DE2238414B2 - Geraet zur entwicklung von offset- druckplatten - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Gerät zur Entwicklung der Oberfläche von Flachdruck-Offsetplatten, mit Vorschubeinrichtungen für die Offsetplatte und einer Entwicklungsstation innerhalb des Gerätes, die sich in Bewegungs- Längsrichtung der Flachdruck-Offsetplatten durch das Gerät erstreckt.

Es ist seit langem in der Drucktechnik bekannt, daß eine subtraktive vorsensibilisierte Offsetdruckplatte im sogenannten Einstufenhandentwicklungsprozeß entwikkelt werden kann. Bei einem solchen Verfahren wird die substraktive vorsensibilisierte Flachdruckplatte vom Hersteller in der Fabrik mit einem lichtempfindlichen Material bedeckt, das Harze und Pigmente enthält, um so schließlich eine lithografische Druckplatte zu liefern. Bezeichnend für diese substraktiven Platten sind die Typen K, S und T der Minnesota Mining and Manufacturing Company, die Platten N-25, N-50 und N-100 der Azopiate Corporation, die Platten FG und FGA der Polychrome Corporation, die Eastman-Kodak-Piatte LN und die Lydel-PIatte von duPont. Einige dieser Platten sind mit der lichtempfindlichen Schicht auf einer Seite und einige auf beiden Seiten bedeckt, wie z. B. ein Bogen einer passend zubereiteten Aluminiumfolie in der Dicke von 0.076 bis 0,63 mm und in Größen von etwa 250 χ 355 mm bis 1.525 χ 2.005 mm.

Bei der Bearbeitung einer Platte der vorstehend beschriebenen Art wird die lichtempfindliche Schicht zunächst mit einer negativen Schablone bedeckt, die ein fotolithografisches Negativ sein kann, und die Schablone wird in innigem Kontakt mit der Platte gehalten, während sie gegen eine starke Lichtquelle, z. B. einen Kohlelichtbogen, exponiert wird. Der vom Licht getroffene Bereich wird in ein unlösliches Phenol umgewandelt oder photopolymerisiert, so daß er in einer späteren Stufe von den Behandlungschemikalien unbeeinflußt bleibt. Die Schattenpartien oder unbelichteten Bezirke bleiben potentiell löslich in den Behandlungsflüssigkeiten. Wenn beide Seiten der Platte mit der lichtempfindlichen Schicht überzogen sind, dann werden allgemein beide Seiten gegen Negative exponiert, bevor sie entwickelt werden, um die beiden Seiten der Druckplatte wirtschaftlich ausnutzen zu können, beispielsweise wenn zwei Arbeiten an einem Stück Aluminium auf einer lithografischen Presse bedruckt werden.

Wenn die Entwicklung von Hand durchgeführt wird, um solche Platten zu entwickeln, wird eine Entwicklerlösung des geeigneten Lösungsmittels für die Platte über die belichtete Plattenoberfläche gegossen und in die Schicht einsaugen gelassen. Dann wird eine Bürste, ein Bausch oder Schwamm benutzt, um den Entwickler über die Plattenoberfläche zu bewegen und sie zu waschen, um das Entwicklerlösungsmittel in die unbelichteten Bezirke der Schicht einzuarbeiten. Da die unbelichteten Schichtteile in den Behandlungsflüssigkeiten löslich sind, werden durch das Waschen die unbelichteten Schichtbezirke entfernt, daß nur der Bildbereich stehenbleibt.

Die Nachteile eines Handbetriebes zur Entwicklung von Offsetdruckplatten sind: das Verfahren ist langsam und teuer; es gibt keine Gleichförmigkeit in der Zeit und

im Andrücken beim Reiben der Platte; häufig ergeben sich mangelhafte Abdrucke aus der Ungleichmäßigkeit der Entwicklung oder Reibung bzw. zu starke Entwicklung oder Reibung; Arbeiten mit zj wenig Entwicklungslösung fuhrt zu mangelhafter Entwicklung der Platte; Trocknung des Entwicklers in Bezirken einer Platte vor dem Reiben ist vollendet aufgrund der großen und unhandlichen Abmessung einiger lithografischer Platten und die für Handentwicklung erforderliche Zeit und Unannehmlichkeit.

