DE2309076A1 - Beschichtungsmasse fuer die herstellung von strahlungsempfindlichen aufzeichnungsmaterialien - Google Patents

Beschichtungsmasse fuer die herstellung von strahlungsempfindlichen aufzeichnungsmaterialien

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DE2309076A1 DE19732309076 DE2309076A DE2309076A1 DE 2309076 A1 DE2309076 A1 DE 2309076A1 DE 19732309076 DE19732309076 DE 19732309076 DE 2309076 A DE2309076 A DE 2309076A DE 2309076 A1 DE2309076 A1 DE 2309076A1
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Description

Beschichtungsmasse für die Herstellung von strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien 2309076 Die Erfindung betrifft eine Beschichtungsmasse für die Herstellung von strahlungsempfindliehen Aufzeichnungsmaterialien.
Bei vielen Bildaufzeichnungssystemen werden bilderzeugende Aufzeichnungsmaterialien verwendet, die aus einem Schichtträger, beispielsweise aus Glas, Metall, Papier oder Kunststoff, und einer oder mehreren darauf aufgebrachten Schichten bestehen, die hydrophile kolloidale Stoffe, wie Gelatine, enthalten, wobei mindestens eine der Schichten ein oder mehrere strahlungsempfindliche Materialien enthält. Bei den bekanntesten Bilderzeugungssystemen werden als strahlungsempfindliches Material Silbersalze verwendet. Es gibt jedoch noch eine Reihe von anderen Materialien, die strahlungsempfindlich sind (bei Einwirkung von Strahlung in der gewünschten Weise reagieren), wie z.B. bestimmte ungesättigte Polymerisate und silberfreie photographische Systeme. In Bilderzeugungssystemen wird die das strahlungsempfindliche Material enthaltende Schicht häufig in Kombination mit verschiedenen anderen Schichten verwendet, die beispielsweise Reflexionspigmente, Antihalationspigmente, Farbstoffe oder Filterfarbstoffe enthalten oder eine verbesserte Haftung und/oder eine verbesserte Abriebsbeständigkeit aufweisen.
Beim Aufbringen derartiger Schichten, insbesondere solcher, die Gelatine enthalten, ist es üblich, als Beschichtungshilfsmittel oberflächenaktive Mittel zur Verbesserung der Qualität und Gleichförmigkeit der Schichten und zur Verbesserung der Aufbringbarkeit und Reproduzierbarkeit zu verwenden. Zwar können durch Verwendung von oberflächenaktiven Mitteln auf diese Weise die Eigenschaften einer bestimmten Überzugsschicht ver-
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bessert werden, die Anwesenheit von bestimmten oberflächenaktiven Mitteln in einer Schicht kann jedoch dazu führen, daß dadurch die Oberflächeneigenschaften der Überzugsschicht nachteilig beeinflußt werden, so daß es außerordentlich schwierig ist, einen äußeren Überzug auf die Oberfläche der ersten Schicht aufzubringen, selbst wenn in der BeSchichtungsmasse für den äußeren Überzug ein oberflächenaktives Mittel enthalten ist*'
Ein Beispiel für einen besonders schwierigen Fall dieser Art ist der Fall, bei dem man dann, wenn man eine übliche Beschichtungsmasse, bestehend aus Wasser, einem photographischen Farbstoff, Silberhalogenid, Gelatine und einem anionischen oberflächenaktiven Mittel, beispielsweise einem Natriumalkylarylsulfonat (in geeigneten Mengen),auf einen üblichen, mit einer Gelatinehaftschicht versehenen photographischen Celluloseacetat-Filmschichtträger aufbringt und versucht, auf diese stark oberflächenaktive Schicht gleichzeitig eine Gelatineschutzschicht, beispielsweise unter Verwendung einer wässrigen Beschichtungsmasse, aufzubringen, ein beschichtetes Produkt mit vielen Oberflächendefekten erhält, selbst wenn in dem Versuch zur Lösung der Beschichtungsschwierigkeiten in der wässrigen Beschichtungsmasse ein oder mehrere übliche oberflächenaktive Mittel verwendet werden. Ein bekannter Typ eines solchen oberflächenaktiven Mittels, das für seine überraschend guten Eigenschaften als Beschichtungshilfsmittel bekannt ist, sind die nicht-ionischen oberflächenaktiven Alky!phenoxy-poly(propylenoxyd)-Verbindungen der allgemeinen Formel:
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in der bedeuten:
R, eine Alkylgruppe mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen und Q eine Polyäthergruppe mit durchschnittlich etwa 3 bis etwa 15 von Glycidol (einem Hydroxypropyienoxyd) abgeleiteten Einheiten, wobei die Polyäthergruppe aus n-Propenoxyund Isopropenoxy-Resten besteht (derartige nichtionische Materialien sind in der US-Patentschrift 3 514 293 näher beschrieben).
