DE3152562T1

DE3152562T1 - Photographische antistatische zusammensetzungen und damit beschichtete elemente

Info

Publication number: DE3152562T1
Application number: DE813152562T
Authority: DE
Inventors: Richard A. Rochester NY Kydd; Donald N. Penfield NY Miller
Original assignee: Eastman Kodak Co
Current assignee: Eastman Kodak Co
Priority date: 1980-11-24
Filing date: 1981-10-22
Publication date: 1983-09-08
Also published as: CA1172498A; FR2494709B1; JPS595887B2; JPS60258542A; WO1982001945A1; BR8108883A; GB2107073B; US4335201A; JPH0322613B2; BE891230A; GB2107073A; JPS57501798A; FR2494709A1; DE3152562C2; CH651946A5

Description

EASTMAN KODAK COMPANY ^% ^DR' ^RB"· ^NAT' ^J"

Ι'Λ'ΠΟΝΊ'ΛΝνν'ΛΙ/Γ

343 State Street «ooo mOncm.mn aa

Rochester, Staat New York thibrschsto. β

Vereinigte Staaten von Amerika ^TELBFON! «089)293297

TBLBXi 5 23325 (patwo d)

19. Juli 1982

MÜNCHEN,

Photographische antistatische Zusammensetzungen und damit beschichtete Elemente

Die Erfindung betrifft das Gebiet der Photographic und insbesondere photographische antistatische Beschichtungsmassen sowie strahlungsempfindliche Elemente mit antistatischen Schichten, die aus solchen Beschichtungsmassen erzeugt worden sind. Ganz speziell betrifft die Erfindung die Verwendung von solchen photographischen „antistatischen Beschichtungsmassen zum Schütze von photographischen Trägermaterialien und strahlungsempfindlichen photographischen Elementen, wie photographischen Papieren und Filmen vor den nachteiligen Effekten statischer Aufladungen.

Die Anhäfung von statischen elektrischen Ladungen auf photographischen Filmen und photographischen Papieren ist seit langem ein schwerwiegendes Problem auf dem Gebiet der Photographie. Die Ladungen entstehen dabei aus vielerlei Gründen während der Herstellung, der Handhabung und Verwendung von s t rah lungs empfindlichen,bildaufzeichnenden Materialien. Beispielsweise können sie auf photographischen Sensibilisierungseinrichtungen auftreten sowie auf Schlitz- und Aufspuleinrichtungen; des weiteren können sie dann auftreten, wenn Papier oder Film von einer Spule abgespult wird oder als Folge des Kontaktes mit Transportwalzen. Die Erzeugung statischer Ladungen wird dabei beeinflußt durch die Leitfähigkeit und den Feuchtigkeitsgehalt der photographischen Materialien und von den atmosphärischen Bedingungen, unter denen das Material verarbeitet wird. Der Grad, zu dem ein Schutz gegenüber

UANKVlORBINlJUNt;: DEUTSCHE HANK AG, FILIALE MÜNCHEN, KONTO NR. 27 IOIO1 (BLZ 70070010)

den nachteiligen Effekten von statischen Aufladungen benötigt wird, hängt von der Natur des speziellen strahlungsempfindlichen Elementes ab. Dies bedeutet, daß Elemente mit hochempfindlichen Emulsionsschichten eines besonderen Schutzes vor antistatatischen Aufladungen bedürfen. Eine Anhäufung von statischen Aufladungen kann irreguläre Schleiermuster in einer photographischen Emulsionsschicht erzeugen, was ein bexmders schwerwiegendes Problem im Falle von hochempfindlichen Emulsionsschichten ist. Statische Aufladungen sind des weiteren unerwünscht, weil dadurch das photographische Aufzeichnungsmaterial Staub anzieht, was wiederum zu Abstoßflecken,einer Desensibilisierung, dem Auftreten von Schleier und physikalischen Defekten führen kann.

