DE3122661C2 - - Google Patents

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DE3122661C2 DE19813122661 DE3122661A DE3122661C2 DE 3122661 C2 DE3122661 C2 DE 3122661C2 DE 19813122661 DE19813122661 DE 19813122661 DE 3122661 A DE3122661 A DE 3122661A DE 3122661 C2 DE3122661 C2 DE 3122661C2
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Hoechst AG
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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US3955433A (en) * 1973-08-08 1976-05-11 Buckler Industries, Inc. Basic unit processor for offset plates and method of processing them

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