DE3124237A1 - "feldeffektkapazitaet" - Google Patents
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Description
LV. Philips' eioeilampenfab'ieken, Bnrffitwen . : ": :λ\ # χ ":; 3 1 2 A 2 3
PHN.9786 "" -*-* *' "° " *" 23.2.81
* 3-
"Feldeffektkapazität".
Die Erfindung bezieht sich auf eine Feldeffektkapazität mit in einer Halbleiterschicht einem ersten Gebiet
von einem ersten (p ) Leitungstyp, das mit mindestens einer Kontaktelektrode versehen ist, die mit einem ersten An-Schlusspunkt
verbunden ist, während dieses Gebiet noch mit einer auf diesem Gebiet angebrachten isolierten Elektrode
versehen ist, die mit einem zweiten Anschlusspunkt verbunden is.t.
Eine derartige Feldeffektkapazität wird meistens
durch einen Feldeffekttransistor mit kurzgeschlossenen
Source- und Drain-Elektroden gebildet, wobei die Kapazität zwischen der Gate-Elektrode und der Source-Elektrode benutzt
wird. Eine derartige Kapazität ist, wie gefunden wurde, aber zum Führen verhältnismässig grosser Signalspannungen
weniger geeignet.
Die Erfindung hat die Aufgabe, eine Feldeffektkapazität
vorgenannter Art zu schaffen, die verhältnismässig grosse Signalspannungen führen kann, und sie ist
dazu dadurch.gekennzeichnet, dass in dieser Halbleiter—
schicht ein zweites Halbleitergebiet von einem zweiten dem ersten Leitungstyp (p ) entgegengesetzten Leitungstyp
(n) vorhanden ist, das mit mindestens einer Kontaktelektrode versehen ist, die mit dem ersten Anschlusspunkt verbunden
ist, während das zweite Gebiet noch mit einer auf diesem zweiten Gebiet angebrachten isolierten Elektrode versehen
ist, die mit dem zweiten Anschlusspunkt verbunden ist. Die Kapazität bei einer in der Einleitung genannten Feldeffektkapazität
verschwindet, wie gefunden wurde, bei einer Signalspannung mit einer bestimmten Polarität, infolge der
Tatsache, dass die leitende Schicht (der "Kanal") unter der
isolierten Elektrode verschwindet. Durch den Zusatz nach der ICri'xndung. wird erreicht, dass, wenn die leitende Schicht
unter der einen isolierten Elektrode verschwindet, sie unter
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PHN.9786 "& "* 23.2.81
der anderen isolierten Elektrode gerade gebildet wird, wodurch stets eine Kapazität zwischen dem ersten und dem
zweiten Punkt wirksam ist.
Bei einer Feldeffektkapazität nach der Erfindung,
bei der die.Halbleitereigenschaften derart sind, dass bei
einer Spannung von 0 V zwischen der Kontaktelektrode und der isolierten Elektrode jedes der genannten Gebiete sich keine
sich völlig unter der zugehörigen isolierten Elektrode erstreckende leitende Schicht gebildet hat (Anreicherungstyp),
kann es vorteilhaft sein, dass zwischen der Kontaktelektrode des ersten Gebietes und der Kontaktelektrode des zweiten
Gebietes eine Vorspannungsquelle angeordnet ist, die einen derartigen ¥ert aufweist, dass stets unter einer der beiden
isolierten Elektroden eine sich völlig unter dieser Elektrode erstreckende leitende Schicht vorhanden ist.
Durch diese Massnahme wird erreicht, dass die
Kapazität unter der einen isolierten Elektrode fliessend in eine Kapazität unter der anderen isolierten Elektrode übergeht
· ·
Diese Ausführungsform kann weiter dadurch gekennzeichnet
werden, dass die genannte Vorspannungsquelle durch die Reihenschaltung eines ersten (T„) und eines zweiten
(iv) Feldeffektransistors mit isolierter Gate-Elektrode gebildet
wird, wobei dieser erste und dieser zweite Felder f Cokütrans iss bor l.n dem erdten bzw. dem zweiten Gebiet
entsprechenden Gebieten gebildet sind, und wobei die Drain-Elektroden des ersten und des zweiten Feldeffektransistors
mit den zugehörigen Steuerelektroden verbunden sind.
