DE3321201A1 - Tiegel zur herstellung von einkristallen - Google Patents
Tiegel zur herstellung von einkristallenInfo
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Description
PATENTANWALT DR. HANS-GUNTHER EGGERT, DIPLOMCHEMIKER
5 Köln 41, Räderscheidtstr. 1
Köln, den 10. Juni 1983 Nr. 23
PCUK Produits Chimiques Ugine Kuhlmann, Tour Manhattan
La Defense 2, 5 & 6, Place de I1Iris, 92400 COURBEVOIE
Frankreich
Tiegel zur Herstellung von Einkristallen
Die Erfindung betrifft einen Tiegel für das Verfahren der Kristallisation nach der Methode des hängenden
Tropfens. Im einzelnen betrifft die Erfindung eine Verbesserung der Tiegel, die in den französischen
Patentanmeldungen 2 321 326, 2 359 639 und 2 376 697 beschrieben sind und sich insbesondere für die Herstellung
von Einkristallen in Form von Fäden oder
Platten (FR-PS 2 321 326) von Rohren (FR-PS 2 359 639) und für das Aufbringen von kristallinem Silicium in
dünnen Schichten auf graphitierte Substrate (FR-PS 2 401 696) eignen.
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Bei dem Kristallisationsverfahren des hängenden Tropfens
verwendet man einen Tiegel, der in seinem unteren Teil eine Kapillaröffnung besitzt. Der Tiegel erfüllt
zwei Funktionen:
- er dient dazu, das zu kristallisierende Produkt (Pulver,
zermahlener Kristall) mittels einer geeigneten Heizvorrichtung mit einem Heizwiderstand oder durch
direkte Induktion des Tiegels aufzuschmelzen,
- wegen der in ihrem unteren Teil bearbeiteten Kapillardüse erhält die hier austretende Flüssigkeit die
Form des äußeren unteren Endes, wobei sich zu Beginn des Verfahrens ein hier hängender Tropfen entwickelt.
SobaM die kapillare Spinndüse gefüllt ist, wird ein Keim dem Tropfen genähert, an seiner Spitze angeschmolzen
und mit dem Tropfen vereint. Man schafft so eine Grenzschicht Flüssigkeit-Feststoff. Von diesem Moment
an zieht man den Keim langsam nach unten, was das Wachsen eines Kristalls bewirkt, wobei die Grenzfläche
Flüssigkeit-Feststoff aufgrund eines geeigneten Temperaturgradienten
in passender Höhe gehalten wird. Gleichzeitig beaufschlagt man den oberen Teil des Tiegels, in
dem der Schmelzvorgang stattfindet; mit Pulver oder ge-
-y-t
rissenem Kristall. Im Zuge ihrer Arbeiten über die
Herstellung von Monokristallen mit dem Verfahren des hängenden Tropfens hat die Anmelderin verschiedene
Phänomene entdeckt, die Fehler des gezogenen Einkristalls zur Folge haben können.
A. Die am Boden des Tiegels befindliche Kapillaröffnung ist eine ziemlich enge Einflußstelle/ in die
die Flüssigkeit eindringen muß. Diese Einflußstelle für die Flüssigkeit, die experimentell eine dünne
Schicht am Boden des Tiegels von 0,5 bis 1 mm oder mehr darstellt, ist unregelmäßig hinsichtlich der
Länge der Öffnung und der Art und Weise, wie sie in die Öffnung eindringt. Das zugegebene Pulver
fällt nämlich vorwiegend in die Mitte des Tiegels und schmilzt hier. Die erhaltene Flüssigkeit füllt
den gesamten Boden des Tiegels. Der Mittelteil des Tiegels wird aber stärker mit noch nicht geschmolzenem
Pulver versorgt als die Ränder, was bedeutet, daß der Mittelteil der Öffnung unregelmäßiger gefüllt
wird als die Ränder. Die Temperaturunterschiede zwischen der Mitte und den Rändern des Tiegels wirken
sich auf die Viskosität und die Oberflächenspannung der Flüssigkeit aus, was auch lokale Unterschiede
der Fähigkeit der Flüssigkeit zur Folge hat, in die Kapillaröffnung einzutreten.
B. Andererseits besitzt die Kapillaröffnung einen Rand
mit spitzem Grat, was an dieser Stelle zu Wirbelbewegungen der Flüssigkeit führt, die im Innern der Düse
Druck-Entspannungs-Zonen hervorruft* Weil man sich oberhalb oder sehr nahe am Schmelzpunkt der Flüssigkeit
befindet, hat das Kavitationsphänomene (ört-5 Liehe Verdampfung der Flüssigkeit) zur Folge und
führt zur Blasenbildung in der Flüssigkeit im Innern der Kapillardüse. Diese Blasen können sich im
Kristall wiederfinden, wo sie Hohlräume der vcrschiedensten
Formen, nämlich länglich, zylindrisch oder kugelförmig bilden.
Die beschriebenen Phänomene stören auch das Temperaturgleichgewicht
im unteren Teil der Kapillardüse in der Höhe der Grenzfläche Flüssigkeit-wachsender Feststoff,
was zur Bildung verschiedener Fehler (Körner, Dislokationen) in dem Kristall führt.
Der dünne Flüssigkeitsfilm kühlt sich ferner durch Abstrahlung
zum Oberteil des Tiegels ab. In dem Maße, wie die Flüssigkeitsschicht nicht genau die gleiche Höhe
über den gesamten Boden des Tiegels hat, trägt das zur Erhöhung der Temperaturdifferenzen der Flüssigkeit bei,
die entlang der Kapillaröffnung eintreten.
Darüber hinaus ist die Flüssigkeitsmenge in dem Tiegel der Düse gering, und zwar in der Größenordnung von
0,5 cm für einen Tiegel zum Ziehen von Saphirbändern
von 30 mm Breite und 0,8 mm Dicke. Wenn sich also die Zufuhr an Pulver ändert, ändern sich auch die Flüssigkeitsmenge
und der Zufluß zur Düse, was Änderungen in der Dicke des Kristalls zur Folge haben kann.
Die Erfindung bezweckt die weitere Verbesserung der Qualität der erhaltenen Einkristalle durch Behebung
der oben beschriebenen Mängel.
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist der Tiegel für die Herstellung von Einkristallen nach dem Verfahren des
hängenden Tropfens mit einem konischen, von mehreren Füßen getragenen Schirm versehen, der auf dem Boden des
Tiegels ruht, der auf diese Weise "behütet" ist.
Die Erfindung schafft damit einen verbesserten Tiegel für die Herstellung von Einkristallen nach dem Verfahren
des hängenden Tropfens mit einer oder mehreren Kapillaröffnungen im unteren Teil, die eine Höhe grosser
oder gleich der Rückhaltehöhe des zur Herstellung des Einkristalls dienenden geschmolzenen Materials bei
den in Frage kommenden Temperatur- und Druckbedingungen in der Kapillare haben, dadurch gekennzeichnet, daß der
Boden des Tiegels von einem konischen Schirm überdeckt wird, der von mehreren auf dem Boden ruhenden Beinen
getragen wird. Nach einem bevorzugten Verfahren der Erfindung ist der konische Schirm in seinem oberen
Teil von 2 bis 10 Löchern eines Durchmessers von 1 bis 3 mm durchlöchert.
Das Material, aus dem der konische Schirm nach der Erfindung besteht, ist das gleiche, wie das des Tiegels
oder jeder andere geeignete Werkstoff, nämlich inert gegenüber dem zur Herstellung des Einkristalls bei der
Arbeitstemperatur dienenden Material, beispielsweise aus Iridium oder Molybdän.
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Der Winkel des Konus kann der des Tiegels oder davon verschieden sein. Wenn der Winkel öC des Tiegelkegels
je nach den Anlagen bis 180° zunimmt, kann sich der Winkel des Kegels in der gleichen Weise verändern oder davon
abweichen. Beispielsweise kann ein Tiegel mit ebenem Boden {tfi = 180°) von einem Kegel mit einem
Winkel unter 1800C bedeckt sein.
Der Durchmesser des Kegels ist selbstverständlich gel'>
ι Liicjcr als der Innendurchmesser des Tiegels. Die Dicke
l)i'l i.iqt i'twa 1 bis 5 mm. Die Höhe der den Schirm tragenden
Beine bewegt sich etwa zwischen 2 und 10 mm.
Die Erfindung wird im folgenden unter Pezuqnahmo aut
die beigefügte Figur beschrieben, die die Ansicht eines Längsschnitts des verbesserten, mit einem inneren
konischen Schirm versehenen Tiegels zeigt.
Der in seinem·«unteren Teil die Kapillaröffnung 5 aufweisende
Tiegel ist mit einem inneren kegelförmigen Schirm 2 versehen, der mit den Beinen 3 und 3' auf
dem Boden 1 ruht. Der obere Teil des Schirms ist gegebenenfalls von den Öffnungen 4, 4' durchlöchert.
Die durch Verwendung eines Tiegels mit einem inneren kegelförmigen Schirm gemäß der Erfindung erzielten
Verbesserungen bei der Herstellung von Einkristallen nach dem Verfahren des hängenden Tropfens erzielten
Vorteile sind zahlreich und bestehen insbesondere aus:
- einer längeren Verweilzeit der Flüssigkeit im Inneren des Tiegels, wodurch sich das Aufschmelzen der
zügeführten Körner bzw. durch Pulver und das Entweichen von Gasen oder flüchtigen, in der Flüssigkeit
enthaltenden Bestandteilen, verbessert, - eine bessere Homogenität der Temperatur über den
ganzen Boden des Tiegels und damit auch über die Öffnung der Kapillarleitung,
- die Abstrahlung des Bodens des Tiegels wird vermindert=
Das verbessert das Aufschmelzen der Körner oder des Pulvers der Materialzufuhr.
- Es wird vermieden, daß ein zugeführtes Korn direkt in die Öffnung der Kapillarleitung fallen kann.
- Die Entfernung von flüchtigen Anteilen oder Gasen wird durch die in den kegelförmigen Schirm gebohrten
Löcher erleichtert.
- Die Turbulenzphänomene werden vermieden und die Menqr
der Flüssigkeit, die in die Leitung eintritt, vergleichmäßigt.
Zu den zahlreichen Vorteilen, die sich hinsichtlich der Kristall- und Dimensionsqualität der erzeugten Einkristalle
ergibt, seinen genannt:
- Die Verminderung der Zahl der Blasen (oder Hohlräume) sowohl hinsichtlich der Größe, weil die Blasen praktisch
eine Größe kleiner oder gleich 10 μ haben, als auch hinsichtlich der Zahl, weil die Blasen von o,1
bis 1 mm um den Faktor 1000 abgenommen haben bzw. ganz verschwunden sind. Im Falle des Saphirs beispielsweise
ist bei der Sichtkontrolle keine Blase mehr zu erkennen.
- Die Regelmäßigkeit der Abmessungen der erhaltenen Einkristalle
- Die ausgezeichnete Ebenmäßigkeit der Oberfläche der erhaltenen Einkristalle
- Das Fehlen von Verunreinigungen durch das Tiegelmaterial
- Die Möglichkeit,als Beschickungsmaterial reines AIu-
miniumoxid mit großer spezifischer Oberfläche (6 bis
2
100 m /g) anstelle von kristallisierten, gebrochenen
100 m /g) anstelle von kristallisierten, gebrochenen
Saphir verwenden zu können. Diese Aluminiumoxide, die sehr viel adsorbiertes Gas enthalten, geben trotzdem
Saphirbänder ohne Blasen.
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Das folgende Beispiel erläutert die Erfindung, ohne ihren Schutzumfang einzuschränken.
Die Herstellung eines Einkristalls aus Saphir ((X-AIuminiumoxid)
Der Tiegel besteht aus Molybdän, hat ein Gesamtvolumen von 20 cm und ist in seinem unteren Teil mit einer
Kapillaröffnung eines rechteckigen Querschnitts von
1 χ 1S mm durchbohrt.