Ein weiterer Mangel der Handentwicklung besteht darin, daß zwar Handarbeit eine Entwicklung über die ganze Oberfläche liefert, verschiedene Bezirkstypen, wie z. B. sehr fein rastrierte Halbtöne, zusätzlichen Kraftaufwand erfordern, um unerwünschte Schichtreste in den feinen Bezirken zu entfernen.

Noch eine weitere Schwierigkeit bei der Handarbeit besteht bei der Behandlung einer zweiseitig aensibilisierten Platte, wenn nur eine Seite entwickeil wird und die Platte dann umgedreht wird, um die andere Seite zu entwickeln.

Aus der DT-OS 19 61 409 ist ein Gerät der eingangs genannten Art im wesentlichen bekannt, wonach eine nach unten gebogene trogförmige Wanne die dort sogenannte Führungsbahn für die zu behandelnden Druckplatten darstellt. Über der Mulde befindet sich der Entwickler, der bis zu einem bestimmten Flüssigkeitspegel reicht. Mit der bekannten Vorrichtung soll die gesundheitsschädliche Handarbeit mit geringem technischem Aufwand durch Automatisieren umgangen werden, wobei geringstmögliche Flüssigkeitsmengen verwendet werden, um den Chemikalienverbrauch sparsam zu gestalten. Die Führungsbahn ist flach muldenförmig ausgestaltet und weist drehend gelagerte Walzen auf. Hiermit voll gewährleistet werden, daß eine einlaufende Druckplatte sich genau in Richtung des Bodens und damit der Walzen bewegt, so daß eine genaue Steuerung der Druckplatte durch die in der Wanne stehende Flüssigkeit gewährleistet ist.

In nachteiliger Weise wird bei der bekannten Vorrichtung zum einen immer noch eine erhebliche Menge Entwicklerflüssigkeit benötigt, und zum anderen besteht durch die große Oberfläche, welche der Atmosphäre ausgesetzt ist, die Gefahr der Verschmutzung und der chemischen Reaktion, wodurch die Entwicklerflüssigkeit Schaden leidet.

Gemäß der Erfindung besteht die Aufgabe, ein Gerät der eingangs genannten Art so zu verbessern, daß der Verbrauch an Entwicklerflüssigkeit auch beim Entwikkeln einander gegenüberliegender Oberflächen von Flachdruck-Offsetplatten verringert wird.

Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß die Entwicklungsstation für die gleichzeitige Entwicklung einander gegenüberliegender Oberflächen der Flachdruck-Offsetplatten ausgestaltet ist und im Abstand voneinander angeordnet einen oberen und einen unteren Boden besitzt, zwischen denen eine Entwicklungskammer begrenzende Seitenwände im Abstand montiert sind, das Eintrittsende der Entwicklungskammer mit gegenüberliegenden flexiblen Membranen unter Bildung und Aufrechterhaltung einer Flüssigleitsabdichtung gegen die Flachdruck-Off setplatte eingerichtet ist, das Austrittsende der Kammer mit einer den Flüssigkeitsfluß einschränkenden Drossel versehen ist, die Kammer mit einander gegenüberliegenden Verteilungseinrichtungen auf der Außenseite des oberen und unteren Bodens zur Abgabe von Entwicklerflüssigkeit unter Druck quer zur Plattenwanderrichtung versehen ist und jeder Boden eine kammerbreite öffnung besitzt.

Es ist erstmals möglich, ohne Verbrauch oder Verschwendung größerer Flüssigkeitsmengen eine Flachdruck-Offsetplatte von oben und unten gleichzeitig in einer speziell konzipierten Entwicklungsstation zu behandeln und zu benetzen. Von besonderem Vorteil ist ferner die Tatsache, daß mit einer leistungsfähigen Pumpe über die gesamte Breite der Kammer durch die

ίο sehr breiten öffnungen unter Druck und unter einem Winkel von 90° zur Plattenwanderrichtung die Entwicklerflüssigkeit derart auf beide Oberflächen der Flachdruck-Olfsetplatte aufgebracht wird, daß eine vollständige Benetzung in der Kammer gewährleistet ist.

