DE3152562C2

DE3152562C2 -

Info

Publication number: DE3152562C2
Application number: DE3152562T
Authority: DE
Inventors: Donald N Miller; Richard A Kydd
Original assignee: Eastman Kodak Co
Current assignee: Eastman Kodak Co
Priority date: 1980-11-24
Filing date: 1981-10-22
Publication date: 1990-01-04
Also published as: US4335201A; DE3152562T1; JPH0322613B2; CH651946A5; WO1982001945A1; FR2494709A1; JPS595887B2; BR8108883A; JPS60258542A; GB2107073B; BE891230A; FR2494709B1; CA1172498A; GB2107073A; JPS57501798A

Description

Die Erfindung betrifft eine antistatische Beschichtungsmasse für ein photographisches Aufzeichnungsmaterial sowie ein unter Verwendung einer solchen Beschichtungsmasse hergestelltes photo graphisches Aufzeichnungsmaterial.

Auf dem Gebiet der Photographie stellt die Anhäufung von statischen elektrischen Ladungen auf photographischen Aufzeichnungsmaterialien seit langem ein schwerwiegendes Problem dar. Die Aufladung photo graphischer Materialien kann dabei sowohl während ihrer Herstellung als auch bei ihrer Verwendung erfolgen. Beispielsweise können elektrische Aufladungen in Schlitz- und Aufspuleinrichtungen erzeugt werden. Die Erzeugung elektrostatischer Ladungen wird dabei durch die Leitfähigkeit und den Feuchtigkeitsgehalt der photographischen Materialien sowie die atmosphärischen Bedingungen, unter denen das Material verarbeitet wird, beeinflußt. Der Grad, zu dem ein Schutz gegenüber den nachteiligen Effekten von elektrostatischen Aufladungen benötigt wird, hängt dabei von der Natur des speziellen strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterials ab. Dies bedeutet, daß Aufzeichnungsmaterialien mit hochempfindlichen Emulsionsschichten eines besonderen Schutzes vor elektrostatischen Aufladungen bedürfen. Eine Anhäufung von elektrostatischen Aufladungen kann zur Ausbildung von Schleiermustern in photographischen Emulsionsschichten führen, was ein besonders schwerwiegendes Problem im Falle von hochempfindlichen Emulsionsschichten ist. Elektrostatische Aufladungen sind des weiteren unerwünscht, weil das photographische Aufzeichnungs material dadurch Staub anzieht, was wiederum zu Abstoßflecken einer Desensibilisierung, dem Auftreten von Schleier und physikalischen Defekten führen kann.

Um die nachteiligen Effekte, die sich aus der Anhäufung von elektro statischen Ladungen ergeben, zu überwinden, ist es übliche Praxis, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien mit antistatisch wirksamen Schichten zu versehen. Derartige antistatisch wirksame Schichten werden oftmals aus Beschichtungsmassen erzeugt, die Ver bindungen enthalten, die elektrische Ladungen durch Leitung abzuleiten vermögen. So ist bereits eine enorm große Anzahl der verschiedensten Verbindungen auf ihre Verwendbarkeit in antistatischen Schichten photographischer Aufzeichnungsmaterialien getestet worden. Beispielsweise ist aus der US-PS 5 84 862 der Zusatz von Alkalinitrat, z. B. Kaliumnitrat zu einer Gelatineschicht auf einem Schichtträger bekannt, um das Auftreten elektrostatischer Aufladungen zu verhindern. Des weiteren sind beispielsweise aus der US-PS 37 54 924 photographische Aufzeichnungsmaterialien mit antistatisch wirksamen Schichten mit einer fluorierten oberflächen aktiven Verbindung und festen, in Wasser unlöslichen diskreten Teilchen aus einem Mattierungsmittel, z. B. Kieselsäure bekannt. Aus der DE-OS 19 61 638 ist es ferner bekannt, bei der Herstellung photographischer Aufzeichnungsmaterialien den Beschichtungsmassen anionische fluorierte oberflächenaktive Verbindungen als Beschichtungshilfsmittel zuzusetzen.

