DE3546325A1 - Magnetisches aufzeichnungsmedium - Google Patents

Magnetisches aufzeichnungsmedium

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DE3546325A1 DE19853546325 DE3546325A DE3546325A1 DE 3546325 A1 DE3546325 A1 DE 3546325A1 DE 19853546325 DE19853546325 DE 19853546325 DE 3546325 A DE3546325 A DE 3546325A DE 3546325 A1 DE3546325 A1 DE 3546325A1
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Description

Die Erfindung betrifft ein magnetisches Aufzeichnungsmedium und insbesondere ein derartiges Medium mit einem magnetischen Film und einem auf dessen Vorderseite gebildeten korrosionsbeständigen Schutzfilm.
In den vergangenen Jahren wurden umfangreiche Forschungsaufwendungen auf die Entwicklung von magnetischen Aufzeichnungsmedien mit einem Legierungs-Magnetfilm hoher Aufzeichnungsdichte gerichtet. Zu diesen zählt ein magnetisches Aufzeichnungsmedium, bei dem auf der Oberfläche eines Substrats ein Magnetfilm und auf diesem Magnetfilm ein Schutzfilm abgeschieden ist.
Es ist bekannt, daß dieser Schutzfilm aus einem beliebigen von verschiedenartigen Stoffen hergestellt werden kann, zu denen Metalle, wie z.B. Osmium, Ruthenium, Iridium, Mangan und Wolfram, Oxide, wie z.B. Siliziumoxid, Titanoxid, Tantaloxid und Hafniumoxid, verschiedene Nitride, Karbide, Bor, Kohlenstoff, Legierungen von Kohlenstoff mit Bor, PoIykieselsäure sowie Kohlenstoff in Diamantstruktur gehören (offengelegte japanische Patentanmeldung SHO 59 (1984)-61106).
Unter den oben aufgezählten Stoffen erfreut sich Kohlenstoff aufgrund seiner hervorragenden Schmiereigenschaften der größten Beliebtheit. Der Schutzfilm aus Kohlenstoff zeigt jedoch eine relativ hohe Durchlässigkeit für H2O und O2. Die Schutzwirkung des Films, die dem Magnetfilm eine verbesserte Beständigkeit gegen Korrosion und Wetterbedingungen verleihen soll, zeigt damit gewisse Mängel.
Die aus anderen Stoffen als Kohlenstoff hergestellten Schutzfilme haben im Vergleich zu dem Kohlenstoff-Schutzfilm eine mehr oder weniger gesteigerte Beständigkeit gegen Korrosion und Wetterbedingungen, ihre Schmiereigenschaften sind jedoch deutlich schlechter.
Die Aufgabe der Erfindung ist darin zu sehen, ein magnetisches Aufzeichnungsmedium mit einem Schutzfilm anzugeben, mit dem die dem Stand der Technik anhaftenden Nachteile überwunden werden. Insbesondere soll der Schutzfilm eine hervorragende Beständigkeit gegen Korrosion und Wetterbedingungen aufweisen.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung liegt darin, ein magnetisches Aufzeichnungsmedium mit einem Schutzfilm anzugeben, der hervorragende Schmiereigenschaften aufweist.
Zur Lösung der oben genannten Aufgaben weist das erfindungsgemäße magnetische Aufzeichnungsmedium ein Substrat, einen auf der Oberfläche des Substrats gebildeten magnetischen Film und einen Schutzfilm auf, der auf der Oberfläche des magnetischen Films abgeschieden ist und aus einer ersten Schicht, die zumindest einen aus der Gruppe Cr3O3, Si und Ge gewählten Stoff enthält, sowie einer zweiten Schicht aus amorphem Kohlenstoff aufgebaut ist, die auf der Vorderseite der ersten Schicht aufgelegt ist.
