DE3400139C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE3400139C2
DE3400139C2 DE19843400139 DE3400139A DE3400139C2 DE 3400139 C2 DE3400139 C2 DE 3400139C2 DE 19843400139 DE19843400139 DE 19843400139 DE 3400139 A DE3400139 A DE 3400139A DE 3400139 C2 DE3400139 C2 DE 3400139C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
palladium
bath
range
amount
ammonium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19843400139
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE3400139A1 (de
Inventor
Irina Brooklyn N.Y. Us Movshina
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Omi International Corp (eine Gesellschaft Ndgesd Staates Delaware) Warren Mich Us
Original Assignee
Omi International Corp (eine Gesellschaft Ndgesd Staates Delaware) Warren Mich Us
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omi International Corp (eine Gesellschaft Ndgesd Staates Delaware) Warren Mich Us filed Critical Omi International Corp (eine Gesellschaft Ndgesd Staates Delaware) Warren Mich Us
Publication of DE3400139A1 publication Critical patent/DE3400139A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3400139C2 publication Critical patent/DE3400139C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/50—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
    • C25D3/52—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals characterised by the organic bath constituents used

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
DE19843400139 1983-01-07 1984-01-04 Galvanisches bad fuer die schnellabscheidung von palladium und ein verfahren zur galvanischen schnellabscheidung von palladium Granted DE3400139A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US45576183A 1983-01-07 1983-01-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3400139A1 DE3400139A1 (de) 1984-07-12
DE3400139C2 true DE3400139C2 (fr) 1989-01-19

Family

ID=23810181

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19843400139 Granted DE3400139A1 (de) 1983-01-07 1984-01-04 Galvanisches bad fuer die schnellabscheidung von palladium und ein verfahren zur galvanischen schnellabscheidung von palladium

Country Status (8)

Country Link
JP (1) JPS59133394A (fr)
CA (1) CA1244374A (fr)
DE (1) DE3400139A1 (fr)
FR (1) FR2539145B1 (fr)
GB (1) GB2133041B (fr)
HK (1) HK100086A (fr)
NL (1) NL8400049A (fr)
SG (1) SG66786G (fr)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4676751A (en) * 1985-01-11 1987-06-30 Itzhak Shoher A Metal composite foil, coping, and grown for a ceramo-metal dental restoration
GB2171721B (en) * 1985-01-25 1989-06-07 Omi Int Corp Palladium and palladium alloy plating
KR880010160A (ko) * 1987-02-24 1988-10-07 로버트 에스.알렉산더 팔라듐 전기도금조 및 도금 방법
US5415685A (en) * 1993-08-16 1995-05-16 Enthone-Omi Inc. Electroplating bath and process for white palladium

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US330149A (en) * 1885-11-10 Gaston pilbt and clement cabby
GB367587A (en) * 1931-03-12 1932-02-25 Alan Richard Powell Improvements in or relating to the electro-deposition of palladium
GB381932A (en) * 1931-07-11 1932-10-11 Mond Nickel Co Ltd Improvements relating to the electro-deposition of palladium
US2207358A (en) * 1939-07-29 1940-07-09 Crown Stove Works Cooking stove oven
US2451340A (en) * 1948-03-06 1948-10-12 Westinghouse Electric Corp Electroplating
US2519983A (en) * 1948-11-29 1950-08-22 Minnesota Mining & Mfg Electrochemical process of making fluorine-containing carbon compounds
US2750334A (en) * 1953-01-29 1956-06-12 Udylite Res Corp Electrodeposition of chromium
GB897690A (en) * 1959-09-30 1962-05-30 Johnson Matthey Co Ltd Improvements in and relating to the electrodeposition of platinum or palladium
US3150065A (en) * 1961-02-27 1964-09-22 Ibm Method for plating palladium
NL127936C (fr) * 1964-03-04
GB1035850A (en) * 1964-06-12 1966-07-13 Johnson Matthey Co Ltd Improvements in and relating to the electrodeposition of palladium
US3458409A (en) * 1964-10-12 1969-07-29 Shinichi Hayashi Method and electrolyte for thick,brilliant plating of palladium
NL130012C (fr) * 1965-03-09
JPS4733176B1 (fr) * 1967-01-11 1972-08-23
CH572989A5 (fr) * 1973-04-27 1976-02-27 Oxy Metal Industries Corp
GB1495910A (en) * 1975-10-30 1977-12-21 Ibm Method and bath for electroplating palladium on an articl
US4098656A (en) * 1976-03-11 1978-07-04 Oxy Metal Industries Corporation Bright palladium electroplating baths
CA1089796A (fr) * 1976-11-17 1980-11-18 Thomas F. Davis Palladium pour electro-deposition
US4092225A (en) * 1976-11-17 1978-05-30 Amp Incorporated High efficiency palladium electroplating process, bath and composition therefor
DE2657925A1 (de) * 1976-12-21 1978-06-22 Siemens Ag Ammoniakfreies, waessriges bad zur galvanischen abscheidung von palladium bzw. palladiumlegierungen