Der Tiegel hat einen Außendurchmesser von 50 mm und
einen inneren Durchmesser von 30 mm. Sein Boden ist leicht kegelförmig mit einem Kegelwinkel von 150°.
Im Innern des Tiegels ruht ein konisches Teil (Schirm) in Form eines chinesischen Hutes auf Beinen, die sich
auf dem Boden des Tiegels abstützen. Der Kegelwinkel dieses Teils beträgt 150°. Die Beine haben eine Höhe
von 2 mm, der Durchmesser des Schirmes beträgt 28 mm, so daß ein freier Raum von 1 mm zwischen der Innenwand
des Tiegels und diesem konischen Teil bleibt.
Man beschickt den Tiegel mit zerbrochenen Verneuil-SaphirStückchen
einer Teilchengröße von 0,2 bis 0,5 mm und erhitzt den Tiegel auf eine Temperatur zwischen
20700C und 22000C (Schmelzpunkt von<*. -Aluminiumoxid
= 20500C) mit Hilfe eines Hochfrequenzgenerators, der eine bei 30 KHz arbeitende Induktionsspule speist und
ständig eine Leistung von 25 KW entwickelt.
Der rissige Verneuil-Saphir schmilzt, füllt den Raum zwischen dem konischen Teil und dem Boden des Tiegels,
die Kapillardüse und bildet einen Tropfen, der am unteren Teil der Kapillare hängt. Eine dünne Schicht von
geschmolzenem Aluminiumoxid von 0,1 mm Dicke bildet sich gleichfalls an der Oberfläche des konischen Teils.
Die im Tiegel und der Kapillarleitung vorliegende Menge
des flüssigen Aluminiumoxids ist in der Größenordnung von etwa 2 cm .
Wenn einmal ein Tropfen am Unterteil der Kapillarleitung gebildet ist, bringt man damit eine dünne, zuvor
orientierte Platte eines Saphir-Einkristalls der Abmessung von 1x15 mm in Berührung, die als Keim dient,
Wenn der Tropfen an diesem Keim klebt, beginnt man den
Keim mit einer Geschwindigkeit von 30 cm/h nach unten abzuziehen. Man füllt gleichzeitig den Tiegel mit Aluminiumoxid
mit einer mittleren Geschwindigkeit von 18 g/h nach. Nach 20 min des Ziehens erhält man eine
dünne Saphirplatte eines rechteckigen Querschnitts von etwa 1 χ 15 mm und 100 mm Länge mit relativ ebener
Oberfläche. Bei der Röntgenstrahlenbeugungsprüfung erscheint diese Platte monokristallin und hat die
kristallografische Orientierung des Keims beibehalten. Hinsichtlich der optischen Prüfung besitzt diese Platte
das Adsorptionssprektrum von Saphir. Bei der Sichtprüfung sieht man weder Blasen noch schlecht geschmolzene
Teite. Der erhaltene Kirstall ist vollkommen durchsichtig.
Claims (2)
- Patentansprüche
5ο Für die kontinuierliche Herstellung von Einkristallen vorbestimmter Form und die Ablagerung von kristallinem Silicium als dünner Film auf einem graphitierten Substrat nach dem Verfahren des hängenden Tropfens verwendbarer Tiegel, der in seinem unteren Teil eine oder mehrere Kapillaröffnungen mit größerer oder gleicher Höhe wie die Rückhaltehöhe des zur Herstellung des Einkristalls oder des aufgetragenen Films dienenden geschmolzenen Materials bei den in Frage kommenden Temperatur-und Druckbedingungen hat, dadurch gekennzeichnet, daß der Boden des Tiegels von einem kegelförmigen auf Beinen auf dem Boden des Tiegels ruhenden Schirm überdeckt ist.
20 - 2. Tiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der kegelförmige Schirm in seinem oberen Teil von2 bis 10 Löchern eines Durchmessers zwischen 1 und3 mm durchlöchert ist.
