DE3013130A1 - Verfahren zum herstellen eines basismaterials fuer gedruckte schaltungen - Google Patents
Verfahren zum herstellen eines basismaterials fuer gedruckte schaltungenInfo
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 75
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 73
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 40
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 31
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 29
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 26
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 15
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 13
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical group CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 11
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 10
- 238000000454 electroless metal deposition Methods 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 230000008961 swelling Effects 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 42
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 41
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 15
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 15
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 4
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 4
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 4
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 4
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- -1 allyl phthalates Chemical class 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical class O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 2
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXHKJQTYOAFPBY-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydroxypropoxycarbonyl)benzoic acid Chemical class OCC(O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O MXHKJQTYOAFPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- GPAPPPVRLPGFEQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 GPAPPPVRLPGFEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWRHAGPOKIFROG-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;sodium Chemical compound [Na].C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 JWRHAGPOKIFROG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-triene Chemical group C1=CC=C2OC2=C1 OMIHGPLIXGGMJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- 229920004934 Dacron® Polymers 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920000491 Polyphenylsulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000006004 Quartz sand Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003287 bathing Methods 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N butadiene group Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000002508 contact lithography Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 238000005691 oxidative coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011087 paperboard Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N polynoxylin Chemical compound O=C.NC(N)=O ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- NESLWCLHZZISNB-UHFFFAOYSA-M sodium phenolate Chemical group [Na+].[O-]C1=CC=CC=C1 NESLWCLHZZISNB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
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J. Pfenning, DIpI.-Ing. Berlin Dr. I. Maas, Dlpl.-Chem. München
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Me/St
2. April 1980
KOLLMORGEN TECHNOLOGIES CORPORATION Republic National Bank Building
Dallas, Texas 75201, V.St.A.
Verfahren zum Herstellen eines Basismaterials für gedruckte Schaltungen
030045/0844
Verfahren zum Herstellen eines Basismaterials für gedruckte Schaltungen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Basismaterials , das insbesondere für die Herstellung von gedruckten
Schaltungen geeignet ist.
Genauer gesagt, betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Herstellen eines Basismaterials, das mindestens auf
einer Seite mit einer hitzebeständigen thermoplastischen Folie versehen ist.
Im allgemeinen bestehen gedruckte Schaltungen aus einem elektrisch
isolierenden Basismaterial mit einem oder mehreren darauf angebrachten elektrisch leitenden Schaltungsmuster(n). Das
verwendete Basismaterial besteht in der Regel aus einem faserverstärkten Hartpapier. Das elektrisch leitende Schaltungsmuster
besteht aus einem Metall wie Kupfer, Nickel, Kobalt, Silber oder Gold oder einem anderen geeigneten Metall.
Die Herstellung gedruckter Schaltungen vermittels stromloser Metallabscheidung auf isolierstoffunterlagen ist allgemein bekannt.
Zur Verbesserung der Haftfestigkeit der Metallschicht auf der Isolierstoffunterlage sind verschiedene Vorbehandlungsschritte
wie Quellen und Ätzen des Unterlagematerials bekannt geworden; ebenfalls ist es bekannt, die zu metallisierende
Oberfläche vor der Metallabscheidung mit einem Gummipartikel enthaltenden Kunstharzfilm zu versehen. Die Gummipartikel sind
durch geeignete Chemikalien oxidier- bzw.. abbaubar. Derartige Verfahren werden seit Jahren in der Herstellung gedruckter
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Schaltungen erfolgreich angewendet. Ein Nachteil so hergestellter ■ Schaltungen besteht aber in deren außerordentlich
geringem Oberflächenwiderstand, der sich insbesondere in modernen
Schaltungen mit größeren Anforderungen und höherer Leiterzugdichte nicht mehr als ausreichend erwiesen hat.
