DE2711488A1 - Vorrichtung zum beschichten einer bewegten werkstoffbahn - Google Patents
Vorrichtung zum beschichten einer bewegten werkstoffbahnInfo
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Description
1 - 5 -
u.Z.: M 064
Case: DB 43
POLYCHROME CORPORATION
On The Hudson, Yonkers, New York, V,St.A.
10
w Vorrichtung zum Beschichten einer bewegten Werkstoffbahn"
Vorbeschichtete Offsetdruckplatten werden gewöhnlich durch Aufbringen
einer kontrollierten Schicht einer flüssigen lichtempfindlichen Verbindung, wie ein Diazoharz, auf eine bewegte Bahn
aus einem im wesentlichen unporosen Werkstoff wie Aluminium hergestellt. Die vermutlich einfachsten Beschlchtungsvorrichtungen
arbeiten nach dem Tauchverfahren. Beim direkten Tauchbeschichten wird der um eine Stützwalze geführte Teil der Werkstoffbahn
flach in die in einem Vorratsbehälter befindliche Beechichtungslösung
eingetaucht. Beim indirekten Tauchbeschichten wird dagegen eine Verteilerwalze teilweise in den Vorratsbehälter
der Beschichtungslösung getaucht, wobei sie die Beschichtungslösung
aus dem Vorratsbehälter auf die Werkstoffbahn überträgt.
Bei den Vorrichtungen zur Tauchbeschichtung treten große Schwie-
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Γ "I
- D " 271U88
rigkeiten in Bezug auf ein einheitliches Gewicht oder eine
gleichmäßige Dicke der Beschichtung auf. Deshalb muß häufig ein mechanisches "Nachmessen" der Beschichtung mittels einer
Rakel oder einer Abquetschwalze angewendet werden, um eine kontrollierte Beschichtungsdicke zu erhalten. Infolge der mechanischen
Eigenschaften der flüssigen lichtempfindlichen Verbindungen ist es Jedoch schwierig, bei dieser Nachbehandlung eine
Maserung der Beschichtung zu verhindern und bei unterschiedlicher Geschwindigkeit der Werkstoffbahn oder bei unterschiedlichen
Eigenschaften der Beschichtungslösung, wie Viskosität, Dichte und/oder Oberflächenspannung, eine kontrollierte Schichtdicke
zu erreichen,
Es wurde festgestellt, daß als Rakel wirkende Beschichtungswalzen
sehr empfindlich gegen Druck-, Oberflächen- und Lösungsdaten sind, so daß die Voreinstellung oder die Aufrechterhaltung
der Einstellung einer solchen Walze zur Erzielung der gewünschten Beschichtungsergebnisse schwierig ist.
Infolgedessen wurden Vorhang- und Stabbeschichtungsvorrichtungen zum Aufbringen einer Schicht der Beschichtungslösung
auf eine bewegte Werkstoffbahn benutzt. Derartige Vorrichtungen erfordern aber ein hohes Maß an Aufmerksamkeit während des
Betriebs und eine genaue Einhaltung der ursprünglichen Elnstellung sowie eine Nachstellung, wenn die Geschwindigkeit der
Werkstoffbahn geändert wird. Auch hier treten aber wegen der physikalischen Eigenschaften der Beschichtungslösung Schwierigkeiten
auf, besonders in Bezug auf gleichmäßiges Fließen und
L , _l
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Γ ·
"7" 271Η88
Abgleichen, insbesondere wenn die Dicke der Beschichtung unter Verwendung verschiedener Lösungsgemische oder über einen brauchbaren
Geschwindigkeitsbereich der Werkstoffbahn kontrolliert werden soll«
Andere bekannte Beschichtungsvörrichtungen verwenden Tiefdruckwalzen.
Die bekannten Vorrichtungen mit Tiefdruckwalzen arbeiten bei der Beschichtung poröser Werkstoffbahnen zufriedenstellend.
Für die Beschichtung unporöser Substrate sind sie Jedoch unbefriedigend, da häufig das Muster der Näpfchen auf der beschichteten
Oberfläche erscheint und die übertragung der Beschichtungslösung von den Näpfchen der Tiefdruckwalze auf eine
unporöse Oberfläche schwer zu steuern ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine neue Vorrichtung zum Beschichten einer bewegten Bahn aus einem im wesentlichen
unporösen Werkstoff, insbesondere zur Herstellung von Offsetdruckplatten durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Schicht
auf eine Aluminiumbahn zu schaffen.