Um die nachteiligen Effekte, die sich aus der Anhäufung von statischen^ elektrischen Ladungen ergeben, zu überwinden, ist es übliche -Praxis, strahlungsempfindliche Elemente mit antistatisch wirksamen Schichten zu versehen. Derartige antistatisch wirksame Schichten werden oftmals aus photographischen antistatischen Beschichtungsmassen erzeugt, die aus Materialien bestehen, die elektrische Ladungen durch Leitung abzuleiten vermöger. Eine große Anzahl von verschiedenen Materialien ist für die Verwendung in antistatischen Schichten photographischer Elemente vorgeschlagen worden. Beispielsweise beschreibt die US-PS 584 862 vom 22. Juni 1897 den Zusatz von Alkalinitrat, z. B. Kaliumnitrat zu einer Gelatineschicht auf einem Filmträger, um statische Aufladungen zu verhindern. Des weiteren bezieht sich beispielsweise die US-PS 3 754 924 vom 28. August 1973 auf photographische Elemente mit antistatisch wirksamen Schichten mit einer fluorinierten oberflächenaktiven Verbindung und festen,in Wasser unlöslichen diskreten Teilchen aus einem Mattierungsmittel, wie Kieselsäure. Unglücklicherweise jedoch leidet die Verwendung von Alkalinitraten oder fluorinierten oberflächenaktiven Verbindungen zur Ausbildung eines antistatischen Schutzes in strahlungsempfindlichen Elementen, wie im Stande der Technik beschrieben, an einem oder mehreren schwerwiegenden Nachteilen. In manchen Fällen beispielsweise liefern antistatische Schichten mit nur einer dieser Typen von Materialien einen unzu-

reichenden Schutz gegenüber statischen Aufladungen im Falle von hochempfindlichen Emulsionen, z. B. Phototypie-Papieren. Infolgedessen tritt in solchen Elementen ein nicht'äkzeptierbarer Grad von Defekten, verursacht durch statische Aufladungen auf. Infolgedessen besteht ein Bedürfnis nach antistatisch wirksamen Zusammensetzungen oder Massen, mit denen sich strahlungsempfindliche Elemente verbessert vor dem Auftreten von statischen Aufladungen schützen lassen.

Während anionische fluorinierte oberflächenaktive Verbindungen und anorganische Nitrate einzeln bereits dazu verwendet wurden_;strahlungsempfindliche Elemente vor statischen Aufladungen zu schützen, werden im Falle der vorliegenden Erfindung eine anionische fluorinierte oberflächenaktive Verbindung und ein anorganisches Nitrat in Kombination mit eineinander verwendet. Es wurde gefunden, daß diese Kombination von Materialien eine antistatisch wirksame Schicht liefert, die stark verbesserte antistatische Schutzeigenschaften aufweist. Im Gegensatz zu dem, was erwartet werden konnte und wie in dem folgenden Beispiel 1 veranschaulicht, ist der erzielte verbesserte antistatische Schutz beträchtlich größer als entweder der Schutz, der durch jede einzelne Komponente allein erzeugt wird oder der additive Effekt der Summe ihrer Beiträge zu dem erzielten antistatischen Schutz.

Überdies führen die hier beschriebenen antistatischen Schichten zu besonderen Vorteilen einschließlich des Vorteiles, daß sie aus einer wäßrigen Lösung zur Beschichtung verwendet werden können und der Tatsache, daß sie dauerhaft, fest auf dem Träger haften, abriebresistent und nicht klebrig sind. Infolgedessen verschmutzen sie weder die Vorrichtungen, die zur Herstellung der strahlungsempfindlichen Elemente verwendet werden, noch Entwicklungsbäder oder Vorrichtungen, die zur Entwicklung der strahlungsempfindlichen Elemente verwendet werden.

Gegenstand der Erfindung ist eine photogrr tische antistatische Beschichtungsmasse, die dadurch gekennzeicinet ist, daß sie aus einer wäßrigen Lösung eines hydrophilen Bindemittels, einer anionischen fluorinierten oberflächenaktiv an Verblendung und einem anorganischen Nitrat besteht oder eine solzhe Lösung enthält.

Gegenstand der Erfindung ist des weiteren jin photogräphisches Trägerelement aus einem Träger und einer hierauf aufgetragenen antistatischen Schicht aus der beschrieber in photographischen antistatischen Beschichtungsmasse.