Die bisher benutzten Verfahren zur Verbesserung der Haftfähigkeit von Metallniederschlägen auf Isolierstoffunterlagen werden
noch deutlicher bei genauer Betrachtung der verwendeten Basismaterialien. Zur Herstellung gedruckter Schaltungen mit
ausreichender Haftfestigkeit auf der Unterlage werden im allgemeinen zwei Gruppen von Haftvermittlern verwendet: Die
erste Gruppejbesteht aus einem Gemisch von Phenol- und Epoxid.
harzen, die fein verteilte Kunstgummipartikel enthalten wie Butadiene und Akrylobutadiene. Diese Kunstgummis werden von
oxidierenden Chemikalien, wie beispielsweise Chromsäure oder Permanganat, leicht angegriffen, im Gegensatz zu den genannten
Harzen. Nach einer solchen oxidierenden Behandlung ist deshalb die Oberfläche des Substrates mikroporös und zur stromlosen
Abscheidung von Metallschichten auf dieser mit oder ohne nachfolgende Elektroplattierung geeignet.
Eine zweite Gruppe von allgemein geeigneten Haftvermittlern auf harzimprägnierten Hartpapierunterlagen besteht aus bestimmten
Epoxypolysulfonharzen; diese Haftverrciittlergruppe wird auch als Einphasenmaterial bezeichnet. Bei Verwendung derartiger
Materialien muß vor dem Ätzschritt mit oxidierenden Chemikalien vorbehandelt werden, um in der Materialoberfläche
Bezirke oder Zentren zu schaffen, die durch die oxidierenden Reagenzien besonders leicht angegriffen werden, was in der
Regel durch Behandeln der Oberfläche mit geeigneten organischen
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Lösungsmitteln geschieht. Dieses Verfahren ist allgemein als Quell- und Ätztechnik bekannt gewordene
Bei Verwendung dieser Quell- und Ätztechnik wird die Oberfläche beispielsweise eines glasfaserverstärkten Hartpapiers
zunächst mit einem organischen Lösungsmittel und anschließend mit einem starken Oxidationsmittel wie Chromsäure behandelt;
da durch die Behandlung mit dem Lösungsmittel in der Oberfläche Bezirke geschaffen werden, die durch die Säure besonders
leicht angreifbar sind, wird auf diese Weise eine mikroporöse, hydrophile Oberfläche geschaffen, die für die Verankerung der
nachfolgend stromlos abgeschiedenen Metallschicht geeignet ist. Bei ausschließlicher Verwendung dieser Technik erhält man
keinen ausreichenden Oberflächenwiderstand, da während des ÄtzSchrittes die Säure so tief in das Hartpapier eindringt,
daß die Glasfasern freigelegt werden können und eine gewisse Leitfähigkeit auf deren Oberfläche oder in den entstehenden
Hohlräumen ausgebildet wird. Um diesem Mangel zu begegnen, wurde vorgeschlagen, Hartpapiere mit besonders dicken Harzschichten
zu verwenden, mit denen Oberflächenwiderstände bis zu 100 000 Megohm erzielt wurden. Die gleichmäßige Aushärtung
derartiger Materialien hat sich aber in der Praxis als recht schwierig erwiesen und verlangt vom Hersteller eine ständige
überwachung des Aushärtevorgangs, was die Massenherstellung unwirtschaftlich
macht. Ein weiterer Nachteil derartiger Basismaterialien besteht auch darin, daß beim Lötvorgang in verhältnismäßig
großen metallisierten Bezirken das Metall eine nicht ausreichende Haftfestigkeit auf der Unterlage aufweist.
030046/004
Es ist weiterhin bekannt, bestimmte Kunststoffmaterialien für Dekorationszwecke mit einer Metalloberfläche nach vorheriger
Behandlung der Oberfläche mit einem starken Oxidationsmittel zu versehen. Zu den Kunststoffen, die bisher erfolgreich mit
Metallüberzügen versehen wurden, gehören Akrylnitrilbutadienstyrene, Polyphenylenoxide, Polysulfone, Polycarbonate und
Nylon. Akrylnitrilbutadienstyrene wurden bereits als Filmmaterial für die Herstellung von gedruckten Schaltungen vorgeschlagen,
haben sich aber als ungeeignet erwiesen, da die Haftfestigkeit der Metallschicht auf der Unterlage nur etwa 1 Newton/mm
betrug und derartige Schaltungsplatten den beim Lötvorgang auftretenden Temperaturen nicht widerstehen.
