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Gerät zur Entwicklung von Offsetdruckplatten Die Erfindung betrifft
ein Gerät zur Fertigstellung von Flachdruckoffsetdruckplatten, wie sie im lithografischen
Druckprozess verwendet werden, und insbesondere ein Gerät zur gleichzeitigen Entwicklung
beider Oberflächen einer Flachdruckplatte oder der einzelnen Oberfläche von zwei
Rücken an Rückengelegten Platten.
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Es ist seit langem in der Drucktechnik bekannt, daß eine subtraktive
vorsensibilisierte Offsetdruckplatte im sogenannten Einstufenhandentwicklungsprozess
entwickelt werden kann. Bei einem solchen Verfahren wird die substraktive vorsensibilisierte
Flachdruckplatte vom Hersteller in der Fabrik mit einem lichtempfindlichen Material
bedeckt, das Harze und Pigmente enthält, um so schließlich eine lithografische Druckplatte
zu liefern. Bezeichnend für diese substraktiven Platten sind die
Typen
K, S und T der Minnesota Mining and Manufacturing Company, die Platten N-25, N-50
und N-100 der Azoplate Corporation, die Platten FG und FGA der Polychrome Corporation,
die Eastman Kodak-Platte LN und die Lydel-Platte' von duPont. Einige dieser Platten
sind mit der lichtempfindlichen Schicht auf einer Seite und einige auf beiden Seiten
bedeckt, wie z. B. ein Bogen einer passend zubereiteten Aluminiumfolie in der Dicke
von 0,076 bis 0,63 mm (0,003 bis 0,025 Zoll),in Größen von etwa 250 x 355 mm bis
1.525 x 2.005 mm (10 x 14 Zoll bis 60 x 80 Zoll).
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Bei der Bearbeitung einer Platte der vorstehend beschriebenen Art
wird die #ichtempf-indliche Schicht zunächst mit einer negativen Schablone bedeckt,
die ein fotolithografisches Neyativ sein kann, und die Schablone wird in innigem
Kontakt mit der Platte gehalten, während sie gegen eine starke Lichtquelle, z. B.
einen Kohlelichtbogen, exponiert wird. Der vom Licht getroffene Bereich wird in
ein unlösliches Phenol umgewandelt oder photopolymerisiert, so daß er in einer späteren
Stufe von den Behandlungschemikalien unbeeinflußt bleibt. DieSchattenpartien oder
unbelichteten Bezirke bleiben potentiell löslich in den Behandlungsflüssigkeiten.
Wenn beide Seiten der Platte mit der lichtempfindlichen Schicht überzogen sind,
dann werden allgemein beide Seiten gegen Negatiw exponiert, bevor sie entwickelt
werden, um die beiden Seiten der Druckplatte wirtschaftlich ausnutzen zu können,
beispielsweise wenn zwei Arbeiten von einem Stück Aluminium auf einer lithografischen
Presse gedruckt werden.
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Wenn die Entwicklung von Hand durchgeführt wird, um solche Platten
zu entwickeln, wird eine Entwicklerlösung des geeigneten Lösungsmittels für die
Platte über die belichtete Plattenoberfläche gegossen und in die Schicht einsaugen
gelassen.
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Dann wird eine Bürste, ein Bauch der Schwamm benutzt, um den Entwickler
über die Plattenoberfläche zu bewegen und sie zu waschen, um das Entwicklerlösungsmittel
in die unbelichteten Bezirke der Schicht einzuarbeiten. Da die unbelichteten Schichtteile
in den Behandlungsflüssigkeiten löslich sind, werden durch das Waschen die unbelichteten
Schichtbezirke entfant, so daß nur der Bildbereich stehenbleibt.
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Die Nachteile eines Handbetriebes zur Entwicklung von Offsetdruckplatten
sind:das Verfahren ist langsam und teuer; es gibt keine Gleichförmigkeit in der
Zeit und im Andrücken beim Reiben der Platte; häufig ergeben sich mangelhafte Abdrucke
aus der Ungleichmäßigkeit der Entwicklung oder Reibung bzw.
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zu starke Entwicklung oder Reibung; Arbeiten mit zu wenig Entwicklerlösung
führt zu mangelhafter Entwicklung der Platte; Trocknung des Entwicklers in Bezirken
einer Platte vor dem Reiben ist vollendet aufgrund der großen und unhandlichen Abmessung
einiger lithografischer Platten und die für Handentwicklung erforderliche Zeit und
Unannehmlichkei#t.