Bei bestimmten, stark oberflächenaktiven Schichten, wie sie weiter oben beschrieben sind, hat sich jedoch selbst die Verwendung dieser oberflächenaktiven Mittel als nicht völlig zufriedenstellend erwiesen. Das gleiche gilt auch mehr oder minder für viele andere oberflächenaktive Mittel, die üblicherweise als Beschichtungshilfsmittel bei der Herstellung von strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien verwendet werden*
Aufgabe der Erfindung ist es nun, eine neue BeSchichtungsmasse für die Herstellung von strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien anzugeben, bei der die oben geschilderten Nachteile nicht auftreten und die auch mit Erfolg auf stark oberflächenaktive Schichten aufgebracht werden kann.
Es wurde nun gefunden, daß diese Aufgabe dadurch gelöst werden kann, daß zur Herstellung von Überzügen auf stark oberflächenaktiven Schichten eine Beschichtungsmasse verwendet wird, die eine bestimmte Kombination von oberflächenaktiven Mitteln als Beschichtungshilfsmittel enthält, die zu Überzügen mit verbes-
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serten antistatischen Eigenschaften führt.
Gegenstand der/ Erfindung ist eine BeSchichtungsmasse für die Herstellung von strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien, die dadurch gekennzeichnet ist, daß sie eine fließfähige (fluide) Mischung enthält, die besteht aus
a) Wasser,
b) mindestens einer kationischen oberflächenaktiven Verbindung als erstem Material der allgemeinen Formel
ί *1
[P-S-NH-(CH2)n-N-R
O R3
in der bedeuten:
P eine perfluorierte Kohlenstoffkette mit 6 bis 10
Kohlenstoffatomen pro Kette, R,, R. und R^ jeweils ein Wasserstoffatom oder eine
kurzkettige Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, η eine ganze Zahl von 1 bis 6 und Γ ein Anion, und
c) mindestens einer nicht-ionischen oberflächenaktiven Alkylphenoxy-poly(hydroxypropylenoxyd)-Verbindung als zweitem Material der allgemeinen Formel
0-Q
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in der bedeuten:
R, einen Alkylrest mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen und Q eine Polyäthergruppe mit durchschnittlich etwa 3 bis etwa 15 Hydroxypropylenoxyd-Einheiten, wobei die Polyäthergruppe aus n-*Propenoxy- und Isopropenoxy-Resten besteht,
wobei das erste und das zweite Material in einem Gewichtsverhältnis von etwa 2:1 bis etwa 1:75 zueinander in der Mischung vorliegen und mindestens etwa 0,005 Gew.-% der Beschichtungsmasse ausmachen.
Gegenstand der Erfindung sind ferner die unter Verwendung der vorstehend beschriebenen Beschichtungsmasse hergestellten Aufzeichnungsmaterialien, insbesondere strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien, welche die erfindungsgemäße Beschichtungsmasse auf mindestens einer ihrer äußeren Oberflächen enthalten. Durch die Anwesenheit dieser Beschichtungsmasse auf der Oberfläche des Aufzeichnungsmaterials oder Substrats ist es möglich, der natürlichen Neigung einer solchen Oberfläche, sich beim Kontakt mit einer anderen Oberfläche in unerwünschter Weise elektrostatisch aufzuladen, entgegenzuwirken. Durch Verwendung der erfindungsgemäßen Beschichtungsmasse ist es insbesondere möglich, auf strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien und sonstige Aufzeichnungsmaterialien gleichförmige Überzugsschichten mit verbesserten antistatischen Eigenschaften aufzubringen, wobei in diesen Überzugsschichten die synergistisch wirkende Mischung aus dem ersten und dem zweiten Material in einer Menge von mindestens etwa 0,002 bis etwa 2, vorzugsweise von etwa 0,005 bis etwa 0,5
2
mg pro dm behandelter Oberfläche enthalten ist.