>5 Das Aufbringen der Entwicklerflüssigkeit erfolgt erfindungsgemäß automatisch und optimal flüssigkeitssparend.

Aus der DT-AS 12 67 979 ist zwar das Besprühen chemographischer Schichtträger mit Behandlungsflüssigkeit bekannt. Durch das Besprühen soll eine mechanische Nachbehandlung der Schicht überflüssig gemacht werden. Erfindungsgemäß wird aber dagegen ausdrücklich mechanisch nachbehandelt, so daß sich hier offensichtlich andere Probleme ergeben. Der Fachmann kennt die Nachteile bei der Verwendung von Düsen, wenn Entwicklerflüssigkeit aufgesprüht werden soll: Kleine öffnungen können durch Verunreinigungen, z. B. abgelöste Beschichtungen, verstopft werden, so daß gefiltert werden muß. Erfindungsgemäß wird dieser Weg nicht beschritten. Der Erfinder besprüht nicht die Druckplatten, sondern verwendet die gemäß der F.rfindung neu konstruierte und konzipierte Entwicklungsstation.

Es ist erfindungsgemäß vorgesehen, entweder eine einzige exponierte Druckplatte mit zwei zu entwickelnden Oberflächen oder zwei Platten, die Rücken an Rücken aneinandergelegt sind, zu behandeln, wobei die belichteten Oberflächen nach außen gerichtet sind. Eine teilweise eingeschlossene Entwicklerabgabestation ist ebenfalls vorgesehen, worin Entwicklerlösung eingeführt und gleichmäßig über die vollständige Oberfläche beider belichteter Plattenseiten unter Druck und während eines ausreichenden Zeitraumes verteilt wird, um die Schichten in geeigneter Weise sich vollsaugen zu lassen, ohne daß Sprühdüsen benutzt werden. Eine Reiboder Bürstenstation liegt hinter der Entwicklerstation, wo Reibe- oder Bürstenkörper in geeigneter Anordnung zur Bearbeitung der Platte und Unterstützung der chemischen Wirkung der Entwicklerlösung beide Oberflächen der Platte berühren. Hinter der Reibestation geht die Platte durch eine zweite Entwicklerstation ähnlich der ersten, um alle Spuren unerwünschter Schichtreste von den zwei Seiten der Platte zu entfernen, worauf die Platte aus einer Abgabestation ausgeführt wird.

Die Entwicklungsstation besteht aus zwei in Abstand voneinander liegenden Platten, die mit Seitenwändeti versehen sind, um eine Entwicklungskammer zu begrenzen. Am Eingang dieser Kammer sind zwe

(10 flexible Reibmembranen montiert, und das Austrittsen de der Kammer ist gedrosselt, so daß der Austritts schlitz etwa die Hälfte der Höhe der Innenhöhe dei Kammer beträgt. Die Kammer ist mit Verteilungsleitun gen am oberen und unteren Boden versehen, un

<>5 Entwicklerflüssigkeit von einem Vorratsbehälter durcl eine Pumpe einführen zu können. Die Flüssigkeit win unter 90° auf die Plattenbahn unter einem Druck voi 7. B. 0,35 bis 2,8 kg/cm² abgegeben.

Bei vorteilhafter Weiterbildung der Erfindung weist die Plattenreibeinrichtung zum Abbürsten oder Abwischen der gegenüberliegenden Plattenoberflächen zwei zylindrische Reib- oder Wischwalzen, vorzugsweise Bürstenwalzen auf, die innerhalb des Gerätes drehbar gelagert und so ausgerichtet sind, daß die Bewegungsbahn der Flachdruck-Offsetplatte zwischen den gegenüberliegenden Reib- oder Bürstenwaisen hindurchgeht und daß diese Walzen durch die Reibberührung mit der hindurchgehenden Platte drehbar sind. Besonders zweckmäßig ist hierbei die Anordnung einer zweiten Entwicklerstation nach der Plattenreibeinrichtung mit Zuführeinrichtungen für Entwicklerflüssigkeit unter Druck zu den gegenüberliegenden Flächen der Flachdruck-Offsetplatte. Durch diese bevorzugte Anordnung wird die Entwicklerbehandlung vollständig und besonders intensiv.