Also Published As

Publication number Publication date
DE3400139A1 (de) 1984-07-12
GB2133041A (en) 1984-07-18
JPS59133394A (ja) 1984-07-31
NL8400049A (nl) 1984-08-01
CA1244374A (fr) 1988-11-08
HK100086A (en) 1986-12-24
SG66786G (en) 1987-02-27
GB2133041B (en) 1986-01-22
GB8400288D0 (en) 1984-02-08
FR2539145A1 (fr) 1984-07-13
FR2539145B1 (fr) 1986-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3048083C2 (de) Verfahren zur chemischen Entfernung von Oxidschichten von Gegenständen aus Titan oder Titanlegierungen
EP0862665B1 (fr) Procede de depot de couches metalliques par voie electrolytique
DE2845439C2 (de) Bad zur galvanischen Abscheidung von Überzügen aus Zinn oder Zinnlegierungen
DE1001078B (de) Galvanische Baeder zur Herstellung von Metallueberzuegen
DE2718556A1 (de) Verfahren zum betrieb eines bades fuer die chemische metallabscheidung
DE3601698C2 (fr)
DE1094245B (de) Bleidioxyd-Elektrode zur Verwendung bei elektrochemischen Verfahren
DE3875227T2 (de) Verfahren zur herstellung eines bades fuer die elektroplattierung einer binaeren zinn-kobalt-, zinn-nickel- oder zinn-blei- legierung und damit hergestelltes elektroplattierungsbad.
DE3400139C2 (fr)
EP1192297A1 (fr) Bain acide pour deposer par voie electrolytique des couches d'or ou d'alliage d'or brillantes, et agent de brillantage prevu a cet effet
DE2208327A1 (de) Verfahren zur galvanischen Metallplattierung
DE3147823A1 (de) "bad zur galvanischen abscheidung von palladium oder palladiumlegierungen und ein verfahren zur abscheidung von palladium oder palladiumlegierungen mit diesem bad"
EP0149029A1 (fr) Bain de palladium
DE1959907A1 (de) Rutheniumkomplex und seine Verwendung bei der Elektroplattierung
DE2032867C3 (de) Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Abscheidung gleichmäßiger, dicker Goldüberzüge
DE3509367C1 (de) Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Gold/Zinn-Legierungsueberzuegen
DE3139641C2 (de) Galvanisches Bad zur Verwendung mit unlöslichen Anoden zur Abscheidung halbglänzender, duktiler und spannungsfreier Nickelüberzüge und Verfahren zu deren Abscheidung
DE3423690A1 (de) Waessriges bad zur abscheidung von gold und dessen verwendung bei einem galvanischen verfahren
DE923406C (de) Bad und Verfahren zur Abscheidung von UEberzuegen aus Gold oder Goldlegierungen auf galvanischem Wege
DE2943399C2 (de) Verfahren und Zusammensetzung zur galvanischen Abscheidung von Palladium
CH634113A5 (de) Verschleissfester gegenstand aus zink oder einer zinklegierung.
EP0341415A1 (fr) Electroplacage d'un alliage zinc-nickel sur une bande d'acier
EP0619386A1 (fr) Electrodéposition d'alliages de palladium
DE2948999C2 (de) Wässriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter seiner Verwendung
DE3139640C2 (de) Wäßriges galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung von schwarzen Nickelschichten

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee