JPH0268715A - 薄膜磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
薄膜磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0268715A JPH0268715A JP22070488A JP22070488A JPH0268715A JP H0268715 A JPH0268715 A JP H0268715A JP 22070488 A JP22070488 A JP 22070488A JP 22070488 A JP22070488 A JP 22070488A JP H0268715 A JPH0268715 A JP H0268715A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、固定磁気ディスク装置に用いられる薄膜磁
気記録媒体〈以下、単にディスクとも称する）の製造方
法に関する。
気記録媒体〈以下、単にディスクとも称する）の製造方
法に関する。
近年、固定磁気ディスク装置（以下ＨＤＤとも略称する
）は大記憶容量、 Ｌｏｗ Ｂｉｔ Ｃｏ５ｔ、高速ア
クセスなど利点が多いことから、コンピュータなどの情
報処理装置の外部記憶装置として脚光を浴びている。特
にその記憶容量の増大は目覚ましく、３．５’ＨＤＤに
おいてはｌＯ〜２０ＭＢであったのが４０〜６０ＭＢへ
と推移してきているが、さらに記憶容量を増大させるこ
とが強く望まれている。
）は大記憶容量、 Ｌｏｗ Ｂｉｔ Ｃｏ５ｔ、高速ア
クセスなど利点が多いことから、コンピュータなどの情
報処理装置の外部記憶装置として脚光を浴びている。特
にその記憶容量の増大は目覚ましく、３．５’ＨＤＤに
おいてはｌＯ〜２０ＭＢであったのが４０〜６０ＭＢへ
と推移してきているが、さらに記憶容量を増大させるこ
とが強く望まれている。
このような記憶容量の大容量化を実現するために、
（ａ）記憶素子としてのディスクの保磁力を高めること
によるディスクの高記録密度化 ら）磁気ヘッドの低浮上化によるディスクへの高記録密
度化 （Ｃ）搭載するディスク枚数を増加させることによる大
記憶容量化 が考えられ、研究、開発が進められている。
によるディスクの高記録密度化 ら）磁気ヘッドの低浮上化によるディスクへの高記録密
度化 （Ｃ）搭載するディスク枚数を増加させることによる大
記憶容量化 が考えられ、研究、開発が進められている。
この発明は、上述の項目のうち（Ｃ）項に着目してＨＤ
Ｄの記憶容量の増大を図るものである。
Ｄの記憶容量の増大を図るものである。
ＨＤＤにおいては、情報の記録・再生に際して、磁気ヘ
ッドがディスク表面でいわゆるＣ８５（Ｃｏｎｔａｃｔ
５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）を繰り返す。ＣＳＳの回数が
多くなるにつれて、磁気ヘッドとディスク表面との摩擦
係数が増大してきて、ディスク表面に傷が生じたり、ヘ
ッドクラッンユが起きたり、ディスクが回転不能になっ
たりする不具合が発生するに至る。
ッドがディスク表面でいわゆるＣ８５（Ｃｏｎｔａｃｔ
５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）を繰り返す。ＣＳＳの回数が
多くなるにつれて、磁気ヘッドとディスク表面との摩擦
係数が増大してきて、ディスク表面に傷が生じたり、ヘ
ッドクラッンユが起きたり、ディスクが回転不能になっ
たりする不具合が発生するに至る。
従来、このような現象を防ぐために、ディスクの磁性層
上にカーボンからなる保護潤滑層を形成し、磁性層の保
護と同時にディスク表面の潤滑性を高め、摩擦係数を低
減し、またＣ８Ｓを繰り返したときの摩擦係数の増大を
抑えることを図っていたが、カーボン保護潤滑層だけで
は満足できる潤滑性が得られず、−船釣にはその上にさ
らに液体または固体の潤滑剤からなる潤滑層を形成して
潤滑性を向上させている。
上にカーボンからなる保護潤滑層を形成し、磁性層の保
護と同時にディスク表面の潤滑性を高め、摩擦係数を低
減し、またＣ８Ｓを繰り返したときの摩擦係数の増大を
抑えることを図っていたが、カーボン保護潤滑層だけで
は満足できる潤滑性が得られず、−船釣にはその上にさ
らに液体または固体の潤滑剤からなる潤滑層を形成して
潤滑性を向上させている。
ところで、記憶容量を増すためにＨＤＤに搭載するディ
スク枚数を多くすると、上述の不具合が発生する危険性
が大きくなる。この対策として、ディスク表面の潤滑性
をさらに高め、摩擦係数を低減し安定化することが重要
な課題となる。