Vorteilhaft ist es gemäß der Erfindung ferner, wenn zwei eine Quetscheinrichtung bildende Walzen innerhalb des Gerätes angeordnet sind, die mit einem weichen elastomeren Material überzogen sind und unter Quetschwirkung mit den gegenüberliegenden Oberflächen der Offsetplatte in Reibeingriff bringbar sind. Zweckmäßig ist es auch, wenn erfindungsgemäß aus einem Vorratsbehälter in dem Gerät mittels einer Verdrängerpumpe von hohem Volumen durch Zweigleitungen zu jedem Verteiler die Entwicklerflüssigkeit unter dem oben beispielsweise genannten Druck von 0,35 bis 2,8 kg pro cm² zuspeisbar ist.

Die Erfindung ist auch dadurch vorteilhaft weiter ausgestaltet, daß die Fließdrossel am Austragsende der Kammer einwärts gerichtete Pufferstreifen aufweist, die jeweils an dem oberen und unteren Boden befestigt sind, und an der Flachdruck·Offsetplatte anliegen, die sich durch die Kammer bewegt, so daß die in die Kammer fließende Entwicklerflüssigkeit eine Flüssigkeitsschicht zur Berührung mit jeder gegenüberliegenden Oberfläche der Platte aufbaut.

Das in vorstehender Weise konstruierte Entwicklerverteilergerät ergibt einen gleichförmigen Druck, eine gute Durcharbeitung und eine gleichmäßige Quantität von Entwickler für die beiden Seiten der bearbeiteten Platte innerhalb der Kammer. Ferner begrenzen die flexiblen Membranen und der gedrosselte Ausgang des Verteilers den Fluß der Entwicklerflüssigkeit. so daß die Flüssigkeit nur an einem Ende der Kammer ausfließt.

Durch das erfinderische Gerät können eine oder beide Oberflachen einer Flachdruck-Off set platte bei einmaligem Durchgang gleichzeitig durch das Gerat entwickelt werden. Die gegenüberliegenden, zu entwik· so kelnden Oberflächen werden in der Reib- oder Bürststation in gleichmaßiger Weise gerieben, abgewischt oder gebürstet, so daß eine gleichförmige Qualität der Entwicklung gewährleistet ist. Die Entwicklcrlösung wird der Entwicklungskammer nämlich so zugeführt, daß sie die beschichtete Seite der Offsetplatte vollständig mit Entwicklerflüssigkeit unter Druck bedeckt und Schwierigkeiten des Schäumens der Entwicklerlösung infolge von vorhandenen Netzmitteln in der Lösung ausgeschaltet sind

In der Zeichnung ist eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung dargestellt

F i g. I ist eine schematische geschnittene Seitenansicht eines gemäß der Erfindung gebauten Gerätes.

F i g. 2 zeigt perspektivisch die Entwlcklerabgabestation.

F i g. 3 ist eine schematische Stirnansicht der Bürsten-Station des Gerätes nach F i g. I, und

Fig.4 ist eine schematische Seitenansicht des Antriebsmechanismus des Gerätes der F i g. 1.

Gemäß F i g. 1 besitzt das Entwicklergerät IO eine Aufnahmestation 12 zur Aufnahme einer FlachdruckOffsetplatte P, eine Abgabestation 14, wo eine Entwicklerlösung auf zwei gegenüberliegenden Oberflächen der Platte P verteilt wird, eine Reibeinrichtung 16, wo die Lösung in die gegenüberliegenden Oberflächen der Platte eingerieben wird, eine zweite Entwicklerstalion 18 zur nochmaligen Austeilung von Entwickler auf die gegenüberliegenden Flächen der Platte Pund eine Abgabestation 20, wo Entwickler von der Platte P abgequetscht und die Platte aus dem Gerät 10 ausgetragen wird.