Gegenstand der Erfindung ist des weiteren 3in strahlungsempfindliches Element aus einem Träger, einer sti ahlungsempfindlichen, bilderzeugenden Schicht und einer antistatischen Schicht aus der -besehriikbenen photographischen antistatisc ien Beschichtungsmasse. Im allgemeinen befindet sich die strahlungs smpfindliche, bilderzeugende Schicht auf einer Seite des Triers und die antistatische Schicht auf der anderen Seite des Trägers.

Des weiteren ist Gegenstand der Erfindung ϊίη Verfahren zum Schütze eines strahlungsempfindlichen Elementes ve r der Einwirkung von statischen Aufladungen. Das Verfahren best 3ht in der Beschichtung einer Oberfläche des Elementes mit der bes chriebenen antistatisch wirksamen Beschichtungsmasse und Trocknen der erhaltenen Beschichtung

Zur Herstellung der Beschichtungsmasse unc der Elemente der Erfindung läßt sich jede anionische fluoriniarte oberflächenaktive Verbindung oder oberflächenaktives Mittel verwenden, solange diese bzw. dieses verträglich mit den andf ren Komponenten der Beschichtungsmasse ist und die sensitometiLschen Eigenschaften der strahlungsempfindlichen Schichten in c srartigen Elementen nicht nachteilig beeinflußt. Der in dieser Bescl reibung und den Ansprüchen verwendete Ausdrück "oberflächen.' <tives Mittel" oder "oberflächenaktive Verbindung" (surfactant '·) bezieht sich auf eine oberflächenaktive Substanz, die die ( oerflächenspannung von Wasser verändert (gewöhnlich vermindert). Derartige Verbindungen

-X-

werden gelegentlich auch als oberflächenaktive Mittel bezeichnet. Zu den geeigneten anionischen fluorinierten oberflächenaktiven Verbindungen gehören beispielsweise solche, die aus der US-PS 3 754 924 vom 28. August 1973 bekannt sind. Im allgemeinen sind solche oberflächenaktiven Verbindungen entweder in Wasser löslich oder in Wasser dispergierbar.

Besonders geeignete anionische fluorinierte oberflächenaktive Verbindungen sind solche der Formel R-X, worin R für einen fluorinierten Kohlenwasserstoffrest steht, in dem ein Teil oder alle der Wasserstoffatome durch Fluoratome ersetzt sind. Derartige Kohlenwasserstoffreste können bestehen aus: Alkylresten, oftmals mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen; Cycloalkylresten, oftmals mit 5 bis 30 Kohlenstoffatomen und Arylresten, oftmals nit 6 bis 30 ^Kohlenstoffatomen. In der vorstehenden Formel steht X für eine hydrophile anionische Gruppe, beispielsweise -SO,M, -OSO..M oder -COOM. M steht für einwertiges Kation, beispielsweise Wasserstoff, sin Alkalimetallion, z. B. Na oder K oder ein Ammoniumion oder eine organische Ammoniumgruppe, z. B. eine Diethanolammonium-, Morpholinium-, Pyridinium-, Tetramethylammonium- oder Tetraethylammoniumgruppe. Gemäß einer bevorzugten Ausführungs form steht in der Formel R-X R für einen teilweise oder vollständig fluorinierten Alkylrest mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen und X für einen Rest der Formel -SO₃M. Besonders vorteilhafte oberflächenaktive Verbindungen sind solche der Formel CF-(CF,,) _SO_M. Ggf. können auch Mischungen von anionischen fluorinierten oberflächenaktiven Verbindungen verwerdet werden, falls dies erwünscht ist.

Zur Herstellung erfindungsgemäßer Beschichtungsmassen und Elemente eignen sich als anorganische Nitrate die in Wasser löslichen oder in Wasser dispergierbaren Salze der Salpetersäure. Zu den verwendbaren Salzen gehören beispielsweise Ammoniumnitrat und Metallnitrate, wie Aluminiumnitrat, Alkalimetallnitrate und Erdalkalimetallnitrate. Bevorzugt eingesetzte Nitrate sind die Alkalimetallnitrate, wie Lithiumnitrat, Natriumnitrat und Kaliumnitrat sowie Erdalkalimetallnitrate, wie beispielsweise Calciumnitrat und

N Gelatine.

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Magnesiumnitrat. Ggf. können auch Mischungen von Nitraten verwendet werden. Die photographischen, antistatisch wirksamen Beschichtungsmassen, die erfindungsgemäß verwendet werden, enthalten des weiteren ein oder mehrere in Wasser lösliche, filmbildende hydrophile Bindemittel. Zu den geeigneten hydrophilen Bindemitteln gehören sowohl natürlich vorkommende Substanzen wie Proteine, Proteinderivate, Cellulosederivate, z. B. Celluloseester, Gelatine., Gelatinederivate, Polysaccharide, Collagenderivate wie auch synthetische hydrophile polymere Materialien. Beispiele für geeignete hydrophile Bindemittel werden beispielsweise näher beschrieben in der Literaturstelle "Research Disclosure", Publikation 17643, Dezember 1978, Seite 26, Paragraph IX (veröffentlicht durch Industrial Opportunities, Ltd., Homewell, Havant Hampshire P09 1EF, Großbritannien) und der US-PS 4 196 001 (veröffeitlicht am 1. April 1980). Ein besonders vorteilhaftes Bindemittel ist

Die Verhältnisse der Komponenten, die die mtistatisch wirksamen Beschichtungsmassen der Erfindung bilden, können weitestgehend verschieden sein, um den Bedürfnissen oder Erfordernissen des im Einzelfalle herzustellenden Elementes zu genügen, das mit einem antistatischen Schutz versehen werden soll. Im allgemeinen liegt die anionische fluorinierte oberflächenaktive Verbindung in solchen Massen in einer Konzentration von 0,05 bis 5 Gew.-'a, bezogen auf den Gesamttrocken-Feststoffgehalt der Masse vor. Das anorganische Nitrat wird in typischer Weise in einer Konzentration von 5 bis 20 Gew.-O, bezogen auf den gesamten Trocken-Festoffgehalt verwendet. Das hydrophile Bindemittel liegt in einer Konzentration von 30 bis 95 Gew.-Ό, bezogen auf den gesamten Trocken-Feststoffgehalt der Masse vor.

Die photographischen antistatisch wirksamen Beschichtungsmassen der Erfindung können des weiteren auch noch andere Bestandteile zusätzlich zu den hydrophilen Bindemitteln, anionischem Querinierten oberflächenaktiven Verbindungen und anorganischen Nitraten enthalten. Beispielsweise können sie Mattierungsmittel, wie

beispielsweise Kieselsäure, Stärke, Titandioxid, polymere Kügelchen, Zinkoxid und Calciumcarbonat enthalten. Vorzugsweise enthalten sie Kieselsäure. Sie können des weiteren auch Beschichtungshilfsmittel enthalten, beispielsweise Alkohole und oberflächenaktive Verbindungen, solange diese verträglich mit den anionischen fluorinierten oberflächenaktiven Verbindungen sind, ferner Härtungsmittel, z. B. Formaldehyd und andere Zusätze, wie sie üblicherweise in solchen Massen verwendet werden.

Zu den photographischen Trägerelementen, die vor den nachteiligen Effekten einer statischen Aufladung mit den hier beschriebenen antistatischen Schichten geschützt werden können, gehören photographische Filme, die aus einer Vielzahl von Trägermaterialien hergestellt sein können. Beispielsweise kann der Filmträger aus einem Cellulosenitrat-, Celluloseacetat-, Polyvinylacetat, Polycarbonat-, Polystyrol- oder Polyesterfilm bestehen. Polyesterfilme, wie beispielsweise biaxial verstreckte, wärmefixierte und wärmeentspannte Polyethylenterephthalatfilme sind besonders geeignet. Photographische Papiere, insbesondere solche, die auf einer oder beiden Seiten mit einer Schicht aus einem hydrophoben polymeren Material beschichtet sind, lassen sich ebenfalls in vorteilhafter Weise vor statischen Aufladungen mit erfindungsgemäßen antistatischen wirksamen Schichten schützen. Derartige mit Polymeren beschichtete photographische Papiere sind allgemein bekannt und zu ihnen gehören beispielsweise Papiere, die beschichtet sind mit Styrolpolymeren, Celluloseesterpolymeren, linearen Polyestern sowie Polyolefinen, z. B. Polyethylen oder Polypropylen.