スク枚数を多くすると、上述の不具合が発生する危険性
が大きくなる。この対策として、ディスク表面の潤滑性
をさらに高め、摩擦係数を低減し安定化することが重要
な課題となる。
この発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、
表面の潤滑性が優れ、摩擦係数が小さ（、かつ、Ｃ８Ｓ
が多数回繰り返されても安定している薄膜磁気記録媒体
の製造方法を提供することを目的とする。
表面の潤滑性が優れ、摩擦係数が小さ（、かつ、Ｃ８Ｓ
が多数回繰り返されても安定している薄膜磁気記録媒体
の製造方法を提供することを目的とする。
上記の目的は、この発明によれば、非磁性基板上に形成
されたＮｉ−Ｐ合金層上に非磁性金属下地層。
されたＮｉ−Ｐ合金層上に非磁性金属下地層。
強磁性金属薄膜磁性層、カーボン保護潤滑層、液体潤滑
剤からなる潤滑層が順次形成されてなる薄膜磁気記録媒
体の製造方法において、前記カーボン保護潤滑層を１５
０℃以上２５０℃以下の温度に保持された下地上にスパ
ッタ法で膜厚２００Å以上４００Å以下の膜として形成
することによって達成される。
剤からなる潤滑層が順次形成されてなる薄膜磁気記録媒
体の製造方法において、前記カーボン保護潤滑層を１５
０℃以上２５０℃以下の温度に保持された下地上にスパ
ッタ法で膜厚２００Å以上４００Å以下の膜として形成
することによって達成される。
優れた潤滑性を得るためにはディスク表面に液体潤滑剤
の層が均一な厚さの安定した膜として形成されていなけ
ればならない。そのためには、液体潤滑剤と下地である
カーボン層との適合性が重要である。すなわち、カーボ
ン層表面が液体潤滑剤とのぬれ性が良く、かつ、強固な
密着性が得られる構造、形状であることが必要である。
の層が均一な厚さの安定した膜として形成されていなけ
ればならない。そのためには、液体潤滑剤と下地である
カーボン層との適合性が重要である。すなわち、カーボ
ン層表面が液体潤滑剤とのぬれ性が良く、かつ、強固な
密着性が得られる構造、形状であることが必要である。
カーボン層表面の構造、形状はその成膜条件に左右され
、下地（非磁性基板上に磁性層まで形成されたもの）温
度を１５０℃以上２５０℃以下に保持し、スパッタ法で
２００Å以上４００Å以下の厚さに成膜されたカーボン
層は液体潤滑剤に対して好適な適合性を有する。
、下地（非磁性基板上に磁性層まで形成されたもの）温
度を１５０℃以上２５０℃以下に保持し、スパッタ法で
２００Å以上４００Å以下の厚さに成膜されたカーボン
層は液体潤滑剤に対して好適な適合性を有する。
従って、このような成膜条件で形成されたカーボン保護
潤滑層の上に液体潤滑剤からなる潤滑層を設けたディス
クは優れた潤滑性を有するものとなる。
潤滑層の上に液体潤滑剤からなる潤滑層を設けたディス
クは優れた潤滑性を有するものとなる。
ディスクのカーボン層成膜の因子とディスクの潤滑性と
の関係を探るために、直交配列法により実験を行った。
の関係を探るために、直交配列法により実験を行った。
成膜因子として下地温度（Ｔｓｕｂ） 。
スパッタ時のアルゴンガス圧（ＰＡｒ）、膜厚（δ）を
とり、各因子を第１表に示す通り２水準に変化させて、
第２表に示すような８種類の実験を行い、試料を作製し
た。
とり、各因子を第１表に示す通り２水準に変化させて、
第２表に示すような８種類の実験を行い、試料を作製し
た。
第１表
第２表
試料は以下の方法で作製した。ディスク状Ａ２合金基板
の表面に切削加工を施し、その上に無電解めっき法でＮ
ｉ−Ｐ合金層を形成する。このＮｉ−Ｐ合金層に超精密
平面研摩を施して表面粗さをＲａ で２０Å以下とし、
さらにその上にＴｅＸｔｕｒｅを施して所要の表面形状
の基板とする。この基板を精密洗浄した後、インライン
方式のスパッタ装置により所要の各層の成膜を行う。基
板をホルダーに装着し、スパッタ装置の仕込室へ搬入す
る。５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒ以下の高真空に排気した後、
成膜室へ搬送し、基板を所要の温度にまで加熱する。そ
の後、基板を低速搬送しなからＣｒ下地層、 Ｃｏ系合
金磁性層。
の表面に切削加工を施し、その上に無電解めっき法でＮ
ｉ−Ｐ合金層を形成する。このＮｉ−Ｐ合金層に超精密
平面研摩を施して表面粗さをＲａ で２０Å以下とし、
さらにその上にＴｅＸｔｕｒｅを施して所要の表面形状
の基板とする。この基板を精密洗浄した後、インライン
方式のスパッタ装置により所要の各層の成膜を行う。基
板をホルダーに装着し、スパッタ装置の仕込室へ搬入す
る。５Ｘ１０−’Ｔｏｒｒ以下の高真空に排気した後、