Die anderen Aufgaben und charakteristischen Merkmale der Erfindung werden für den Fachmann aus der folgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele deutlich, die unter Bezugnahme auf die anliegenden Zeichnungen erfolgt. In den Zeichnungen zeigen
Figur 1 ein Diagramm der Drehkennlinie eines bei der Prüfung der CSS-Beständigkeit in Arbeitsbeispielen und Vergleichsuntersuchungen verwendeten Antriebs; und Figuren 2 und 3 grafische Darstellungen der Meßergebnisse bei
den Arbeitsbeispielen und den Vergleichsuntersuchungen. Bei eingehenden Untersuchungen eines in dem magnetischen Aufzeichnungsmedium auf dem Magnetfilm auszubildenden Schutzfilms fanden die Erfinder heraus, daß hervorragende Werte der Korrosionsbeständigkeit und der Beständigkeit gegen Wetterbedingungen sowie der Schmiereigenschaften ein Schutzfilm aufweist, der aus einer ersten Schicht, die zumindest einen aus der Gruppe Cr3O3, Si und Ge gewählten Stoffs ent-
hält, und aus einer zweiten Schicht aus amorphem Kohlenstoff (C) oder Graphit mit amorphem Kohlenstoff aufgebaut ist, die auf die erste Schicht aufgebracht ist.
Ein Substrat ist erfindungsgemäß aus Aluminium, einer Aluminiumlegierung, die nicht mehr als 7 Gew.-%, vorzugsweise 3 bis 4 Gew.-%, Magnesium enthält, einer Zink enthaltenden Aluminiumlegierung oder einer Titanlegierung hergestellt. Unter den verfügbaren Materialien erweist sich die Aluminiumlegierung als besonders geeignet, da sie leicht, billig und einfach zu verarbeiten ist. In den letzten Jahren fanden aus Keramiken hergestellte Substrate steigende Aufmerksamkeit. Für die vorliegende Erfindung sind derartige Keramiksubstrate, beispielsweise aus ZrO2 oder Al3O3, und selbst Glassubstrate verwendbar.
Die Oberfläche des zu verwendenden Substrats ist beispielsweise durch mechanisches oder chemisches Schleifen flach und glatt bearbeitet. Auf dem Substrat wird eine feste Unterschicht, beispielsweise aus Alumite oder einer Ni-P-Legierung, gebildet, um eine Deformation der Scheibenoberfläche aufgrund des Aufsetzens des Magnetkopfes zu vermeiden. (Diese Unterschicht ist nicht immer erforderlich, wenn das Substrat aus einem keramischen Stoff hergestellt ist.)
Ist das Substrat aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung hergestellt, wird seine Oberfläche anodisch oxidiert, um eine Alumiteschicht aufwachsen zu lassen, die als eine untere Beschichtungsschicht dienen soll. Obwohl die Dicke dieser Alumiteschicht nicht besonders eingeschränkt ist, liegt sie im allgemeinen in einem Bereich von einigen Mikrometer bis einigen zehn Mikrometer, und zwar z.B. bei etwa 10 Mikrometer. Die Oberfläche der Unterschicht aus Alumite oder Ni-P sollte geschliffen werden, um die Ausbildung des magnetischen Films darauf vorzubereiten. Die Oberflächenrauhigkeit sollte vorzugsweise nicht über 0,02 ym (Oberflächenrauhigkeit Ra) liegen. Die Oberfläche kann mechanisch-chemisch unter Verwendung eines Kolloid-Silikapulvers poliert werden.
Auf der Unterlageschicht wird der magnetische Film gebildet. Der magnetische Film kann aus einer Legierung oder Metalloxid hergestellt werden. Beispiele für eine vorteilhaft zu verwendende Legierung sind Co-Ni, Co-Ni-Pt, Co-Ni-P, Co-Pt, Co-Cr, Co-Cr-Pt und Co-Ni-Cr. In diesen Legierungen kann Fe für einen Teil des Co oder Ni substituiert werden. In der Co-Ni-Legierung kann zumindest ein aus der Gruppe Ti, Cr, Hf, Ru und Pt gewählter Stoff eingebaut werden, um einen Teil des Co zu substituieren. Ein typisches Beispiel
für einen Oxid-Magnetfilm ist ein aus Y-Fe3O3 hergestellter magnetischer Film.
