DE3036946A1

DE3036946A1 - Lichtempfindliches element fuer elektrophotographische zwecke

Info

Publication number: DE3036946A1
Application number: DE19803036946
Authority: DE
Inventors: Kazumi Fuchu Tokyo Okano; Kiyoshi Yokohama Kanagawa Suzuki
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1979-10-04
Filing date: 1980-09-30
Publication date: 1981-04-16
Also published as: DE3036946C2; JPS5651751A; US4338389A

Description

Lichtempfindliches Element für elektrophotographische

Zwecke

Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Element für elektrophotographische Zwecke gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.

Es sind verschiedene Typen von lichtempfindlichen Elementen bekannt und eingesetzt worden. Der Aufbau, den ein bestimmtes lichtempfindliches Element haben muß, wird je nach den gewünschten Eigenschaften des lichtempfindlichen Elements sowie dem Typ des Elektrophotographieverfahrens, in dem das lichtempfindliche Element eingesetzt wird, festgelegt.

Ein typisches lichtempfindlicnes Element für elektrophotographische Zwecke, das in weitem Umfang eingesetzt wird, ist aus einem Substrat und einer auf dem Substrat ausgebildeten, photoleitfähigen Schicht aufgebaut. Ein anderes typisches Baispiel für ein lichtempfindliches Element für elektropnotographische Zwecke

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enthält zusätzlich zu dem Substrat und der photoleitfähigen Schicht eine Oberschicht in Form einer elektrisch isolierenden Schicht. Lichtempfindliche Elemente, die aus einem Substrat und einer photoleitfähigen Schicht bestehen, werden zur Erzeugung von Bildern in Übereinstimmung mit dem gebräuchlichsten Elektrophotographieverfahren eingesetzt. Dieses Elektrophotographieverfahren enthält die Schritte der Aufladung, der bildmäßigen Belichtung, der Entwicklung und, falls notwendig, der Übertragung (der entwickelten Bilder). Das vorstehend erwähnte lichtempfindliche Element mit einer isolierenden Oberschicht wird auch bei dem gleichen Elektrophotographieverfahren eingesetzt und ist außerdem für bestimmte andere Elektrophotographieverfahren geeignet. Die isolierende Schicht dient zum Schutz der photoleitfähigen Schicht, zur Verbesserung der mechanischen Festigkeit und des Dunkelabfalls des lichtempfindlichen Elements und auch zur

Verhinderung einer Verschmutzung der Umgebung. 20

Beispiele für lichtempfindliche Elemente, die zusätzlich zu einem Substrat und einer photoleitfähigen Schicht eine isolierende Schicht aufweisen, und Beispiele für Elektrophotographieverfahren, bei denen solche lichtempfindlichen Elemente eingesetzt werden,

_Si_nd aus den US-PSS 2 860 048, 3 146 145,

3 607 258, 3 666 363, 3 734 609, 3 457 070 und 3 124 456 und der japanischen Patentpublikation 16429/1967 bekannt.

Photoleitfähige Materialien, die für elektrophotographische Zwecke eingesetzt werden, müssen natürlich eine vorbestimmte Empfindlichkeit, vorbestimmte elektri sche Eigenschaften und auch vorbestimmte optische Eigen schäften haben, die dem Elektrophctographieverfahren

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angemessen sind, bei dem das photoleitfähige Material eingesetzt werden soll.