20
20
Zur Lösung dieser Aufgabe dient erfindungsgemäß eine Vorrichtung zum Beschichten von einer oder von beiden Seiten einer
bewegten Werkstoffbahn, die nach einem umgekehrten Offsettiefdruckverfahren
arbeitet. Dies bedeutet, daß die Näpfchen der Tiefdruckwalze mit der Beschichtungslösung gefüllt und dann
mit einer Rakel behandelt werden. Hierauf wird die Beschichtungslösung au3 den Näpfchen der Tiefdruckwalze auf die verhältnismäßig
glatte Oberfläche einer Beschichtungswalze, die
L -J
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Γ ~1
"ö" 271ΊΑ88
vorzugsweise aus Gummi oder einem gummiartigen Werkstoff besteht,
übertragen. Von der Beschichtungswalze wird die Lösung schließlich auf die Werkstoffbahn übertragen, die tangential zur
Oberfläche der Beschichtungswalze und in gegenläufiger Richtung zu dieser bewegt wird. Die spiegelbildliche Anordnung einer
zweiten Tiefdruck- und Beschichtungswalze auf der anderen Seite der Werkstoffbahn erlaubt die gleichzeitige Beschichtung beider
Oberflächen der Werkstoffbahn.
Die Erfindung betrifft somit den in den Ansprüchen gekennzeichneten
Gegenstand,
Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist leicht zu bedienen und kann in einem weiten Geschwindigkeitsbereich der Werkstoffbahn
und mit Beschichtungslösungen mit unterschiedlichen Eigenschaften verwendet werden. Die erfindungsgemäße Vorrichtung erfordert
keine genaue Kontrolle der Spannung der Werkstoffbahn und der Druckeinstellung zwischen der Beschichtungswalze und der Werkstoffbahn
oder der Tiefdruckwalze.
Die Erfindung wird anhand der Zeichnungen näher erläutert.
Fig, 1 zeigt eine schematische Seitenansicht der erfindungsgemäßen
Beschichtungsvorrichtung.
Pig, 2 zeigt eine Aufsicht auf die Beschichtungs- und Tiefdruckwalzen
mit Blickrichtung in Richtung der Pfeile 2,2 in Fig, I. Fig. 3 zeigt eine vergrößerte Aufsicht auf ein Näpfchen der Tiefdruckwalze.
L -I
709840/0757
271 U88 ι
Pig, 4 zeigt einen Querschnitt durch Fig. 3 entlang der Linien
In Fig. 1 wird eine kontinuierlich bewegte Werkstoffbahn 10,
beispielsweise aus Aluminium, über die Walzen 12 und 13 geführt, so daß sie in den dazwischenliegenden Bereich vertikal nach oben
bewegt wird. In der Beschichtungszone bewegt sich die Werkstoffbahn 10 zwischen einem Paar übertragungs- oder Beschichtungswalzen
l1» und 15 mit verhältnismäßig glatter Oberfläche aus Gummi,
die sich um ihre Achsen 16 und 17 drehen. In der Beschichtungszone ist die Werkstoffbahn 10 planar und tangential zu den Walzen
1Ί und 15 angeordnet und wird nicht teilweise um diese geführt.
Die durch die Achsen 16 und 17 gebildete Ebene steht
^ senkrecht auf der von der Werkstoffbahn in der Beschichtungszone
gebildeten Ebene.
Die Beschichtung kann jedoch mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung
auch dann erfolgreich durchgeführt werden, wenn sich die
*0 Achsen der Walzen nicht in einer gemeinsamen Ebene befinden.
Befriedigende Ergebnisse können auch dann erzielt werden, wenn sich die durch die Achsen eines Walzensatzes, beispielsweise
der Walzen 15 und 25, gebildete Ebene außerhalb, d. h. höher oder tiefer als die durch die Achsen der Walzen 14 und 21J ge-
^ bildete Ebene befindet. Das Ausmaß der möglichen Abweichung
kann vom Fachmann in Abhängigkeit von den erwünschten Beschich- tungsergebnissen bestimmt werden. Wenn sich die Walzen in ab
weichender Stellung befinden, kann in gleicher Weise auch der
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π - ίο - 27Ί1Α88
Sätzen
Abstand zwischen den Walzen/ in Übereinstimmung mit dem erwünschten
Ergebnis geändert werden.
