DE2238414C3 - Gerät zur Entwicklung von Offset-Druckplatten - Google Patents

Description

4. Gerät nach einem der Ansprüche I bis 3. dadurch gekennzeichnet, daß zwei eine Quetscheinrichtung (20) bildende Walzen (126, 128) innerhalb des Gerätes (10) angeordnet sind, die mil einem weichen elastnmcren Material überzogen sind und unter Quetschwirkung mit den gegenüberliegenden Oberflächen der Offsctplatte in Reibeingriff bringbar sind.

Die Erfindung betrifft ein Gerät zur Entwicklung der Oberfläche von Flachdruck-Offsetplatten mit Vorschubeinrichtungen für die Offsetplatte und einer Entwicklungsstation innerhalb des Gerätes, die sich in Bewegungslängsrichtung der Flachdruck-Offsetplatten durch das Gerät erstreckt, in der die Entwicklungsstation für die gleichzeitige Entwicklung einander gegenüberliegender Oberflächen der Flachdruck-Offsetplatten ausgestaltet ist und im Abstand voneinander angeordnet einen oberen und unteren Boden be^rkzt, zwischen denen eine Entwicklungskammer begrenzende Seitenwände im Abstand montiert sind, wobei die Kammer mit einander gegenüberliegenden Verteilungseinrichtungen auf der Außenseite des oberen und unteren Bodens zur Abgabe ^_0n Entwicklerflüssigkeit unter Druck quer zur Plattenwanderrichtung versehen ist und jeder Boden eine kammerbreite öffnung besitzt, mit einer Plattenreibeinrichtung zum Abbürsten oder Abwischen der gegenüberliegenden Plattenoberfläche, die zwei zylindrische Reib- oder Wischwalzen, vorzugsweise Bürstenwalzen, aufweist, die innerhalb des Gerätes drehbar gelagert und so ausgerichtet sind, daß die Bewegungsbahn der Fiachdruck-Offsetplatte zwischen den gegenüberliegenden Reib- oder Bürstenwalzen hindurchgeht, wobei diese Walzen durch die Reibeberührung mit der hindurchgehenden Platte drehbar sind.

Es ist seit langem in der Drucktechnik bekannt, daß eine subtraktive vorsensibilisierte Offsetdruckplatte im sogenannten Einstufenhandentwicklungsprozeß entwikkeil werden kann. Bei einem solchen Verfahren wird die substraktive vorsensibilisierte Flachdruckplatte vom Hersteller in der Fabrik mit einem lichtempfindlichen Material bedeckt, das Harze und Pigmente enthält, um so schließlich eine lithografische Druckplatte zu liefern.

Bezeichnend für diese substraktiven Platten sind die Typen K. S und T der Minnesota Mining and Manufacturing Company, die Platten N-25. N-50 und N-IOO der Azoplate Corporation, die Platten FG und FGA der Polychrome Corporation, die Eastman-Kodak-Plattc LN und die Lydcl-Flattc von duPont. Einige dieser Platten sind mit der lichtempfindlichen Schicht auf einer Seite und einige auf beiden Seiten bedeckt, wie z. B. ein Bogen einer passend zubereiteten Aluminiumfolie in der Dicke von 0,07b bis 0.63 mm und in Größen von etwa 250 χ 355 mm bis 1.525 χ 2.005 mm.

Bei der Bearbeitung einer Platte der vorstehend beschriebenen ArI wird die lichtempfindliche Schicht zunächst mit einer negativen Schablone bedeckt, die ein fotolithografisches Negativ sein kann, und die Schablonc wird in innigem Kontakt mit der Platte gehalten, während sie gegen eine starke Lichtquelle. /.. B. einen Kohlelichtbogen, exponiert wird. Der vom Licht getroffene Bereich wird in ein unlösliches Phenol umgewandelt oder photopolymcrisicrt. so daß er in einer späteren Stufe von den Behandlungschemikalien unbeeinflußt bleibt. Die Schattenpartien oder unbelichteten Bezirke bleiben potentiell löslich in den ßchandlungsflüssigkeiten. Wenn beide Seiten der Platte mit der lichtempfindlichen Schicht überzogen sind, dann werden allgemein beide Seiten gegen Negative exponiert, bevor sie entwickelt werden, um die beiden Seiten der Druckplatte wirtschaftlich ausnützen zu können, beispielsweise wenn zwei Arbeiten an einem Stuck Aluminium auf einer lithografischen Presse bedruckt

fts werden.