成膜室へ搬送し、基板を所要の温度にまで加熱する。そ
の後、基板を低速搬送しなからＣｒ下地層、 Ｃｏ系合
金磁性層。
カーボン保護潤滑層をスパッタ法で順次成膜する。
カーボン成膜のときにはＴｓｕｂ、 ＰＡｒ、 δを
それぞれ各実験に対応して変化させて各試料を作製した
。
それぞれ各実験に対応して変化させて各試料を作製した
。
成膜完了後、取出室へ搬送し、大気を導入後基板を取り
出す。次にカーボン保護潤滑層上に液体潤滑剤を塗布し
て潤滑層を形成しディスクとする。
出す。次にカーボン保護潤滑層上に液体潤滑剤を塗布し
て潤滑層を形成しディスクとする。
これらの試料について潤滑性を評価した。潤滑性の評価
は一般にＣ８Ｓを所定回数繰り返したときの動摩擦係数
Ｃ８Ｓμを測定して評価するが、通常Ｃ８Ｓを２万回程
度以上行う必要があり測定に時間がかかるので、はぼ等
価の加速試験であるＳＣＴを所定時間行ったときの動摩
擦係数ＳＣＴμ（Ｄｒｕｇ Ｔｅ５ｔμ）を測定して評
価を行った。この方法は、ディスクを低速回転させ、デ
ィスク表面に磁気ヘッドを接触走行させて所定時間後の
動摩擦係数μを測定する評価方法である。ＳＣＴで６０
分分間性させたときのμ値（μ）１８０ｍｉ、、）がＣ
５５２万回後のＣ８Ｓμと相関があるのでμ１１６０Ｍ
Ｉｎを測定して評価した。その結果を第２表に示しであ
る。この測定値について分散分析を行った分散分析表を
第３表として示す。
は一般にＣ８Ｓを所定回数繰り返したときの動摩擦係数
Ｃ８Ｓμを測定して評価するが、通常Ｃ８Ｓを２万回程
度以上行う必要があり測定に時間がかかるので、はぼ等
価の加速試験であるＳＣＴを所定時間行ったときの動摩
擦係数ＳＣＴμ（Ｄｒｕｇ Ｔｅ５ｔμ）を測定して評
価を行った。この方法は、ディスクを低速回転させ、デ
ィスク表面に磁気ヘッドを接触走行させて所定時間後の
動摩擦係数μを測定する評価方法である。ＳＣＴで６０
分分間性させたときのμ値（μ）１８０ｍｉ、、）がＣ
５５２万回後のＣ８Ｓμと相関があるのでμ１１６０Ｍ
Ｉｎを測定して評価した。その結果を第２表に示しであ
る。この測定値について分散分析を行った分散分析表を
第３表として示す。
第３表
また、ａ ：Ｔｓｕｂ、 ｃ ：δを因子としてμＭ
６０ｍＩｎを推定した直交表推定値グラフを第２図に示
す。
６０ｍＩｎを推定した直交表推定値グラフを第２図に示
す。
第３表および第２図により、ディスクの潤滑性とカーボ
ン成膜時の基板温度Ｔｓｕｂ 、カーボン膜厚δとが強
い相関があることが判る。
ン成膜時の基板温度Ｔｓｕｂ 、カーボン膜厚δとが強
い相関があることが判る。
そこで、次にディスクの潤滑性を示すμＭ６０ｍｌ、と
カーボン成膜時の基板温度Ｔｓｕｂ 、カーボン膜厚δ
との関係を詳細に調べた。その結果を第１図に示す。第
１図はカーボン膜厚δをパラメータとして基板温度Ｔｓ
ｕｂとμに６０ａｉｎとの関係を示した線図である。
カーボン成膜時の基板温度Ｔｓｕｂ 、カーボン膜厚δ
との関係を詳細に調べた。その結果を第１図に示す。第
１図はカーボン膜厚δをパラメータとして基板温度Ｔｓ
ｕｂとμに６０ａｉｎとの関係を示した線図である。
第１図よりＴｓｕｂが高い程μに６０ｍ＋、、が小さい
ことが判る。しかしながらディスク基板に形成されてい
るＮｉ−Ｐ合金は約２７５℃で磁化し、Ｒ／Ｗ特性に悪
影響を及ぼすようになるので、Ｔｓｕｂは２７５℃以下
としなければならない。一方、一般にμに６０ａｌｎ値
は約０．３２以下であることが要求されるのでＴｓｕｂ
は１５０℃以上でなければならないことが判る。
ことが判る。しかしながらディスク基板に形成されてい
るＮｉ−Ｐ合金は約２７５℃で磁化し、Ｒ／Ｗ特性に悪
影響を及ぼすようになるので、Ｔｓｕｂは２７５℃以下
としなければならない。一方、一般にμに６０ａｌｎ値
は約０．３２以下であることが要求されるのでＴｓｕｂ
は１５０℃以上でなければならないことが判る。
また、カーボン膜厚δが厚い程μＸ６０＋ａｌｎは小さ
くなるが、δが厚くなる程その差が小さくなり、３５０
人と４００人ではほとんど差がないことが判る。
くなるが、δが厚くなる程その差が小さくなり、３５０
人と４００人ではほとんど差がないことが判る。
一方、カーボン層は磁性層の保護の役目も要求されてお
り、そのためにはδが２００Å以上必要であることが知
られている。
り、そのためにはδが２００Å以上必要であることが知
られている。
以上の結果より、Ｔｓｕｂは１５０℃以上２５０℃以下
δは２００Å以上４００Å以下が好適であることが判る
。
δは２００Å以上４００Å以下が好適であることが判る
。
この発明によれば、薄膜磁気記録媒体の製造方法におい
て、磁性層上に形成するカーボン保護潤滑層を１５０℃