Die Aufnahmestation 12 ist mit einem Sims 22 versehen, auf dem die Platte P getragen werden kann und die an der Stirnwand 22 des Gerätegehäuses 10 befestigt ist. Die Stirnwand 24 besitzt eine öffnung 26, durch die eine Platte Peingeführt werden kann, so daß sie zwischen einer Vorschubrolle 28 und einer Gegenrolle 30 erfaßt wird, um sie in das Gerät und in die Verteilungsstation 14 zu befördern.

Die Antriebsrolle 28 und die Gegenrolle 30 sind auf Wellen 32 und 34 befestigt. Die Enden der Wellen 32 und 34 sind innenseitig von den Seitenplatten 36 und 38 (s. F i g. 2) des Gerätegehäuses 10 drehbar gelagert. Die Welle 32 der Vorschubrolle 28 ist, wie nachstehend noch näher erläutert werden soll, angetrieben, und der Abstand zwischen den Rollen 28 und 30 ist einstellbar, um sich Platten P unterschiedlicher Dicke anzupassen, so daß eine durch die Rollen 28 und 30 hindurchgehende Platte unter Reibung auf jeder Seite von den Umfangsflächen der Rollen erfaßt wird und die Platte P so zwischen den Rollen 28 und 30 vorwärts geschoben wird, wobei die Gegenrolle 30 dieselbe Drehgeschwindigkeit hat, wie die Förderrolle 28.

Die Entwicklungsstation 14 ist mit einem oberen Boden 40 und einem unteren Boden 42 versehen, die in solchem Abstand liegen, daß eine Platte P dazwischen hindurchgehen kann. Die Böden liegen zwischen Seitenwänden 36 und 38, in deren Innerem eine am vorderen Ende der Platte 40 und 42 offene Entwicklungskammer 44 gebildet wird.

Die Böden 40 und 42 sind praktisch flache Platten und besitzen an ihrem vorderen Abschnitt 46 und 48 winklig nach außen gerichtete Ansätze. An der Innenfläche jedes Winkclansatzcs 46 und 48 befinden sich flexible Membranen SO bzw. SZ die sich einwärts zwischen die Böden 40 und 42 erstrecken. Die Membranen SO und 52 wirken als Damm zur Verhinderung des Austritts von Entwickler aus der Entwicklungskammer 44, sie sind aber genügend flexibel, um eine Platte P zwischen sich durchlaufen t\x lassen. Wenn eine Platte zwischen den Membranen 50 und 32 durchlauft, werden die rückwärtigen Membranabschnitte durch den Flüssigkeitsdruck innerhalb der Kammer 44 in innigen Kontakt mit den gegenüberliegenden Rachen der Platte gedrückt, bilden einen flüssigkeitsdichten Abschluß und schalten so den Austritt von Entwickler aus der Kammer 44 an deren vorderem Ende aus.

Der rückwärtige Teil jedes Bodens 40 und 42 ist mit «inander entgegengerichteten Pufferstreifen 54 bzw. 56 versehen, die als Einschnürung für die aus der Kammer 44 austretende Entwicklerlösung und als Abstandshalter für die Platte P dienen, wodurch die Platte von den gegenüberliegenden Innenflächen der Böden 40 und 42 in Abstand gehalten wird.

Ein Entwicklervorratsbehälter 58, der von den

Seitenwänden 36, 38. der Bodenwund 60. der Stirnwand 62 und der aufragenden Wund 64 gebildet wird, dient der Speicherung eines Lntwieklervorrates. Line Auslaßleiumg 66 führt durch eine Wand 64 zum Linlaßende einer Verdrängerpumpe 68 mit großem Volumen zur Förderung durch die Pumpenauslaßleitung 70, die sieh in die Leitungen 72 und 74 verzweigt. Die Leitung 72 führt zu einem auf der Oberseite des Bodens 40 befestigten Verteiler 76. und die Leitung 74 führt /u einem ähnlichen Verteiler 78, der an der Unterseite des Bodens 40 _ΐ0 befestigt ist. Die Böden 40 und 42 sind mit geeigneten Öffnungen 80 b/w. 82 bei den betreffenden Verteilern 76 und 78 versehen, um Lnlwickler unter Druck gleichförmig über die Breite der Boden /u verteilen.

Die Pumpe 68 ist so eingerichtet, daß sie Lntwicklerflüssigkeit unter einem Druck von 0.35 bis 2.8 kg/cm·' an die Kammer 44 abgibt, und die Öffnungen 80 und 82 sind so ausgelichtet. daC der Lntwickler auf the Platte /' innerhalb der Kammer 44 unter im wesentlichen W /um l.aulwegder Platte durch die Kammer mil triff t. Die Pumpe 60 ist liisreichend überdimensonicrl und in der Lage, genügend Druck zu einwickeln, um die Kammer 44 nahe/u augenblicklich /u füllen und sie mit LnlwicklcrHüssigkeit gefüllt zu hallen, wenn eine Platte /'liinduichbeiördert wird. Der Lntwicklerablaul von der Rückseite der Kammer 44 wird im Behälter 58 gesammelt und dann zur Kammer 44 zunickgepumpt. Ls ist geeignete Vorsorge getroffen, um die chemische Aktivität des l.nlwicklers /i\ prüfen, den Vorrat aufzufüllen und die gewünschte Konzentration für eine ungemessene Lntwickliing tier lithografischen Platten aufrechtzuerhalten.

Die Puffersireifen 44 und 46 halten einen schwachen Kontaktdruck an den gegenüberliegenden Flächen der Platte /' aufrecht, so daß sieh ein entsprechender Flüssigkeitsspiegel aufbauen kann, um die belichteten Oberflächen der Platte zu berühren und sie in der Kammer 44 vollständig zu benetzen.

Nachdem die Platte /'durch die Lntwicklerverteilerstalion 14 hindurchgegangen ist, wird sie durch die Reib· .jo oder Bürststation 16 geleitet. Diese besitzt eine obere zylindrische Bürstenwalze 84 und eine untere zylindrische Bürstenwalze 86. die auf Wellen 88 bzw. 89 gelagert sind. Die Walzen befinden sich in solchem Abstand, daß die Borsten der beiden Bürstenwalzen auf den gegenüberliegenden Oberflachen einer hindurchgehen ilen Platte /'innig anliegen. Die Bürsten 84 und 86 sind vorzugsweise aus sehr dichten Nylon- oder Polypropylenborsten mit 0.0b bis 2.5 mm Durchmesser gefertigt; aber es können auch fluche Bürsten. Schwömme oder s< > Polster oder auch mit Tuch bezogene Walzen sein.

Wie am besten aus F i g. J ersichtlich, sind die Walzen 84 und 86 auf Wellen 88 und 90 drehbar gelagert, und sie sind in ihrer Lage zueinander auf den Wellen 88 und 90 durch Kopfkoppen 92 und 94 fixiert. Sie sind axial gleilbar durch Bohrungen % und 98 in Seitenplatte!! 36 und 38 des Gehäuses angeordnet. Das eine l-nde jeder Welle 88 und 98 ist mit einem abstehenden Stift 100 bzw. 102 versehen.

!■mc Schwingplutte 104 ist im mittleren Teil bei 106 f.n ouf einer festen Stütze 108 schwenkbar gelagert, die an einer Seitcnklappe 36 befestigt ist. Die Sehwingplattc ist andererseits on das eine F.ndc einer Treibstange 110 und 112 angclenkt. Die Treibstange 110 ist an ihrem anderen Ende 114 schwenkbar on einem kreisförmigen Flansch 116 gelenkig gelagert, der an der Ausgongswellc 118 eines Motors 120 befestigt ist. Wenn der Motor 120 den Flansch 116 dreht, bewegt sich die Antriebsstange 110 auf einem im wesentlichen senkrechten hin- und hergehenden Weg, um die Platte 104 in Schwingung zu versetzen.

Die Platte 104 besitzt Ausschnitte 122 und 124. welche die abstehenden Stifte 100 und 102 auf der Welle 88 bzw. 90 aufnehmen. Wenn die Platte 104 in Schwingung versetzt wird, werden die Wellen 88 und 90 linear quer zu dem Durchgangsweg der Platte /' zwischen den BürMenwal/en 84 und 86 hin- und herbewegt.