Dadurch wird erreicht, dass die Spannung über der Vorspannungsquelle prozessunabhängig mit der für einen
. fliessenden Übergang yori der Kapazität unter der einen isolierten Elektrode zu der Kapazität unter der anderen
isolierten Elektr.ode benötigten Vorspannung in Übereinstimmung ist.
Die Ausführungsform ist weiter dadurch gekennzeichnet, dass die Vorspaiinungsquelle von einer Feldeffektkapazität
tlbei-brückt wird.
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PHN.9786 "'"y 23.2.81
S-
Durch diese Massnalime wird ein etwaiger Widerstand
der Vorspannungsquelle für Signale kurzgeschlossen,
wobei (I.Lo. zurcso taste Folde LTok l.kup.-izl tii L von der
Vorspannungsquelle stets richtig vorgespannt ist.
Die Feldeffektkapazität nach der ErfindTing kann in
in bezu,'; auf die Ausführung mil Feldeffekttransistoren
weiter dadurch gekennzeichnet werden, dass das erste und das zweite Gebiet sich aneinander anschliessen und dass die
auf diesen Gebieten angebrachten isolierten Elektroden sich ebenfalls aneinander anschliessen.
Diese Massnahme ergibt eine Oberflächeneinsparung, was bei Anwendung von-Kapazitäten in integrierter Schaltung
von grosser Bedeutung- sein kann.
Ε1η1,",(ί Aus rttlu'imf»·« ΓοπιιΐΜΐ der Erfindung sind in
der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine Feldeffektkapazität nach der Erfindung,
Fig. 2 eine etwas abgeänderte Form der Feldeffektkapazität nach Fig. 1, und
Fig. 3 das elektrische Schaltbild der Feldeffektkapazität
nach der Erfindung in einer bevorzugten Aus — führungsform
Die Feldeffektkapazität nach Fig. 1 enthält einen
Halbleiterkörper k aus im vorliegenden Beispiel n-leitendem
Halbleitermaterial mit darineinem ρ -leitenden Gebiet 5>
in dem mit Hilfe von η -Diffusionen Kontakte 7 und 7' angebracht
sind. Auf dem Gebiet 5 ist eine Isolierschicht 8,
z.B. aus Siliciumoxid, angebracht, durch die ein metallisch-3^
er Kontakt mit den Kontaktdiffusionen 7 und 7' hergestellt
wird, wobei im vorliegenden Beispiel gleichfalls ein metallischer Kontakt zwischen der Diffusion 7 und der
Diffusion 5 hergestellt \i/ird, damit die Diffusion 5 in.
bezug auf ihr Potential nicht schwebend ist, während auf dieser Isolierschicht die Elektrode 9 angebracht ist.
Eine derartige Konfiguration ist die eines η-Kanal-Feldeffekttrans
is tors (T1). Um diese Konfiguration als Kapazität
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PHN.9786 —-]pr - ":-" "-" -- 23.2.81
.6.
benutzen zu können, ist die Elektrode 9 mit einem Anschluss
2 und sind die Kontaktdiffusionen 7 und 71 (Source- und
Drain-Elektrode bei einem Feldeffekttransistor) mit einem
Anschluss 1 verbunden. Statt dessen kann auch nur eine der beiden Kontaktdiffusionen 7 und 7' benutzt oder können
beide als ein Ganzes - z.B. eine die Elektrode 9 umgebende ringförmige Diffusion - ausgeführt werden. Bei einer genügend
hohen Spannung zwischen der Elektrode 9 und den Diffusionen 7 und 7' wird unter der Elektrode 9 ein leitender
η-Typ Kanal gebildet (bei Transistoren vom Verarmungstyp ist dies bereits bei O V der Fall) und bildet die
Elektrode 9 mit diesem leitenden Kanal eine Kapazität.
Nach der Erfindung ist ein Gebiet 10 von dem
des Gebietes 5 entgegengesetzten Leitungstyp angebracht, das durch den neben dem Gebiet 5 liegenden nichfcdiffundierten
Teil der Schicht K gebildet wird. Darin sind zwei ρ -leitende Kontaktdiffusionen 6 und 61 angebracht. Auf dem
Gebiet 5 ist auch die Isolierschicht 8 vorhanden, die mit
Lochern versehen ist, durch die ein Kontakt mit den Diffusionen 6 und 61 hergestellt werden kann, wobei auf
dieser Isolierschicht eine Elektrode 9' angebracht ist. Das Gebiet 10 mit Diffusionen 6' und 6' und mit der Elektrode
9' bilden einen p-Kanal-Feldeffekttransistor.