Wenn die Liitwicklung von Hand durchgeführt wird, um solche Pl,Uten /11 entwickeln, wird eine !-.ntwicklerlösung des geeigneten Lösungsmittels für die Platte über

die belichtete Platienoberfläche gegossen und in die Schicht einsaugen gelassen. Dann wird eine Bürste, ein Bausch oder Schwamm benui/t, um den Entwickler über die Plmienoberflächc zu bewegen und sie zu waschen, um das Eniwicklerlösiingsmiuel in die unbelichteten Bezirke der Schicht einzuarbeiten. Da die unbelichteten .Schichtteile in den Behandlungsflüssigkeiten löslich sind, werden durch das Waschen die unbelichteten Schichtbezirke entfernt, daß nur der Bildbereich stehenbleibt.

Die Nachteile eines Handbetriebes zur Entwicklung von Offsetdruckplatten sind: das Verfahren ist langsam und teuer; es gibt keine Gleichförmigkeit in der Zeit und im Andrücken beim Reiben der Platte; häufig ergeben sich mangelhafte Abdrucke aus der Ungleichmäßigkeit der Entwicklung oder Reibung bzw. zu starke Entwicklung oder Reibung; Arbeiten mit zu wenig Entwicklungslösung führ! zu mangelhafter Entwicklung der Platte; Trocknung des Entwicklers in Bezirken einer Platte vor dem Reiben ist vollendet aufgrund der großen und unhandlichen Abmessung einiger lithografischer Platten und die für Handentwicklung erforderliche Zeit und Unannehmlichkeit.

Ein weiterer Mangel der Handentwicklung besieht darin, daß zwar Handarbeit eine Entwicklung über die ganze Oberfläche liefert, verschiedene Be/irkstypen. wie z. B. sehr fein rastrierte Halbtöne, zusätzlichen Kraftaufwand erfordern, um unerwünschte Schichtreste in den feinen Bezirken zu entfernen.

Noch eine weitere Schwierigkeit bei der Handarbeit besteht bei der Behandlung einer zweiseitig sensibiiisiertcn Platte, wenn nur eine Seite entwickelt wird und die Platte dann umgedreht wird, um die andere Seite zu entwickeln.

Ein Entwicklungsgerät der eingangs beschriebenen Art ist bereits in der älteren Patentschrift 22 61 075 vorgeschlagen. Dort kann bei der Behandlung beider Seiten der Druckplatte, insbesondere zum Vorweichen mit Entwicklerflüssigkeit, das Austreten der Entwicklerflüssigkeit aus der Kammer nicht ohne weiteres verhindert werden, wenngleich eine grundsätzliche Abdichtung der die Entwicklerflüssigkeit enthaltenden Kammer dadurch gegeben ist, daß der Spalt zwischen deren oberem und unterem Boden und den im Betrieb dazwischen befindlichen Druckplatten nicht allzu groß ist. Wenn aber die Entwicklerflüssigkeit mit Druck zugeführt wird, ist ein hoher Verbrauch der Flüssigkeit nicht auszuschließen. Wenn die Entwicklung der Oberflächen von Flachdruck-Offsetplalten einwandfrei vor gesehen wird, muß die Entwicklerflüssigkeit aber mit Druck zugeführt werden.

Aus der DE-OS 19 6i 409 ist ein Gerät bekannt, wonach eine nach unten gebogene trogförmige Wanne die dort sogenannte Führungsbahn für die zu behandelnden Druckplatten darstellt. Über der Mulde befindet sich der Entwickler, der bis zu einem bestimmten Flüssigkeitspegel reicht. Mit iicr bekannten Vorrichtung soll die gesundheitsschädliche Handarbeit mit geringem technischem Aufwand durch Automatisieren umgangen werden, wobei geringstmöglichc Flüssigkcitsmengen verwendet werden, um den Chemikalienverbrauch sparsam zu gestalten. Die Führungsbahn ist flach miililenfürmig ausgestaltet und weist drehend gelagerte W;iI/l'm auf. I liermit soll gewährleisteI werden, daß eine einlaufende Druckplatte sich genau in Richtung des Bodens und damit tier Walzen bewegt, so daß eine genaue Steuerung der Druckplatte durch die in der Wanne stehende Flüssigkeit gewährleistet ist.