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Typische Beispiele für kationische oberflächenaktive Mittel der oben angegebenen Formel I (erstes Material) sind Perfluorheptylsulf onamido- (N-propyl-3-N, N-dimethy 1-N-äthyl) ammoniumbromid, Perf luornony 1 sulf onamido- (N-äthy 1- 2-N, N, N- tr irae thy 1) ammonium j odid, Perf luorheptylsulf onamido- (N-propyl-3-N, N, N- triäthyl)annnoniumjodid, Perfluoroctylsulfonamido-(N-propyl-3-N,N,N-trimethyl)-amnoniumjodid, Perfluoroctylsulfonaraido-(N-propyl-3-N,N,N-trimethyl)ammoniumchlorid und Perfluorhexylsulfonamido-(N-buty1-4-N,N-diäthyl-N-propyl)ammoniumjodid. Unter diesen Verbindungen sind das Perfluoroctylsulfonamido-(N-propyl-3-N,N,N-trimethyl)-ammoniumjodid und das Perfluoroctylsulfonamido-(N-äthyl-N,N,N-trimethyl)ammoniumjodid bevorzugt.
Typische Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare nicht-ionische oberflächenaktive Mittel der oben angegebenen Formel II (zweites Material) sind die verschiedenen Produkte, die bei der üblichen Umsetzung von Alkylphenolen, wie Hexylphenol, Octylphenolen, Nonylphenolen und Dodecylphenolen, mit durchschnittlich 3, 6, 8, 10, 12 und 15 Mol Glycidol (pro Mol Alkylphenol) erhalten werden. Unter diesen Produkten sind Octylphenoxyoctaglycidol, Octylphenoxydecaglycidol, Octylphenoxydodecaglycidol, Nonylphenoxyoctaglycidol, Nonylphenoxynonaglycidol, Nonylphenoxydecaglycidol und Nonylphenoxydodecaglyeidol bevorzugt, wobei die Produkte mit Isoalkylgruppen besonders bevorzugt sind.
Eine erfindungsgemäß besonders bevorzugte Kombination von oberflächenaktiven Mitteln ist eine Kombination aus (a) Perfluoroctylsulfonamldo-(N-propyl-3-N,N,N-trimethyl)ammoniumjodid und (b) p-Nonylphenoxydecaglycidol in einem Gewichtsverhältnis von etwa 2:1 bis etwa 1:75. Die Verwendung solcher kationischer Verbin-
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düngen, wie sie durch die oben angegebene Formel I dargestellt werden, als Ladungskontrollraittel ist bereits in der US-Patentanmeldung Nr. 163 450/beschrieben. Solche Materialien können leicht auf übliche Weise hergestellt werden. In gleicher Weise ist auch die Verwendung von nicht-ionischen Verbindungen der oben angegebenen Formel II als Beschichtungshilfsraittel bereits in der US-Patentschrift 3 514 293 beschrieben. Diese nichtionischen Verbindungen können hergestellt werden durch Umsetzung eines geeigneten Alkylphenols mit einer geeigneten Menge Glycidol nach einem bekannten Verfahren, wie es beispielsweise in der US-Patentschrift 3 514 293 beschrieben ist.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert.