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---|---|
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Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2556095B1 (fr) * | 1983-12-02 | 1986-09-05 | Philips Ind Commerciale | Procede automatique de dosage d'echantillon et machine automatique pour doser et analyser |
US5157240A (en) * | 1989-09-13 | 1992-10-20 | Chow Loren A | Deposition heaters |
US5031229A (en) * | 1989-09-13 | 1991-07-09 | Chow Loren A | Deposition heaters |
US5085582A (en) * | 1990-07-24 | 1992-02-04 | Eaton Corporation | Silicon nitride containers for the sintering of silicon nitride ceramics |
US6402834B1 (en) * | 1998-05-29 | 2002-06-11 | Toyo Communication Equipment Co., Ltd. | Apparatus and method for manufacturing monocrystals |
JP4597619B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2010-12-15 | シルトロニック・ジャパン株式会社 | シリコン結晶育成用るつぼ及びシリコン結晶の育成方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2137088A1 (de) * | 1970-07-28 | 1972-02-10 | Philips Nv | Verfahren zum Herstellen von Kristallen |
DE2635373C2 (de) * | 1975-08-08 | 1982-04-15 | PCUK-Produits Chimiques Ugine Kuhlmann, 92400 Courbevoie, Hauts-de-Seine | Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Züchtung von Einkristallen bestimmter Form |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB337995A (en) * | 1928-11-27 | 1930-11-13 | Vaw Ver Aluminium Werke Ag | Improvements in and relating to the electrolytic production of aluminium |
US3598282A (en) * | 1969-11-25 | 1971-08-10 | Henry A Phillips | Apparatus for melting and feeding solidified material |
FR2359639A2 (fr) * | 1976-07-27 | 1978-02-24 | Ugine Kuhlmann | Dispositif pour fabriquer des tubes et des ensembles de petits cylindres monocristallins |
FR2321326A1 (fr) * | 1975-08-08 | 1977-03-18 | Ugine Kuhlmann | Procede de fabrication en continu de monocristaux preformes |
FR2376697A2 (fr) * | 1977-01-11 | 1978-08-04 | Ugine Kuhlmann | Dispositif de fabrication en continu de monocristaux preformes en forme de plaques |
FR2401696A1 (fr) * | 1977-08-31 | 1979-03-30 | Ugine Kuhlmann | Methode de depot de silicium cristallin en films minces sur substrats graphites |
US4394006A (en) * | 1982-04-07 | 1983-07-19 | Electric Power Research Institute, Inc. | Molten metal flow control |
-
1982
- 1982-06-11 FR FR8210174A patent/FR2528454A1/fr active Granted
-
1983
- 1983-04-19 IL IL68435A patent/IL68435A/xx unknown
- 1983-05-19 GB GB08313893A patent/GB2122104A/en not_active Withdrawn
- 1983-05-23 US US06/496,893 patent/US4495155A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-06-10 IT IT8367646A patent/IT8367646A0/it unknown
- 1983-06-10 JP JP58102965A patent/JPS593095A/ja active Pending
- 1983-06-10 CH CH3207/83A patent/CH651325A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1983-06-11 DE DE3321201A patent/DE3321201C2/de not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2137088A1 (de) * | 1970-07-28 | 1972-02-10 | Philips Nv | Verfahren zum Herstellen von Kristallen |
DE2635373C2 (de) * | 1975-08-08 | 1982-04-15 | PCUK-Produits Chimiques Ugine Kuhlmann, 92400 Courbevoie, Hauts-de-Seine | Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Züchtung von Einkristallen bestimmter Form |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4495155A (en) | 1985-01-22 |
CH651325A5 (fr) | 1985-09-13 |
FR2528454B1 (de) | 1984-11-23 |
IT8367646A0 (it) | 1983-06-10 |
GB8313893D0 (en) | 1983-06-22 |
IL68435A0 (en) | 1983-07-31 |
GB2122104A (en) | 1984-01-11 |
DE3321201C2 (de) | 1986-08-21 |
JPS593095A (ja) | 1984-01-09 |
FR2528454A1 (fr) | 1983-12-16 |
IL68435A (en) | 1986-08-31 |
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