DE3542233A1 - Waessriges bad und verfahren zur verbesserung der eigenschaften fotografischer aufzeichnungsmaterialien - Google Patents
Waessriges bad und verfahren zur verbesserung der eigenschaften fotografischer aufzeichnungsmaterialienInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein wäßriges Bad und ein Verfahren
zur Verbesserung der Eigenschaften fotografischer Aufzeichnungsmaterialien.
Ein großes Problem bei der Verarbeitung fotografischer
Aufzeichnungsmaterialien ist deren elektrostatische Aufladung.
Hierdurch kommt es z. B. zur verstärkten Ablagerung
von Staub auf den Aufzeichnungsmaterialien. Dieses ist
besonders dann kritisch, wenn sich der Staub auf Filme
niedersetzt, die vergrößert werden sollen. Derartiger
Staub verursacht beim Vergrößern helle Flecken. Dieses ist
insbesondere bei großformatiger Vergrößerung außerordentlich
unerwünscht. Um eine derartige Staubablagerung zu
verhindern, ist die Verwendung von Reinigungsbürsten,
Ultraschallreinigung, Ionisation der Luft durch
radioaktive Strahlung, Verwendung spezieller "Reinigungsvliese",
und die Verwendung spezieller Lacke bekannt.
Die Bandbreite der angewendeten Hilfsmaßnahmen zeigt
einerseits die Größe und Bedeutung des Problems. Sie zeigt
andererseits aber auch, daß es noch keine wirklich befriedigende
Lösung für dieses Problem gibt; eine Lösung nämlich,
die einfach, sicher und wirksam ist und sich deshalb
in der fotografischen Praxis durchgesetzt hat.
Üblicherweise werden fotografische Bilder nach Abschluß
der Entwicklung und Fixage Schlußbädern zur Verbesserung
ihrer Eigenschaften unterworfen. Es ist bereits bekannt,
in den Schlußbädern Netzmittel und gegebenenfalls stabilisierende
Zusätze zu verwenden, siehe US-A-33 69 896, DE-B
11 24 350 und EP-A-29 722. In der DE-A-31 23 771 sind Stabilisierbäder
angegeben, welche eine Phosphonsäure und ein
Fungizid sowie Formaldehyd enthalten. Aus der DE-A
34 12 857 sind Stabilisierbäder bekannt, die Metallionen,
Chelatbildner und Fungizide enthalten. Aus der US-A
37 19 493 sind Bäder mit Komplexbildner und Formaldehyd
bekannt.
Aus der US-A-37 19 493 ist bekannt, viskose Verarbeitungsflüssigkeiten
einzusetzen, z. B. viskose Wässerungsbäder.
Hierzu werden Verdicker wie Polystyrolsulfonsäure verwendet.
Eines der angegebenen Schlußbäder enthält einen Verdicker,
Formalin und Ethylendiamintetraessigsäure. Aus der
japanischen Anmeldung 49 90 129 sind Stabilisierbäder mit
Weinsäure und Polystyrolsulfonsäure bekannt, die die
Stabilität von Farbbildern verbessern sollen.
Gemäß der DE-PS 19 19 858 und der US-A-35 45 970 sollen
Wasserflecken auf fotografischen Materialien durch Verwendung
von Siloxanen in Schlußbädern vermieden werden. Gemäß
der DE-PS 25 09 934 wird der dynamische Reibungskoeffizient
von Filmen verringert durch Verwendung eines Bades,
welches ein Netzmittel und ein Polymethylsiloxan enthält.
Es ist auch schon bekannt, zur Vermeidung statischer Aufladungen
sogenannte Antistatikbäder zu verwenden. Die
hiermit erzielbaren Effekte sind aber unbefriedigend.
Eine höhere Dosierung der verwendeten Wirksubstanz zur
Erzielung von etwas besseren Wirkungen ist nicht realisierbar,
weil höhere Substanzkonzentrationen im Schlußbad
zu Rückständen und Flecken auf den Filmen führen, die auf
den Kopien sichtbar werden und demnach genau so gravierend
und störend sind wie Staubpartikel, die sie verhindern
sollten.