In nachteiliger WVi-.e wird bei der bekannten Vorrichtung zum einen immer noch ein!.· erhebliche Menge Eniwicklerilüssigkeit benötigt, und zum anderen besteht durch die große Oberfläche, welche der Atmosphäre ausgesetzt ist. die Gefahr der Verschmu-S /ung und der chemischen Reaktion, wodurch die Emwicklerflüssigkeit Schaden leidet.

CiLMtuiU der Erfindung besteht die Aufgabe, ein Gerät der eingangs genannten Art so zu verbessern, daii der Verbrauch an Entwicklerflüssigkeit auch beim Entwikkein einander gegenüberliegender Oberflächen von Flachdruck-Offsetplatten verringert wird.

Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß das Eintrittsende der Entwicklungskammer mit gegenüberliegenden flexiblen Membranen unter

'5 Bildung und Aufrechterhaltung einer Flüssigkeitsabdichtung gegen die Flachdruck-Offsetplatte eingerichtet ist, das Austrittsende der Kammer mit einer den Flüssigkeilsfluß einschränkenden Drossel versehen ist und daß aus einem Vorratsbehälter in dem Gerät

^o mittels einer Verdrängerpumpe von hohem Volumen durch Zweigleitungen zu jedem Verteiler unier einem Druck von 0,35 bis 2.8 kg/cm² Ent.-.icklerflüssigkei' zuspeisbar ist.

Es ist damit möglich, beim Behandeln und Benetzen einer Flachdruck-Offsetplatte von oben und unten gleichzeitig in der Entwicklungsstation den Verbrauch der eingesetzten Flüssigkeitsmenge mit Vorteil zu verringern und damit eine Verschwendung auszuschalten. Von besonderem Vorteil ist ferner die Tatsache, daß mit der leistungsfähigen Pumpe über die gesamte Breite der Kammer durch die sehr breiten Öffnungen unter Druck und unter einem Winkel von 90" zur Plattenwanderrichtung die Entwicklerflüssigkeit derart auf beide Oberflächen der Flachdruck-Offsetplatte aufgebracht wird, daß eine vollständige und durchgreifende Benetzung in der Kammer gewährleistet ist. Trotz dieses Druckes ist aber die Abdichtung so wirkungsvoll, daß keine Flüssigkeit verschwendet wird.
Das Aufbringen der Entwicklerfiüssigkeit erfolgt

4^C erfindungsgemäß automatisch und optimal Püssigkeitssparend.

Aus der DE-AS 12 67 979 ist zwar das Besprühen chemographischer Schichtträger mit Behandiungsflüssigkeit bekannt. Durch das Besprühen soll eine mechanische Nachbehandlung der Schicht überflüssig gemacht werden. Erfindungsgemäß w-d aber dagegen ausdrücklich mechanisch nachbehandelt, so daß sich hier offensichtlich andere Probleme ergeben. Der Fachmann kennt die Nachteile bei der Verwendung von Düsen, wenn Entwicklerflüssigkeit aufgesprüht werden soll: Kleine Öffnungen können durch Verunreinigungen. /. B. abgelöste Heschichtiingen. verstopft werden, so daß gefiltert werden muß. Erfindungsgemäß wird diener Weg nicht besehritten. Der Erfinder besprüht nicht die Druckplatten, sondern verwendet die gemäß der Erfindung neu konstruierte und konzipk-rtc En'iv/ick· lungsstation.

Es ist erfindungsgemäß vorgesehen, entweder eine einzige exponierte Druckplatte mit zwei zu entwickeln-

'·<■' den Oberflächen oder zwei Platten, die Rücken an Rücken aneinandcrgelegt sind, zu behandeln, wobei die belichteten Oberflächen nach außen gerichtet sind. Fine teilweise eingeschlossene l.ntwicklcriib^abestati'm ist ebenfalls vorgesehen, worin Eniwicklcrlosung einge-

''5 führt und gleichmäßig über die vollständige Oberfläche heider belichtete· Platt'Miseiten unier Druck und wahrend eines ausreichenden Zeitraumes verteilt wird, um die Schichten in ^eeiLVieler Weise sich snlls.itifcn /11