Die antistatisch wirksamen Schichten der Erfindung lassen sich zur Herstellung von strahlungsempfindlichen Elementen für die Schwarz-Weii^-Photographie oder die Farbphotographie verwenden. Zusätzlich zu der antistatischen Schicht und einer oder mehreren strahlungsempfindlichen, bildaufzeichnenden Schichten, können die strahlungsempfindlichen Elemente des weiteren Haftschichten, schützende Pelloidschichten, Filterschichten, Lichthofschutzschichten und dgl. aufweisen. Die strahlungsempfindlichen, bild-

aufzeichnenden oder bilderzeugenden Schichten der Elemente können als strahlungsempfindliches Material photographische Silberhalogenide enthalten, beispielsweise Silberchlorid, Silberbromid, Silberbromidiodid, Silberchloridbromid, Silberchloridiodid, Silberchloridbromidiodid und Miscltungen hiervon. Oftmals bestehen diese Schichten aus photographischen Emulsionsschichten, die ein hydrophiles Kolloid enthalten. Veranschaulichende Beispiele derartiger Kolloide sind Proteine, z. B. Gelatine, Proteinderivate, Cellulosederivate, Polysaccharide, z. B. Stärke, Zucker, z. B. Dextran, Pflanzengummis und synthetische Polymere, wie beispiels* weise Polyvinylalkohol, Polyacrylamid und Polyvinylpyrrolidon. In photographischen Emulsionsschichten können des weiteren übliche Zusätze zugegeben werden, z. B. Antischleiermittel, Stabilisatoren, Sensibilisierungsmittel, Entwicklungsmodifizierungsmittel, Entwicklerverb indungen, Härtungsmittel, Weichmacher, Beschichtungsmittel und dgl.. Die photographischen Elemente, die mit der antistatischen Schicht wie beschrieben geschützt sind, können bestehen aus Filmen oder Papieren, die mit einer photographischen Schwarz-Weiß-Emulsion sensibilisiert sind ferner Elementen, die für das Farbumkehrverfahren bestimmt sind Farbnegativelementen, Farbkopiermaterialien und dgl.. Photographische Silberhalogenidemulsionen, Zubereitungen, Zusätze und Entwicklungsmethoden, die für die erfindungsgemäßen Elemente geeignet sind, werden beispielsweise beschrieben in der Literaturstelle "Research Disclosure", Publikation 17643, Dezember 1978, Seiten 22 - 31, die bereits erwähnt wurde.

Die hier beschriebene photographische, antistatisch wirksame Beschichtungsmasse läßt sich nach jeder Technik verarbeiten, die für die Verarbeitung von wäßrigen Beschichtungsmassen bekannt ist, So können die erfindungsgemäßen Beschichtungsmassen beispielsweise nach der Sprühbeschichtung, nach dem Eintauchbeschichtungsverfahren, nach dem Wirbelbeschichtungsverfahren, nach dem Extruderbeschichtu^gs verfahren, nach dem sog. Vorhangbeschichtungsverfahren, nach dem ein Luftmesser verwendenden Beschichtungsverfahren oder nach anderen Beschichtungsmethoden aufgetragen werden. Die Dicke der aufgetragenen Schicht hängt von den spezielllen Bedürfnissen des

im Einzelfalle zu schützenden Elementes ab. In typischer Weise liegt die Beschichtungsstärke, trocken gemessen, bei 0,2, bis 4g

2 -2

pro m und in besonders zweckmäßiger Weise bei 1 bis 3g pro m . Die Trocknung der aufgetragenen Schicht kann bei verschiedenen Temperaturen erfolgen. Beispielsweise liefern Temperaturen von 20⁰C bis 13O⁰C und vorzugsweise von 75⁰C bis 115⁰C ganz allgemein zufriedenstellende Ergebnisse.