Der oben beschriebene magnetische Film kann nach einem der herkömmlichen Sputterverfahren ausgebildet werden, beispielsweise mit einem Beschichtungsverfahren aus der Dampfphase oder aus der Flüssigphase, wie es in der offengelegten japanischen Patentanmeldung SHO 56(1981)-41524 dargestellt ist.
Die oben beschriebenen Zusammensetzungen und Herstellungsverfahren dienen ausschließlich der Verdeutlichung und
20 beschränken die Erfindung in keiner Weise.
Vorzugsweise enthalten die magnetischen Filme aus Co-Nir Co-Ni-Pt und Co-Ni-P Ni in einer Konzentration im Bereich von 5 bis 40 Atom-%, vorzugsweise von 10 bis 30 Atom-%. In den zusätzlich zu Co und Ni Pt enthaltenden Legierungen 5 sollte der Pt-Gehalt nicht über 12 Atom-%, vorzugsweise 10 Atom-%, hinausgehen. In den zusätzlich zu Co und Ni P enthaltenden Legierungen sollte der P-Gehalt 12 Atom-% nicht übersteigen. In dem magnetischen Co-Pt-FiIm sollte der Pt-Gehalt nicht über 12 Atom-%, vorzugsweise nicht über 10 Atom-% liegen, In dem Co-Cr-FiIm sind 5 bis 20 Atom-%, vorzugsweise 5 bis 7 Atom-%, Cr enthalten. In den Co-Cr-Pt-Filmen sind 5 bis 20 Atom-%, vorzugsweise 5 bis 7 Atom-%, Cr und 1 bis 10 Atom-%, vorzugsweise 5 bis 9 Atom-% Pt enthalten. In den Co-Ni-Cr-Filmen sind 10 bis 35 Atom-% Ni und 3 bis 15 Atom-% Cr, vorzugsweise 15 bis 25 Atom-% Ni und 3 bis 10 Atom-% Cr enthalten.
Der magnetische Film sollte eine Dicke im Bereich von 30 bis 300 im, vorzugsweise von 50 bis 150 nm haben. Ist die Dicke kleiner als 30 nm, kann der magnetische Film dem magnetischen Aufzeichnungsmedium keine stabilen Eigenschaften verleihen. Liegt die Dicke über 300 nm, dauert die Bildung des magnetischen Films sehr lange, und seine Herstellungskosten steigen an.
Auf dem magnetischen Film ist ein Schutzfilm ausgebildet, der aus einer ersten Schicht, die aus zumindest einem Stoff aus der Gruppe Cr3O3, Si und Ge hergestellt ist, und einer zweiten Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder Graphit mit amorphem Kohlenstoff aufgebaut ist, die auf der Oberfläche der ersten Schicht abgeschieden ist. Die erste Schicht kann im einzelnen aus einem der folgenden sieben Stoffe gebildet sein: (1) Nur Si, (2) nur Ge, (3) nur Cr2O3, (4) Si-Ge, (5) Si-Cr2O3, (6) Ge-Cr2O3 und (7) Si-Ge-Cr2O3.
Die Stoffe Si, Ge und Cr2O3 übertreffen den oben genannten amorphen Kohlenstoff bezüglich der Korrosions- und Witterungsbeständigkeit. Die Elemente Si und Ge zeigen ziemlich zufriedenstellende Schmiereigenschaften. Cr2O3 ist fest und geeignet, die CSS-Beständigkeit des Schutzfilms zu steigern.
Die zweite Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder Graphit mit amorphem Kohlenstoff hat hervorragende Schmiereigenschaften. Insbesondere besitzt eine Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder Graphit mit amorphem Kohlenstoff mit -.einem spezi-
-2 2
fischen Widerstand im Bereich von 10 bis 10 Ω-cm eine hohe Schmierfähigkeit und eine hohe Abriebfestigkeit. Ist bei zufriedenstellenden Schmiereigenschaften der spezifische
— 3
Widerstand kleiner als 10 Ω«cm, ist der Verschleiß stark und die CSS-Beständigkeit nicht hinreichend, übersteigt der
spezifische Widerstand 10 Ω«cm, nimmt der amorphe Kohlenstoff ein Gefüge ähnlich der Diamantstruktur an und zeigt keine ausreichenden Schmiereigenschaften.