Das photoleitfähige Material stellt einen der wichtigsten Faktoren dar, durch die die Eigenschaften eines lichtempfindlichen Elements festgelegt werden. Das Material, das am häufigsten als photoleitfähiges Material für elektrophotographische Zwecke eingesetzt wird, ist pulverisiertes Cadmiumsulfid. Bei Cadmiumsulfid-Teilchen, wie sie üblicherweise für elektrophotographische Zwecke eingesetzt werden, ist es wesentlich, daß die Menge des zum Dotieren eingesetzten Fremdstoffs, die Fällungsbedingungen, die Bedingungen des zum Dispergieren des dotierten Fremdstoffs durchgeführten Calcinierens und auch die Bedingungen für die Nachbehandlung in ausreichendem Maße reguliert werden, da die Oberflächeneigenschaften der gebildeten Cadmiumsulfid-Teilchen in Abhängigkeit von d.iesen Herstellungsbedingungen variieren. Es ist jedoch nicht einfach, diese Bedingungen in ausreichendem Maße zu regulieren und Cadmiumsulfid-Teilchen mit den gewünschten Oberflächeneigenschaften zu erhalten. Die Eigenschaften von Cadmiumsulfid für elektrophotographische Zwecke werden in viel höherem Maße durch die Oberflächeneigenschaften der Teilchen als durch die Masseneigenschaften der Teilchen beeinflußt. Unter den vorstehend erwähnten Bedingungen wird manchmal Cadmiumsulfid hergestellt, bei dem auf der Oberfläche der Teilchen viele Fangstellen bzw. Rekombinationszentren ausgebildet sind. Wenn ein solches Cadmiumsulfid für die Herstellung eines lichtempfindlichen Elements eingesetzt wird, weist das lichtempfindliche Element die folgenden Nachteile auf: Einer der Nachteile besteht darin, daß'die photoleitfähige Schicht je nach den Bedingungen, unter denen das

lichtempfindliche Element aufbewahrt worden ist, Verän-

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derungen des Widerstandes zeigt, wenn die photoleitfähige Schicht tatsächlich für die Erzeugung von Bildern eingesetzt wird. Der Widerstand der photoleitfähigen Schicht hat nämlich einen verschiedenen Wert, der davon abhängt, ob die photoleitfähige Schicht während der Lagerung belichtet worden ist oder nicht. Ein anderer Nachteil besteht darin, daß auch das Photoabklingverhalten der photoleitfähigen Schicht je nach den Lagerungsbedingungen variiert.

Früher bestand die Ansicht, daß die vorstehend erwähnten Nachteile keine kritische Bedeutung haben. In den letzten Jahren wurden jedoch bei Bilderzeugungsverfahren große Fortschritte erzielt, so daß diese Nachtei-Ie nunmehr ein wichtiges Problem darzustellen scheinen, das einer weiteren Verbesserung der Bildqualität von Kopien entgegensteht. Die vorstehend erwähnten Unterschiede im Widerstand und im Photoabklingverhalten müssen auf ein Mindestmaß herabgesetzt werden, damit die erwünschte, höhere Bildqualität erzielt werden kann. Mit anderen Worten, es ist unbedingt notwendig, daß das Cadmiumsulfid selbst einen hohen Widerstand hat und daß das lichtempfindliche Element, in dem das Cadmiumsulfid enthalten ist, unabhängig von den Lagerungsbedingungen immer ein stabiles und schnelles Ph ο t ο abklingen zeigt.

Bekannte Maßnahmen, durch die eine Erzielung der am Ende erwünschten Eigenschaften des lichtempfindliehen Elements versucht worden ist, sind

1. eine Veränderung der Menge des zum Dotieren dienenden Fremdstoffs und

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2. eine Veränderung der Sinterungsbedingungen.

Diese Maßnahmen führen jedoch nicht immer zu den erwünschten Eigenschaften.
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Es ist demnach Aufgabe der Erfindung, ein lichtempfindliches Element zur Verfugung zu stellen, das durch Veränderungen in den Lagerungsbedingungen in geringerem Maße beeinflußt wird und immer ein sofortiges Photoabklingen zeigt, worunter zu verstehen ist, daß Wirkungen, die von einer Vorbelichtung und von verschiedenen Belichtungen, die in einem vorangehenden Verfahren zur Erzeugung von elektrostatischen Ladungsbildern durchgeführt worden sind, herrühren, sofort ausgelöscht werden.

Diese Aufgabe wird durch das im Patentanspruch 1 gekennzeichnete, lichtempfindiche Element für elektrophotographische Zwecke gelöst.
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Das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Element wird durch die Bedingungen, unter denen es vor seinem Einsatz gehalten wurde, in geringerem Maße beeinflußt, weshalb unvorteilhafte Veränderungen im Kontrast der durch das lichtempfindliche Element erzeugten, elektrostatischen Ladungsbilder in einem beträchtlichen Ausmaß vermindert werden.

•Bei der beigefügten Fig. 1 handelt es sich um eine or)
^ow schematische Darstellung einer Meßvorrichtung für die Messung der Lichtempfindlichkeitseigenschaften eines lichtempfindlichen Elements.