Wird die photographische, antistatisch wirksame Beschichtungsmasse auf einen mit einem Polyolefin beschichteten Papierträger aufgetragen, so hat es sich als vorteilhaft erwiesen, die Polyolefinoberflache einer Vorbehandlung zu unterwerfen, beispielsweise einer Korona-Entladungsbehandlung, einer Ozon- oder Flammenvorbehandlung, um sie für die Beschichtungsmasse empfänglich zu machen. Das Papier, das zur Herstellung des Trägers verwendet wird, ^Jkann des weiteren mit einer Lösung verleimt werden, die ein gleitendes Salz enthält, das als inneres Antistatikum wirkt. Als vorteilhaft hat es sich des weiteren erwiesen, ein Papier-Ausgangsmaterial oder Grundmaterial· zu verwenden, das mindestens 3% und im allgemeinen 4 bis 8% (Gew.-I) Feuchtigkeit enthält.

Wird die photographische, antistatisch wirksame Beschichtungsmasse auf einen Polyesterfilmträger aufgetragen, so wird in vorteilhafter Weise eine Haftschicht verwendet, um die Bindung der antistatischen Schicht an den Träger zu verbessern. Haftschicht-Beschichtungsmassen für diesen Zweck sind bekannt und zu ihnen gehören beispielsweise Mischpolymere aus Vinylidenchlorid, z. B. Vinylidenchlorid/ Acrylnitril/Acrylsäure-Terpolymere oder Vinylidenchlorid/Methylacrylat/Itaconsäure-Terpolymere.

Die hier beschriebenen antistatisch wirksamen Schichten können sich in jeder Position des strahlungsempfindlichen, bilderzeugenden Elementes befinden, um einen wirksamen Schutz vor den nachteiligen Effekten statischer Aufladungen zu erzielen. Normalerweise jedoch bilden sie die äußerste Schicht des Elementes auf der Seite, die der oder den strahlungsempfindlichen phot ο graph is chen Emulsions-

Αλ

-JO-

schichten gegenüberliegt.

Die antistatischen Eigenschaften der Schichten, die aus den hier beschriebenen photographischen antistatisch wirksamen Beschichtungsmassen erzeugt werden, können nach jeder einer Anzahl von geeigneten bekannten Methoden ermittelt werden. Eine dieser Methoden ist die sog. "Impact-Elektrifizierungsmethode", die mit einer Vorrichtung zur Durchführung dieser Methode beschrieben wird in der US-PS 3 501 653 vom 17. März 1970 und in der US-PS 3 850 642 vom 26. November 1974. Diese Impact-Elektrifizierungsmethode wurde zur Untersuchung der antistatischen Schichten verwendet, die,wie in den folgenden Beispielen beschrieben, hergestellt wurden.

^ Eine dgtaillierte Beschreibung einer Vorrichtung für die Messung ^ der Impact-Elektrifizierung findet sich in der vorerwähnten US-PS 3 501 653. Das Meßgerät und die ermittelten Meßwerte bei Verwendung des Meßgerätes werden in der Patentschrift definiert und im Detail erklärt. Vereinfacht dargestellt, besteht die Theorie des in der US-PS 3 501 653 beschriebenen Meßgerätes darin, daß sollen genauere Vergleichswerte für die Impact-Elektrifizierung von einer Vielzahl von Oberflächen bestimmt werden, eine bestimmte Vergleichsoberfläche mittels einer zweiten Oberfläche (Vergleichsfläche) beaufschlägt werden und getrennt werden muß, alles in eir,e^r überwachten und wiederholbaren Weise. Die durch die Beaufschlagung und Trennung erzeugte elektrische Ladung wird genau^messen und aufgezeichnet. Die erhaltenen Werte werden in zweckmäßiger Weise in Mikrocoulomb pro m angegeben.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichea.

Beispiel 1

Eine photographische, antistatisch wirksame Beschichtungsmasse nach derErfindung (im folgenden mit Beispiel 1 bezeichnet) wurde hergestellt durch Zusatz der folgenden Komponenten zu einer ausreichenden Menge Wasser derart, daß ein Feststoffgehalt von etwa 3,8$ erzielt wurde;

Teile*

Gelatine (9U Feststoffe) 78,69

Alkanol-XC-oberflächenaktives Mittel 0,52 (101 Feststoffe)

Fluortenside FT-^S⁺* (2°& Feststoffe) 0,08

NaNO. 12,06

Al (NO₃) ₃ (25°i Feststoffe) 0,79

Kieselsäure 7,34

Formaldehyd (40^?„ Feststoffe) 0,52

⁺Teile pro 100 Teile Feststoffe;

anionisches fluoriniertes oberflächenaktives Mittel, im Handel erhältlich von der Firma Bayer 7.G, Bayerwerk, Leverkusen, NRW D-S090, Bundesrepublik Deutschland;

⁺⁺Salz eines Naphthalinsulfonates im Handel erhältlich von der Firma DuPont de Nemours and Co.. Wilmington 98, Delaware, USA.