Es hat sich jedoch gezeigt, daß die Verwendung von Alkalinitraten oder fluorierten oberflächenaktiven Verbindungen zur Ausbildung eines antistatischen Schutzes in strahlungsempfindlichen Elementen, wie im Stande der Technik beschrieben, an einem oder mehreren schwerwiegenden Nachteilen leidet. In manchen Fällen beispielsweise liefern antistatische Schichten mit nur entweder Alkalinitrat oder fluorierter oberflächenaktiver Verbindung einen unzureichenden Schutz gegenüber elektrostatischen Aufladungen im Falle von hoch empfindlichen Emulsionen, z. B. Phototypie-Papieren. Infolgedessen tritt in solchen Materialien ein nicht-akzeptierbarer Grad von Defekten, verursacht durch elektrostatische Aufladungen auf.

Es besteht somit nach wie vor ein Bedürfnis nach besonders wirksamen antistatischen Beschichtungsmassen, mit denen sich strahlungsempfindliche photographische Aufzeichnungsmaterialien verbessert vor dem Auftreten von elektrostatischen Aufladungen schützen lassen.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine antistatische Beschichtungsmasse für ein photographisches Aufzeichnungsmaterial bereitzustellen, die sich durch besonders starke antistatische Effekte auszeichnet.

Überraschenderweise wurde gefunden, daß die gestellte Aufgabe dadurch lösbar ist, daß man eine anionische fluorierte ober flächenaktive Verbindung und ein anorganisches Nitrat in Kombination miteinander verwendet. Es wurde gefunden, daß mit dieser Kombination antistatisch wirksame Schichten erhalten werden können, die besonders starke antistatische Schutzeigenschaften aufweisen. Wie in dem später folgenden Beispiel 1 gezeigt wird, ist der mit der Kombination erzielte verbesserte antistatische Schutz beträchtlich größer als der Schutz, der durch jede einzelne Komponente der Kombination allein erzeugt wird, d. h., es tritt ein überraschender synergistischer Effekt auf.

Die erfindungsgemäßen Beschichtungsmassen führen dabei zu dauer haften, fest auf einem Träger haftenden, abriebresistenten und nicht klebrigen Schichten. Infolgedessen verschmutzen sie weder die Vorrichtungen, die zur Herstellung der strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien verwendet werden, noch Entwicklungsbäder oder Vorrichtungen, die zur Entwicklung der strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien eingesetzt werden.

Gegenstand der Erfindung sind somit eine antistatische Beschichtungs masse für ein photographisches Aufzeichnungsmaterial sowie ein unter Verwendung einer solchen Beschichtungsmasse hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, wie sie in den Ansprüchen gekennzeichnet sind.

Im allgemeinen befindet sich die strahlungsempfindliche, bild erzeugende Schicht auf einer Seite des Trägers des Aufzeichnungs materials und die antistatische Schicht auf der anderen Seite des Trägers.

Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Beschichtungsmasse läßt sich jede anionische fluorierte oberflächenaktive Verbindung verwenden, solange diese mit den anderen Komponenten der Beschichtungsmasse verträglich ist und die sensitometrischen Eigenschaften der strahlungsempfindlichen Schichten nicht nachteilig beeinflußt.

Der hier verwendete Ausdruck "oberflächenaktive Verbindung" besagt, daß die Verbindung die Oberflächenspannung von Wasser verändert (gewöhnlich vermindert). Derartige Verbindungen werden gelegentlich auch als oberflächenaktive Mittel bezeichnet. Zu den geeigneten anionischen fluorierten oberflächenaktiven Verbindungen gehören beispielsweise solche, die aus der US-PS 37 54 924 bekannt sind. Im allgemeinen sind solche oberflächenaktiven Verbindungen entweder in Wasser löslich oder in Wasser dispergierbar.

Besonders geeignete anionische fluorierte oberflächenaktive Ver bindungen sind solche der Formel R-X, worin R für einen fluorierten Kohlenwasserstoffrest steht, in dem ein Teil oder alle der Wasser stoffatome durch Fluoratome ersetzt sind. Derartige Kohlenwasser stoffreste können bestehen aus: Alkylresten, insbesondere mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen; Cycloalkylresten, insbesondere mit 5 bis 30 Kohlenstoffatomen und Arylresten, insbesondere mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen. In der Formel R-X steht X für eine hydrophile anionische Gruppe, beispielsweise -SO₃M, -OSO₃M oder -COOM. M steht für einwertiges Kation, beispielsweise Wasserstoff, ein Alkalimetallion, z. B. Na⁺ oder K⁺ oder ein Ammoniumion oder eine organische Ammoniumgruppe, z. B. eine Diethanolammonium-, Morpholinium-, Pyridinium-, Tetramethylammonium- oder Tetraethylammoniumgruppe. Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform steht in der Formel R-X R für einen teilweise oder vollständig fluorierten Alkylrest mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen und X für einen Rest der Formel -SO₃M. Besonders vorteilhafte oberflächenaktive Verbindungen sind solche der Formel CF₃(CF₂)₇SO₃M. Ggf. können auch Mischungen von anionischen fluorierten oberflächenaktiven Verbindungen verwendet werden.

