herstellung sowie deren verwendung |
US5234491A (en) * | 1990-05-17 | 1993-08-10 | Cabot Corporation | Method of producing high surface area, low metal impurity |
RU2089350C1 (ru) * | 1990-05-17 | 1997-09-10 | Кабот Корпорейшн | Способ получения танталового порошка |
US5442978A (en) * | 1994-05-19 | 1995-08-22 | H. C. Starck, Inc. | Tantalum production via a reduction of K2TAF7, with diluent salt, with reducing agent provided in a fast series of slug additions |
US5954856A (en) * | 1996-04-25 | 1999-09-21 | Cabot Corporation | Method of making tantalum metal powder with controlled size distribution and products made therefrom |
US6165623A (en) * | 1996-11-07 | 2000-12-26 | Cabot Corporation | Niobium powders and niobium electrolytic capacitors |
US6051044A (en) | 1998-05-04 | 2000-04-18 | Cabot Corporation | Nitrided niobium powders and niobium electrolytic capacitors |
US6576038B1 (en) * | 1998-05-22 | 2003-06-10 | Cabot Corporation | Method to agglomerate metal particles and metal particles having improved properties |
DE19847012A1 (de) * | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Starck H C Gmbh Co Kg | Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung |
US6348113B1 (en) | 1998-11-25 | 2002-02-19 | Cabot Corporation | High purity tantalum, products containing the same, and methods of making the same |
BR0009107A (pt) * | 1999-03-19 | 2002-12-31 | Cabot Corp | Método para produzir pó de nióbio e outros pós metálicos através de moagem |
US6375704B1 (en) | 1999-05-12 | 2002-04-23 | Cabot Corporation | High capacitance niobium powders and electrolytic capacitor anodes |
US6563695B1 (en) * | 1999-11-16 | 2003-05-13 | Cabot Supermetals K.K. | Powdered tantalum, niobium, production process thereof, and porous sintered body and solid electrolytic capacitor using the powdered tantalum or niobium |
JP4049964B2 (ja) * | 2000-02-08 | 2008-02-20 | キャボットスーパーメタル株式会社 | 窒素含有金属粉末およびその製造方法ならびにそれを用いた多孔質焼結体および固体電解コンデンサー |
US6643120B2 (en) * | 2000-04-28 | 2003-11-04 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Niobium powder for capacitor, sintered body using the powder and capacitor using the same |
JP4828016B2 (ja) * | 2000-08-09 | 2011-11-30 | キャボットスーパーメタル株式会社 | タンタル粉末の製法、タンタル粉末およびタンタル電解コンデンサ |
IL156802A0 (en) | 2001-01-11 | 2004-02-08 | Cabot Corp | Tantalum and niobium billets and methods of producing same |
CN1304151C (zh) * | 2001-05-04 | 2007-03-14 | H·C·施塔克公司 | 难熔金属氧化物的金属热还原 |
JP4187953B2 (ja) | 2001-08-15 | 2008-11-26 | キャボットスーパーメタル株式会社 | 窒素含有金属粉末の製造方法 |
US7442227B2 (en) | 2001-10-09 | 2008-10-28 | Washington Unniversity | Tightly agglomerated non-oxide particles and method for producing the same |
JP2004143477A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | Cabot Supermetal Kk | ニオブ粉末およびその製造方法、並びにそれを用いた固体電解コンデンサ |
BR0204587A (pt) | 2002-11-04 | 2004-06-29 | Cbmm Sa | Processo de produção de pó de nióbio e/ou de tântalo de elevada área superficial |
WO2004103906A2 (en) | 2003-05-19 | 2004-12-02 | Cabot Corporation | Methods of making a niobium metal oxide and oxygen reduced niobium oxides |
DE112005001499T5 (de) * | 2004-06-28 | 2007-05-10 | Cabot Corp., Boston | Flockenförmiges Tantal mit hoher Kapazität und Verfahren zu dessen Herstellung |
CN101124060B (zh) * | 2004-12-09 | 2011-08-03 | H.C.斯塔克股份公司 | 阀金属粉末的制备 |
US20060177614A1 (en) * | 2005-02-09 | 2006-08-10 | Zhiyong Xia | Polyester polymer and copolymer compositions containing metallic tantalum particles |
US8623112B2 (en) * | 2005-09-16 | 2014-01-07 | H.C. Starck Gmbh | Processes for preparing valve metal powders, powders prepared thereby and uses therefor |
US8257463B2 (en) * | 2006-01-23 | 2012-09-04 | Avx Corporation | Capacitor anode formed from flake powder |
EE05493B1 (et) * | 2006-03-07 | 2011-12-15 | Cabot Corporation | Meetod l?pliku paksusega metallesemete valmistamiseks, saadud metallplaat ja selle valmistamiseks kasutatav BCC- metall |