I.ISSell. ohne daß SpruhdllSCIl Ih'MI|I/I W C I'd C Il I ill¹ R I'll· oder Biirsiensi.itioii licgi IiiiiUt det I. ntv. ii .Uc, m.iih mi UiI Reibe IhIl'I lilllSt Cllk< >l |K'I lit L¹CClL¹IIeIe! \nu!kl Hung /ιιι· lit· ii'licitiiiii' ilri PIaHe mill ( nlei stm/mh' del chemischen Wnkiing der I niwicklerli 'sung beide Oherllachen der I¹I. ilk· berühren Μιμιιί der Reihest.ι ι κ in gehl du· Platte durch οι nc /w cue 1. 111 \v 11 klci Matimi ähnlich der ιίΜιίι. um alle Spuren iinei w unschter Sehichlrcste um ilen /wei Seilen der I¹I,nie /u einlernen, win.ini die I¹I,nie ,ins einer Abgäbest,iih m ausgeführt u ird.

Die Entw ickliingsstation hesiehl .ins /uei in Absi.md voneinander liegenden l'l.illen. die mit Seitcnw atuk-n versehen sind, um eine Entwicklungskammer /ii begren/cn. Am Eingang dieser Kammer sind /wei flexible Reibmembranen montiert, und das Ausintlscn de der Kammer isl gedrosselt, so daß der Austritts sehlit/ etwa die Hälfte der Muhe der Innenlicihe der Kammer betragt. Hie Kammer ist mit Verteiliingsleitungcn am oberen und unteren Hoden versehen, um I'.ntw leklerflussigkeit mhi einem Vorratsbehälter durch eine Pumpe einfuhren zu können. Hie I lussigkei' λ ird unter 9(1 auf die Plattenbahn unter eiiv'i" P:.ick von /. Ii.0.5") bis 2.K kg ι in'abgegeben.

Die (Erfindung ist dadurch vorteilhaft weiter ausgebildet, daß die ( ließdiossel am Austragsende der Kammer einwärts gerichtete Pufferst reifen aufweist, the jeweils an dein oberen und unteren Boden befestigt sind und an der Haehdruek-Offsetplatte anliegen, die sich durch die Kammer bewegt, so dall die in die Kammer fließende Fntvvieklerflüssigkeit eine Flüssigkeitsschicht /ur Berührung mit jeder gegenüberliegenden Oberfläche der Platte aufbaut.

Bei weiterer vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist die Anordnung einer zweiten Entwicklerstation nach der Plattenreibeinrichtung mit Zuführeinrichtungen für F.ntw icklerflüssigkeit unter Druck zu den gegenüberliegenden !lachen der Fkichdruck-Offsetplatte zweckmäßig. Durch diese bevorzugte Anordnung wird die F.ntwicklerbehandlung vollständig und besonders intensiv.

Vorteilhaft ist es gemäß der Erfindung ferner, wenn zwei eine Quef-cheinrichiung bildende Walzen inner halb des derates angeordnet sind, die mit einem w eichen elastomeren Material überzogen sind und unter Quetschwirkung mit ilen gegenüberliegenden Oberflächen der Offsetplatle in Reibeingriff bringbar sind.

Das in vorstehender Weise konstruierte Entwickler-ν erteilergcrat ergibt einen gleichförmigen Druck, eine gute Durcharbeitung und eine gleichmäßige Quantität \nn Entwickler fur die beiden Seiler: der bearbeiteten Platte innerhalb der Kammer, Ferner Begrenzen die flexiblen Membranen und der gedrosselte Ausgang des \ erteilers den Fluß der Entwicklerflüssigkeit, so daß die Flüssigkeit nur an einem Ende der Kammer ausfließt.

Durch das erfinderische Gerät können eine oder beide OKi flachen einer Flachdruck-Offsetplatte bei einmaligem Durchgang gleichzeitig durch das Gerät entw ickelt w erden. Die gegenüberliegenden, zu entw ikkelnden Oberflachen werden in der Reib- oder Bürststation in gleichmäßiger Weise gerieben, abgewischt oder gebürstet, so daß eine gleichförmige Qualität der Entwicklung gewährleistet ist. Die Entw icklerlösune wird der Entwicklungskammer nämlich so /ugeführi. daß mc d;e beschichtete Seite der Oiiseiplatie vollständig mit Entwicklerflüssigkeit unter Druck bedeckt und Schwierigkeiten des Schäumens der Entwicklerlösung infolge von vorhandenen Netzmitteln in der I .OSiIiIg ausgeschalt el sind

In {\κ.ί /dehnung M eine heMn/ugie Ausluhi uni's Im in der Erfindung dargestellt

I ι g. I ist eine schein.itischc L'esehnillene Seilen,in sieht eines L'emaß der I rlmdiing gchaulcn Gcralcs

I ι g 2 /eigl |ierspekliv im h du· I ntw n Klei abgäbest,ι Hon.