Neben den Beschichtungswalzen 14 und 15 sind die jeweiligen
Tiefdruckwalzen 24 und 25 angeordnet, die sich um die Achsen 26 und 27 drehen. Die letzteren verlaufen parallel und seitlich
versetzt zu den Achsen 16 und 17. Die zylindrische Oberfläche der Tiefdruckwalzen 24 und 25 enthält quadratische Näpfchen
An den zylindrischen Oberflächen der Tiefdruckwalzen 24 und
sind parallel zu deren Achsen 26 und 27 die Rakel 22 und 23 angebracht. Die Rakel 22 und 23 bilden zusammen mit den Oberflä-
32 und 33 chen der Tiefdruckwalzen 24 und 25 Rinnen/mit offenen Enden, In
die die lichtempfindliche Beschichtungslösung durch die jeweiligen Düsen 28 und 29 eingespeist wird. Die Beschichtungslösung
sammelt sich in den flachen Rinnen 32 und 33, die sich neben den Oberflächen der Tiefdruckwalzen 24 und 25 befinden.
Unter den Walzen 14 und 24 befindet sich eine Wanne 34, in der die von diesen Walzen und der Rinne 32 herabtropfende Beschichtungslösung
aufgefangen wird. Eine ähnliche Wanne 35 befindet
sich unter den Walzen 15 und 25,um die von diesen Walzen und
der Rinne 33 herabtropfende Beschichtungslösung aufzunehmen.
Beim Betrieb der erfindungsgemäßen Vorrichtung werden die Näpfchen
18 der Tiefdruckwalze 24 durch die Düse 28 mit Beschich-
tungslösung überfüllt. Die Rakel 22 verteilt die Beschichtungs-
13sung in den Näpfchen 18 der Tiefdruckwalze 24. Danach wird die Beschichtungslösung au3 diesen Näpfchen von der Beschichtungswalze
14 übernommen, die die Beschichtungslösung ihrer-L ' -J
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Γ -|
' " " 27ΊΊΑ88
seits auf die eine Oberfläche der Werkstoffbahn 10 überträgt.
Die Beschichtungswalze 14 dreht sich im Uhrzeigersinn, so daß
sich ihre Oberfläche gegenläufig zur Bewegungsrichtung der Werkstoffbahn 10 bewegt. In Fig. 2 ist zu sehen, daß die äußeren
Bereiche der Beschichtungswalze lH zurücktreten und daß
der mittlere Teil zwischen diesen zurücktretenden Bereichen etwas schmäler ist als die Werkstoffbahn 10, Infolgedessen wird
die Beschichtungslösung nicht auf die gesamte Breite der Werkstoffbahn
10 aufgebracht und die durch die Beschichtungswalze lH aufgebrachte Beschichtungsl!5sung kann deshalb nicht um die
Kanten herum auf die andere Seite der Werkstoffbahn 10 wandern. Diese andere Oberfläche der Werkstoffbahn 10 wird in gleicher
Weise mit der Lösung beschichtet, die durch die Düse 29 in die Rinne 33 eingespeist wird. Hinter der zwischen den Beschichtungswalzen
I^ und 15 gelegenen Beschichtungszone und vor der Führungswalze 13 wird die Werkstoffbahn 10 durch eine Trocknungsoder Aushärtungseinrichtung 2Il geführt, in der die lichtempfindlichen
Schichten 11,11 getrocknet oder ausgehärtet werden.
Falls nur eine Oberfläche der Werkstoffbahn 10, beispielsweise
die linke Oberfläche in Fig. 1, beschichtet werden soll, wirkt die Walze 15 als leerlaufende Stützwalze,und die Tiefdruckwalze
25 wird von der Walze 15 abgekoppelt.
In den Figuren nicht gezeigte mit Preßluft angetriebene Einrichtungen
dienen zur Einstellung und Aufrechterhaltung des Betriebsdrucks zwischen den Tiefdruckwalzen 2k und 25 und den Beschiohtungswalzen
1*1 und 15 sowie zwischen letzteren und der
L . _J
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Γ Π
" 12 " 271U88
1 Werkstoffbahn 10, Die Umdrehungsgeschwindigkeiten der Walzen lH,
15| 2k und 25 werden einzeln überwacht. Die Beschichtungslösung
kann entweder durch direkte Berührung oder über einen Miniskus auf die Werkstoffbahn 10 und/oder auf die Beschichtungsrollen 14
5 und 15 übertragen werden. Die Düsen 28 und die Rakel 22 können zu
einer Einheit verbunden sein, die parallel zur Längsachse der Rakel 22 hin und her bewegt wird. Eine analoge hin und her bewegte
Einheit können die Düsen 29 und die Rakel 23 bilden.