Damit zeigt sich sofort der äußerst begrenzte Spielraum,
der für nachträgliche antistatische Ausrüstung von Filmen
gegeben ist:
a) Unwirksamkeit wegen zu geringer Wirkstoffkonzentration oder
b) Unbrauchbarkeit durch Rückstandsbildung bei an sich wirksamer Konzentration.
a) Unwirksamkeit wegen zu geringer Wirkstoffkonzentration oder
b) Unbrauchbarkeit durch Rückstandsbildung bei an sich wirksamer Konzentration.
Immer wieder zeigte sich, daß Substanzen mit antistatischer
Wirkung entweder die notwendige Netzmittelwirkung
des Schlußbades beeinträchtigen und deshalb zu Wasserflecken
führten, oder daß die notwendigen Konzentrationen
der Antistatik Wirksubstanz so hoch waren, daß diese Substanzen
selbst zu untolerierbaren Rückständen auf den Filmen
beim Trocknen führen.
Der Erfindung lag deshalb die Aufgabe zugrunde, die elektrostatische
Aufladung von Gegenständen, insbesondere von
fotografischen Aufzeichnungsmaterialien zu vermindern.
Gegenstand der Erfindung ist ein wäßriges Bad mit einem
Netzmittel, welches zusätzlich ein Polymer mit sulfonsäuresubstituierten
aromatischen Ringen enthält.
Unter einem wäßrigen Bad wird vorzugsweise ein Bad ohne
Verdicker verstanden.
Besonders bevorzugte Polymere leiten sich von Vinylaromaten
ab, ein besonders bevorzugtes Polymer ist Polystyrolsulfonsäure.
Ein derartiges Polymer, insbesondere Polystyrolsulfonsäure
wird vorzugsweise in einer Konzentration
von 0,1 bis 4,0 g pro Liter, insbesondere von 0,5 bis
2,0 g pro Liter eingesetzt.
In einer bevorzugten Ausführungsform ist das erfindungsgemäß
zu verwendende Netzmittel eine siliciumhaltige Verbindung.
Besonders bevorzugte Netzmittel enthalten eine
Alkoxypoly(ethylenoxy)siloxangruppe und 1 bis 4 Methylsiloxyl-,
Ethylsiloxyl- oder gemischte methyl- und ethylsubstituierte
Siloxylgruppen, haben ein durchschnittliches
Molekulargewicht von etwa 300 bis etwa 1000 und enthalten
etwa 10 bis etwa 15 Gew.-% Silicium.
Besonders bevorzugt sind die aus der DE-A-19 19 858 und
der US-A-35 45 970 bekannten Siloxane.
Besonders bevorzugte Siloxane sind diejenigen der allgemeinen
Formeln
worin bedeuten:
q eine ganze Zahl, vorzugsweise 4 bis 12,
Me eine Methylgruppe
m eine ganze Zahl, insbesondere 2 bis 4
R′ eine Alkylgruppe mit 1 bis einschließlich 4 Kohlenstoffatomen, d. h. eine Methyl-, Ethyl-, Propyl- oder Butylgruppe.
q eine ganze Zahl, vorzugsweise 4 bis 12,
Me eine Methylgruppe
m eine ganze Zahl, insbesondere 2 bis 4
R′ eine Alkylgruppe mit 1 bis einschließlich 4 Kohlenstoffatomen, d. h. eine Methyl-, Ethyl-, Propyl- oder Butylgruppe.
Als besonders vorteilhaft hat sich die Verwendung von
Siloxanen der allgemeinen Formel
erwiesen, in der R′ eine kurzkettige Alkyl-, insbesondere
Methyl- oder Ethylgruppe ist.
Die Siloxane können in verschiedenen Konzentrationen verwendet
werden, besonders bevorzugt sind 0,05 bis 2 g pro
Liter, insbesondere 0,1 bis 0,5 g pro Liter.