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Ein weiterer Mangel der Handentwicklung besteht darin, daß zwar Handarbeit
eine Entwicklung über die ganze Oberfläche liefert, verschiedene Bezirkstypen, wie
z. B. sehr fein rastrierte Halbtöne, zusäzlichen Kraftaufwand erfordern, um unerwünschte
Schichtreste
in den feinen Bezirken zu entfernen.
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Noch eine weitere Schwierigkeit bei der Handarbeit besteht bei der
Behandlung einer zweiseitig sensibilisierten Platte, wenn nur eine Seite entwickelt
wird und die Platte dann umgedreht wird, um die andere Seite zu entwickeln.
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Kurz gesagt werden die Schwierigkeiten, die mit der üblichen Handentwicklung
von lithografischen Offsetdruckplatten verbunden sind, dadurch überwunden, daß man
ein Entwicklungsgerät vorsieht, das eine Aufnahmestation zur Aufnahme einer exponierten
Druckplatte und zwar entweder einer einzigen Platte mit zwei zu entwickelnden Oberflächen
oder zwei Platten aufnimmt, die Rücken an Rücken gelegt sind, wobei die belichteten
Oberflächen nach außen gerichtet sind. Eine teilweise eingeschlossene Entwicklerabgabestation
ist ebenfalls vorgesehen, worin Entwicklerlösung eingeführt und gleichmäßig über
die vollständige Oberfläche beider belichteter Plattenseiten unter Druck und während
eines ausreichenden Zeitraumes verteilt wird, um die Schichten in geeigneter Weise
sich vollsaugen zu lassen, ohne daß Sprühdüsen benutzt werden. Eine Reibestation
liegt hinter der EnMcklerstation, wo Reibematerial in geeigneter Anordnung zur Bearbeitung
der Platte und Unterstützung der chemischen Wirkung der Entwicklerlösung beide Oberflächen
der Platte berührt. Hinter der Reibestation geht die Platte durch eine zweite Entwicklerstation
ähnlich der ersten, um alle Spuren unerwünschter Schichtreste von den zwei Seiten
der Platte zu
entfernen, worauf die Platte aus einer Abgabestation
ausgeführt wird.
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Ein geeigneter Plattenförderer dient zum Vorschub der Platte durch
alle Stationen.
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Die Entwicklerabgabestation besteht aus zwei in Abstand voneinander
liegenden Platten, die mit Seitenwänden versehen sind, um eine Entwicklungskammer
zu begrenzen. Am Eingang dieser Kammer ist ein Paar flexibler Reibmembranen montiert,
und das Austrittsende der Kammer ist gedrosselt, so daß der Austrittsschlitz etwa
die Hälfte der Höhe der Innenhöhe der Kammer beträgt. Die Kammer ist mit Verteilungsleitungen
an der Decke und am Boden versehen, um Entwicklerflüssigkeit von einem Vorratsbehälter
durch eine Pumpe einführen zu können, und die Flüssigkeit wird unter 900 auf. die
Plattenbahn unter einem Druck von 0,35 bis 2,8 kg/cm (5 bis 40 psi) abgegeben.
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Das in vorstehender Weise konstruiette Entwicklerverteilergerät ergibt
einen gleichförmigen Druck, Durcharbeitung und gleichmäßige Quantität von Entwickler
für die beiden -Seiten der bearbeiteten Platte innerhalb der Kammer. Ferner begrenzen
die flexiblen Membranen und der gedrosselte Ausgang des Verteilers den Fluss von
Entwicklerflüssigkeit, so daß die Flüssigkeit nur am einen Ende der Kammer ausfließt.
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In der Zeichnung ist eine bevorzugte Ausführungsform der Ein dung
dargestellt.
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Fig. 1 ist eine schematische geschnittene Seitenansicht eines gemäß
der Erfindung gebauten Gerätes.
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Fig. 2 zeigt perspektivisch die Entwicklerabgabestation.
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Fig. 3 ist eine schematische Stirnansicht der Reibestation des Gerätes
nach Fig. 1.
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Fig. 4 ist eine schematische Seitenansicht des Antriebsmechanismus
des Gerätes der Fig. 1.
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Gemäß Fig. 1 besitzt das Entwicklergerät 10 eine Aufnahmestation 12
zur Aufnahme einer Flachdruckplatte P, eine Abgabestation 14, wo eine Entwicklerlösung
auf zwei gegenüberliegende Oberflächen der Platte P verteilt wird, eine Reibestation
16, wo die Lösung in die gegenüberliegenden Oberflächen der Platte eingerieben wird,
eine zweite Entwicklerstation 18 zur nochmaligen Austeilung von Entwickler auf die
gegenüberliegenden Flächen der Platte P und eine Abgabestation 20, wo Entwickler
von der Platte P abgewischt und die Platte aus dem Gerät 10 ausgetragen wird.