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Lee
rl?,
ite
Claims (12)
10
On The Hudson, Yonkers, New York, V.St.A.
n Vorrichtung zum Beschichten einer bewegten Werkstoffbahn"
Priorität: 23. März 1976, V.St.A., Mr. 669 552
15
Patentansprüche
(y
20
Vorrichtung zum Beschichten einer bewagten, im wesentlichen
unporbsen Werkstoffbahn mit einer Beschichtungslösung,
gekennzeichnet durch eine rotierende Tiefdruckwalze (24), eine Einrichtung zum Füllen der Näpfchen (13)
der Tiefdruckwalze (24) mit Beschichtungslösung und zum Abstreichen der in die Näpfchen (18) gefüllten Beschichtungslösung,
eine rotierende Beschichtungswalze (14) mit verhältnismäßig glatter Oberfläche, die so angeordnet ist, daß sie Deschichtungslösung
aus den Näpfchen (18) der Tiefdruckwalze (24) aufnehmen kann und eine Einrichtung zur Führung der Werkstoffbahn (10)
in dem Bereich, in dem die Beschichtungslösung von der Beschichtungswalze (14) auf die Werkstoffbahn (10) übertragen wird.
L 709840/0757 J
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Werkstoffbahn (10) im Beschichtungsbereich im wesentlichen eine Ebene bildet.
3, Vorrichtung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Tiefdruckwalze (24) und die Beschichtungswalze (1*0 gegenläufig
rotieren.
1I, Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einrichtung zum Füllen der Näpfchen (18) der Tiefdruckwalze (24) mit Beschichtungslösung eine an der Oberfläche der
Tiefdruckwalze (24) anliegende Rakel (22) enthält.
5» Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einrichtung zum Füllen der Näpfchen (18) der Tiefdruckwalze (24) mit Beschichtungslösung über die Länge der Tiefdruckwalze
(24) verteilte Düsen (28) enthält, die so angeordnet ;;lnd, daß sie die Beschichtungslösung in die aus der Rakel (22) und
der Oberfläche der Tiefdruckwalze (24) gebildete Rinne (32) abgeben.
6, Vorrichtung nach Anspruch 1 und 2, gekennzeichnet durch
eine auf der anderen Seite der Werkstoffbahn (10) angeordnete
zweite rotierende Tiefdruckwalze (25), eine zweite Einrichtung zum Füllen der Näpfchen (18) der zweiten Tiefdruckwalze (25)
mit Beschichtungslösung und zum Abstreichen der in die Näpfchen (18) der zweiten Tiefdruckwalze (25) gefüllten Beschichtungslösung,
eine zweite rotierende Beschichtungswalze (15) mit
L . _l
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Γ "I
~3~ 271U88
verhältnismäßig glatter Oberfläche, die so angeordnet ist, daß sie Beschichtungslosung aus den Näpfchen (18) der zweiten Tiefdruckwalze
(25) aufnehmen und an die andere Oberfläche der Werkstoff bahn (10) abgeben kann·
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
die Werkstoffbahn (10) zwischen den beiden Beschichtungswalzen (I1I) und (15) geführt und dabei Beschichtungslosung auf beide
Oberflächen der Werkstoffbahn (10) aufgebracht wird, 10
8« Verfahren nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch eine hinter
dem Beschichtungsbereich angebrachte Trocknungseinrichtung (41), durch die die beschichtete Werkstoffbahn (10) geführt wird.
9, Vorrichtung nach Anspruch 3, 6 und 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Tiefdruckwalze (25) und die zweite Beschichtungswalze (15) gegenläufig rotieren.
10. Vorrichtung nach Anspruch 4, 6 und 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Einrichtung zum Füllen der Näpfchen (13) der zweiten Tiefdruckwalze (25) mit Beschichtungslösung eine
an der Oberfläche der zweiten Tiefdruckwalze (25) anliegende Rakel (23) enthält.
11. Verfahren nach Anspruch 5, 6 und 7» dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Einrichtung zum Füllen der Näpfchen (18) der zweiten Tiefdruckwalze (21O mit Beschichtungslosung über
die Länge der zweiten Tiefdruckwalze (25) verteilte Düsen (29)
L J
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Γ Π
" " " 271Η88
1 enthält, die so angeordnet sind, daß sie die Beschichtungslösung
in die aus der Rakel (23) und der Oberfläche der zweiten Tiefdruckwalze (25) gebildeten Rinne (33) abgeben.
5
12. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
sich die Werkstoffbahn (10) in der Beschichtungszone in einer Ebene befindet, die senkrecht auf der durch die Achsen der beiden
Beschichtungswalzen (I2I) und (15) gebildeten Ebene steht.
709840/0757
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