Des weiteren wurden antistatische Vergleichs-Beschichtungsmassen A, B und C hergestellt, die sich von der antistatischen Beschichtungsmasse (Beispiel 1) wie folgt unterschieden:

- VZ -

Vergleich A Fluortenside FT-248 wurde weggelassen

Vergleich B NaNO, und Al(NO-), wurden weggelassen

Vergleich C Fluortenside FT-248, NanO- und

Al(NO.,), wurden weggelasen.

Es wurden photographische Trägereleraente dadurch hergestellt, daß jede der angegebenen antistatischen Beschichtungsmassen (Beispiel 1 und Vergleiche A-C) auf mit Polyethylen beschichtete photographische Papierträger aufgetragen wurden, und zwar in einer Konzentration derart, daß eine Beschichtung, ausgedrückt in

2 Form des Trockengewichtes von 1 bis 2 g/m Träger erzielt wurde.

Die antistatischen Eigenschaften der aus den Massen erzeugten antistatischen Schichten wurden nach der "Impact-Elektrifizierungsmethode" wie zuvor beschrieben ermittelt. Von jedem photographi- -schen Trägerelement wurde eine Testfläche mit einem Polyurethanelastomer in einer Vorrichtung und nach der Methode gemäß US-PS 3 501 653 beaufschlagt (Impact-Druck 20psi (138 kPa). Die erzeugte Ladung (Mikrocoulomb/m ) wurde gemessen und aufgezeichnet. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle I zusammengestellt.

Tabelle I

2 Ladung (Mikrocoulomb/m )

Beispiel 1 +27

Vergleich A +82

Vergleich B +6 3

Vergleich C +86

Die erhaltenen Ergebnisse wurden dazu benutzt, zu bestimmen, ob der Ladungseffekt der Nitrate und des anionischen fluorierten oberflächenaktiven Mittels additiv oder größer als additiv war. Die Bestimmung erfolgte durch Vergleich der Meßdaten wie folgt:

- V3- -

C-B= Veränderung im Aufladungsgrad zwischen den Vergleichen B und C;

C-A= Veränderung des Aufladungsgrades zwischen den Vergleichen A und C;

(C - B) + (C - A) = gesamter theoretischer Effekt unter der Annahme additiver Effekte;

C - 1 = tatsächliche Veränderung des EIeVtrifizierungsgrades zwischen Vergleich C und Beispiel 1.

C - 1 wurde verglichen mit /(C-B) + (C-A]/ durch Abziehen des letzteren Wertes vom ersten Wert. Diese Differenz zwischen den tatsächlichen und theoretischen additiven Effekten wurde bestimmt* zu +59-/(23) + (+4)/ = +59 - /27/ = + 32. Dieses Ergebnis zeigt, daß der antistatische Effekt durch Kombination der Nitrate mit dem anionischen fluorinierten oberflächenaktiven Mittel beträchtlich größer war als die Summe der Effekte bei Verwendung jeder Komponente allein.

Entsprechende Ergebnisse wurden im Falle von photographischen Trägerelementen erzielt, die auf der Seite des mit einem Harz beschichteten Papierträgers, die der antistatischen Schicht gegenüberlag, mit einer grünempfindlichen, hochkontrastreichen, Schwarz-Weiß- Gelatine-SiIberbromidiodidemulsion hoher Empfindlichkeit, des auf dem Gebiet der Phototypie (phototype-setting) üblichen Typs beschichtet war.