Zur Herstellung erfindungsgemäßer Beschichtungsmassen eignen sich als anorganische Nitrate die in Wasser löslichen Salze der Salpeter säure. Zu den gewöhnlichen Salzen gehören beispielsweise Ammonium nitrat und Metallnitrate, wie Aluminiumnitrat, Alkalimetallnitrate und Erdalkalimetallnitrate. Bevorzugt eingesetzte Nitrate sind die Alkalimetallnitrate, wie Lithiumnitrat, Natriumnitrat und Kaliumnitrat sowie Erdalkalimetallnitrate, wie beispielsweise Calciumnitrat und Magnesiumnitrat. Ggf. können auch Mischungen von Nitraten verwendet werden. Die erfindungsgemäßen antistatischen Beschichtungsmassen enthalten des weiteren ein oder mehrere in Wasser lösliche, filmbildende hydrophile Bindemittel. Zu den geeigneten hydrophilen Bindemitteln gehören sowohl natürlich vorkommende Substanzen wie Proteine, Proteinderivate, Cellulosederivate, z. B. Celluloseester, Gelatine, Gelatinederivate, Polysaccharide und Collagenderivate wie auch synthetische hydrophile polymere Materialien. Beispiele für geeignete hydrophile Bindemittel werden beispielsweise näher beschrieben in der Literaturstelle "Research Disclosure", Publikation 17 643, Dezember 1978, Seite 26, Paragraph IX und der US-PS 41 96 001. Ein besonders vorteilhaftes Bindemittel ist Gelatine.

Die Verhältnisse der Komponenten, die die antistatisch wirksamen Beschichtungsmassen der Erfindung bilden, können weitestgehend verschieden sein, um den Bedürfnissen oder Erfordernissen des im Einzelfalle herzustellenden Materials zu genügen, das anti statisch ausgerüstet werden soll. Im allgemeinen liegt die anionische fluorierte oberflächenaktive Verbindung in den Beschichtungsmassen in einer Konzentration von 0,05 bis 5 Gew.-%, bezogen auf den Gesamttrocken-Feststoffgehalt der Massen vor. Das anorganische Nitrat wird in typischer Weise in einer Konzentration von 5 bis 20 Gew.-%, bezogen auf den gesamten Trocken-Feststoffgehalt verwendet. Das hydrophile Bindemittel liegt in einer Konzentration von 30 bis 95 Gew.-%, bezogen auf den gesamten Trocken-Feststoffgehalt der Masse vor.

Die antistatischen Beschichtungsmassen der Erfindung können des weiteren auch noch andere Bestandteile zusätzlich zu den hydrophilen Bindemitteln, anionischen fluorierten oberflächenaktiven Verbindungen und anorganischen Nitraten enthalten. Beispielsweise können sie Mattierungsmittel, wie beispielsweise Kieselsäure, Stärke, Titan dioxid, polymere Kügelchen, Zinkoxid und Calciumcarbonat enthalten. Vorzugsweise enthalten sie Kieselsäure. Sie können des weiteren auch Beschichtungshilfsmittel enthalten, beispielsweise Alkohole und oberflächenaktive Verbindungen, solange diese verträglich mit den anionischen fluorierten oberflächenaktiven Verbindungen sind, ferner Härtungsmittel, z. B. Formaldehyd und andere Zusätze, wie sie üblicherweise in solchen Massen verwendet werden.

Zu den photographischen Aufzeichnungsmaterialien, die vor den nachteiligen Effekten einer elektrostatischen Aufladung geschützt werden können, gehören photographische Filme, die unter Verwendung einer Vielzahl von Schichtträgermaterialien hergestellt sein können. Beispielsweise kann der Schichtträger aus Cellulosenitrat, Cellulose acetat, Polyvinylacetat, Polycarbonat, Polystyrol oder Polyester bestehen. Polyester, wie beispielsweise biaxial verstreckte, wärme fixierte und wärmeentspannte Polyethylenterephthalate sind besonders geeignet. Photographische Papiere, insbesondere solche, die auf einer oder beiden Seiten mit einer Schicht aus einem hydrophoben polymeren Material beschichtet sind, lassen sich ebenfalls in vor teilhafter Weise vor statischen Aufladungen mit erfindungsgemäßen antistatisch wirksamen Schichten schützen. Derartige mit Polymeren beschichtete photographische Papiere sind allgemein bekannt. Zu ihnen gehören beispielsweise Papiere, die mit Styrolpolymeren, Celluloseesterpolymeren, linearen Polyestern sowie Polyolefinen, z. B. Polyethylen oder Polypropylen beschichtet sind.