Wenn die Dicke des Schutzfilms (die Gesamtdicke der ersten und zweiten Schicht) 100 nm übersteigt, wird die für
die Bildung des Schutzfilms erforderliche Zeit übermäßig lang, und gleichzeitig nimmt der Abstand zwischen dem Magnetkopf und dem Magnetfilm zu und die elektromagnetischen Umwandlungseigenschaften der Platte werden verschlechtert. Wenn die Dicke übermäßig' klein ist, kann der Schutzfilm naturgemäß seine Funktionen nicht erfüllen. Die Dicke dieses Films sollte daher vorzugsweise im Bereich zwischen 30 und 100 nm liegen.
Die erste Schicht sollte eine Dicke etwa zwischen 10 und 30 nm aufweisen. Ist diese Dicke kleiner als 10 nm, ist die Wirksamkeit der ersten Schicht für die Verbesserung der Korrosions- und Witterungsbeständigkeit nicht ausreichend. Liegt sie über 30 nm, wird es bei ausreichender Korrosionsund Witterungsbeständigkeit notwendig, die Dicke der zweiten Schicht (Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder amorphen Kohlenstoff enthaltendem Graphit) entsprechend zu verringern, da aus den oben beschriebenen Gründen die gesamte Dicke des Schutzfilms nicht über 100 liegen soll.
Die zweite Schicht sollte eine Dicke etwa zwischen 20 und 70 nm aufweisen. Ist diese Dicke kleiner als 20 nm, ist die Wirksamkeit der zweiten Schicht für die Verbesserung der Schmiereigenschaften nicht ausreichend, übersteigt sie 70 nm, entsteht wieder die Notwendigkeit, die Dicke der ersten Schicht zu beschränken. Bei vorliegender Erfindung kann ein Schmiermittel auf den Schutzfilm aufgebracht werden, das aus einem organischen Stoff, wie z.B. Perfluoralkylpolyether, Monostearin-Briacontinol-Trymethoxisilan oder Melamin-Cyanurat, hergestellt ist.
Die auf dem magnetischen Film gebildete, Cr2Oo/ Si und Ge enthaltende erste Schicht hat eine hervorragende Korrosions- und Witterungsbeständigkeit. Die zweite Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder amorphen Kohlenstoff enthaltendem Graphit hat hervorragende Schmiereigenschaften.
Der in das magnetische Aufzeichnungsmedium einbezogene Schutzfilm vereinigt die Vorteile der ersten und zweiten Schicht. Da der erfindungsgemäße Schutzfilm des magnetischen
Aufzeichnungsmediums eine hervorragende Korrosions- und Witterungsbeständigkeit aufweist, ermöglicht er einen weitgehenden Schutz des magnetischen Films und eine hervorragende Haltbarkeit des magnetischen Aufzeichnungsmediums. Daneben zeigt dieser Schutzfilm eine extrem hohe Schmierfähigkeit und eine hervorragende praktische Brauchbarkeit. Der magnetische Film und der Schutzfilm können durch die Sputtertechnik ausgebildet werden. Für dieses Sputterverfahren wird im allgemeinen eine herkömmliche Sputtervorrichtung verwendet, die ein Gehäuse mit einem Target und einer Platte für die Montage einer Probe, einen Heizer für die Erhitzung des Innern des Gehäuses, eine Vakuumpumpe für die Evakuierung des Gehäuseinneren sowie einen Gaszylinder aufweist, der mit diesem Gehäuse verbunden ist. Das in dieser Vorrichtung zu verwendende Target ist vorteilhaft aus einer Legierung hergestellt, die der Legierungszusammensetzung des zu bildenden Films entspricht oder ähnlich ist.