I ι g ! isl eine schematr.chc Stirn,insu In der Buisteii Main in des Gerätes nach I ig. '. und

I ig -t ist eine schein.ilisihc Seilen,insu In des Anlnebsnieehanismiis des ( ierales der I ι g. I.

Gemäß I ι g. I besitzt das Eiitwicklergerat IO eine Aiiln,ihniesialion 12 /in Aufnahme einer Nachdruck Oflsclplalle /'. eine Abhabest.nion 14. wo eine I ntw icklei lösung auf /wei gegenüberliegenden Ober ll.iclien der Plane /'verteilt wird, eine Rcilieinnehlutii: !h. wo die Losung in die gegenüberliegenden Obeilla eben der PIaIIe eingerieben wird, eine /weile I ntwiik lerstation 18 zur nochmaligen Austeilung von Inlwuk • ler auf die gegenüberliegenden Flachen der Plane /'und eine Abgahestation 20. wo Entwickler von der Plane /' abgequetscht und the PI,ntc aus dem Ger.il IO ausgetragen w ird.

Die Aufnahmestation 12 ist mn einem Sims 22 versehen, auf dem die Platte /'getragen werden kann und die an der Stirnwand 24 des Gerätegehäuses IO belesligl ist. Die Stirnwand 24 besii/t eine (Mfiiung 26. durch ilre eine Platte /'emgeluhrt werden kann, so daß sie zwischen einer Vorschubrolle 28 und einer (iegcnrolle 30 erlaßt w ird. um sie in das Gerat und in die V ei leilungssialion i4 zu befordern.

Die Antriebsrolle 28 und die Gegenrolle 30 sind aiii Wellen 32 und 34 befest igt. Die Enden der Wellen 32 und 34 sind innenseitig von den Seitenplalten 36 und 38 (s. E ι g. 2) des Ger.itegehäuses IO drehbar gelagert. Die Welle 32der Vorschubrolle 28 ist. wie nachstehend noch naher erläutert werden soll, angetrieben, und der Abstand /wischen den Rollen 28 und 30 ist einstellbar, um sich Planen /'unterschiedlicher Dicke anzupassen, so daß eine durch die Rollen 28 und 30 hindurchgehende Plane unter Reibung auf jeder Seite von den I jiifangsflächen der Rollen erfaßt wird und die Plane /' so /wischen ilen Rollen 28 und 30 vorwärts geschoben wird, wobei die Gegenrolle 30 dieselbe Drehgeschwindigkeit hat. wie die Förderrolle 28.

Die Entw ickliingsstation 14 ist mit einem oberen Boden 40 und einem unteren Boden 42 versehen, die in solchem Abstand liegen, daß eine Platte Pdazwischen hindurchgehen kann. Die Böden liegen zwischen Seitenwänden 36 und 38. in deren Innerem eine am vorderen Ende der Platte 40 und 42 offene Entwicklungskammer 44 gebildet wird.

Die Böden 40 und 42 sind praktisch flache Platten und besitzen an ihrem vorderen Abschnitt 46 und 48 winklig nach außen gerichtete Ansätze. An der Innenfläche jedes Wmkelansatzes 46 und 48 befinden sich flexible Membranen 50 bzw. 52. die sich einwärts zwischen die Böden 40 und 42 erstrecken. Die Membranen 50 und 52 wirken als Damm zur Verhinderung des Austritts von Entwickler aus der Entwicklungskammer 44. sie sind aber genügend flexibel, um eine Platte Pzwischen sich durchlaufen /u lassen. Wenn eine Platte zwischen den Membranen 50 und 52 durchläuft, werden die rückwärtigen Membranabschnitte durch den Flüssigkeitsdruck innerhalb der Kammer 44 in innigen Kontakt mit den gegenüberliegenden Flächen der Platte gedruckt, bilden einen flüssigkeitsdichten Abschluß und schalten so den Austritt von Entwickler aus der

K a πι πκτ 44 an (leren sonic mn |-!ntlc aus.