Die antistatischen Beschichtungsmassen der Erfindung lassen sich zur Herstellung von strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien für die Schwarz-Weiß- und Farbphotographie verwenden. Zusätzlich zu der antistatischen Schicht und einer oder mehreren strahlungs empfindlichen, bildaufzeichnenden Schichten können die Aufzeichnungs materialien des weiteren Haftschichten, schützende Pelloidschichten, Filterschichten, Lichthofschutzschichten und dgl. aufweisen. Die strahlungsempfindlichen, bildaufzeichnenden Schichten der Auf zeichnungsmaterialien können als strahlungsempfindliches Material photographische Silberhalogenide enthalten, beispielsweise Silber chlorid, Silberbromid, Silberbromidiodid, Silberchloridbromid, Silberchloridiodid, Silberchloridbromidiodid und Mischungen hiervon. Oftmals bestehen diese Schichten aus photographischen Emulsions schichten, die ein hydrophiles Kolloid enthalten. Beispiele für derartige Kolloide sind Proteine, z. B. Gelatine, Proteinderivate, Cellulosederivate, Polysaccharide, z. B. Stärke, Zucker, z. B. Dextran, Pflanzengummis und synthetische Polymere, wie beispielsweise Polyvinylalkohol, Polyacrylamid und Polyvinylpyrrolidon. In den Emulsionsschichten können des weiteren übliche Zusätze vorliegen, z. B. Antischleiermittel, Stabilisatoren, Sensibilisierungsmittel, Entwicklungsmodifizierungsmittel, Entwicklerverbindungen, Härtungsmittel, Weichmacher und Beschichtungsmittel.

Die erfindungsgemäße antistatische Beschichtungsmasse läßt sich nach jeder Technik verarbeiten, die für die Verarbeitung von wäßrigen Beschichtungsmassen bekannt ist. So können die erfindungs gemäßen Beschichtungsmassen beispielsweise nach der Sprühbeschichtung, nach dem Eintauchbeschichtungsverfahren, nach dem Wirbelbeschichtungs verfahren, nach dem Extruderbeschichtungsverfahren, nach dem sog. Vorhangbeschichtungsverfahren, nach dem ein Luftmesser verwendenden Beschichtungsverfahren oder nach anderen Beschichtungsmethoden auf getragen werden. Die Dicke der aufgetragenen Schicht hängt von den speziellen Bedürfnissen des im Einzelfalle zu schützenden Elementes ab. In typischer Weise liegt die Beschichtungsstärke, trocken gemessen, bei 0,2 bis 4 g pro m² und in besonders zweckmäßiger Weise bei 1 bis 3 g pro m². Die Trocknung der aufgetragenen Schicht kann bei verschiedenen Temperaturen erfolgen. Beispielsweise liefern Temperaturen von 20°C bis 130°C und vorzugsweise von 75°C bis 115°C ganz allgemein zufriedenstellende Ergebnisse.

Wird die antistatische Beschichtungsmasse auf einen mit einem Polyolefin beschichteten Papierträger aufgetragen, so hat es sich als vorteilhaft erwiesen, die Polyolefinoberfläche einer Vor behandlung zu unterwerfen, beispielsweise einer Korona-Entladungs behandlung, einer Ozon- oder Flammenvorbehandlung, um sie für die Beschichtungsmasse empfänglich zu machen. Das Papier, das zur Herstellung des Trägers verwendet wird, kann des weiteren mit einer Lösung verleimt werden, die ein Salz enthält, das als inneres Antistatikum wirkt. Als vorteilhaft hat es sich des weiteren erwiesen, ein Papier-Ausgangsmaterial zu verwenden, das mindestens 3% und im allgemeinen 4 bis 8% (Gew.-%) Feuchtigkeit enthält.