Die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung

werden nachstehend näher erläutert.

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Als Zusatzstoffe, die für das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Element eingesetzt werden können, können Eisen, Nickel, Kobalt und Salze davon erwähnt werden. Diese Materialien können in jedem Zustand eingesetzt werden, indem sie in dem zur Verdünnung des Bindemittels dienenden Lösungsmittel löslich sind. Im Hinblick auf die Löslichkeit werden Salze wie Chloride bevorzugt. Die gleiche Wirkung, die durch direkte Zugabe eines Eisensalzes erzielt werden kann, kann auch . durch getrennte Zugabe von Eisen und einer Säure wie HCl erhalten werden.

Die für die Lösung der Aufgabe der Erfindung geeignete Menge des Zusatzstoffes kann in einem weiten Bereich variiert werden. Der Zusatzstoff zeigt schon eine

_5 merkliche Wirkung, wenn er in einer Menge von 1 χ 10 Gew.-Teilen pro 1 Gew.-Teil des Bindemittels eingesetzt wird. Durch eine zu hohe Konzentration des Zusatzstoffes wird die Empfindlichkeit des hergestellten, lichtempfindlichen Elements selbst bis zu einem solchen Ausmaß vermindert, daß es für elektrophotographische Zwecke nicht mehr eingesetzt werden kann. Die Obergren-

-4 ze der Konzentration des Zusatzstoffes beträgt 6 χ Gew.-Teile pro 1 Gew.-Teil des Bindemittels. Die optimale Menge des Zusatzstoffes variiert je nach dem Widerstandswert des einzusetzenden Cadmiumsulfids, jedoch wird im allgemeinen der Einsatz von 5 χ 10~ bis

-4
3 χ 10 Gew.-Teilen des Zusatzstoffes pro 1 Gew.-Teil

des· Bindemittels bevorzugt.
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Wenn der Zusatzstoff in einer Menge, die in dem vorstehend erwähnten Bereich liegt, in einem Bindemittel vorhanden ist, wird eine deutliche Wirkung erzielt. Der Mechanismus, durch den die Wirkung hervorgerufen wird, ist jedoch noch nicht aufgeklärt worden. Aufgrund

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] der Tatsache, daß der Konzentrationsbereich, innerhalb von dem der Zusatzstoff die Wirkung zeigen kann, sehr weit ist, wird angenommen, daß der Zusatzstoff nicht nur auf der Oberfläche der Cadmiumsulfid-Teilchen abge-

c schieden wird, sondern auch auf die Grenzfläche zwischen den Teilchen und dem Bindemittel einwirkt sowie auch in dem Bindemittel zur Wirkung gelangt.

Das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Element IQ zeigt unabhängig von den Bedingungen, unter denen es vor seinem Einsatz gehalten worden ist, immer einen hohen Widerstand. Das Photoabklingverhalten des lichtempfindlichen Elements bleibt im wesentlichen konstant und wird durch Unterschiede in den Bedingungen, unter ic denen es gehalten worden ist, kaum beeinflußt. Mit dem erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Element werden daher bei einem Hochgeschwindigkeits-Kopierverfahren kontinuierlich gute Bilder erhalten.

Da-^S erfindungsgemäße, lichtempfindliche Element kann in zwei typischen.Bauweisen hergestellt werden. Bei der einen Bauweise handelt es sich um einen aus einem Substrat und einer photoleitfähigen Schicht bestehenden Zweischichtentyp, während es sich bei der anderen Bauweise um einen Dreischichtentyp handelt, der aus einem Substrat, einer photoleitfähigen Schicht und einer auf die photoleitfähige Schicht gelegten, isolierenden Schicht besteht.

Beispiele für leitfähige Substrate sind rostfreier Stahl, Al, Cr, Mo, Au, In, Nb, Ta, V, Ti, Pt und Pd und deren Legierungen. Ein Beispiel für ein isolierendes Substrat ist Glas. Ein anderes Beispiel für ein isolierendes Substrat ist eine Kunstharzfolie. Im Falle von Glas wird dessen Oberfläche, falls dies notwendig ist,

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mit In„O„ oder SnO₀ usw. leitfähig gemacht. Wenn das Substrat eine Kunstharzfolie wie eine Polyimidfolie ist, wird das Substrat unter Anwendung eines geeigneten Verfahrens, beispielsweise durch Aufdampfen im Vakuum, durch Elektronenstrahl-Aufdampfen, durch Zerstäuben oder durch Laminieren, mit einem geeigneten Metall wie Al, Ag, Pb, Zn, Ni, Au, Cr, Mo, Ir, Nb, Ta, V, Ti oder Pt behandelt.