Gegossene Polysulfone wurden nur in sehr beschränktem Umfang als Basismaterial zur Herstellung von gedruckten Schaltungen
verwendet und können bisher nur im Hochfrequenzbereich angewendet werden, da dort die niedrige Dielektrizitätskonstante
sowie der Verlustfaktor von großem Vorteil sind. Außerdem beschränken erhebliche Herstellungsschwierigkeiten und der hohe
Preis den Anwendungsbereich dieser Materialien sehr.
Schließlich sind gegossene Polysulfone auch deshalb als Basismaterial
für gedruckte Schaltungen ungeeignet, weil sie während der Herstellung der Schaltplatte mindestens zweimal, vorzugsweise
aber viermal oder noch öfter entspannt werden müssen, und jeder einzelne dieser Vorgänge 2 bis 4 Stunden dauert. Außerdem
muß dieser Entspannungsvorgang sehr sorgfältig durchgeführt werden, da das Material bei "Uber-Entspannung" brüchig wird.
03QCU6/06U
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren, nach welchem Basismaterialien für gedruckte Schaltungen hergestellt werden
können, die nicht nur eine gute Haftfestigkeit der auf ihnen abgeschiedenen Metallschichten bewirken, sindern deren Oberfläche
auch für die Metallabscheidung aus stromlos arbeitenden Bädern sensibilisiert werden kann, die außerdem große Widerstandsfähigkeit
aufweisen und sich auch für die Herstellung von Vielebenen-Schaltungen mit leitfähigen Verbindungen eignen.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Schaltungsplatten
haben einen großen Oberflächenwiderstand, ausgezeichnete
Haftfestigkeit des Metallniederschlages auf der Kunststoffträgerplatte und sind sehr hitzebeständig, so daß
sie ohne Schwierigkeiten einem Massenlötvorgang ausgesetzt
werden können. Das Verfahren zu ihrer Herstellung ist einfach und erforderliche Reparaturen können auch im Gebrauch sehr
einfach durchgeführt werden.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Schaltungsplatten
sind ebenfalls als Vielebenen-Schaltungen mit gesteuerter Impedanz für schnelle Schaltungen zu verwenden.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Basismaterialien
eignet sich sowohl für die Herstellung von gedruckten Schaltungen als auch von metallisierten Gegenständen und
wird im weiteren Verlauf der Beschreibung und der Beschreibung der Figuren noch deutlicher.
Das nach dem Verfahren der vorliegenden Erfindung hergestellte Basismaterial besteht aus einer Unterlage und
03ÖCU6/Q644
einer mindestens auf einer Oberfläche des Unterlagematerials befestigten vorgeformten thermoplastischen Folie, aus einem
temperaturbeständigen, hochpolymeren, organischen Material aus der Reihe der aromatischen Polymere. Das Material wiedersteht
den gewöhnlich beim Massenlötverfahren auftretenden Temperaturen und verändert sich beim Lötvorgang nicht.
Die erfindungsgemäßen Basismaterialplatten werden entsprechend den folgenden Verfahrensschritten hergestellt: Mindestens eine
Oberfläche des Unterlagematerials aus Metall oder Kunststoff
wird mit einer vorgeformten Folie aus einem thermoplastischen
versehen
Material aus der Reihe der aromatischen Polymere/und ist weitgehend
hitzebeständig, so daß es bei den Temperaturen,wie sie im allgemeinen bei Massenlötungen auftreten, nicht angegriff-en
wird. Der Schichtkörper wird unter Anwendung von Druck und Temperatur verfestigt.
Derartige Trägerplatten weisen weder bei der Herstellung noch im Gebrauch Brüchigkeit auf, und die aus ihnen gefertigten Schaltungen
zeichnen sich durch einen sehr großen Oberflächenwiderstand aus.
Es ist ein weiterer erfindungsgemäßer Verfahrensschritt, die
auf mindestens einer oder mehreren Oberfläche(n) mit der vorgeformten
Folie versehene Platte einer Oberflächenbehandlung zu unterziehen, die aus einem "Quell-Schritt" mit einem organischen
Lösungsmittel und einem Oxidierungsschritt mit beispielsweise Chromsäure besteht.
030046/0644
Auf der so vorbehandelten Oberfläche wird nach bekannten Verfahren stromlos Metall niedergeschlagen; die stromlos
abgeschiedene Metallschicht kann, falls erwünscht, durch Elektroplattierung verstärkt werden.