Die Diffusionen 6 und 6' sind mit dem Anschluss—
punkt 1 verbunden und dio Elektrode 9' ist mit dem Anschlusspunkt
2 verbunden. Bei einer genügend negativen Spannung der Elektrode 9' in bezug auf die Diffusionen
und 61 - bei Anwendung; eines Transistors vorn Verarmungstyp
bereits bei OV- bildet sich unter der Elektrode 9' ein
leitender p-Typ Kanal, der eine Kapazität mit der Elektrode 91 bildet. Auf diese Weise ist Für positive Signale am
Punkt 2 in bezug auf den Punkt 1 die Kapazität unter der Elektrode 9 für negative Signale die Kapazität unter der
Elektrode 9' wirksam.
Um bei Anwendung von Transistoren vom Anreicher—
ungstyp'einen fliessenden Übergang von der Kapazität unter
der einen isolierten Elektrode (9) zu der Kapazität unter
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PHN.9786 sr 23.2.81
« ΐ·
der anderen isolierten Elektrode (91) zu erhalten, kann
zwischen den Diffusionen 6 und 61 und den Diffusionen 7 und
71 eine Vorspannungsquelle 11 angeordnet werden.
Fig. 2 zeigt eine Abwandlung der Ausführungsform
nach Fig. 1, bei der die Diffusionen 61 und 7' weggelassen
sind und die Elektroden 9 und 91 ein Ganzes bilden.
Dadurch wird eine grössere ivirksame Oberfläche und somit
ein grösserer Kapazitätswert erhalten.
Fig. 3 zeigt das elektrische Schaltbild der Feld
™ Feldeffektkapazität nach der Erfindung, wobei die unter der
Ii I c.'k Li'udej 9 Ijv.w. l)' i'jol) i..1.d
<< l.c KupaV.i LiI L durcli doa n-Kaiiul-Feldeffekttransistor
T1 bzw. den p-Kanal-Feldeffekttransistor
Tp mit je miteinander verbundenen Source- and Drain-Elektroden dargestellt ist. Zwischen den Source-Elektroden
der Transistoren T0 und T1 ist die Vorspannungsquelle 11 durch die Reihenschaltung eines p-Kanal-Feldeff
ekttransistors Tr und eines n-Kanal-Feldeffekttransistors
T„ mit je miteinander verbundenen Gate- und Drain-Elektroden
gebildet, wobei diese Reihenschaltung von der Stromquelle in den leitenden Zustand gesteuert wird. (Die Transistoren
T^ und Tn dürfen untereinander verwechseld werden). Dadurch,
dass diese Transistoren T„ und T. gerade in den leitenden Zustand gesteuert werden, führt die Quelle 11 eine Spannung,
die der Summe der Spannungen entspricht, die zur Bildung
eines leitenden Kanals unter den Elektroden 9 und 9' erforderlich
sind. In ei no in Gleichgewichtszustand sind also
die Kanäle der Transistoren T1 und T noch gerade vorhanden.
Bei einer Signalspannung der einen Polarität verschwindet
der Kanal im Transistor T1 und ist der Transistor T0 als
·
Kapazität wirksam, während bei einer Signalspannung zwischen den Punkten 1 und 2 der anderen Polarität der Kanal im Transistor T verschwindet und der Transistor T als Kapazität wirksam ist.
Kapazität wirksam, während bei einer Signalspannung zwischen den Punkten 1 und 2 der anderen Polarität der Kanal im Transistor T verschwindet und der Transistor T als Kapazität wirksam ist.
Wenn die Transistoren T1 und T9 vorn Verarmungs-
*"
typ sind, kann die Quelle 11 durch einen Kurzschluss ersetzt
werden. Dies kcinn manchmal uuch ßrfolfren, worin d:i
<> Transits boron T. und T,, voin Anrii i.clio.s'UUfi'ss hy ρ .sind, n. 15. wenn
BAD ORIGINAL
PHN.9786 -""V "-."■.-* "..·'-.:. 23.2.81
■ 2-
die Spannungsform zwischen den Punkten 1 und 2 keine Rolle
spielt,wie bei Stromsteuerung. Das Gebiet, bei dem dann keiner der beiden Transistoren T und T eine Kapazität
I Ä
bildet, wird dann sehr schnell durchlaufen, weil ein Strom·) der in eine Kapazität gleich Null (oder in der Praxis sehr
klein) geschickt wird, einen Spannungssprung herbeiführt, der, je; nach der Polarität des Steuerstroms, einen der beiden
Trans is tore η T und T iij.-s Kapazität wirksam macht.