Während die Bürstenwalzen 84 und 86 quer zum Durchgangsweg der Platte /' hin- und zurückgehen, bewirkt die Bewegung der Platte /' zwischen den Bürsienwalzen deren Drehbewegung an der Platte /'. Ks kann gewünschtenfalls ein mechanisches Hilfsmittel eingebaut werden, um diese Drehung der Bürstcnwal-/en zu unterstützen, aber dies ist nicht wesentlich für einen wirkungsvollen Betrieb des Gerätes.

Durch die Reibwirkung der Bürsten 84 und 86 wird gemäß Fig. I loses restliches Schichtmalerial auf den gebürsteten Oberflüchen der Platte /' zurückbelassen. und nach Durchgang durch die Bürstenwalzen 84 und 86 nut die Platte dann in die l'ntwieklungsstalion 18 ein. die ähnlich der Lntwicklungsstation 14 ist.

Die Lniwickhingsstation 18 besitzt obere und untere Boden 40' und 42'. mit flexiblen Membranen 50' und 52'. /wischen denen die Platte /' hindurchgeht, um in die Kammer 44' einzutreten, ohne daß ein merklicher Verlust durch die llüssigkcitsabdieht'ing am vorderen linde der Kammer auftritt. Die gegenüberliegenden Oberflächen der Platte Psind der KntwiekleiTlüssigkeit unter Druck ausgesetzt, die durch Verteiler 76' und 78' abgegeben wird, die wiederum durch die l.eiiungcn 72 und 74 von dor Pumpe 68 aus gespeist werden, wie dies bei der LnIw icklungssiution 14 beschrieben wurde.

Nach Verlassen der Lntwicklungssiation 18 geht the vordere Kaiito der Platte /' /wischen einem zweiten Paar aus einer Vorschubrolle 126 und einer Stützrolle 128 zur Austrugsslelle 20. Die Vorschubrolle 126 und die Still/rolle 128 sind aui Wellen HO bzw. 132 befestigt, die innerhalb der Seitenplatte!! 36 und 38 drehbar gelagert sind. Die Welle 130 wird augetrieben, und der Abstand zwischen ilen Rollen 126 und 128 ist so einstellbar, daß er Platten /'unterschiedlicher Dicke angepaßt werden kann, so daß die Platte mit Reibung auf jeder Seite von den Umfangsllächen der Rollen erfaßt wird. Die Platte wird durch die Vorschubrolle 126 durch eine öffnung 134 in der Stirnwand 63 zu einer geeigneten Aulnahmestelle außerhalb des (ier.Ues 10geschoben.

Die Rollen 12b und 128 sind mil einem weicher elastomeric Material oder Kautschuk überzogen um quetschen die überschüssige Knlwieklerflüssigkeil vor der Platte /'durch Quetschwirkung ob, um die Plane / im wesentlichen trocken an den Bedienungsmann /111 Prüfung und weiteren Bearbeitung soweit crfordcrlicl abzugeben.

Aus Fig.4 ist ersichtlich, dall die Vorschubrolle!! 21 und 12h durch einen Treibriemen 136 verbunden sind der Über Riemenscheiben 138 und 140 lauft, die auf der Wellen 32 b/w. 130 befestigt sind. Die Ricmcnscheibi 138 ist mit einer /weiten Ricmenaufnohmenut verscher in die ein Treibriemen 142 eingreift, der wiederum übe eine Riemenscheibe 144 auf der Ausgangswclle eine Motors 146 mit Reduziergetriebe Ittuft. Die auf dci Antriebsrollen 28 und 126 befestigten Riemenscheibe! werden so angetrieben, daß sie die Platte P durch da Gerat 10 mit gleichförmiger Geschwindigkeit vorwürt schieben, die der Zeit angepaßt sind, die für eine richtigi Behandlung der Platte erforderlich ist.