US7480130B2 (en) | 2006-03-09 | 2009-01-20 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor |
US7511943B2 (en) * | 2006-03-09 | 2009-03-31 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a cathode coating |
US20080105084A1 (en) * | 2006-10-30 | 2008-05-08 | Niotan, Inc. | Method of production of tantalum powder with low impurity level |
GB0622463D0 (en) * | 2006-11-10 | 2006-12-20 | Avx Ltd | Powder modification in the manufacture of solid state capacitor anodes |
US7460356B2 (en) | 2007-03-20 | 2008-12-02 | Avx Corporation | Neutral electrolyte for a wet electrolytic capacitor |
US7554792B2 (en) | 2007-03-20 | 2009-06-30 | Avx Corporation | Cathode coating for a wet electrolytic capacitor |
US7649730B2 (en) | 2007-03-20 | 2010-01-19 | Avx Corporation | Wet electrolytic capacitor containing a plurality of thin powder-formed anodes |
US20100085685A1 (en) * | 2008-10-06 | 2010-04-08 | Avx Corporation | Capacitor Anode Formed From a Powder Containing Coarse Agglomerates and Fine Agglomerates |
US20100101369A1 (en) * | 2008-10-27 | 2010-04-29 | Niotan, Inc. | Method for Combination Solid State and Molten Salt Tantalum Reduction |
US8430944B2 (en) * | 2008-12-22 | 2013-04-30 | Global Advanced Metals, Usa, Inc. | Fine particle recovery methods for valve metal powders |
CN101491834B (zh) * | 2009-03-05 | 2012-06-20 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 钽粉的制备方法 |
CN102382993B (zh) * | 2011-10-09 | 2013-08-28 | 广东致远新材料有限公司 | 一种靶材级超高纯钽金属的制取方法 |
CN102380619A (zh) * | 2011-10-10 | 2012-03-21 | 肇庆多罗山蓝宝石稀有金属有限公司 | 一种降低钠还原法生产的钽粉中杂质含量的方法 |
WO2016138001A1 (en) * | 2015-02-23 | 2016-09-01 | Nanoscale Powders LLC | Methods for producing metal powders |
RU2647971C2 (ru) * | 2015-10-20 | 2018-03-21 | Акционерное общество "Ульбинский металлургический завод" | Способ получения порошка тантала регулируемой крупности |
WO2019173087A1 (en) | 2018-03-05 | 2019-09-12 | Global Advanced Metals Usa, Inc. | Anodes containing spherical powder and capacitors |
CA3091448C (en) | 2018-03-05 | 2024-03-19 | Craig Sungail | Spherical tantalum powder, products containing the same, and methods of making the same |
US11289276B2 (en) | 2018-10-30 | 2022-03-29 | Global Advanced Metals Japan K.K. | Porous metal foil and capacitor anodes made therefrom and methods of making same |
KR102376746B1 (ko) * | 2019-11-05 | 2022-03-21 | 한국생산기술연구원 | 금속열환원법을 이용한 탄탈륨의 제련 방법 |
KR102376778B1 (ko) * | 2019-11-19 | 2022-03-21 | 한국생산기술연구원 | 탄탈륨 분말 제조를 위한 제련 장치 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE546238A (de) * | 1955-03-28 | |||
NL252366A (de) * | 1958-06-13 | |||
GB881997A (en) * | 1958-06-13 | 1961-11-08 | Nat Res Corp | Production of tantalum powder |
JPS4325910Y1 (de) * | 1968-03-28 | 1968-10-29 | ||
DE2517180C3 (de) * | 1975-04-18 | 1979-04-19 | Fa. Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von feinem hochkapazitiven Erdsäuremetallpulver für Elektrolytkondensatoren |
US4141720A (en) * | 1978-05-16 | 1979-02-27 | Nrc, Inc. | Tantalum powder reclaiming |
US4149876A (en) * | 1978-06-06 | 1979-04-17 | Fansteel Inc. | Process for producing tantalum and columbium powder |
US4445931A (en) * | 1980-10-24 | 1984-05-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior | Production of metal powder |
US4356028A (en) * | 1981-08-24 | 1982-10-26 | Fansteel Inc. | In situ phosphorus addition to tantalum |
CA1202183A (en) * | 1982-05-31 | 1986-03-25 | Hiroshi Ishizuka | Apparatus and method for producing purified refractory metal from a chloride thereof |
DE3309891A1 (de) * | 1983-03-18 | 1984-10-31 | Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin | Verfahren zur herstellung von ventilmetallanoden fuer elektrolytkondensatoren |
DE3330455A1 (de) * | 1983-08-24 | 1985-03-14 | GfE Gesellschaft für Elektrometallurgie mbH, 4000 Düsseldorf | Verfahren zur herstellung von ventilmetallpulver fuer elektrolytkondensatoren und dergleichen |