Beispiele 1 bis 8
Die vorteilhafte synergistische Wirkung der erfindungsgemäßen BeSchichtungsmasse wird durch die folgenden Beispiele erläutert, in denen eine simulierte, übliche (extrem oberflächenaktive)
2
photographische Schicht, die pro dm 0,86 mg Natriumtriisopropylnaphthalinsulfonat, 24,4 mg Gelatine und 1,3 mg eines nichtwandernden Purpurrot-Farbstoffes auf einem üblichen Celluloseacetat-Filmschichtträger enthielt, die gleichzeitig mit einer 10 Gew.-% Gelatine plus eine geeignete Menge eines oder mehrerer oberflächenaktiver Mittel, wie sie in der folgenden Tabelle I angegeben sind, enthaltenden wässrigen Dispersion überzogen worden war, verwendet wurde. Der Überzug wurde in einer solchen Menge aufgebracht, daß die behandelte Oberfläche 10 mg Gelatine
2
pro dm enthielt.
+'(entspricht der deutschen Patentanmeldung P 22 34 736.0)
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Tabelle I Beobachtungen
Beispiel Nr. Beschichtungshilfsmittel
(jnp/dm^)
Extrem schlechte Ab
stoßung (Ablösung)
1 A1 B1
O O
0,05
Sehr schlechte Abstoßung und zusammengezogene (eingerollte) Ränder
3 0 0,11 Abstoßung und zusammen-,
gezogene Ränder
4 0 0,22 Sichelförmige Verklei
nerung
5 0,05 0 Abstoßung und zusammen
gezogene Ränder
6 0,11 0 Abstoßung und zusammen
gezogene Ränder
7 0,05 0,05 Keine Abstoßung, etwas
kontrahierte Ränder
8 0,05 0,11 Gute Beschichtung, keine
Abstoßung, schone Rän
der.
A β Perfluoroctylsulfonamido-(N-propyl-3-N,N,N-trimethyl)ammonium-
jodid.
B β p-Nonylphenoxydecaglycidol.
Obwohl vorstehend die erfindungsgemäß erzielbaren wertvollen synergistischen Effekte nur in bezug auf eine bestimmte bevorzugte Ausführungsform der Erfindung untersucht und beschrieben worden sind, sei darauf hingewiesen, daß eine verbesserte Beschichfebarkeit (Aufbringbarkeit von Schichten) durch Verwendung jeder der oben angegebenen Kombinationen der Materialien 1 und 2 bzw.
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b und c erzielt wird, solange das Gewichtsverhältnis des ersten Materials (b) zu dem zweiten Material (c) innerhalb des Bereiches von etwa 2:1 bis etwa 1:75, vorzugsweise innerhalb des Bereicheswn etwa 1,5:1 bis etwa 1:50, liegt.
Die vorstehend angegebenen vorteilhaften Ergebnisse können erfindungsgemäß dadurch erzielt werden, daß man die oben angegebenen Materialien in Mischung auf die zu behandelnde Oberfläche aufbringt, vorzugsweise unter Verwendung einer BeSchichtungsmasse, die mindestens Wasser (in einer Menge von vorzugsweise mindestens etwa 60 Gew.-%), mindestens etwa 0,005 bis etwa 0,5 (vorzugsweise etwa 0,01 bis etwa 0,2) Gew.-% (Gesamtgewicht, wenn mehr als eine Verbindung verwendet wird) einer oder mehrerer der kationischen oberflächenaktiven Materialien der Formel I und eine solche Menge einer oder mehrerer der nicht-ionischen oberflächenaktiven Verbindungen der Formel II enthält, die ausreicht, um die erfindungsgemäße wässrige Beschichtungsmasse mit dem gewünschten Gewichtsverhältnis zu erzielen. Die wässrige Beschichtungsmasse der Erfindung enthält vorzugsweise eine Gesamtmenge von mindestens etwa 0,01 bis zu etwa 2, vorzugsweise von etwa 0,05 bis zu etwa 0,5 Gew.-% an nicht-ionischem oberflächenaktivem Material. Vorzugsweise enthält die Beschichtungsmasse der Erfindung auch mindestens etwa 0,5 Gew.-7O an einem oder mehreren der oben genannten polymeren Bindemittel, so daß sie auf übliche Weise leicht in Form einer Schicht aufgetragen werden kann.