Beispiel 2

Aus der US-PS 3 754 924 ergibt sich, daß lattierungsmittel, wie Kieselsäure, kombiniert mit fluorinierten oberflächenaktiven Mitteln zu überlegenen und unerwarteten antistatischen Eigenschaften in photographischen Elementen füiren. Obgleich Kieselsäure eine geeignete Komponente in photographischen antistatisch wirk-

-Visamen Beschichtungsmassen dieser Erfindung ist, ist doch ihre Anwesenheit nicht verantwortlich für die erfindungsgemäß erzielbaren Ergebnisse. Um dies zu veranschaulichen, wurde Beispiel 1 wiederholt mit der Ausnahme jedoch, daß Kieselsäure aus allen antistatischen Beschichtungsmassen fortgelassen wurde.

Die Ergebnisse der "Impact-Elektrifizierungsbestimmungen" sind in der folgenden Tabelle II zusammengestellt:

Tabelle II

Beispiel 2 -15

Vergleich A +85

Vergleich B +58

Vergleich C +81

Dann wurden die tatsächlichen und theoretischen additiven Effekte wie in Beispiel 1 beschrieben verglichen. Der Unterschied zwischen dem tatsächlichen und dem theoretischen additiven Effekt betrug + 77. Hieraus ergibt sich, daß die unerwartete Verbesserung des antistatischen Schutzes, der mit den photographischen Beschichtungsmassen der Erfindung erzielt wird, nicht auf der Gegenwart der Kieselsäure in diesen Beschichtungsmassen beruht.

Claims

Patentansprüche

1. Photographische, antistatische BeschicIltuitgSiftässe, dadurch gekennzeichnet, daß die. Masse aus einer wäßrigen Lösung von:

(a) einem hydrophilen Bindemittel,

(b) einer anionischen fluorinierten oberflächenaktiven Verbindung und

(c) einem anorganischen Nitrat
besteht oder eine solche Lösung enthält.

2. Beschichtungsmasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die anionische fluorinierte oberflächenaktive Verbindung der Formel R-X entspricht, worin R für einen fluorinierten Kohlenwasserstoffrest steht und X für -SO₃M, -OSO-M oder -COOM, worin M für ein einwertiges Kation steht.

•3. Beschichtungsmasse nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Nitrat ein Alkalimetallnitrat ist.

4. Beschichtungsmasse nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Nitrat Natriumnitrat ist und die Beschichtungsmasse zusätzlich Kieselsäure enthält.

5. Photographisches Trägerelement mit einem Träger, der mit einer antistatisch wirksamen Schicht aus einer photographischen, antistatisch wirksamen Beschichtungsmasse beschichtet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsmasse eine Beschichtungsmasse gemäß Anspruch 1 ist.

6. Trägerelement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger ein Filmträger, ein Papierträger oder ein mit einem Polyolefin beschichteter Papierträger ist.

7. Strahlungsempfindiiches Hlement mit:

(1) einem Träger,

(2) einer strahlungsempfindlichen, bilderzeugenden Schicht und

(3) einer antistatischen Schicht aus einer photographischen, antistatisch wirksamen Beschichtungsmasse,

dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsmasse eine Beschichtungsmasse nach einem der Ansprüche 1 , 2, 3 oder 4 ist.

8. Strahlungsempfindliches Element, nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die bilderzeugende Schicht sich auf einer Seite des Trägers und die antistatisch wirksame Schicht sich auf der anderen Seite des Trägers befindet.

9. Strahlungsempfindiiches Element nach einem der Ansprüche

7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche, bilderzeugende Schicht, eine lichtempfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht ist.

10. Strahlungsempfindliches Element nach einem der Ansprüche 7, 8 oder 9 dadurch gekennzeichnet, daß die anionische fluorinierte oberflächenaktive Verbindung der Formel CF₃(CF₀)7SO₃M entspricht, worin M für ein Alkalimetall steht und daß ferner das anorganische Nitrat. Natriumnitrat ist.

11. Verfahren zur antistatischen Ausrüstung eines strahlungsempfindlichen Elementes, bei dem man eine Oberfläche des Elementes mit einer photographischen, antistatisch wirksamen Beschichtungsmasse beschichtet und die aufgetragene Schicht trocknet, dadurch gekennzeichnet, daß man als antistatisch wirksame Beschichtungsmasse eine Beschichtungsmasse nach einem der Ansprüche 1, 2, 3 oder 4 verwendet.