Andere geeignete Netzmittel, die gegebenenfalls zusammen
mit den zuvor erwähnten Netzmitteln verwendet werden
können, sind beispielsweise Saponin, Kaliumsalze von
Alkenylbernsteinsäureestern, alkylierte Arylsulfonsäuren,
Polyethylenoxidderivate von verzweigten Alkylphenolen oder
Salze perfluorierter Carbonsäuren. Spezielle derartige
Netzmittel sind beispielsweise Octylphenoxypolyethoxyethanol
und Nonylphenoxypolyethoxyethanol.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform ist zusätzlich
ein Chelatbildner im Bad enthalten, z. B. Verbindungen
der folgenden Formel:
worin bedeuten:
L gegebenenfalls substituiertes Alkylen, z. B. Hydroxyalkylen, gegebenenfalls substituiertes Cycloalkylen oder ein durch ein oder mehrere Heteroatome, wie Sauerstoff, unterbrochenes Alkylen,
x 0, 1 oder 2,
R niederes Alkylen, z. B. Methylen und Ethylen einschließlich eines substituierten niederen Alkylens z. B. Alkylen substituiert durch Alkyl, Aryl, Aralkyl, einschließlich substituiertes Alkyl, Aryl und Aralkyl und
R1 und R2 (gleich oder verschieden) Wasserstoff, gegebenenfalls substituiertes niederes Alkyl, gegebenenfalls substituiertes Aralkyl oder gegebenenfalls substituiertes Aryl; Beispiele für substituierte Alkylgruppen, die für R1 und für R2 stehen sind Alkyl substituiert mit Hydroxyl, Halogen, Alkoxy, Carbamoyl, Amino, Amino substituiert z. B. Dihydroxy-alkylamino, Epoxy, Carboxy, Sulfo, Phosphono, Mercapto, Alkylmercapto, Alkoxycarbonyl, ein Stickstoff enthaltender heterocyclischer Ring, z. B. Pyridyl; Beispiele für substituierte Arylgruppen und Aralkylgruppen, die für R1 und/oder R2 stehen sind: Aryl und Aralkyl substituiert durch Hydroxy, Halogen, Alkyl, Alkoxy, Nitro, Carboxyl und Sulfo.
L gegebenenfalls substituiertes Alkylen, z. B. Hydroxyalkylen, gegebenenfalls substituiertes Cycloalkylen oder ein durch ein oder mehrere Heteroatome, wie Sauerstoff, unterbrochenes Alkylen,
x 0, 1 oder 2,
R niederes Alkylen, z. B. Methylen und Ethylen einschließlich eines substituierten niederen Alkylens z. B. Alkylen substituiert durch Alkyl, Aryl, Aralkyl, einschließlich substituiertes Alkyl, Aryl und Aralkyl und
R1 und R2 (gleich oder verschieden) Wasserstoff, gegebenenfalls substituiertes niederes Alkyl, gegebenenfalls substituiertes Aralkyl oder gegebenenfalls substituiertes Aryl; Beispiele für substituierte Alkylgruppen, die für R1 und für R2 stehen sind Alkyl substituiert mit Hydroxyl, Halogen, Alkoxy, Carbamoyl, Amino, Amino substituiert z. B. Dihydroxy-alkylamino, Epoxy, Carboxy, Sulfo, Phosphono, Mercapto, Alkylmercapto, Alkoxycarbonyl, ein Stickstoff enthaltender heterocyclischer Ring, z. B. Pyridyl; Beispiele für substituierte Arylgruppen und Aralkylgruppen, die für R1 und/oder R2 stehen sind: Aryl und Aralkyl substituiert durch Hydroxy, Halogen, Alkyl, Alkoxy, Nitro, Carboxyl und Sulfo.