Das Sputtern wird vorzugsweise in einer Atmosphäre aus verdünntem Gas oder Argon (Ar)-Gas durchgeführt. Der Druck dieser Atmosphäre sollte im Bereich zwischen 0,133 bis 13,3 Pa, vorzugsweise im Bereich zwischen 0,66 und 6,6 Pa als Gesamtdruck liegen. Der Behälter, in dem das Sputtern durchgeführt wird, sollte vor der Bildung der oben genannten Atmosphäre für das Sputtern auf ein Vakuum nicht über 1,33 χ
25 10~ Pa (10 Torr) evakuiert werden.
In Vorbereitung auf das Sputtern kann das Substrat erhitzt oder auf Raumtemperatur gehalten werden. Wird das Substrat erhitzt, sollte die erhöhte Temperatur des Substrats nicht über 25O°C, vorzugsweise nicht über 22O°C liegen. Die
Sputterzeit läßt sich bestimmen, indem die Dicke des zu bildenden Films durch die Durchschnittsgeschwindigkeit der Filmformierung geteilt wi±d.
Die Sputtervorrichtung ist vorzugsweise so ausgelegt, daß verschiedene Bedingungen eingestellt werden können, wie z.B. die Temperatur, die Atompshäre und der Atmosphärendruck.
Beispiele für bekannte und erfindungsgemäß anwendbare Sputtervorrichtungen sind eine Hochfrequenzmagnetron-Sputtervorrichtung, eine Kreismagnetron-Sputtervorrichtung, eine Planarmagnetron- Sputter vorrichtung, eine Magnetron-Sputtervorrichtung mit zylindrischer Elektrode, eine Ionenstrahl-Sputtervorrichtung, eine Hochfrequenz-Sputtervorrichtung und eine Gleichstrom-Bipolarsputtervorrichtung.
Zwischen das Substrat und den magnetischen Film kann zusätzlich zu der Unterlageschicht eine Zwischenschicht eingefügt werden, die geeignet ist, die Haftfestigkeit des magnetischen Films zu erhöhen. Für die Einfügung zwischen die genannten Schichten eignet sich vorzugsweise eine etwa 5 bis 50 nm dicke Schicht aus Cr, V oder Mn.
Die Erfindung läßt sich auf scheibenförmige magnetische Aufzeichnungsmedien anwenden, deren Durchmesser zwischen 1 bis 2 Zoll und 10 Zoll oder mehr beträgt (1 Zoll = 2,54 cm).
Die Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf Arbeitsbeispiele im einzelnen beschrieben. Die beschriebenen Arbeitsbeispiele wurden unter Verwendung einer Magnetron-Hochfrequenzsputtervorrichtung hergestellt. Selbstverständlich läßt sich die Erfindung mit ähnlicher Wirksamkeit beispielsweise auch unter Verwendung einer Ionenstrahl-Sputtervorrichtung umsetzen, die unter dem Gesichtspunkt des "Ion Engineering" gleichwertig ist.
25 Beispiel 1
Die Oberfläche eines Substrats aus einer 4 % Magnesium enthaltenden Aluminiumlegierung (130 mm Durchmesser, 40 mm Innendurchmesser und 1,9 mm Dicke) wurde plan und glatt gedreht. Anschließend wurde auf dem bearbeiteten Substrat mit der stromlosen Plattiertechnik eine Ni-P-Schicht in einer Dicke von 25 pm gebildet. Eine Seite der Ni-P-Schicht wurde in einer Dicke von etwa 2ym abgeschliffen, regellos geritzt, um 0,05 bis 0,1 ym tiefe Einschnitte zu erhalten (Gefügebehandlung) und einem Endschliff auf Spiegelglätte
35 unterzogen.