以上２５０℃以下の温度に保持された下地上にスパック
法で膜厚２００Å以上４００Å以下の膜として形成する
。
て、磁性層上に形成するカーボン保護潤滑層を１５０℃
以上２５０℃以下の温度に保持された下地上にスパック
法で膜厚２００Å以上４００Å以下の膜として形成する
。
このような成膜条件で形成されたカーボン層は、その上
に塗布される液体潤滑剤との適合性が好適で、液体潤滑
剤からなる良好な潤滑層が形成できることになる。
に塗布される液体潤滑剤との適合性が好適で、液体潤滑
剤からなる良好な潤滑層が形成できることになる。
かくして、表面の潤滑性が優れ、摩擦係数が小さく、か
つ、Ｃ８Ｓが多数回繰り返されても摩擦係数の増加が少
ない薄膜磁気記録媒体が得られ、このような薄膜磁気記
録媒体を多数枚搭載することにより、固定磁気ディスク
装置の記憶容量を増４゜ 大させることが可能となる。
つ、Ｃ８Ｓが多数回繰り返されても摩擦係数の増加が少
ない薄膜磁気記録媒体が得られ、このような薄膜磁気記
録媒体を多数枚搭載することにより、固定磁気ディスク
装置の記憶容量を増４゜ 大させることが可能となる。
第１図はカーボン膜厚δをパラメータとして基板温度Ｔ
ｓｕｂとμに６０ｓｉｎとの関係を示した線図、第２図
は基板温度Ｔｓｕｂとカーボン膜厚δを因子としてμ、
６゜、１．、を推定した直交表推定値グラフである。 ０．２８Ｉ
ｓｕｂとμに６０ｓｉｎとの関係を示した線図、第２図
は基板温度Ｔｓｕｂとカーボン膜厚δを因子としてμ、
６゜、１．、を推定した直交表推定値グラフである。 ０．２８Ｉ
Claims (1)
- １）非磁性基板上に形成されたＮｉ−Ｐ合金層上に非磁
性金属下地層、強磁性金属薄膜磁性層、カーボン保護潤
滑層、液体潤滑剤からなる潤滑層が順次形成されてなる
薄膜磁気記録媒体の製造方法において、前記カーボン保
護潤滑層が１５０℃以上２５０℃以下の温度に保持され
た下地上にスパッタ法で膜厚２００Å以上４００Å以下
の膜として形成されることを特徴とする薄膜磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22070488A JPH0268715A (ja) | 1988-09-03 | 1988-09-03 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22070488A JPH0268715A (ja) | 1988-09-03 | 1988-09-03 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0268715A true JPH0268715A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=16755190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22070488A Pending JPH0268715A (ja) | 1988-09-03 | 1988-09-03 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0268715A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61265725A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-25 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS61267929A (ja) * | 1985-01-17 | 1986-11-27 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-09-03 JP JP22070488A patent/JPH0268715A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61267929A (ja) * | 1985-01-17 | 1986-11-27 | Hitachi Metals Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS61265725A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-25 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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