Als Beispiele für Polyaminopolycarbonsäuren die der obigen
allgemeinen Formel entsprechen, sind:
1.1Ethylendiamin-N,N,N′,N′-tetraessigsäure 1.21,2-Propylendiamin-N,N,N′,N′-tetraessigsäure 1.3Ethylendiamin-N,N,N′,N′-tetrapropionsäure 1.4N-(2-Hydroxyethyl)-ethylendiamin-N,N′,N′-triessigsäure 1.5N-(2-Hydroxypropyl)-ethylendiamin-N,N′,N′-triessigsäure 1.6N-(2,3-Dihydroxypropyl)-ethylendiamin-N,N′,N′- triessigsäure 1.7N,N′-Di-(2-hydroxyethyl)-ethylendiamin-N,N′- diessigsäure 1.8Diethylentriamin-N,N,N″,N″-pentaessigsäure 1.9Nitrilotriessigsäure 1.10Ethylendiamin-N,N′-di-(o-hydroxyphenylessigsäure) 1.11Di-(2-hydroxyethyl)-aminoessigsäure 1.122-Hydroxyethyl-amino-diessigsäure 1.131,2-Aminocyclohexan-N,N,N′,N′-tetraessigsäure 1.142,3-Dihydroxypropyl-aminodiessigsäure 1.15Ethylenglykol-bis(2-aminoethyl)-N,N,N′,N′-tetraessigsäure 1.16N,N′-Di-[3-di-(2-hydroxyethyl)-amino-2-hydroxypropyl]- ethylendiamin-N,N′-diessigsäure 1.17N-(2-Hydroxyethyl)-N′-(α-pyridinomethyl)-ethylendiamin- N,N′-diessigsäure 1.18N-(2-Hydroxyethyl)-N′-phosphonomethyl-ethylendiamin- N,N′-diessigsäure 1.19N-(2,3-Dihydroxypropyl)-N′-(2-sulfoethyl)-ethylendiamin- N,N′-diessigsäure 1.20N-(2-Mercapto-1-carboxy-ethyl)-N′-(2-hydroxyethyl)- ethylendiamin-N,N′-diessigsäure 1.21N-(3,5-Dichlor-4-hydroxy-benzyl)-N′-(2-hydroxyethyl)- ethylendiamin-N,N′-diessigsäure 1.222-Hydroxy-propylendiamin-N,N,N′,N′-tetraessigsäure
1.1Ethylendiamin-N,N,N′,N′-tetraessigsäure 1.21,2-Propylendiamin-N,N,N′,N′-tetraessigsäure 1.3Ethylendiamin-N,N,N′,N′-tetrapropionsäure 1.4N-(2-Hydroxyethyl)-ethylendiamin-N,N′,N′-triessigsäure 1.5N-(2-Hydroxypropyl)-ethylendiamin-N,N′,N′-triessigsäure 1.6N-(2,3-Dihydroxypropyl)-ethylendiamin-N,N′,N′- triessigsäure 1.7N,N′-Di-(2-hydroxyethyl)-ethylendiamin-N,N′- diessigsäure 1.8Diethylentriamin-N,N,N″,N″-pentaessigsäure 1.9Nitrilotriessigsäure 1.10Ethylendiamin-N,N′-di-(o-hydroxyphenylessigsäure) 1.11Di-(2-hydroxyethyl)-aminoessigsäure 1.122-Hydroxyethyl-amino-diessigsäure 1.131,2-Aminocyclohexan-N,N,N′,N′-tetraessigsäure 1.142,3-Dihydroxypropyl-aminodiessigsäure 1.15Ethylenglykol-bis(2-aminoethyl)-N,N,N′,N′-tetraessigsäure 1.16N,N′-Di-[3-di-(2-hydroxyethyl)-amino-2-hydroxypropyl]- ethylendiamin-N,N′-diessigsäure 1.17N-(2-Hydroxyethyl)-N′-(α-pyridinomethyl)-ethylendiamin- N,N′-diessigsäure 1.18N-(2-Hydroxyethyl)-N′-phosphonomethyl-ethylendiamin- N,N′-diessigsäure 1.19N-(2,3-Dihydroxypropyl)-N′-(2-sulfoethyl)-ethylendiamin- N,N′-diessigsäure 1.20N-(2-Mercapto-1-carboxy-ethyl)-N′-(2-hydroxyethyl)- ethylendiamin-N,N′-diessigsäure 1.21N-(3,5-Dichlor-4-hydroxy-benzyl)-N′-(2-hydroxyethyl)- ethylendiamin-N,N′-diessigsäure 1.222-Hydroxy-propylendiamin-N,N,N′,N′-tetraessigsäure
Besonders bevorzugte Chelatbildner sind Phosphonsäuren
entsprechend folgender Formel (VI)
in der
M ein Wasserstoffatom oder ein wasserlöslich machendes Kation, beispielsweise ein Alkalimetallatom, z. B. ein Natrium- oder Kaliumatom, eine Ammonium-, Pyridinium-, Triethanolammonium- oder Triethylammoniumgruppe,