Anschließend wurde unter Verwendung einer Planarmagnetron-Hochfrequenzsputtervorrichtung eine Unterlageschicht aus Cr in einer Dicke von 300 nm abgeschieden und unmittelbar anschließend darauf ein Co-Ni-FiIm unter folgenden Bedingungen gebildet:
-4 Anfangsevakuierung 2,66 χ 10 Pa
(2 χ 10~° Torr)
Sputteratmosphäre Ar
Druck der Sputteratmosphäre 1 ,6 Pa
(12 m.Torr)
Elektrische Versorgungs
leistung		 1 KW
Target-Zusammensetzung 20 Atom-% Ni (Rest Co)
Elektrodenabstand 108 mm
Dicke des magnetischen Films 50 nm
Geschwindigkeit der Film
formierung		 20 nm/min
Substrattemperatur 2000C
Durch Sputtern wurde ein Schutzfilm aus Si in einer Dicke von 20 nm unter Verfolgung des oben beschriebenen Verfahrens gebildet, mit der Ausnahme, daß das Target aus Si mit einer Reinheit von 99,99 % gebildet war. Auf diesem Schutzfilm wurde zur Vervollständigung des magnetischen Aufzeichnungsmediums eine C-Schicht gebildet. Dieses magnetische Aufzeichnungsmedium wurde auf seine CSS-Beständigkeit untersucht. Bei der Untersuchung der CSS-Beständigkeit wurde eine mit einem Schutzfilm versehene Probe mit 5 1/4 Zoll Durchmesser auf einem entsprechenden Plattenantrieb montiert. Bei der Untersuchung wurde ein Mn-Zn-Winchesterkopf verwendet, wobei das Spiel des Kopfes in einem Zwischenraum-Umfangsteil R = 50 cm auf 0,45 ym festgelegt war (bei einem Wert von 3600 U/min). Der CSS-Zyklus entsprach der Darstellung in Figur 1.
Die CSS-Beständigkeit wurde nach Beendigung an dem Punkt beurteilt, an dem der Verlust des Wiedergabeausgangssignals bezogen auf den Anfangswert 10 % betrug oder bei einer Zunähme der Fehleranzahl gerade um eins.
Die Untersuchungsergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Beispiel 2
Ein magnetisches Aufzeichnungsmedium wurde entsprechend dem Verfahren von Beispiel 1 hergestellt, bis auf die Ausnahme, daß das Material der ersten Schicht des Schutzfilms und die Dicke der ersten und zweiten Schicht entsprechend Tabelle 1 verändert wurden.
Die Ergebnisse der Untersuchung, der CSS-Beständigkeit sind in Tabelle 1 gezeigt.
Vergleichsuntersuchung 1
Unter Verfolgung des Verfahrens nach Beispiel 1 wurden magnetische Aufzeichnungsmedien hergestellt, bis auf die Ausnahme, daß unabhängig SiO2/ Osmium, Siliziumnitrid, Siliziumcarbid und Kohlenstoff mit Diamantstruktur als Materialien für die Schutzfilme verwendet wurden. Diese magnetischen Aufzeichnungsmedien wurden auf ihre CSS-Beständigkeit untersucht.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 dargestellt. Tabelle 1 ist zu entnehmen, daß die Schutzfilme der erfindungsgemäßen magnetischen Aufzeichnungsmedien hohe Schmier-
25 eigenschafts-Kennwerte zeigen.
Daneben wurden Proben vorbereitet, bei denen die Schutzfilme jeweils aus Osmium, Siliziumnitrid, Siliziumcarbid und Kohlenstoff mit Diamantstruktur mit einer festen Dicke von 40 nm hergestellt waren. Bei der Untersuchung der CSS-Beständigkeit zeigte sich, daß diese gleichbleibend nicht über 10 K hinausging. Selbst bei Aufbringen eines Fluorkohlenstoff-Schmierstoffes in einer Dicke von etwa 10 nm auf die Schutzfilme war die CSS-Beständigkeit gleichbleibend geringer als 20 K. Da im allgemeinen eine CSS-Beständigkeit über 10 K oder 20 K erforderlich ist, erfüllten diese Schutzfilme die Zu-
lässigkeitsvoraussetzungen bezüglich der CSS-Beständigkeit
nicht.