Wird antistatische Beschichtungsmasse auf einen Polyesterfilm träger aufgetragen, so wird in vorteilhafter Weise eine Haftschicht verwendet, um die Bindung der antistatischen Schicht an den Träger zu verbessern. Haftschicht-Beschichtungsmassen für diesen Zweck sind bekannt. Zu ihnen gehören beispielsweise Misch polymere aus Vinylidenchlorid, z. B. Vinylidenchlorid/Acrylnitril/ Acrylsäure-Terpolymere oder Vinylidenchlorid/Methylacrylat/Itaconsäure- Terpolymere.

Die erzeugten antistatischen Schichten können sich in jeder Position eines strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterials befinden, um einen wirksamen Schutz vor den nachteiligen Effekten elektro statischer Aufladungen zu erzielen. Normalerweise jedoch bilden sie die äußerste Schicht des Aufzeichnungsmaterials auf der Seite, die der oder den strahlungsempfindlichen photographischen Emulsions schichten gegenüberliegt.

Die antistatischen Eigenschaften der Schichten, die aus den erfindungsgemäßen antistatischen Beschichtungsmassen erzeugt werden, können nach verschiedenen bekannten Methoden ermittelt werden. Eine dieser Methoden ist die sog. "Impact-Elektrifizierungs methode", die mit einer Vorrichtung zur Durchführung dieser Methode in den US-PS 35 01 653 und US-PS 38 50 642 beschrieben sind. Diese Methode wurde auch zur Untersuchung der antistatischen Schichten verwendet, die, wie in den folgenden Beispielen beschrieben, hergestellt wurden.

Vereinfacht dargestellt, besteht das in der US-PS 35 01 653 beschriebene Verfahren darin, daß eine bestimmte Vergleichsoberfläche mittels einer zweiten Oberfläche beaufschlagt und getrennt wird. Die durch die Beaufschlagung und Trennung erzeugte elektrische Ladung wird gemessen und aufgezeichnet. Die erhaltenen Werte werden in zweckmäßiger Weise in Mikrocoulomb pro m² angegeben.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.

Beispiel 1

Eine photographische, antistatische Beschichtungsmasse nach der Erfindung (im folgenden mit Beispiel 1 bezeichnet) wurde hergestellt durch Zusatz der folgenden Komponenten zu einer ausreichenden Menge Wasser derart, daß ein Feststoffgehalt von etwa 3,8% erzielt wurde:

Des weiteren wurden antistatische Vergleichs-Beschichtungsmassen A, B und C hergestellt, die sich von der antistatischen Beschichtungs masse (Beispiel 1) wie folgt unterschieden:

Vergleich A
die fluorierte Verbindung wurde weggelassen
Vergleich B	NaNO₃ und Al(NO₃)₃ wurden weggelassen
Vergleich C	die fluorierte Verbindung NaNO₃ und Al(NO₃)₃ wurden weggelassen

Es wurden Aufzeichnungsmaterialien dadurch hergestellt, daß jede der angegebenen antistatischen Beschichtungsmassen (Beispiel 1 und Vergleiche A-C) auf mit Polyethylen beschichtete photo graphische Papierträger aufgetragen wurden, und zwar in einer Konzentration derart, daß eine Beschichtung, ausgedrückt in Form des Trockengewichtes von 1 von 2 g/m² Träger erzielt wurde.

Die antistatischen Eigenschaften der aus den Massen erzeugten antistatischen Schichten wurden nach der "Impact-Elektrifizierungs methode" wie zuvor beschrieben ermittelt. Von jedem photographischen Material wurde eine Testfläche mit einem Polyurethanelastomer in einer Vorrichtung und nach der Methode gemäß US-PS 35 01 653 beaufschlagt (Impact-Druck 138 kPa). Die erzeugte Ladung (Mikro coulomb/m²) wurde gemessen und aufgezeichnet. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle I zusammengestellt:

Ladung (Mikrocoulomb/m²)
Beispiel 1
+27
Vergleich A	+82
Vergleich B	+63
Vergleich C	+86

Die erhaltenen Ergebnisse wurde dazu benutzt zu ermitteln, ob der Ladungseffekt der Nitrate und des anionischen fluorierten oberflächenaktiven Mittels additiv oder größer als additiv war. Die Bestimmung erfolgte durch Vergleich der Meßdaten wie folgt:

C-B = Veränderung im Aufladungsgrad zwischen den Vergleichen B und C;
C-A = Veränderung des Aufladungsgrades zwischen den Vergleichen A und C;
(C-B) + (C-A) = gesamter theoretischer Effekt unter der Annahme additiver Effekte;
C-1 = tatsächliche Veränderung des Elektrifizierungsgrades zwischen Vergleich C und Beispiel 1.