IXt rück \v ,irt ifzt: Feil ι cd es Bodens 40 und 42 ist mil einander entgegengeru bieten l'uffersircifen 54 b/w. 58 versehen, die als Einschnürung fur die aus der Kammer 44 austretende Entwicklcrlösiing .ind al·. Abstandshalter fm die l'lalte /' dienen, wodurch die Plane von den gegenüberliegenden Innenflächen der Hoden 40 und 42 in Abstand gehalten wird.

Mn Enlwicklerwirratshehaller 58, der von den Sei.ermänden }6, i8. tier Boden«and W). der Stirnwand 62 und der aufragenden Wand W gebildet wird, dient der Speicherung eines LiitwickliTvorrd.es. Line. AusUtD-lettung 66 fuhrt durch eine Wand 64 /um EinlaQcndc einer Verdrängerpumpe 68 mit großem Volumen /ur I orderiing durch die Piimpenauslaßlcitung 70. die sich in die Leitungen 72 und 74 verzweigt. Die Leitung 72 führt /u einem auf der Oberseite des Bodens 40 befestigten Verteiler 76. und die Leitung 74 führt zu einem ähnlichen V'''Meiler 78. der an der Unterseite des Bodens 40

Öffnungen 80 bzw. 82 bei den betreffenden Verteilern 76 und 78 verschen, um (Entwickler unter Druck gleichförmig über die Breite der Boden zu verteilen.

Die Pumpe 68 ist so eingerichtet, daß sie Entwicklerflüssigkeit unter einem Druck von 0.35 bis 2.8 kg/cm- an die Kammer 44 abgibt, und die öffnungen 80 und 82 sind so ausgerichtet, daß der Entwickler auf die Platte P innerhalb der Kammer 44 unter im wesentlichen 90' /um Laufweg der Platte durch die Kammer auftrifft. Die Pumpe 68 ist ausreichend überdimensioniert und in der Lage, genügend Druck zu entwickeln, um die Kammer 4. nahezu augenblicklich /u füllen und sie mit Entwicklcrflüssigkeil gefüllt /u halten, wenn eine Platte Phindurchbefördert wird. Der Entwicklerablauf von der Rückseite der Kammer 44 wird im Behälter 58 gesammelt und dann /ur Kammer 44 zurückgepumpt. Es ist geeignete Vorsorge getroffen, um die chemische Aktivität des Entwicklers /u prüfen, den Vorrat aufzufüllen und die gewünschte Konzentration für eine angemessene Entwicklung der lithografischen Platten aufrechtzuerhalten.

Die Puf^ferstreifen 54 und 56 halten einen schwachen Kontaktdruck an den gegenüberliegender; Flächen der Platte P aufrecht, so daß sich ein entsprechender Flüssigkeitsspiegel aufbauen kann, um die belichteten Oberflächen der Platte zu berühren und sie in der Kammer 44 vollständig zu benetzen.

Nachdem die Platte P durch die Entwicklerverteilerstation 14 hindurchgegangen ist. wird sie durch die Reiboder Bürststation 16 geleitet. Diese besitzt eine obere zylindrische Bürstenwalze 84 und eine untere zylindrische Bürstenwalze 86, die auf Wellen 88 bzw. 90 gelagert sind. Die Walzen befinden sich in solchem Abstand, daß die Borsten der beiden Bürstenwalzen auf den gegenüberliegenden Oberflächen einer hindurchgehenden Platte Pinnig anliegen. Die Bürsten 84 und 86 sind vorzugsweise aus sehr dichten Nylon- oder Polypropylenborsten mit 0.06 bis 23 mm Durchmesser gefertigt: aber es können auch flache Bürsten. Schwämme oder Polster oder auch mit Tuch bezogene Walzen sein.

Wie am besten aus F i g. 3 ersichtlich, sind die Walzen 84 und 86 auf Wellen 88 und 90 drehbar gelagert, und sie sind in ihrer Lage zueinander auf den Wellen 88 und 90 durch Kopfkappen 92 und 94 fixiert Sie sind axial gleitbar durch Bohrungen 96 und 98 in Seitenplatten 36 und 38 des Gehäuses angeordnet Das eine Ende jeder Welle 88 und 98 ist mit einem abstehenden Stift 100 bzw. 102 versehen.