Beispiel 3
Unter Anwendung des Verfahrens nach Beispiel 1 wurden magnetische Aufzeichnungsmedien hergestellt, mit der Ausnahme, daß die Gesamtdicke des Schutzfilms im Bereich von 30 bis 100 nm verändert wurde, wobei das Dickenverhältnis der ersten und zweiten Schicht auf 1:2 festgelegt war. Diese magnetischen Aufzeichnungsmedien wurden auf ihre CSS-Eigenschäften untersucht. Die Ergebnisse sind in Figur 2 gezeigt. Vergleichsuntersuchung 2
Entsprechend dem Verfahren der Vergleichsuntersuchung 1 wurden magnetische Aufzeichnungsmedien hergestellt, wobei Schutzfilme aus Kohlenstoff mit Diamantstruktur Anwendung fanden, deren Dicke zwischen 30 und TOO nm verändert wurde. Diese Aufzeichnungsmedien wurden auf ihre CSS-Beständigkeit untersucht. Die Ergebnisse sind in Figur 2 gezeigt.
Aus Figur 2 ist ersichtlich, daß die erfindungsgemäßen magnetischen Aufzeichnungsmedien eine hervorragende CSS-Beständigkeit aufweisen. Die Ergebnisse zeigen naturgemäß, daß sich die CSS-Beständigkeit proportional zum Anstieg der Filmdicke verbessert.
Einige der magnetischen Aufzeichnungsmedien nach den vorhergehenden Arbeitsbeispielen und Vergleichsuntersuchungen, wie sie in Tabelle 1 gezeigt sind, wurden weiterhin auf ihre Korrosions- und Witterungsbeständigkeit untersucht.
Diese Untersuchung wurde nach einem Verfahren durchgeführt, bei dem eine Probe für eine Woche in reines Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 3 ΜΩ-cm (25 C) eingetaucht und der Verlust (ABr) der Sättigungs-Magnetflußdichte (Br) gemessen wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 dargestellt.
Figur 3 zeigt eine grafische Darstellung der Ergebnisse von Untersuchungen der Korrosions- und Witterungsbeständigkeit, die ähnlicherweise an Proben nach dem Beispiel 3 und der Ver-
gleichsuntersucb ung 2 durchgeführt wurden.
Tabelle 2 und Figur 3 ist zu entnehmen, daß die erfindungsgemäßen magnetischen Aufzeichnungsmedien eine hervorragende Korrosions- und Witterungsbeständigkeit aufweisen. Unter Anwendung der oben dargestellten technischen Lehre sind vielfältige Modifikationen und Abwandlungen der beschriebenen Ausführungsbeispiele möglich.
TABELLE 1
Nr. Beispiel Nr.
u. Vergleichs-
UQtersuchung		 Magnetfilm Dicke Schutzfilm Dicke (nm) Dicke der 2.Schicht CSS-Bestän
digkeit
(K Zyklen)
1 Nr. Zusammensetz. (nm) 1. Schicht 20 (C-Schicht)
(nm)
2 Beispiel 1 Atan-%) 50 Zusammensetzung 10 30, 60
3 2 Co-20Ni Il Si 30 70 130
4 2 Il Il Si 20 20 40
5 2 Il Il Si (10+10) 40 70
6 " 2 Il Il Ge 10 30 50
7 2 Il Il Ge+Si (10+10) 40 70
8 2 Il Il Cr2O3 (10+10+10) = 30 40 80
9 2 Il Il Si-J-Cr2O3 20 30 50
10 2 Il Il Si+Ge+Cr2O3 60 40 75
Vergleichs " It Cr2O3 keine 25
11 untersuchung 1 Il SiO0 60
12 1 Il 60 keine 15
13 1 Il Il Osmium 60 keine 10
14 1 Il Il Siliziumnitrid 60 keine 12
1 It Il Siliziumcarbid keine 16
It Diamantstruktur
C
TABELLE 2
Nr. nach
Tabelle 1		 Beispiel Nr. und
Vergleichsunter
suchung Nr.		 1 1 (ABr/Br)
(%		 χ 100
)
1 Beispiel 2 1 1, 0
2 Il 2 1 1, 3
4 Il 2 1 1, 4
5 Il 2 1, 5
6 Il 2 1, 0
I 8 Il Vergleichsunter
suchung 1		 1, 5
t
10		 Il 14
! 11 Il 16
12 Il 17
13 13
' 14
i		 18
- Leerseite -

Claims (16)

PATENTANWÄLTE ; * STREHL SCHÜBEL-HOPF SCHULZ 3546325 λ WIDENMAYERSTRASSE 17, D-8000 MÜNCHEN 22 HITACHI METALS, LTD. 30· Dezember 1985 DEA-27 44 9 Magnetisches Aufζ eichnungsmedium PATENTANSPRÜCHE