B ein gegebenenfalls substituiertes Bindeglied, insbesondere (CH2) n , wobei n eine ganze Zahl, vorzugsweise 1 oder 2 ist, oder eine substituierte Alkylengruppe
R10, R11 gleich oder verschieden sind und Wasserstoff, eine gegebenenfalls substituierte Carbamoylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe mit vorzugsweise 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Methyl-, Ethyl-, Propyl-, Isopropyl- oder Butylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, z. B. eine Phenyl-, o-, m- und p-Tolyl-, o- und p-Carboxyphenylgruppe sowie deren wasserlösliche Salze, wie z. B. die Natrium- und Kaliumsalze, eine gegebenenfalls substituierte Aralkylgruppe mit vorzugsweise 7 bis 9 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Benzyl-β-phenethyl- oder o-Acetamidobenzylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte alicyclische Gruppe mit vorzugsweise 5 bis 6 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Cyclohexyl- oder Cyclopentylgruppe, oder einen gegebenenfallls substituierten heterocyclischen Rest, z. B. eine Heterocyclylalkylgruppe, z. B. eine Morpholin-, Pyrrolidylalkyl-, Benzthiazolylmethyl- oder Tetrahydrochinolylmethylgruppe bedeuten.
M ein Wasserstoffatom oder ein wasserlöslich machendes Kation, beispielsweise ein Alkalimetallatom, z. B. ein Natrium- oder Kaliumatom, eine Ammonium-, Pyridinium-, Triethanolammonium- oder Triethylammoniumgruppe,
B ein gegebenenfalls substituiertes Bindeglied, insbesondere (CH2) n , wobei n eine ganze Zahl, vorzugsweise 1 oder 2 ist, oder eine substituierte Alkylengruppe
R10, R11 gleich oder verschieden sind und Wasserstoff, eine gegebenenfalls substituierte Carbamoylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe mit vorzugsweise 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Methyl-, Ethyl-, Propyl-, Isopropyl- oder Butylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte Arylgruppe, z. B. eine Phenyl-, o-, m- und p-Tolyl-, o- und p-Carboxyphenylgruppe sowie deren wasserlösliche Salze, wie z. B. die Natrium- und Kaliumsalze, eine gegebenenfalls substituierte Aralkylgruppe mit vorzugsweise 7 bis 9 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Benzyl-β-phenethyl- oder o-Acetamidobenzylgruppe, eine gegebenenfalls substituierte alicyclische Gruppe mit vorzugsweise 5 bis 6 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Cyclohexyl- oder Cyclopentylgruppe, oder einen gegebenenfallls substituierten heterocyclischen Rest, z. B. eine Heterocyclylalkylgruppe, z. B. eine Morpholin-, Pyrrolidylalkyl-, Benzthiazolylmethyl- oder Tetrahydrochinolylmethylgruppe bedeuten.
R10 und R11 können, insbesondere dann, wenn sie eine
Alkylgruppe bedeuten, mit wenigstens einer Hydroxylgruppe-,
-PO3M2-, -CH2PO3M2- oder -N(CH2) n PO3M2-Gruppe,
weiter substituiert sein, wobei M die oben angegebene
Bedeutung hat.
Ganz besonders bevorzugte Chelatbildner entsprechen der
folgenden Formel (VII)
worin
R10, R11 und M die unter Formel (VI) angegebene Bedeutung haben.