Eine Sehwmgplatlc 104 ist im mittleren Teil bei 106 auf einer festen Sliit/e 108 schwenkbar gelagert, die an einer .Seitenklappe 56 befestigt ist. Die .Schwingplatte ist andererseits an das eine Ende einer Treibstange 110 und <; 112 angelenkt. Di-.¹ Treibstange 110 ist an ihrem and ei en Ende 114 schwenkbar an einem kreisförmigen flansch 116 gelenkig gelagert, der an der Ausgangswelle 118 eines Motors 120 befestigt ist. Wenn der Motor 120 den Flansch 116 dreht, bewegt sich die Antriebsstange 110 ίο auf einem im wesentlichen senkrechten hin- und hergehenden Weg. um die l'lalte 104 in Schwingung /u versetzen.

Die Platte 104 besitzt Ausschnitte 122 und 124, welche die abstehenden .Stifte 100 und 102 auf der Welle 88 bzw. in 90 aufnehmen. Wenn die Platte 104 in Schwingung versetzt wird, werden die Wellen 88 und 90 linear quer /u dem tXirchgangsweg der Platte /' zwischen den Bürstenwal/en 84 und 86 hin- und herbewegt.

Wahrend die Bürstenwalzen 84 und 86 quer zum tJultllgilllgMVCg Uff FlitUC F CIfII- UIIO Zurückgehen.

bewirkt die Bewegung der Platte P zwischen den Bürstcnwal/.en deren Drehbewegung an der Platte P. Es kann gcwünschtenfalls ein mechanisches Hilfsmittel eingebaut werden, um diese Drehung der Bürslenwal-/en zu unterstützen, aber dies ist nicht wesentlich für einen wirkungsvollen Betrieb des Gerätes.

Durch die Reibwirkung der Bürsten 84 und 86 wird gemäß F i g. I loses restliches Schichtmaterial auf den gebürsteten Oberflächen der Platte P zurückbelassen.

jo und nach Durchgang durch die Bürstenwalzen 84 und 86 tritt die Platte dann in die Entwicklungsstation 18 ein. die ähnlich der Entwicklungsstation 14 ist.

Die Entwicklungsstation 18 besitzt obere und untere Böden 40' und 42'. mit flexiblen Membranen 50' und 52'.

zwischen denen die Platte P hindurchgeht, um in die Kammer 44' einzutreten, ohne daß ein merklicher Verlust durch die Flüssigkeitsabdichtung am vorderen Ende der Kammer auftritt. Die gegenüberliegenden Oberflächen der Platte Psind der Entwicklerflüssigkeit unter Druck ausgesetzt, die durch Verteiler 76' und 78' abgegeben wird, die wiederum durch die Leitungen 72 und 74 von der Pumpe 68 aus gespeist werden, wie dies bei der Erüv.'icklungsstation 14 beschrieben wurde.

Nach Verlassen der Entwicklungsstation 18 geht die vordere Kante der Platte P zwischen einem zweiten Paar aus einer Vorschubrolle 126 und einer Stützrolle 128 zur Austragsstelle 20. Die Vorschubrolle 126 und die Stützrolle 128 sind auf Wellen 130 bzw. 132 befestigt, die innerhalb der Seitenplatten 36 und 38 drehbar gelagert

so sind. Die Welle 130 wird angetrieben, und der Abstand zwischen den Rollen 126 und 128 ist so einstellbar, daß er Platten P unterschiedlicher Dicke angepaßt werden kann, so daß die Platte mit Reibung auf jeder Seite von den Umfangsflächen der Rollen erfaßt wird. Die Platte

wird durch die Vorschubrolle 126 durch eine öffnung 134 in der Stirnwand 63 zu einer geeigneten Aufnahmestelle außerhalb des Gerätes 10 geschoben.