Die photoleitfähige Schicht wird durch Dispergieren der photoleitfähigen Teilchen in einem Bindemittel hergestellt.

Als Bindemittel können verschiedene bekannte, isolierende Harze eingesetzt werden. Beispiele für geeignete Bindemittel sind Polyäthylen, Polyester, Polypropylen, Polystyrol, Polyvinylchlorid, Polyvinylacetat, Acrylharz, Polycarbonat, Siliconharz, Fluorkohlenwasserstoffharz und Epoxidharz. .

Die photoleitfähige Schicht enthält das Bindemittel in einer Menge von 0,5 bis 50 Gew.-Teilen und vorzugsweise in einer Menge von 5 bis 20 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teile der photoleitfähigen Teilchen. 25

Die Dicke der photoleitfähigen Schicht kann je nach dem Typ und den Eigenschaften der jeweils angewandten, photoleitfähigen Schicht variiert werden, jedoch beträgt die Dicke der photoleitfähigen Schicht vorzugsweise 5 bis 100 pm und insbesondere 10 bis 50 pm.

Falls das lichtempfindliche Element mit einer isolierenden Schicht versehen ist, können zur Bildung der isolierenden Schicht verschiedene gebräuchliche ° Harze eingesetzt werden. Beispiele für Harze, die für

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' diesen Zweck geeignet sind, sind Polyäthylen, Polyester, Polypropylen, Polystyrol, Polyvinylchlorid, Polyvinylacetat, Acrylharz, Polycarbonat, Siliconharz, Fluorkohlenwasserstoffharz und Epoxidharz. Die Dicke der isolierenden Schicht beträgt im allgemeinen 0,1 bis 100 pm und vorzugsweise 0,1 bis 50 pm.

Die Erfindung wird durch die nachstehenden Beispiele näher erläutert.
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Beispiel 1

0,0005 g Eisen(III)-Chlorid wurden in einem kleinen Volumen von Butylacetat aufgelöst, worauf die erhallt tene Lösung mit einer Lösung von 3,6 g eines Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymerisatharzes in Methyläthylketon und Methylisobutylketon vermischt wurde. Das Rühren wurde fortgesetzt, bis eine homogene Lösung erhalten wurde. Die Lösung wurde; zu 30 g Cadmiumsulfid hinzugege-.

^^u ben, und das Cadmiumsulfid wurde in der Lösung gründlich bzw. vollständig dispergiert. Nach dem Einstellen der Viskosität der Mischung wurde die Mischung auf ein aus Aluminium gebildetes Substrat aufgetragen, wodurch

auf dem Substrat eine Schicht mit einer Dicke von 4.0 μια nc

gebildet wurde. Weiterhin wurde nach dem Trocknen auf die erhaltene, photoleitfähige Schicht eine Polyesterfolie aufgeklebt, wodurch lichtempfindliche Elemente vom Dreischichtentyp erhalten wurden.

Vergleichsbeispiel 1

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurden lichtempfindliche Elemente hergestellt, wobei jedoch eine Lösung von Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymerisat-

harz in Methyläthylketon und Methylisobutylketon einge-

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setzt wurde, die nicht mit in Butylacetat aufgelöstem Eisen(III)-chlorid vermischt worden war.

Nach den zwei vorstehend beschriebenen Verfahren wurden jeweils zwei lichtempfindliche Elemente in Form von Platten hergestellt. Eine der zwei Platten wurde jeweils unter Belichtung stehengelassen, während die andere Platte im Dunklen gehalten wurde.

Die Lichtempfindlichkeitseigenschaften der Proben wurden mit der in Fig. 1 gezeigten Meßvorrichtung gemessen.