R10, R11 und M die unter Formel (VI) angegebene Bedeutung haben.
Unter erfindungsgemäß zu verwendenden Phosphonsäuren
werden auch derartige verstanden, die statt eienr
PO3M2-Gruppe eine kondensierte Phosphonsäuregruppierung,
z. B. der folgenden Struktur
aufweisen.
Besonders bevorzugte Phosphonsäuren der Formel (VII)
sind:
Bevorzugte Verbindungen der Formel (VII) sind:
Ganz besonders bevorzugte Chelatbildner sind die unter 3.1
und 1.1 angegebenen. Es sind aber auch andere Chelatbildner
geeignet, z. B. das aus der DE-A-33 07 507 bekannte
Polymaleinsäureanhydrid.
Der pH-Wert der erfindungsgemäßen Bäder liegt vorzugsweise
zwischen 0,5 und 10, insbesondere zwischen 3,0 und 9,0 und
ganz besonders bevorzugt zwischen 4,0 und 7,5. Das Bad
kann in an sich bekannter Weise gepuffert werden.
Das erfindungsgemäße Bad kann zusätzlich weitere Verbindungen
zur Erzielung bestimmter Eigenschaften enthalten,
beispielsweise:
- Metallsalze,
- optische Aufheller,
- organische Lösungshilfsmittel, z. B. Ethylenglykol, Polyethylenglykol oder Polyvinylpyrrolidon,
- Fungizide, Bakterizide und sonstige Konservierungsstoffe, wie z. B. Natriumbenzoat, Butylhydroxybenzoat, Antibiotika, Essigsäureanhydrid bzw. wasserfreie Essigsäure, Kaliumsorbat, Thiabendazol und ortho-Phenylphenol; 5-Chloro-2-methyl-4- isothiazolin-3-on, 2-Octyl-4-isothiazolin-3-on, 1,2- Benzisothiazolin-3-on und
- Härtungsmittel.
- Metallsalze,
- optische Aufheller,
- organische Lösungshilfsmittel, z. B. Ethylenglykol, Polyethylenglykol oder Polyvinylpyrrolidon,
- Fungizide, Bakterizide und sonstige Konservierungsstoffe, wie z. B. Natriumbenzoat, Butylhydroxybenzoat, Antibiotika, Essigsäureanhydrid bzw. wasserfreie Essigsäure, Kaliumsorbat, Thiabendazol und ortho-Phenylphenol; 5-Chloro-2-methyl-4- isothiazolin-3-on, 2-Octyl-4-isothiazolin-3-on, 1,2- Benzisothiazolin-3-on und
- Härtungsmittel.
Die Behandlung in dem Bad erfolgt in den üblicherweise
verwendeten Temperaturbereich, insbesondere zwischen 20
und 45°C. Die Behandlungsdauer liegt vorzugsweise zwischen
20 Sekunden und 5 Minuten.
Zusätzlich wurde ein Verfahren zur Verbesserung der Eigenschaften
fotografischer Aufzeichnungsmaterialien gefunden,
welches dadurch gekennzeichnet ist, daß ein in üblicher
Weise entwickeltes Aufzeichnungsmaterial, vorzugsweise am
Schluß der Verarbeitung, mit einem erfindungsgemäßen Bad
behandelt wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren umfaßt wenigstens einen
Entwicklungsschritt, bei welchem das belichtete Silberhalogenid
zu Silber reduziert wird, bei farbfotografischen
Materialien eine Bleichung zur Oxidation des reduzierten
Silbers und eine Fixage zur Entfernung der Silbersalze aus
den Auszeichnungsmaterialien. Bleichung und Fixage können
in an sich bekannter Weise unter Umständen zusammengefaßt
werden. Bei der Entwicklung können die üblichen Bedingungen
der Farbentwicklung eingehalten werden. In der
Regel findet die Entwicklung bei einem pH-Wert von über
8 statt.