Die Rollen 126 und 128 sind mit einem weichen elastomeren Material oder Kautschuk überzogen und quetschen die überschüssige Entwicklerflüssigkeit von der Platte /"durch Quetscbwirkung ab, um die Platte P im wesentlichen trocken an den Bedienungsmann zur Prüfung und weiteren Bearbeitung soweit erforderlich abzugeben.

ij Aus F i g. 4 ist ersichtlich, daß die Vorschubrollen 28 und 126 durch einen Treibriemen 136 verbunden sind, der über Riemenscheiben 138 und 140 läuft die auf den Wellen 32 bzw. 130 befestigt sind Die Riemenscheibe

I ?8 is! mil einer /weilen Riemenaufnahmenut versehen, in die ein Treibriemen 142 eingreift, der wiederum über eine Kiemenscheibe 144 auf der Ausgangswelle eines Motors 146 mn Reduziergetriebe läufl. Die auf den Antriebsrollen 28 und 126 befestigten Riemenscheiben werden so angelrieben, daß sie die Platte /'durch das Gerät IO mit gleichförmiger Geschwindigkeit vorwärts schieben, die der /eil angepaßt sind, die für eine richtige

10

Behandlung der Platte erforderlich ist.

Ts versteht sioV dall die drehbaren hin und hergehenden Hnrsien 84 und 86 in der Reibstation 16 auch aus anderem Material gefertigt sein können. Beispielsweise können die Walzen auf ihrem aulleren I 'ml,ing ein \elourbiirstenartiges Tuch oder flache Pl,nie aufweisen, die mit Schwamm. Horsten oder Veloiirtiich hivogen sind

Hierzu 3 IJIatl Zciehmineen

Claims (3)

Patentansprüche:

1. Gerät zur Entwicklung der Oberflüche von Flachdruck-Offsetplatten mit Vorschubeinrichtungen für die Offsetplatte und einer Entwicklungsstation innerhalb des Gerätes, die sich in Bewegungslängsrichtung der Flachdruck-Offsetplatten durch das Gerät erstreckt, in der die Entwicklungsstation für die gleichzeitige Entwicklung einander gegenüberliegender Oberflächen der Flachdruck-Offsetplatten ausgestaltet ist und im Abstand voneinander angeordnet einen oberen und unteren Boden besitzt, zwischen denen eine Entwicklungskammer begrenzende Seitenwände im Abstand montiert sind, wobei die Kammer mit einander gegenüberliegenden Verteilungseinrichtungen auf der Außenseite des oberen und unteren Bodens zur Abgabe von Entwicklerflüssigkeit unter Druck quer zur Plattenwanderrichtung versehen ist und jeder Boden eine kammerbreite öffnung besitzt, mit einer Plattenreibeinrichtung zum Abbürsten oder Abwischen der gegenüberliegenden Plattenoberflächen, die zwei zylindrische Reib- oder Wischwaizen, vorzugsweise Bürstenwalzen, aufweist, die innerhalb des Gerätes drehbar gelagert und so ausgerichtet sind, daß die Bewegungsbahn der Flachdruck-Offsetplatte zwischen den gegenüberliegenden Reib- oder Bürstenwalzer, hindurchgeht, wobei diese Walzen durch die Reibeberührung mit der hindurchgehenden Platte drehbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß das Eintrittsende (46, 48) der Entwicklungskammer (44) mit gegenüberliegenden flexiblen Membranen (50, 52) unter Bildung und Aufrechterhaltung einer Flüssigkeitsabdhhtung _oegen die Flachdruck-Offsetplatte eingericntct ist, das Austrittsende der Kammer (44) mit einer den Hüssigkeitsfluß einschränkenden Drossel (54, 56) versehen ist und daß aus einem Vorratsbehälter (58) in dem Gerät (10) mittels einer Verdrängerpumpe (68) von hohem Volumen durch Zweigleitungen (70, 66, 72, 74) zu jedem Verteiler (76, 78) unter einem Druck von 0,35 bis 2,8 kg/cm² Entwicklerflüssigkeit zuspeisbar ist.

2. Gerät nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß die Fließdrossel am Austragsende der Kammer (44, 18) einwärts gerichtete Pufferstreifen (54, 56) aufweist, die jeweils an dem oberen (40) und unteren Boden (42) befestigt sind und an der Flachdruck-Offsetplatte (P) anliegen, die sich durch die Kammer bewegt, so daß die in die Kammer (44) fließende Entwicklerflüssigkeit eine Flüssigkeitsschicht zur Berührung mit jeder gegenüberliegenden Oberfläche der Platte aufbaut.

3. Gerät nach Anspruch 1 oder 2. gekennzeichnet durch eine zweite Entwicklerstation (18) nach der Plaitenreibeinrichtung (16) mit Zuführeinrichtungen der Entwicklerflüssigkeit unter Druck zu den gegenüberliegenden Flächen der Flachdruck-Offsetplatte