Die Messungen wurden folgendermaßen durchgeführt: Das lichtempfindliche Element 9 wurde mit einer Glasplatte 3 in Berührung gebracht, die mit einer lichtdurchlässigen Elektrode 4 versehen war. Die lichtdurchlässige Elektrode 4 wurde über einen Relaisschalter 5 mit einer Hochspannungs-Gleichstromquelle 6 verbunden. Der Relaisschalter 5 wurde 0,2 s lang geschlossen, wodurch an die Probe eine Hochspannung (Va) angelegt wurde, und dann wurde der Relaisschalter geöffnet. Die Probe 9 wurde 0,2 s lang bei geöffnetem Relaisschalter stehengelassen und dann 0,2 s lang belichtet. Die durch die Belichtung hervorgerufene Veränderung der Oberflächenspannung des lichtempfindlichen Elements 9 wurde mittels einer Metallplatte 7, die das gleiche Potential wie die Oberfläche des lichtempfindlichen Elements hatte, und eines Oberflächen-Elektrometers

^ou 8 gemessen. Vp, d. h., die vor der Belichtung an der photoleitfähigen Schicht der Probe anliegende Spannung, wurde berechnet.

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Des weiteren wurde eine Vorbeiichtung durchgeführt, bei der die Probe 0,2 s lang unter Anwendung einer Blende 2 mit weißem Licht aus einer Halogenlampe 1 belichtet wurde. Die Probe wurde 0,2 s lang stehengelassen; dann wurde an die Probe eine Hochspannung Va angelegt, worauf die Probe 0,2 s lang stehengelassen wurde.. Danach wurde durch Belichten der Probe über eine Zeitdauer von 0,2 s eine zweite Belichtung durchgeführt. Die dadurch verursachte Veränderung der Spannung bzw. des Potentials der Probe wurde gemessen. Aus dem gemessenen Wert wurde Vp¹, d. h., die vor der zweiten Belichtung an der photoleitfähigen Schicht der Probe anliegende Spannung, berechnet.

Als Va den Wert -2000 V hatte, wurden Vp und Vp¹ gemessen, während nur Vp gemessen v/urde, als Va den Wert +2000 V hatte. Dann wurde für den Fall, daß Va den Wert -2000 V hatte, die Geschwindigkeit des Photoabklingens in bezug auf· die Vorbelichtung anhand des Wertes von (Vp - Vp¹) beurteilt.

Nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren wurden Teste mit den Proben des in Beispiel 1 hergestellten, lichtempfindlichen Elements durchgeführt, und zwar mit der Probe, die unter Belichtung stehengelassen worden war (nachstehend als "Probe im Licht" bezeichnet) und mit der Probe, die im Dunkeln gelagert worden war (nachstehend als "Probe im Dunklen" bezeichnet). Zum Vergleich wurden auch die in Vergleichsbeispiel 1 hergestellten Proben in der gleichen Weise getestet. Va wurde mit den Werten -2000 V und +2000 V angelegt. Als Va den Wert -2000 V hatte, wurden die Werte Vp und Vp' gemessen, während nur Vp gemessen wurde, als Va den Wert +2000 V hatte. Die auf die vorstehend

erwähnte Weise erhaltenen Werte Vp(-), Vp(+) und

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(Vp - VpO (für den Fall, daß Va den Wert -2000 V hatte) werden in der nachstehenden Tabelle gezeigt.

PROBE	Va= -2000V Vp(-)	Va= +2000V Vp( + )	Va= -2000V (Vp-Vp')
fim Dunklen Beispiel 1 j^ _Licht	1100V HOOV	900V 900V	9 0V 5 0V
Vergleichs-r im Dunklen Beispiel 1 J^_{11n Licht} -	lOOOV lOOOV	670V 710V	350V 200V