US4508563A (en) * | 1984-03-19 | 1985-04-02 | Sprague Electric Company | Reducing the oxygen content of tantalum |
-
1986
- 1986-09-29 US US06/913,159 patent/US4684399A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-03-03 CA CA000530995A patent/CA1286896C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-03 GB GB8704945A patent/GB2188944B/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-03 AU AU69640/87A patent/AU6964087A/en not_active Abandoned
- 1987-03-03 FR FR878702858A patent/FR2595278B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-04 BE BE8700203A patent/BE1000560A3/fr not_active IP Right Cessation
- 1987-03-04 NL NL8700522A patent/NL194167C/nl not_active IP Right Cessation
- 1987-03-04 DE DE3706853A patent/DE3706853C3/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-04 BR BR8701006A patent/BR8701006A/pt not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL194167C (nl) | 2001-08-03 |
DE3706853A1 (de) | 1987-09-10 |
AU6964087A (en) | 1987-09-10 |
CA1286896C (en) | 1991-07-30 |
FR2595278A1 (fr) | 1987-09-11 |
FR2595278B1 (fr) | 1991-11-15 |
BR8701006A (pt) | 1987-12-29 |
GB2188944B (en) | 1991-02-06 |
BE1000560A3 (fr) | 1989-02-07 |
DE3706853C3 (de) | 1997-10-16 |
GB8704945D0 (en) | 1987-04-08 |
US4684399A (en) | 1987-08-04 |
NL194167B (nl) | 2001-04-02 |
NL8700522A (nl) | 1987-10-01 |
GB2188944A (en) | 1987-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3706853C2 (de) | ||
DE10297448B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von Tantal- und/oder Niobpulvern mit hoher Oberflächenkennzahl | |
DE2909786C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Tantal- oder Niobpulver | |
DE19781680B4 (de) | Verfahren zur Herabsetzung des Sauerstoffgehaltes in Ventilmetall-Materialien | |
EP2169086B1 (de) | Ventilmetallpulver | |
EP0997542B1 (de) | Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung | |
EP1508550B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Niobsuboxid | |
DE3820960C2 (de) | ||
DE3130392C2 (de) | Verfahren zur Herstellung reiner agglomerierter Ventilmetallpulver für Elektrolytkondensatoren, deren Verwendung und Verfahren zur Herstellung von Sinteranoden | |
US5234491A (en) | Method of producing high surface area, low metal impurity | |
AT392290B (de) | Verfahren zur verbesserung der gebrauchseigenschaften einer flockigen tantalpulver-zusammensetzung | |
DE10307716B4 (de) | Ventilmetall-Pulver und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE4030469C2 (de) | Verfahren zur Kontrolle des Sauerstoffgehalts in Werkstoffen aus Tantal | |
DE3341278A1 (de) | Tantalpulver-zusammensetzung | |
DE2517180A1 (de) | Verfahren zru kontinuierlichen herstellung eines hochkapazitiven erdsaeuremetallpulvers fuer elektrolytkondensatoren | |
EP0964937A1 (de) | Tantalpulver, verfahren zu seiner herstellung, sowie daraus erhältliche sinteranoden | |
DE3230219C2 (de) | ||
EP1793950A2 (de) | Desoxidation von ventilmetallpulvern | |
EP1827739B1 (de) | Herstellung von ventilmetallpulvern | |
DE19981324C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargetmaterials | |
DE3005207C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Phosphor-dotierten Alkalimetall-Erdsäuremetall-Doppelfluorides und dessen Verwendung | |
DE1533319C (de) | Verfahren zur pulvermetallurgischen Herstellung poröser Zinkkörper aus oberflächlich oxydierten Zinkteilchen | |
JPH024646B2 (de) | ||
DE966322C (de) | Verfahren zur Herstellung von reinem Titanmonoxyd aus Titandioxyd | |
DE2210345A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Zinkphosphatlösung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8366 | Restricted maintained after opposition proceedings | ||
8305 | Restricted maintenance of patent after opposition | ||
D4 | Patent maintained restricted | ||
8380 | Miscellaneous part iii |
Free format text: DER VERTRETER IST ZU AENDERN IN: FUCHS, MEHLER, WEISS, PAT.-ANWAELTE, 65189 WIESBADEN |