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Die Aufnahmestation 12 ist mit einem Sims 22 versehen, auf dem die
Platte P getragen werden kann untere an der Stirnwand 22 des Gerätegehäuses 10 befestigt
ist. Die Stirnwand 24 besitzt eine Offnung 26, durch die eine Platte P eingeführt
werden kann, so daß sie zwischen einer Vorschubrolle 28 und einer Gegenrollç 30
erfaßt wird, um sie in das Gerät und in die Verteilungsstation
14
zu befördern.
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Die Antriebsrolle 28 und die Gegenrolle 30 sind auf Wellen 32 und
34 befestigt, Die Enden der Wellen 32 und 34 sind innenseitig von den Seitenplatten
36 und 38 (s. Fig. 2) des Gerätegehäuses 10 drehbar gelagert. Die Welle 32 der Vorschubrolle
28 istrwie nachstehend noch näher erläutert werden soll, angetrieben, und der Abstand
zwischen den Rollen 28 und 30 ist einstellbar, um sich Platten P unterschiedlicher
Dicke anzupassen, so daß eine durch die Rollen 28 und 30 hindurchghende Platte unter
Reibung auf jeder Seite von den Umfangsflächen der Rollen erfaßt wird und die Platte
P so zwischen den Rollen 28 und 30 vorwärts geschoben wird, wobei die Gegenrolle
30 dieselbe Drehgeschwindigkeit hat, wie die Förderrolle 28.
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Die Entwicklerverteilerstation 14 ist mit einem oberen Boden 40 und
einem unteren Boden42 versehen, die in solchem Abstand liegen, daß eine Platte P
dazwischen hindurchgehen kann. Die Böden erstrecken sich zwischen Seitenwänden 36
und 38, um im Inneren eine Entwicklungskammer 44 zu bilden, die am vorderen Ende
der Platten 40 und 42 offen ist.
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Die Böden 40 und 42 sind praktisch flache Plattenbauteile und besitzen
an ihrem vorderen Abschnitt 46 und 48 winklig nach außen gerichtete Ansätze. An
der Innenfläche jedes Winkelansatzes 46 und 48 befinden sich flexible Membranen
50 bzw. 52, die sich einwärts zwischen die Böden 40 und 42 erstrecken. Die
Membranen
50 und 52 wirken als Damm zur Verhinderung des Austritts von Entwickler aus der
Entwicklungskammer 44, sie sind aber genügend flexibel, um eine Platte P zwischen
sich durchlaufen zu'lassen. Wenn eine Platte zwischen den Membranen 50 und 52 durchläuft,
werden die rückwärtigen Membranabschnitte in innigen Kontakt mit den gegenüberliegenden
Flächen der Platte durch den Flüssigkeitsdruck innerhalb der Kammer 44 gedrückt,
um einen flüssigkeitsdichten Abschluss bilden und so den Austritt von Entwickler
aus der Kammer 4 an deren vorderen Ende auszuschalten.
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Der rückwärtige Teil jedes Bodens 40 und 42 ist mit einander entgegengerichteten
Pufferstreifen 54 bzw. 56 versehen, die als Einschnürung für die aus der Kammer
44 austretende Erbricklerlösung und als Abstandshalter für die Platte P dienen,
um sie von den gegenüberliegenden Innenflächen der Böden 40 und 42 in Abstand zu
halten.
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Ein Entwicklervorratsbehälter 58,der von den Seitenwänden 36, 3%,
der Bodenwand 60, der Stirnwand 62 und der aufragenden Wand 64 gebildet wird, dient
zur Speicherung eines Entwicklervorrates. Eine Auslaßleitung 66 führt durch die
Wand 64 zum Einlaßende einer positiven Verdrängerpumpe 68 von hohem Volumen zur
Förderung durch die Pumpenauslaßleitung 70, die sich in die Leitungen 72 und 74
verzweigt. Die Leitung 72 fahrt zu einem auf der Oberseite des Bodens 40 befestigten
Verteiler 76, und die Leitung 74 führt zu einem ähnlichen Verteiler 78,
der
an der Unterseite des Bodens 40 befestigt ist. Die Böden 40 und 42 sind mit geeigneten
Öffnungen 80 bzw. 82 bei den betreffenden Verteilern 76 und 78 versehen, um Entwickler
unter Druck gleichförmig über die Breite der Böden zu verteilen.