Außer den oben genannten kationischen und nicht-ionischen oberflächenaktiven Mitteln (den Materialien A und B der Tabelle I), kann die erfindungsgemäße Beschichtungsmasse auch noch andere Materialien enthalten. Sie kann beispielsweise Farbstoffe,
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Schmiermittel (Gleitmittel), Pigmente, Dispergiermittel, Mattierungsmittel und Polymerisate im allgemeinen in geringeren Mengen von weniger als etwa 5 Gew.-% enthalten. Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform enthält eine Beschichtungsmasse der Erfindung eine solche Menge mindestens eines kompatiblen polymeren Bindemittels, die ausreicht, um zu bewirken, daß die dabei erhaltene Mischung gut zusammenhält und auf der darunter-liegenden Schicht haftet, wenn der Lösungsmittelanteil der Beschichtungsmasse (gewöhnlich durch Abdampfen) entfernt worden ist. Beispiele für geeignete kompatible polymere Bindemittel sind solche, die in dem wässrigen Anteil der Beschichtungsmasse dispergiert oder gpLöst werden können, die Filme bilden, wenn der Überzug unter üblichen Bedingungen getrocknet wird, und die mit den darauf befindlichen kationischen und nicht-ionischen oberflächenaktiven Mitteln kompatibel sind.
Typische Beispiele für derartige kompatible polymere Bindemittel sind Polyvinylalkohol, Polyacrylamid, Polyvinylpyrrolidon und Gelatine. Dabei ist Gelatine bevorzugt, weil sie derzeit in großem Umfange in strahlungsempfindlichen Schichten verwendet wird. Die vorteilhaften Überzüge können gewünschtenfalls auch unter Verwendung einer nicht-wässrigen erfindungsgemäßen Beschichtungsmasse aufgebracht werden, wobei der Lö sung smjtt eil an teil einer solchen Beschichtungsmasee unter den üblichen Beschichtungsbedingungen leicht flüchtig sein muß.
Als kationische oberflächenaktive Materialien werden erfindungsgemäß bevorzugt die perfluorierten Sulfonamidoverbindungen der folgenden allgemeinen Formel verwendet:
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[P-S-NH-(CH2)n-D^ J? Ill .
in der bedeuten:
P eitle perfluorierte Kohlenstoff kette mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, R^
D den Rest -N-R,., in dem R5, R, und R7 jeweils Alkyl-
»7
gruppen mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen bedeuten,
η eine ganze Zahl von 2 bis 4 und
X ein Anion aus der Gruppe der Chlorid-, Bromid- und Jodidanionen. Besonders bevorzugt ist das Perfluorocty1sulfonamide-(N-propyl-3-N, N1N- trime thy l)anmoniumjodid,das derzeit unter der Handelsbezeichnung "FC-134" von der Firma 3M Company erhältlich ist.
Als nicht-ionische oberflächenaktive Verbindungen werden erfindungsgemäß bevorzugt Verbindungen der allgemeinen Formel verwendet
in der bedeuten:
Rg eine Alkylgruppe mit 8 bis 10 Kohlenstoffatomen und Q, eine Poly(glycidol)-Gruppe mit durchschnittlich etwa 6 bis etwa 12 Einheiten,
die durch gemeinsame Umsetzung eines geeigneten Alkylphenols mit Glycidol hergestellt werden. Unter diesen Verbindungen ist
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das Reaktionsprodukt von p-Nonylphenol mit etwa 10 Mol Glycidol pro Mol Nonylphenol, das derzeit im Handel von der Firma Olin Corporation unter der Handelsbezeichnung "Surfactant IOG" erhältlich ist, besonders bevorzugt.
Wie oben bereits erwähnt, besteht ein weiterer, erfindungsgemäß erzielbarer Vorteil darin, dass die unter Verwendung der erfindungsgemäßen BeSchichtungsmasse erhaltenen beschichteten Aufzeichnungsmaterialien gegen übermäßige elektrostatische Aufladung während der Handhabung der Aufzeichnungsmaterialien geschützt sind. Dieser Schutz geht auf die spezielle Fähigkeit des perfluorierten kationischen oberflächenaktiven Bestandteils der erfindungsgemäßen Beschichtungsmasse zurück, der als "Ladungskontrollmittel" fungiert, wodurch die triboelektrischen Aufladungseigenschaften der Oberfläche des damit behandelten Aufzeichnungsmaterials wesentlichherabgesetzt werden können. Eine ausführliche Diskussion der Ladungskontrollmittel, der triboelektrischen Aufladungseigenschaften und der Verfahren zur Messung des Effektes derartiger Agentien ist in der US-Patentanmeldung Nr. 163 450 beschrieben. Eine Vorrichtung zur Messung der triboelektrischen Ladungen ist in der US-Patentschrift 3 501 653 beschrieben.