C-1 wurde verglichen mit [(C-B) + (C-A)] durch Abziehen des letzteren Wertes vom ersten Wert. Diese Differenz zwischen den tatsächlichen und theoretischen additiven Effekten wurde bestimmt zu

+59 - [(23) + (4)] = +59 - [27] = +32.

Dieses Ergebnis zeigt, daß der antistatische Effekt durch Kombination der Nitrate mit dem anionischen fluorierten oberflächenaktiven Mittel beträchtlich größer war als die Summe der Effekte bei Verwendung jeder Komponente allein.

Entsprechende Ergebnisse wurden im Falle von Aufzeichnungsmaterialien erzielt, die auf der Seite des mit einem Harz beschichteten Papier trägers, die der antistatischen Schicht gegenüberlag, mit einer grünempfindlichen, hoch kontrastreichen, Schwarz-Weiß-Gelatine- Silberbromidiodidemulsion hoher Empfindlichkeit, des auf dem Gebiet der Phototypie üblichen Typs beschichtet war.

Beispiel 2

Aus der US-PS 37 54 924 ergibt sich, daß Mattierungsmittel, wie Kieselsäure, kombiniert mit fluorierten oberflächenaktiven Mitteln zu überlegenen und unerwarteten antistatischen Eigenschaften in photographischen Elementen führen. Obgleich Kieselsäure eine geeignete Komponente in photographischen antistatisch wirksamen Beschichtungsmassen dieser Erfindung ist, ist doch ihre Anwesenheit nicht verantwortlich für die erfindungsgemäß erzielbaren Ergebnisse. Um dies zu veranschaulichen, wurde Beispiel 1 wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daß Kieselsäure aus allen anti statischen Beschichtungsmassen fortgelassen wurde.

Die Ergebnisse der "Impact-Elektrifizierungsbestimmungen" sind in der folgenden Tabelle II zusammengestellt:

Beispiel 2
-15
Vergleich A	+85
Vergleich B	+58
Vergleich C	+81

Es wurden die tatsächlichen und theoretischen additiven Effekte, wie in Beispiel 1 beschrieben, verglichen. Der Unterschied zwischen dem tatsächlichen und dem theoretischen additiven Effekt betrug +77. Hieraus ergibt sich, daß die unerwartete Verbesserung des antistatischen Schutzes, der mit einer Beschichtungsmasse nach der Erfindung erzielt wird, nicht auf der Gegenwart der Kieselsäure in diesen Beschichtungsmassen beruht.

Claims

1. Antistatische Beschichtungsmasse für ein photographisches Aufzeichnungsmaterial, dadurch gekennzeichnet, daß die Masse aus einer wäßrigen Lösung von:

(a) einem hydrophilen Bindemittel,
(b) einer anionischen fluorierten oberflächenaktiven Verbindung und
(c) einem anorganischen Nitrat

besteht oder eine solche Lösung enthält.

2. Beschichtungsmasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die anionische fluorierte oberflächenaktive Verbindung der Formel R-X entspricht, worin R für eine fluorierten Kohlenwasserstoffrest steht und X für -SO₃M, -OSO₃M oder -COOM, worin M ein einwertiges Kation ist.

3. Beschichtungsmasse nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Nitrat ein Alkalimetallnitrat ist.

4. Beschichtungsmasse nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Nitrat Natriumnitrat ist und die Beschichtungsmasse zusätzlich Kieselsäure enthält.

5. Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit:

(1) einem Träger,
(2) einer lichtempfindlichen Silberhalogenidschicht und
(3) einer antistatischen Schicht,

dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht aus einer Beschichtungsmasse nach einem der Ansprüche 1 bis 4 hergestellt ist.

6. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Silberhalogenidschicht sich auf einer Seite des Trägers und die antistatisch wirksame Schicht sich auf der anderen Seite des Trägers befindet.

7. Aufzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüche 5 und 6, dadurch gekennzeichnet, daß die anionische fluorierte ober flächenaktive Verbindung der Formel CF₃(CF₂)₇SO₃M entspricht, worin M für ein Alkalimetall steht und daß ferner das anorganische Nitrat Natriumnitrat ist.