Die Entwicklung kann in Gegenwart der üblichen Zusätze
durchgeführt werden, verwiesen wird auf die Research
Disclosure 17 544 vom Dezember 1978, herausgegeben von
Industrial Opportunities Ltd., Homewell Havant, Hampshire,
Großbritannien, Abschnitt XXI und Ullmanns Enzyklopädie
der technischen Chemie, 4. Auflage, Band 18, 1979,
insbesondere Seiten 451, 452 und 463 bis 465. Eine
ausführliche Beschreibung geeigneter Entwicklerzusammensetzungen
und Verarbeitungsverfahren wird angegeben von
Grant Haist, Modern Photographic Processing, John Wiley
and Sons, 1973, Volume 1 und 2.
Im Rahmen der vorliegenden Erfindung können die üblichen
Entwicklersubstanzen verwendet werden. Diese enthalten als
Farbentwicklersubstanz vorzugsweise p-Phenylendiamin-
Derivate, z. B.: N,N-Dimethylp-phenylendiamin, 4-Amino-3-
methyl-N-ethyl-N-methoxyethylanilin, 2-Amino-5-diethyl-
amino-toluol, N-Butyl-N-α-sulfobutyl-p-phenylendiamin,
2-Amino-5-(N-ethyl-N-β-methansulfonamidoethylamino)-
toluol, N-Ethyl-N-β-hydroxyethyl-p-phenylendiamin, N,N-
Bis-(β-hydroxyethyl)-p-phenylendiamin, 2-Amino-5-(N-
ethyl-N-β-hydroxyethylamino)-toluol. Weitere brauchbare
Farbentwickler sind beispielsweise beschrieben in J. Amer.
Chem. Soc. 73, 3100 (1951). Es können zusätzlich aber auch
Schwarz/Weiß-Entwicklersubstanzen verwendet werden.
Im Anschluß an die Entwicklung kann in an sich üblicher
Weise gebleicht und fixiert werden, wobei diese Schritte
auch zusammengefaßt werden können. Es können die üblichen
Bleichmittel verwendet werden. Besonders geeignet sind
Salze und Komplexe des dreiwertigen Eisens sowie Persulfate.
Den lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschichten
der zu verarbeitenden Materialien sind vorzugsweise Farbkuppler
zugeordnet, die mit Farbentwickleroxidationsprodukten
unter Bildung eines Farbstoffes reagieren
können. Bevorzugt sind die Farbkuppler direkt benachbart
zur Silberhalogenidemulsionsschicht und insbesondere in
dieser selbst enthalten.
Als Schutzkolloid bzw. Bindemittel für die Schichten des
Aufzeichnungsmaterials sind die üblichen hydrophilen
filmbildenden Mittel geeignet, z. B. Proteine, insbesondere
Gelatine. Begußhilfsmittel und Weichmacher können verwendet
werden. Verwiesen wird auf die in der oben angegebenen
Research Disclosure 17 643 in Abschnitt IX, XI und XII angegebenen
Verbindungen.
Die Schichten des fotografischen Materials können in der
üblichen Weise gehärtet sein, beispielsweise mit Härtern
des Epoxidtyps, des heterocyclischen Ethylenimins und
des Acryloyltyps. Weiterhin ist es auch möglich, die
Schichten gemäß dem Verfahren der deutschen Offenlegungsschrift
22 18 009 zu härten, um farbfotografische
Materialien zu erzielen, die für eine Hochtemperaturverarbeitung
geeignet sind. Es ist ferner möglich, die
fotografischen Schichten bzw. die farbfotografischen
Mehrschichtenmaterialien mit Härtern der Diazin-
Triazin- oder 1,2-Dihydrochinolin-Reihe zu härten oder
mit Härtern vom Vinylsulfon-Typ. Weitere geeignete Härtungsmittel
sind aus den deutschen Offenlegungsschriften
24 39 551, 22 25 230, 23 17 672 und aus der oben angegebenen
Research Disclosure 17 643, Abschnitt XI bekannt.