Der erfindungsgemäß erzielbare technische Effekt ergibt sich daraus, daß beispielsweise die triboelektrische Aufladung einer Schicht, die im wesentlichen aus Gelatine besteht, +30 elektrostatische Einheiten (ESU-Einheiten) pro cm beträgt, in dem obigen Beispiel 3 für eine Schicht, die das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel plus Gelatine enthält, etwa +28 ESU-Einheiten beträgt, während die triboelektrische Aufladung gemäß
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Beispiel 8 nur +2 ESU-Einheiten beträgt. Die Bedeutung dieser Verbesserung wird klar, wenn man berücksichtigt, daß eine gefährliche, störende elektrostatische Entladung auftritt, wenn eine triboelektrische Gesamtladung von 8 bis 10 ESU-Einheiten in.einem bestimmten Teil des Gelatineüberzugs vorliegt. Dies gilt insbesondere für polymere Filme, wie z.B. für mit einer üblichen, hauptsächlich aus Gelatine bestehenden photographischen Emulsion beschichtete Celluloseacetat- oder Polyethylenterephthalat) -Filme, obwohl die Höhe der jeweiligen elektrostatischen Entladung etwas von den verwendeten Materialien, den vorliegenden Feuchtigkeitsbedingungen und dergleichen abhängt.
Es sei darauf hingewiesen, daß der jeweilige Typ des Substrats oder der strahlungserapfindliehen Schicht(en), auf welche die erfindungsgemäße Beschichtungsmasse aufgetragen wird, im allgemeinen nicht kritisch ist. Überraschenderweise kann jedoch die erfindungsgemäße Beschichtungsmasse insbesondere dann erfolgreich angewendet werden (und weist auch dann noch den oben angegebenen synergistischen Effekt auf), wenn sie auf eine extrem oberflächenaktive Schicht aufgebracht wird, wie sie beispielsv/eise zur Herstellung der Überzüge der obigen Beispiele verwendet wurde, wobei eigentlich wegen der anionischen Natur der oberflächenaktiven Schicht eine unerwünschte Reaktion zwischen dem anionischen oberflächenaktiven Mittel in der darunterliegenden Schicht und dem kationischen oberflächenaktiven Mittel in der aufgebrachten Beschichtungsmasse zu erwarten gevsen wäre. Tatsächlich können mit einer solchen Reaktion möglicherweise die verhältnismäßig schlechten Ergebnisse erklärt werden, die in den obigen Beispielen 5 und 6 bei alleiniger Verwendung eines kationischen oberflächenaktiven Mittels erzielt wurden.
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Claims (15)

  1. - Ur-
    Patentansprüche
    Beschichtungsmasse für die Herstellung von strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien, dadurch gekennzeichnet, daß sie eine fließfähige Mischung enthält, die besteht aus
    a) Wasser,
    b) mindestens einer kationischen oberflächenaktiven Verbindung als erstem Material der allgemeinen Formel
    P -
    O
    II
    NH-
    Ϊ1
    N-R,
    (D
    in der bedeuten:
    P eine perfluorierte Kohlenstoffkette mit 6 bis 10
    Kohlenstoffatomen,
    R,, R« und R, jeweils ein Wasserstoffatom oder eine kurz·
    kettige Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, η eine ganze Zahl von 1 bis 6 und X®ein Balogenidanion, und
    c) mindestens einernicht-ionisch»oberflächenaktivenAlkylphenoxy-poly(hydroxypropylenoxyd)-Verbindung als zweitem Material der allgemeinen Formel:
    (II)
    309837/0820
    is
    in der bedeuten:
    R, eine Alkylgruppe mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen und
    Q eine Polyäthergruppe mit durchschnittlich etwa 3
    bis etwa 15 miteinander verbundenen Hydroxypropylenoxyd-Einheiten, wobei die Polyäthergruppe aus n-Propenoxy- und Isopropenoxy-Resten besteht,
    wobei das erste und das zweite Material in einem Gewichtsverhältnis von etwa 2:1 bis etwa 1:75 zueinander in der Mischung vorliegen und mindestens etwa 0,005 Gew.-% der Beschichtungsmasse ausmachen.