Ils versteht sich. cl;tΙΛ die drehbaren hin- uiul hergehenden Bürsten 84 und 8b in der Iteibsiation lh auch uns anderem Material gefertigt sein können. Beispielsweise können die Wal/en auf ihrem äußeren Uinl'iing ein velourhürsieiiartiges Tuch oder flache l'latle aufweisen, die mit Schwamm. Borsten oder Velourtuch bezogen sind

Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims (6)

Patentansprüche:

1. Gerät zur Entwicklung der Oberfläche von Flachdruck-Offsetplatten, mit Vorschubeinrichtungen für die Offsetplatte und einer Entwicklungssta- S tion innerhalb des Gerätes, die sich in Bewegungslängsrichtung der Flachdruck-Offsetplauen durch das Gerät erstreckt, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklungsstation (14, 18) für die gleichzeitige Entwicklung einander gegenüberüegender Oberflächen der Flachdruckoffsetplatten (P) ausgestaltet ist und im Abstand voneinander angeordnet einen oberen (40) und unteren Boden (42) besitzt, zwischen denen eine Entwicklungskammer (44) begrenzende Seitenwände (36, 38) in Abstand montiert sind, das Eintrittsende (46,48) der Entwicklungskammer (44) mit gegenüberliegenden felxiblen Membranen (50, 52) unter Bildung und Aufrechterhaltung einer Flüssigkeitsabdichtung gegen die Flachdruck-Offsetplatte eingerichtet ist. das Austrittsende der Kammer (44) mit einer den Flüssigkeitsfluß einschränkenden Drossel (54, 56) versehen ist, die Kammer mit einander gegenüberliegenden Verteilungseinrichtungen (72 — 78) auf der Außenseite des oberen (40) und unteren Bodens (42) zur Abgabe von Entwicklerflüssigkeit unter Druck quer zur Plattenwanderrichtung versehen ist und jeder Boden eine kammerbreite Öffnung (80,82) besitzt.

2. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet. daß eine Plattenreibeinrichtung (16) zum Abbürsten oder Abwischen der gegenüberliegenden Plattenoberflächen zwei zylindrische Reib- oder Wischwalzen, vorzugsweise Bürstenwalzen (84, 86) aufweist, die innerhalb des Gerätes (10) drehbar gelagert und so ausgerichtet sind, daß die Bewegungsbahn der Flachdruck-Offsetplatte ^zwischen den gegenüberliegenden Reib- oder Bürstenwalzen (84, 86) hindurchgeht und daß die Walzen durch die Reibberührung mit der hindurchgehenden Platte drehbar sind.

3. Gerät nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch eine zweite Entwicklerstation (18) nach der Plattenreibeinrichtung (16) mit Zuführeinrichtungen der Entwicklerflüssigkeit unter Druck zu den gegenüberliegenden Flächen der Flarhdruck-Offsetplatte (P).

4. Gerät nach einem der Ansprüche 1 —3, dadurch gekennzeichnet, daß zwei eine Quetscheinrichtung (20) bildende Walzen (126, 128) innerhalb des Gerätes (10) angeordnet sind, die mit einem weichen elastomeren Material überzogen sind und unter Quetschwirkung mit den gegenüberliegenden Oberflächen der Offsetplatte in Reibeingriff bringbar sind.

5. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß aus einem Vorratsbehälter (58) in dem Gerät (10) mittels einer Verdrängerpumpe (68) von hohem Volumen durch Zweigleitungen (70, 66, 72, 74) zu jedem Verteiler (76, 78) unter einem Druck von 0,35 bis 2,8 kg pro cm² Entwicklerflüssigkeit zuspeisbar ist.

6. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Fließdrossel am Austragsende der Kammer (44, 18) einwärts gerichtete Pufferstreifen (54,56) aufweist, die jeweils an dem oberen (40) und unteren Boden (42) befestigt sind und an der Flachdruck-Offsetplatte (P) anliegen, die sich durch die Kammer bewegt, so daß die in die Kammer (44) fließende Entwicklerflüssigkeit eine Flüssigkeitsschicht zur Berührung mit jeder gegenüberliegenden Oberfläche der Platte aufbaut.