Weitere geeignete Zusätze werden in der Research Disclosure
17 643 und in "Product Licensing Index" von
Dezember 1971, Seiten 107-110, angegeben.
Ein handelsüblicher Colornegativfilm mit einer Empfindlichkeit
von 100 ASA wurde bildmäßig belichtet und einer
üblichen Verarbeitung unter Verwendung eines Colornegativentwicklers,
Bleichbades, Fixierbades und eines Schlußbades
unterzogen. Entwicklerbad, Bleichbad und Fixierbad
hatten die für die Colornegativverarbeitung übliche Zusammensetzung.
Als Schlußbad wurden folgende Bäder verwendet:
Das Vergleichsbad war ein handelsübliches Antistatikbad.
Das erfindungsgemäße Bad hatte folgende Zusammensetzung:
Netzmittel gemäß Formel IV: 250 mg
Polystyrolsulfonsäure: 1000 mg
mit Wasser auf 1 l
Polystyrolsulfonsäure: 1000 mg
mit Wasser auf 1 l
Nach Durchlaufen der gesamten Verarbeitung und Trocknung
wurde bei 23°C und 50% relativer Feuchtigkeit der Oberflächenwiderstand
bestimmt. Es wurden folgende Ergebnisse
erhalten:
Der Oberflächenwiderstand sind also deutlich verbessert,
wodurch elektrostatische Aufladungen verhindert bzw. reduziert
werden.
Es wurde wie in Beispiel 1 verfahren, nur wird das Schlußbad
in Abhängigkeit von der Wasserhärte noch Komplexbildner
1.1 bzw. 3.1 zugesetzt. In beiden Fällen wird eine
noch bessere Wirkung als in Beispiel 1 erhalten.
Claims (10)
1. Wäßriges Bad enthaltend ein Netzmittel, dadurch gekennzeichnet,
daß es zusätzlich ein Polymer mit
sulfonsäuresubstituierten aromatischen Ringen enthält.
2. Wäßriges Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Polymer eine Polystyrolsulfonsäure ist.
3. Wäßriges Bad nach wenigstens einem der vorgehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymer
in einer Konzentration von 0,1 bis 4,0 g pro Liter
enthalten ist.
4. Wäßriges Bad nach wenigstens einem der vorgehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Netzmittel
eine siliciumhaltige Verbindung ist.
5. Wäßriges Bad nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die siliciumhaltige Verbindung wenigstens einer
der folgenden Formeln entspricht
worin bedeuten:
q eine ganze Zahl, vorzugsweise 4 bis 12,
Me eine Methylgruppe
m eine ganze Zahl, insbesondere 2 bis 4
R′ eine Alkylgruppe mit 1 bis einschließlich 4 Kohlenstoffatomen, d. h. eine Methyl-, Ethyl-, Propyl- oder Butylgruppe.
q eine ganze Zahl, vorzugsweise 4 bis 12,
Me eine Methylgruppe
m eine ganze Zahl, insbesondere 2 bis 4
R′ eine Alkylgruppe mit 1 bis einschließlich 4 Kohlenstoffatomen, d. h. eine Methyl-, Ethyl-, Propyl- oder Butylgruppe.
6. Wäßriges Bad nach wenigstens einem der vorgehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich ein
Chelatbildner enthalten ist.
7. Wäßriges Bad nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß der Chelatbildner eine Aminopolycarbonsäure oder
eine Phosphonsäure ist.
8. Wäßriges Bad nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß der Chelatbildner Ethylendiamintetraessigsäure
und/oder Hydroxyethandiphosphonsäure ist.
9. Wäßriges Bad nach wenigstens einem der vorgehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es keinen
Verdicker aufweist.
10. Verfahren zur Verbesserung der Eigenschaften fotografischer
Aufzeichnungsmaterialien, dadurch gekennzeichnet,
daß das Material mit einem erfindungsgemäßen
Bad behandelt wird.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853542233 DE3542233A1 (de) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | Waessriges bad und verfahren zur verbesserung der eigenschaften fotografischer aufzeichnungsmaterialien |
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