  2. 2. BeSchichtungsmasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem ein polymeres Bindemittel in einer Menge von mindestens etwa 0,5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht von erstem Material, zweitem Material und polymer em Bindemittel, enthält.
  3. 3. Beschichtungsmasse nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie als polymeres Bindemittel Gelatine enthält.
  4. 4. Beschichtungsmasse nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie als erstes Material Perfluoroctylsulfonamido-(N-propyl-3-N,N,N-trimethyl)ammoniumjodid enthält.
  5. 5. Beschichtungsmasse nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie als zweites Material ein Reaktionsprodukt von Nony!phenol und Glycidol enthält.
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  6. 6. BeSchichtungsmasse nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß sie als zweites Material eine Verbindung der allgemeinen Formel enthält
    in der Q eine etwa 10 Propenoxy-Einheiten enthaltende Polyäthergruppe bedeutet.
  7. 7. Beschichtungsmasse nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß sie als zweites Material p-Isononylphenoxy-decaglycidol enthält.
  8. 8. Beschichtungsmasse nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie im wesentlichen besteht
    a) zu mindestens etwa 60 Gew.-% aus Wasser,
    b) zu mindestens etwa 0,5 Gew.-% aus Gelatine,
    c) zu mindestens etwa 0,005 Gew.-% aus Perfluoroctylsulfonamido-(N-propyl-3-N,N,N-trimethyl)ammoniumjodid und
    d) zu mindestens etwa 0,01 Gew.-X aus einer Verbindung der in Anspruch 6 angegebenen Formel, wobei das Gewichtsverhältnis des Bestandteils (c) zum Bestandteil (d) etwa 1,5:1 bis etwa Ii50 beträgt.
  9. 9. Beschichtungsmasse nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie enthält eine Mischung aus etwa 0,05 Gew.-teilen Perfluoroctylsulfonamldo-(N-propyl-3-N,N,N-trimethyl)aetnoniumjodid und etwa 0,05 bis etwa 22 Gew.-teilen p-Isononylphenoxy-decaglycidol, gelöst In Wasser, die mindestens
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    etwa 0,015 Gew.-% der BeSchichtungsmasse ausmacht.
  10. 10. Beschichtungsmasse nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß sie anstelle von Wasser ein.Lösungs-
    . mittel für das erste Material und das zweite Material enthält.
  11. 11. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus einem Substrat und mindestens einer an einer Oberfläche des Substrats haftenden strahlungsempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß es,angrenzend an mindestens eine Oberfläche des Substrats oder eine der strahlungsempfindlichen Schichten, eine unter Verwendung der Beschichtungsmasse gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10 aufgebrachte Überzugsschicht aufweist.
  12. 12. StrahlungsempfLndliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Überzugsschicht mindestens eine der äußeren Oberflächen des Aufzeichnungsmaterials bildet.
  13. 13. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 11 und/oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß es einen Schichtträger aus eitlem festen linearen Polyester, Polyamid, Polyolefin oder etiem kurzkettigen Alkylester von Cellulose enthält.
  14. 14. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß es aus einem festen, transparenten Polymerisatfilm-Schichtträger und mindestens einer auf mindestens einer Oberfläche desselben angeordneten strahlungsempfindlichen Schicht besteht, die mit einer unter Verwendung der Beschichtungsraasse gemäß mindestens
    309837/0820
    1g
    einem der Ansprüche 1 bis 10 hergestellten Ladungskontrollschicht überzogen ist.
