DE310397T1 - Informationsaufzeichnungsmedium mit glassubstrat. - Google Patents

Informationsaufzeichnungsmedium mit glassubstrat.

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DE310397T1 DE198888309058T DE88309058T DE310397T1 DE 310397 T1 DE310397 T1 DE 310397T1 DE 198888309058 T DE198888309058 T DE 198888309058T DE 88309058 T DE88309058 T DE 88309058T DE 310397 T1 DE310397 T1 DE 310397T1
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glass
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Tetsuya Yokohama-Shi Kanagawa-Ken Kondo
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Claims (19)

Europäische Anmeldung Nr. 68 309 058.'· &iacgr; Victor Company of Japan, Ltd. U &ogr; I U &ogr; U7 \ Patentansprüche
1. Informationsaufzeichnungsplatte zum Aufzeichnen eines Informationssignals längs einer Spur, die durch eine Vertiefung (13) auf der Platte definiert ist, als Änderung einer physikalischen Eigenschaft eines auf der Spur aufgebrachten Aufzeichnungsmaterials, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte ein aus Glas hergestelltes plattenförmiges Glassubstrat (16) enthält, das auf einer ersten Seite durch eine ebene erste Oberfläche (16a) begrenzt ist und auf einer der ersten Seite gegenüberliegenden zweiten Seite durch eine zweite Oberfläche (16b) begrenzt ist, in der eine der Spur entsprechende Rille (13') ausgebildet ist, die durch eine Bodenoberfläche (13a) mit einer Oberflächenrauhigkeit abgegrenzt ist, welche wesentlich kleiner im Vergleich zu einer Oberflächenrauhigkeit ist, die an der Bodenoberfläche einer Rille eines Quarzglassubstrats &igr; verursacht wird, wenn sowohl das plattenförmige Glassub- t strat als auch das Guarzglassubstrat unter denselben Bedingungen trockengeätzt werden, wobei das plattenförmige Glassubstrat den Bestandteil SiOp und einen oder beide der Bestandteile Al2O, und BaO enthält, aber im wesentlichen frei von Alkali-Bestandteilen ist; eine Aufzeichnungsschicht (18) aus dem Aufzeichnungsmaterial enthält, das ansprechend auf einen projizierten Energiestrahl, der niit dem Informationssignal moduliert ist, in einer physikalischen Eigenschaft veränderbar ist, wobei diese Aufzeichnungsschicht auf der zweiten Oberfläche (16b) des Substrats (16) aufgebracht ist und mit ihrer einen Schichtseite in inniger Berührung mit dieser zweiten Oberfläche steht und wobei die Aufzeichnungsschicht die die Spur bildende Vertiefung auf ihrer anderen Schichtseite trägt; und eine Schutzschicht (19) enthält, die auf der anderen Schichtseite der Aufzeichnungsschicht aufgebracht ist, S-O daß die Vertiefung auf der Aufzeichnungsschicht durch die Schutzschicht abgedeckt ist, die in inniger Berührung mit der Aufzeichnungsschicht steht.
■ ' ■ -2-
2. Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberflächenrauhigkeit an der Bodenoberfläche (13a) der Rille (13') beträchtlich kleiner als 100 Ä ist.
3. Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das plattenförmige Glassubstrat (1.6) ein Glas mit einer Ätzrate ist, die beträchtlich kleiner als 60% der Ätzrate von Quarzglas ist, wenn sowohl das Glas als auch das Quarzglas unter denselben Bedingungen trockengeätzt werden.
4. Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens einer der Bestandteile AIpO, und BaO in dem Glas in einer Menge enthalten ist, die gleich oder größer als 10 Gew.-% ist.
5. Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil Al2O, in dem Glas in einer Menge enthalten ist, die gleich oder größer als 10 Gew.-% ist.
6. Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil BaO in dem Glas in einer Menge enthalten ist, die gleich oder größer als 10 Gew.-% ist.
7. Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil BaO in dem Glas in einer Menge enthalten ist, die gleich oder größer als 25 Gew.-?o ist.
8. Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestandteile Al2O, und BaO in dem Glas in einer solchen Menge enthalten sind, daß der Gesamtanteil der Bestandteile Al2Oj und BaO gleich oder größer als 10 Gew.-% ist.
9. Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefung (13) auf der anderen Schichtseite der Aufzeichnungsschicht (18) eine Rille ist, die auf ihren beiden Seiten durch ein Paar schräger Oberflächen (13b) begrenzt ist, die sich längs der Vertiefung erstrecken.
10. Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufzeichnungsschicht (18) eine Schicht aus einer TeOx-Verbindung ist.
11. Verfahren zum Herstellen einer Informationsaufzeichnungsplatte zum Aufzeichnen eines Informationssignals längs einer Spur, die durch eine Vertiefung (13) definiert ist, als Änderung einer physikalischen Eigenschaft eines auf der Vertiefung aufgebrachten Aufzeichnungsmaterials, dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren die folgenden Schritte enthält: ein Photoresist (12) wird auf einer Oberfläche eines plattenförmigen Glassubstrats (16) aufgebracht, das aus einem Glas hergestellt ist, welches im wesentlichen keine Alkali-Bestandteile enthält; das Photoresist wird einer Bestrahlung mit einem Energiestrahl (17) ausgesetzt, um mittels der Bestrahlung ein Muster auf das Photoresist zu schreiben, das Photoresist wird entwickelt und ein mittels der Bestrahlung bestrahlter Teil des Photoresist wird von der Oberfläche des Glassubstrats entfernt; das Glassubstrat wird einem Ätzvorgang mit einer Ätzrate ausgesetzt, die beträchtlich geringer als eine Ätzrate ist, welche sich ergibt, wenn ein Quarzglas unter einer selben Ätzbedingung geätzt wird, und eine Rille (131) wird in das Glassubstrat bei einem Abschnitt der Oberfläche des Glassubstrats vertieft, der nach dem Ätzvorgang vom Photoresist nicht bedeckt ist, wobei die durch die Trockenätzung ausgebildete Rille der Vertiefung (13) entspricht, die die Spur definiert; restliches Photoresist wird von der Oberfläche des Glassubstrats entfernt; das Aufzeich-
nungsmaterial, dessen physikalische Eigenschaft ansprechend auf eine weitere Bestrahlung mittels eines mit dem Informationssignal modulierten Energiestrahl wandelbar ist, wird auf der Oberfläche des Glassubstrats unter Bildung einer Aufzeichnungsschicht (18) derart aufgebracht, daß die Vertiefung, die die Spur definiert, auf einer Oberfläche der Aufzeichnungsschicht in Entsprechung mit der Rille auf der Oberfläche des Glassubstrats ausgebildet wird; und eine Schutzschicht (19) wird auf der Oberfläche der Aufzeichnungsschicht zum Schutz der auf der Oberfläche der Aufzeichnungsschicht ausgebildeten Vertiefung auf der Oberfläche der Aufzeichnungsschicht aufgebracht.
12. Verfahren zum Herstellen einer Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Ätzvorganges eine Trockenätzung des Glases mit einer Ätzrate umfaßt, die wesentlich geringer als 60% der Ätzrate ist, die sich ergibt, wenn man Guarzglas unter derselben Ätzbedingung ätzt.
13. Verfahren zum Herstellen einer Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Glassubstrat (16) ein Glas ist, das den Bestandteil SiO2 und einen oder beide der Bestandteile AIpO, und BaO enthält, und zwar in einer solchen Weise, daß wenigstens einer der Bestandteile Al2O, und BaO mit einem Anteil vorhanden ist, der gleich oder größer als 10 Ge\t.-% ist.
14. Verfahren zum Herstellen einer Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Glassubstrat (16) ein Glas ist, das den Bestandteil SiO2 und die Bestandteile Al2O-, und BaO enthält, und zwar in einer solchen Weise, daß der Gesamtanteil der Bestandteile Al2O^ und BaO in dem Glas gleich oder größer als 10 Gew.-% ist.
15. Verfahren zum Herstellen einer Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung des Photoresist (12) mittels eines Laserstrahls (17) ausgeführt wird.
16. Verfahren zum Herstellen einer Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung des Photoresist (12) unter Verwendung einer Photomaske ausgeführt wird, die ein Muster trägt, das der in dem Glassubstrat (16) auszubildenden Rille (13') entspricht.
17. Verfahren zum Herstellen einer Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Ätzvorgang eine Plasmaätzung des Glassubstrats (16) unter Verwendung eines Plasmagases umfaßt, das eine oder mehrere Fluorid-Arten enthält, die aus einer CF^, CHF^, CpFg, CUFg und NF^ umfassenden Gruppe ausgewählt sind.
18. Verfahren zum Herstellen einer Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Ätzrate zum Ätzen des Glassubstrats so gewählt ist, daß sie beträchtlich kleiner als 360 S/min ist.
19. Verfahren zum Herstellen einer Informationsaufzeichnungsplatte wie beansprucht in Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Ätzrate zum Ätzen des Glassubstrats so gewählt ist, daß sie kleiner als 107 &/min ist.
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