DE3005207C2 - Verfahren zur Herstellung eines Phosphor-dotierten Alkalimetall-Erdsäuremetall-Doppelfluorides und dessen Verwendung - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Phosphor-dotierten Alkalimetall-Erdsäuremetall-Doppelfluorides und dessen VerwendungInfo
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Description
Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, bei der Herstellung von Sinterkörpern aus Tantalmetallpulver für die Verwendung als Elektroden für Elektrolytkondensatoren das Tantalmetallpulver mit phosphorhaltigen Verbindungen zu dotieren. Die elektrischen Eigenschaften von Tantalanoden und daraus durch »Formieren« erzeugter Dielektrika werden durch die Verwendung von Tantalpulver, das mit Phosphorverbindung dotiert ist sehr günstig beeinflußt Das trifft insbesondere für die spezifische Ladung der Kondensatoren zu. Nach dem Stand der Technik, wie er z. B. in der DE-OS 26 16 367 angegeben ist, war es bislang üblich, das Tantalmetallpulver vor der Verarbeitung zu Tantalanoden, d. h. vor dem Agglomerieren, Pressen und Sintern, mit phosphorhaltigen Materialien zu vermischen, mit dem Zweck, das Dotierungsmittel während des Sintervorganges durch thermische Diffusion in das Metall einzubringen. In der DE-OS 26 16 367 wird auf Seite 3, Absatz 2, darauf hingewiesen, daß Phosphorgehalte, die als zufällige Verunreinigungen mit dem Erz oder Rohmaterial eingebracht werden, nicht die günstigsten Ergebnisse liefern, die mit dem Dotieren des fertigen Metallpulvers erreicht werden.
Vorzugsweise wird bei dem vorliegenden Verfahren Orthophosphorsäure im Verhältnis von 0,3 bis 3 g/l H3PO4 zu 60 g/l Doppelfluorid zugesetzt.
Die besondere Wirkung der Dotierung des Doppelsalzes mit Phosphor besteht darin, daß bei der thermischen Vorbehandlung des Kaliumtantalfluorids vor der eigentlichen Reduktion mit Alkalimetall gemäß dem Verfahren der DE-PS 25 17 180 — in der sogenannten »Dekrepitierungsstufe« — zu besonders feinem Pulver zerfällt, dessen spezifische Oberfläche — gemessen nach BET — in bemerkenswerter Weise gegenüber dem undotierten K2TaF7 zunimmt. Der Zusammenhang zwischen der spezifischen Oberfläche des Kaliumtantalfluorids (Vorstoff) und den Eigenschaften der daraus hergestellten Tantalpulver bzw. Tantalanoden (Endprodukt) wird in der letztgenannten Patentschrift ausführlich erläutert.
K2TaF7 | 14,9 | 0,10 |
undotiert | 14,7 | 0,11 |
ca. 50 ppm P | 13,5 | 0,12 |
ca. 100 ppm P | 12,1 | 0,12 |
ca. 200 ppm P | 11,0 | 0,14 |
ca. 500 ppm P | 10,4 | 0,14 |
ca. 600 ppm P | ||
Sintertemperatur: | Spezifischer | 16000C | Serien- | Durchbruchs |
Formierspannung: | Ladung | lOOV | Widerstand | spannung |
Formierstrom: | ÖiC/g) | 35 mA/g | (Ω) | (Volt) |
Formierzeit: | 16 800 | 2 Stunden | 8,5 | 171 |
Temperatur: | 17 950 | 95 ± 2°C | 8,7 | 176 |
Formierelektrolyt: | 18 400 | 0,01 %ige H3PO4 | 8,9 | 174 |
Meßelektrolyt: | 18 650 | 10%ige H3PO4 | 8,9 | 160 |
TaMP aus K^TaF? mit | 18 800 | Spezifischer | 9,0 | 160 |
15 400 | Leckstrom | 7,7 | 153 | |
(μΑ/g) | ||||
ca. 50 ppm P | 6,3 | |||
ca. 100 ppm P | 6,3 | |||
ca. 200 ppm P | 6,8 | |||
ca. 500 ppm P | 7,1 | |||
ca. 600 ppm P | 8,4 | |||
undotiert | 6,1 | |||
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---|---|---|---|
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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