  15. 15. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Überzugs schicht an eine ein Alkylarylsulfonat-Surfactant enthaltende strahlungsempfindliche Schicht angrenzt.
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DE2309076A 1972-02-29 1973-02-23 Wäßrige Beschichtungsmasse für die Herstellung von strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien Expired DE2309076C2 (de)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
US23045072A 1972-02-29 1972-02-29

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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3850640A (en) * 1972-02-29 1974-11-26 Eastman Kodak Co Coating quality and reducing static simultaneously
IT966734B (it) * 1972-07-24 1974-02-20 Minnesota Mining & Mfg Metodo per ridurre la caricabilita statica di strati fotografici e di elementi fotografici strati fotografici ed elementi fotografici ottenuti con tale metodo
US4013696A (en) * 1973-07-25 1977-03-22 Eastman Kodak Company Element comprising a coating layer containing a mixture of a cationic perfluorinated alkyl and an alkylphenoxy-poly(propylene oxide)
JPS5399928A (en) * 1977-02-10 1978-08-31 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Preparation of silver halide photosensitive material
JPS6021371B2 (ja) * 1977-07-04 1985-05-27 コニカ株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料の製造方法
US4175969A (en) * 1978-03-17 1979-11-27 Gaf Corporation Antistatic photographic X-ray film having a uniform protective surface coating of surfactant oligomer of tetrafluoroethylene
US4508764A (en) * 1982-12-14 1985-04-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Coating process employs surfactants
US4534875A (en) * 1984-01-13 1985-08-13 The Dow Chemical Company Method for heat exchange fluids comprising viscoelastic surfactant compositions
US4735731A (en) * 1984-06-15 1988-04-05 The Dow Chemical Company Process for reversible thickening of a liquid
US4806256A (en) * 1984-06-18 1989-02-21 The Dow Chemical Company Water-based hydraulic fluids
US5258137A (en) * 1984-12-24 1993-11-02 The Dow Chemical Company Viscoelastic surfactant based foam fluids
US4696983A (en) * 1985-09-16 1987-09-29 The B. F. Goodrich Company Polymerization reactor coatings and use thereof
EP0239363B1 (de) 1986-03-25 1992-10-28 Konica Corporation Lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidmaterial, das für schnelle Entwicklung verwendbar ist
US5411844A (en) * 1994-03-31 1995-05-02 Eastman Kodak Company Photographic element and coating composition therefor
US5418128A (en) * 1994-03-31 1995-05-23 Eastman Kodak Company Photographic element and coating composition therefor
US20080226954A1 (en) * 2007-03-16 2008-09-18 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Hydrogen generating apparatus, fuel cell power generation system, method of controlling hydrogen generating quantity and recorded medium recorded program performing the same
CN109234779B (zh) * 2017-07-10 2020-07-21 中国兵器工业第五九研究所 铝合金高温阻粘氟聚合物协合涂层处理方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3514293A (en) * 1965-12-20 1970-05-26 Eastman Kodak Co Photographic surfactant compositions

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2976250A (en) * 1956-02-17 1961-03-21 Gen Aniline & Film Corp Matte-suspensions
US3549369A (en) * 1967-07-07 1970-12-22 Konishiroku Photo Ind Antistatic acylhydrazinium salt
CH506093A (de) * 1968-09-24 1971-04-15 Ciba Geigy Ag Verwendung aliphatischer Fluorverbindungen als Netzmittel in gelatinehaltigen Giesslösungen für photographische Zwecke
US3589906A (en) * 1968-10-16 1971-06-29 Du Pont Photographic layers containing perfluoro compounds and coating thereof
BE757878A (fr) * 1969-10-24 1971-04-01 Eastman Kodak Co Feuilles a proprietes antistatiques et leur application comme supports photographiques
GB1293189A (en) * 1970-06-04 1972-10-18 Agfa Gevaert Photographic silver halide element

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3514293A (en) * 1965-12-20 1970-05-26 Eastman Kodak Co Photographic surfactant compositions

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CA991469A (en) 1976-06-22
FR2174111A1 (de) 1973-10-12
BE796119A (fr) 1973-08-28

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