Um den Signalstromwiderstand der Vorspannungs— quelle 11 kurzzuschliessen, kann dazu eine Paldeffektkapazität,
die durch einen n-Kanal-Transistor T_ gebildet
wird, parallel zu der Quelle 11 angeordnet werden. Von der Quelle 11 ist dieser Transistor T stets richtig vorgespannt.
Auch oin p—Kanal—Trans is tor Tr kann als Kurzschlusskapazität
™ Anwendung finden. Er muss dann über seine Gate-Elektrode mit
dem Punkt 1 und über seine Drain-Elektrode mit der Source-Elektrode des Transistors T„ verbunden sein.
2Q BAD ORIGINAL
Claims (1)
- PHN. 9786 ZT.Z.W"PATENTANSPRÜCHE":1 J Feldeffektkapazität mit in einer Halbleiterschiclit (4) einem ersten Gebiet (5) von einem ersten (p ) Leitungstyp, das mib mindestens einer Kontaktelektrode (7) versehen Lst, die mit einem ersten Anschlusspunkt (i) verbunden ist, während dieses Gebiet noch mit einer auf diesem Gebiet angebrachten isolierten Elektrode (9) versehen ist, die mit einem zweiten Anschlusspunkt (2) verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, data η in dieser Ilälbleitersehicht (4) ein zweites Halbleitergebiet (ίο) von einem zweiten dem ersten Leitungstyp (p~) entgegengesetzten Leitungstyp (n) vorhanden ist, das mit mindestens einer Kontaktelektrode (6) versehen ist, die mit dem ersten Anschlusspunkt (i) verbunden ist, während dieses zweite Gebiet noch mit einer auf diesem zweiten Gebiet angebrachten isolierten Elektrode (91) / \versehen ist, die mit dem zweiten Anschlusspunkt (2) verbunden ist.2. Feldeffektkapazität nach Anspruch 1, bei der dieHalbleitereigenschaften- derart sind, dass bei einer Spannung von 0 V zwischen der Kontaktelekbrode und der isoliertenElektrode jedes der genannten Gebiete sich keine sich völlig unter der zugehörigen isolierten Elektrode erstreckende leitende Schicht gebildet hat (Anreicherungstyp), dadurch gekennzeichnet, dass zwischen der Kontaktelektrode (7) des ersten Gebietes (5) und der Kontaktelektrode (6) des zweiten Gebietes (10) eine Vorspannungsquelle (11) angeordnet ist, die einen derartigen ¥ert aufweist, dass stets unter einer der beiden isolierten Elektroden (9»9') eine sich völlig unter dieser Elektrode erstreckende leitende Schicht vorhanden ist.3· Feldeffektkapazität nach Anspruch 2, dadurchgekennzeichnet, dass die; genannte Vorspannungsquelle ( 1 1 ) durch die Reihenschaltung eines ersten (T„) und eines zweiten (Tk) Feldeffekttransistors mit isolierter Gate-ElektrodeBAD ORIGINALν · *■ -PHN.9786 ^ » 23.2.81gebildet wird, wobei der erste und der zweite Feldeffekt-^ transistor in dem ersten bzw. dem zweiten Gebiet entsprechenden Gebieten gebildet sind, und wobei die Drain-Elektroden dieses ersten und dieses zweiten Feldeffekttransistors mit den zugehörigen Steuerelektroden verbunden sind.h. Feldeffektkapazität nach Anspruch 3j dadurch gekennzeichnet, dass eine Stromquelle (3) vorhanden ist, mit deren Hilfe dem ersten und dem zweiten Transistor Ruhestrom zugeführt wird.5. Feldeffektkapazität nach Anspruch 2, 3 oder 4, (ladurcli fjokoimzeiclniet, dass die Vorspamiunfesquelle (1 1 ) von einer Feldeffektkapazität überbrückt wird.6. Feldeffektkapazität nach einem oder mehrerender vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das erste und das zweite Gebiet (5»10) sich aneinander anscliliessen, und dass die auf diesen Gebieten angebrachten isolierten Elektroden (9>9f.) sich gleichfalls aneinander anschliessen (Fig.2).BAD ORIGINAL
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