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Die Pumpe 68 ist so eingerichtet, daß sie Entwioklerfüssigkeit an
die Kammer 44 unter Druck von 0,35 bis 2,8kg/cm (5 bis 40 psi) abgibt, und die
Öffnungen 8Q und 82 sind so ausgerichtet, daß der Entwickler an die Kammer 44 so
abgegeben wird, daß er auf die Platte P innerhalb derKammer unter im wesentlichen
900C zum Wanderungsweg#der Platte durch die Kammer auftrifft. Die Pumpe 60 ist ausreichend
überdimensioniert und in der Lage, genügend Druck zu entwickeln, um die Kammer 44
nahezu augenblicklich zu füllen und sie mit Entwicklerflüssigkeit gefüllt zu halten,
wenn eine Platte P hindurchbefördert wird.
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Der Entwicklerablauf von der Rückseite der Kammer 44 wird im Behälter
58 gesammelt, um zur Kammer 44 zurückgepumpt zu werden. Es, ist geeignete Vorsorge
getroffen, um die chemische Aktivität des Entwicklers zu prüfen und den Vorrat aufzufrischen,
um die gewünschte Konzentration für eine angemessene Entwicklung der lithografischen
Platten aufrechtzuerhalten.
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Die Pufferstreifen 44,und 46 halten einen schwachen Kontakt druck
an den gegenüberliegenden Flächen der Platte P aufrecht, so daß sich ein entsprechender
FlüssigkeitsspiegeI aufbauen kann, um de belichteten Oberflächen der Platte zu berühren
und sie in der Kammer 44 vollständig zu benetzen
nachdem die Platte
P durch die Entwicklerverteilerstation 14 hindurchgegangen ist, ird sie durch die
Reib- oder Bürststation 16 geleitet. Diese besitzt eine obere zylindrische Bürstenwalze
84 und eine untere zylindrische Bürstenwalze 36, die auf Wellen 88 bzw, 89 gelagert
sind. Die Walzen befinden sich in solchem Abstand, daß die Borsten der beiden Bilrstenwalzen
auf den gegenüberliegenden Oberflächen einer hindurchgehenden Platten P innig anliegen.
Die Bürsten 84 und 86 sind vorzugsweise aus shr dichten Nylon- oder Polypropylenborsten
von 0,06 bis 2,5 mm (0,002 bis 0,010 Zoll) Durchmesser gefertigt, aber es können
auch flache Bürsten, Schwämme oder Polster oder auch mit Tuch bezogene Walzen sein.
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Wie am besten aus Fig. 3 ersichtlich, sind die Walzen 84 und 86 auf
Wellen 88 und 90 drehbar gelagert, und sie sind in ihrer relativen Lage auf den
Wellen 88 und 90 durch Kopfkappen 92 und 94 fixiert. Sie sind axial gleitbar durch
Bohrungen 96 und 98 in Seitenplatten 36 und 38 des Gehäuses angeordnet.
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Das eine Ende jeder Welle 88 und 98 ist mit einem abstehenden Stift
100 bzw. 102 versehen.
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Eine Schwingplatte 104 ist im mittleren Teil bei 106 auf einer festen
Stütze 108 schwenkbar gelagert, die an einer Seitenklappe 36 befe-stigt ist. Die
Schwingplatte ist andererseits an das eine Ende einer Treibstange 110 bei 112 angelenkt.
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Die Treibstange 110 ist an ihrem anderen Ende 114 schwenkbar an einem
kreisförmigen Flansch 116 gelenkig gelagert, der an der Ausgangsw-elle 118 eines
Motors 120 befestigt ist. Wenn
der Motor 120 den Flansch 116 dreht,
bewegt sich die Antriebsstange 110 auf einem im wesentlichen senkrechten hin- und
hergehenden Weg, um die Platte 104 in Schwingung zu versetzen.
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Die Platte 104 besitzt Ausschnitte 122 und 124, welche die abstehenden
Stifte 100 und-102 auf-der Welle 88 bzw. 90 aufnehmen. Wenn die Platte 104 in Schwingung
versetzt wird, werden die Wellen 88 und 90 linear quer zu dem Durchgangsweg der
Platte P zwischen den Bürstenwalzen 84 und 86'hin- und herbewegt.
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Während die Bürstenwalzen 84 und 86 quer zum Durchgangsweg der Platte
P hin- und zurückgehen, bewirkt die Bewegung der Platte P zwischen den Bürstenwalzen
deren Drehbewegung an der Platte P. Es kann gewünschtenfalls ein mechanisches Hilfsmittel
eingebaut werden um diese Drehung der Bürstenwalzenai unterstützen1 aber dies ist
nicht wesentlich für einen wirkungsvollen Betrieb des Gerätes.