1. Magnetisches Aufzeichnungsmedium, gekennzeichnet durch ein scheibenförmiges Substrat, einen auf der Oberfläche des Substrats gebildeten magneti- * sehen Film und einen auf der Oberfläche des magnetischen Films gebildeten Schutzfilm, wobei der Schutzfilm aus einer ersten Schicht, die zumindest einen Stoff aus der Gruppe Cr^O.,, Si und Ge enthält, sowie einer zweiten Schicht aus amorphem Kohlenstoff aufgebaut ist, die auf die Vorderseite der ersten Schicht aufgebracht ist.
2. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die erste Schicht des Schutzfilms eine Dicke im Bereich von 10 bis 30 nm, und die zweite Schicht des Schutzfilms eine Dicke im Bereich von 20 bis 70 nm hat.
3. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die zweite Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder amorphen Kohlenstoff enthaltendem Graphit mit einem spezifischen Widerstand im
-2 2
Bereich von 10 bis 10 Ω«cm hergestellt ist.
4. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet , daß das Substrat aus Aluminium oder einer Legierung auf Aluminiumbasis hergestellt ist.
5. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Ansprüche
1 bis 3, dadurch gekennzeichnet , daß das \ Substrat aus einer Legierung auf Aluminiumbasis hergestellt ist, die nicht mehr als 7 Gew.-% Magnesium enthält.
6. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet , daß der magnetische Film aus einer Legierung mit einer der Zusammensetzungen Co-Ni, Co-Ni-Pt, Co-Ni-P, Co-Cr, Co-Cr-Pt, Co-Ni-Cr und Co-P hergestellt ist.
7. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der magnetische Film aus einer Co-Ni-Legierung hergestellt ist, die Ni in einerKonzentration von 5 bis 35 Atom-% enthält.
8. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , daß der magnetische Film aus einer Co-Ni-Pt-Legierung hergestellt ist, die 5 bis 40 Atom-% Ni und nicht mehr als 12 Atom-% Pt enthält.
9. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , daß der magnetische Film aus einer Co-Ni-P-Legierung hergestellt ist, die 5 bis 40 Atom-% Ni und nicht mehr als 12 Atom-% P enthält.
10. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , daß der magnetische Film aus einer Co-Cr-Legierung hergestellt ist, die 5 bis Atom-% Cr enthält.
11. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , daß der magnetische Film aus einer Co-Cr-Pt-Legierung hergestellt ist, die 5 bis 20 Atom-% Cr urfd 1 bis 10 Atom-% Pt enthält.
12. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 6, dadurch gekenn zei chne t, daß der magnetische Film aus einer Co-Ni-Cr-Legierung hergestellt ist, die 10 bis
20 35 Atom-% Ni und 3 bis 15 Atom-% Cr enthält.
13. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet , daß der
magnetische Film und der Schutzfilm nach dem Sputterverfahren gebildet sind.
14. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Substrat und dem magnetischen Film eine Unterlageschicht liegt, die härter als das Substrat ist.
15.. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Substrat und dem magnetischen Film eine Schicht liegt, die die Haftung des magnetischen Films am Substrat erhöht.
16. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet , daß auf den Schutzfilm ein Schmierstoff aufgebracht ist.
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