Aus der vorstehenden Tabelle geht hervor, daß bei den Proben von Beispiel 1 sowohl Vp(-) als auch Vp(+j größer sind als im Fall der Proben von Vergleichsbeispiel 1. Dies zeigt, daß das in Beispiel 1 hergestellte, lichtempfindliche Element einen höheren Widerstand hat als das lichtempfindliche Element von Vergleichsbeispiel 1. Die Tabelle zeigt auch, daß der Unterschied im Wert von (Vp - Vp9 zwischen der Probe im Dunklen und der Probe im Licht bei dem lichtempfindlichen Element von Beispiel 1 im Vergleich mit der Probe von Vergleichsbeispiel 1 relativ gering ist. Dies zeigt, daß das lichtempfindliche Element von Beispiel 1 durch den Unterschied in den Lagerungsbedingungen (d. h., durch die unterschiedlichen Helligkeitsbedingungen bei der Lagerung) in bezug auf die Geschwindigkeit des Photoabklingens nach der Vorbelichtung weniger beeinflußt wird. Aus der Tabelle geht auch hervor, daß der Wert von(Vp - VpO bei der Probe von Beispiel 1 geringer ist als bei der Probe von Vergleichsbeispiel 1. Durch diese Tatsache wird angezeigt, daß die Geschwindigkeit des Photoabklingens in bezug auf die Vorbelichtung bei der Probe von Beispiel 1 höher ist als bei der Probe von Vergleichsbeispiel

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Um die Wirkung der Erfindung zu zeigen, wurde auch ein Bilderzeugungstest durchgeführt, und zwar unter Anwendung einer Kopiervorrichtung mit Proben, die nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren hergestellt worden waren, sowie mit Vergleichsproben. Die bei dem Test eingesetzte Kopiervorrichtung gehörte dem Typ an, mit dem als Grundverfahren folgende Verfahrensschritte durchgeführt werden: Eine Vorbelichtung zum Auslöschen von in einem vorangehenden Zyklus erzeugten, elektrostatischen Ladungsbildern, eine primäre Aufladung, eine Wechselstrom-Aufladung bei gleichzeitiger, bildmäßiger Belichtung und eine Belichtung der gesamten Oberfläche. Man erhielt folgende Ergebnisse:

Im Falle des als Vergleichsprobe dienenden, lichtempfindlichen Elements wurde beobachtet, daß die Bilder, die erzeugt wurden, nachdem das lichtempfindliche Element über eine lange Zeitdauer im Dunklen gelagert worden war, schwach waren. Im Gegensatz dazu wurden beim Einsatz des lichtempfindlichen Elements von Beispiel 1 in kontinuierlicher Weise Bilder mit guter Qualität erzeugt, selbst nachdem das lichtempfindliche Element über eine lange Zeitdauer im Dunklen gelagert worden war.

Beispiel 2

Nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurden Proben eines lichtempfindlichen Elements hergestellt, jedoch wurde das Eisen(III)-Chlorid durch 0,0011 g Nickelchlorid oder 0,0007 g Kobaltchlorid ersetzt. Die Proben wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 getestet. Sie zeigten die gleichen guten

Eigenschaften wie die Proben von Beispiel 1. 35

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Claims

Τιπητκ-c - Rnui iKir» - Kinvc Patentanwälte und IEDTKE DUHLING iVINrvE Vertreter beim EPA GD Dipl.-lng. H.Tiedtke RUPE - PELLMANN Vertreter beim EPA Dipl.-lng. H.Tiedtke Dipi.-Chem. G. Bühling ο Π ^ R Q L R Dipl.-lng. R. Kinne ό U O D 3 H U Dipi-ing. R Grupe Dipl.-lng. B. Pellmann Bavariaring 4, Postfach 202403 8000 München 2 Tel.: 089-5396 53 Telex: 5-24 845 tipat cable: Germaniapatent München 30. September 1980 DE 0693 Patentansprüche

1. Lichtempfindliches Element für elektrophotographische Zwecke mit einer durch vispergieren von photoleitfähigen Cadmiumsulfid-Teilchen in einem Bindemittel gebildeten, photoleitfähiger. Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die photoleitfähige Schicht einen aus Eisen, Nickel, Kobalt und Verbindungen davon ausgewählten Zusatzstoff enthält.

2. Lichtempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die photoleitfähigen Cadmiumsulf id-Teilchen in einem den Zusatzstoff enthaltenden Bindemittel dispergiert sind.

3. Lichtempfindliches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zu 1 Gew.-Teil des Bindemittels 1 χ 10~⁵ bis 6 χ 10"'
hinzugegeben worden sind.

tels 1 χ 10 ⁵ bis 6 χ 10 ⁴ Gew.-Teile des Zusatzstoffes

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Deutsche BanK (München! KIs. 5«61070 Dresdner Bank (München) Kto. 3939 844 P-: ^scheck (München) Kto. 670-43-804

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