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Die /REibwirkung der Bürsten 84 und 86 wird gemäß Fig. 1 loses restliches
Schichtmaterial auf den gebürsteten Oberflächen der Platte P zurücklassen, und nach
Durchgang durch die Bürsten walzen 84 und 86 tritt die Platte dann in die Entwicklungsstation
18 ein, die ähnlich der Entwicklungsstation 14 ist.
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Die Entwicklungsstation 18 besitzt obere und untere Böden 401 und
42', mit flexiblen Membranen 50' und 52', zwischen denen
die Platte
P hindurchgeht, um in die Kammer 44' einzutreten, ohne daß ein merklicher Verlust
durch die Flüssigkeitsabdichtung am vorderen Ende der Rammer auftritt. Die gegenüberliegenden
Oberflächen der Platte P sind der Entwicklerflüssigkeit unter Druck ausgesetzt,
die durch Verteiler 76' und 78' abgegeben wird, die wiederum durch die Leitungen
72 und 74 von der Pumpe 68 aus gespeist werden, wie dies bei der Entwicklungsstation
14 beschrieben wurde.
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Nach VerlasseWder Entwicklungsstation 18 geht die vorlaufende Kante
der Platte P zwischen einem zweiten Paar aus einer Vorschubrolle 126 und einer Stützrolle
128 zur Austragstelle 20.
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Die Vorschubrolle 126 und die Stützrolle 128 sind auf Wellen 130
bzw. 132 befestigt, die innerhalb der Seitenplatten 36 und 38 drehbar gelagert sind.
Die Welle 130 wird getrieben, und der Abstand zwischen den Rollen 126 und 128 ist
so einstellbar, daß er Platten P unterschiedlicher Dicke angepaßt werden kann, so
daß die Platte mit Reibung auf jeder Seite von den Umfangsflächen der Rollen erfaßt
wird. Die Platte wird durch die Vorschubrolle 126 durch eine öffnung 134 in der
Stirnwand 63 zu einer geeigneten Aufnahmestelle außerhalb des Gerätes 10 geschoben.
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Die Rollen 126 und 128 sind mit einem wtchen elastomeren Material
oder Kautschuk überzogen und wischen die überschüssige Entwicklerflüssigkeit von
der Platte P durch Quetschwirkung ab, um die Platte P im wesentlichen trocken an
den Bedienungsmann zur PrUfung und weiteren Bearbeitung soweit erforderlich
abzugeben.
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Aus Fig. 4 ist ersichtlich, daß die Vorschubrollen 28 und 126 wirkungsmäßig
durch einen Treibriemen 136 verbunden sind, der über Riemenscheiben 138 und 140
läuft, die auf den Wellen 32 bzw. 130 befestigt sind. Die Riemenscheibe 138 ist
mit einer zweiten Riemenaufnahmenut versehen, in die ein Treibriemen 142 eingreift,
der wiederum über eine Riemenschebe 144 auf der Ausgangswelle eines Motors 146 mit
Reduziergetriebe läuft. Die auf den Antriebsrollen 28 und 126 befestigten Riemenscheiben
werden so angetrieben, daß sie die Platte P durch das Gerät 10 mit gleichförmiger
Geschwindigkeit vorwärts schieben, die der Zeit angepaßt ist, die für eine richtige
Behandlung der Platte erforderlich ist.
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Es versteht sich, daß die drehbaren hin- und hergehenden Bürsten 84
und 86 in der Reibstation 16 auch aus anderem Material gefertigt sein können. Beispielsweise
können die Walzen auf ihrem äußeren Umfang ein velourbürstenartiges Tuch oder flache
Platten aufweisen, die mit Schwamm, Borsten oder Velourtuch bezogen sind.
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Es ist also ersichtlich, daß die Erfindung ein Gerät vorsieht, in
dem beide Seiten einer einzelnen Flachdruckoffsetplatte oder je eine einzelne Oberfläche
von zwei Rücken an Rücken gelegten Flachdruckoffeetplatten gleichzeitig bei# einmaligem
Durchgang durch das- Gerät entwickelt werden. Die-zu entwickelnden gegenüberliegenden
Oberflächen
werden in einer fleib- oder Bürststation in gleichmäßiger Weise gerieben, so daß
eine gleichförmige Qualität der Entwicklung gewährleistet ist. Denn die Entwicklerlösung
wird der Entwicklungskammer so zugebracht, daß sie die beschihtete Seite der Offsetplatte
vollständig mit Lntwicklerflüssigkeit unter Druck bedeckt und Schwierigkeiten des
Schäumens der Enicklerlösung lnfolge Vorhandenseins von Netzmitteln in der Entwicklerlösung
ausgeschaltet sind.