Die erfindungsgeitiäße Trägerplatte eignet sich weiterhin, ausgezeichnet
für die Herstellung gedruckter Mehrebenenschaltungen. Auf die zuvor beschriebene fertiggestellte Schaltungsplatte
wird in diesem Fall .die vorgeformte erfindungsgemäße Folie aufgebracht, und zwar entweder auf der gesamten Oberfläche oder
nur auf den Bezirken, die mit Leiterzügen versehen sind. Die Oberfläche der aufgebrachten Folie wird, wie zuvor beschrieben,
durch einen Quellschritt und einen Oxydationsschritt vorbehandelt, und anschließend wird auf die so vorbehandelte Oberfläche
ein weiteres Schaltungsmuster durch stromlose Metallabscheidung nach bekannten Verfahren aufgebracht, das, falls erwünscht,
galvanisch verstärkt werden kann. Dieser Vorgang kann beliebig oft wiederholt werden, bis die gewünschte Anzahl
von Leiterzugebenen erreicht ist. Falls erwünscht, können die
einzelnen Leiterzugebenen durch Löcher verbunden werden, die die Leiterzüge durchdringen und deren Innenwandung nach bekanntem
Verfahren metallisiert ist.
Eine weitere Möglichkeit der Verbindung der einzelnen Leiterzugebenen besteht darin, daß die Leiterzüge an den Verbindungspunkten entweder nicht mit Folie überzogen werden oder diese
nachträglich entfernt wird.
030048/0644
Weitere Ausführungsformen werden durch die weitere Beschreibung
noch erläutert.
Der Ausdruck "B-Zustand" in dieser Beschreibung bezeichnet
den Zustand der Wärmehärtung, in dem die Vernetzung der aktiven Moleküle bereits begonnen hat, aber noch nicht alle
Moleküle in den Vernetzungsprozeß eingetreten sind. In,diesem Zustand kann das Harz durch Wärmeeinwirkung noch erweicht
werden.
Der Ausdruck "C-Zustand" bezeichnet den Zustand, in dem alle zur Verfügung stehenden Moleküle vernetzt s,ind, das Harz voll
ausgehärtet und weitgehend unlößlich und unschmelzbar ist.
Die erfindungsgemäßen Basismaterialien bedeuten gegenüber den derzeit verwendeten einen großen Fortschritt. Die auf die Unterlage
aufzubringende Folie besteht aus einem thermoplastischen, organischen, aromatischen Polymer und hat eine Schichtdicke
von vorzugsweise nicht weniger als 10 um, beispielsweise über 25 μπι, und vorzugsweise über 50 (im; im allgemeinen liegt
die Schichtdicke unter 500 um, beispielsweise unter 125 um, und vorzugsweise unter 75 μΐη.
Auf die im "B-Zustand" befindliche Unterlage aus einem glasfaserverstärkten
Hartpapier werden eine oder mehrere Kunststofffolien auflaminiert, und unter Druck und Hitze ausgehärtet,
so daß ein widerstandfähiges Unterlagematerial für die Herstellung einer gedruckten Schaltung entsteht.
030046/0644
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren werden Basismaterialplatten
hergestellt, deren Oberfläche weitgehend eben und zur Aufnahme einer gedruckten Schaltung vorbereitet ist.
Die erfindungsgemäßen vorgeformten thermoplastischen Folien sind von weitgehend einheitlicher Schichtdicke, die zwischen
10 und 500 μπι liegen kann. Das verwendete thermoplastische
Material gehört zu den aromatischen Polymeren und widersteht einer Temperatur von 245° C für mindestens 5 Sekunden. Die
Unterlage kann aus glasfaserverstärkten,ausgehärteten Harzen
bestehen.
Mindestens eine der Oberflächen der Unterlage ist mit der erfindungsgemäßen
Folie versehen; die Aushärtung erfolgt vorzugsweise zwischen ebenen Druckplatten unter Anwendung von
Druck und Hitze.
Derartige, aus Unterlage und aufgebrachter Folie bestehende Schichtplatten sind zur Herstellung gedruckter Schaltungen
ausgezeichnet geeignet.
In einer weiteren Ausgestaltungsform der Erfindung wird das erfindungsgemäße Schichtmaterial bestehend aus Unterlage und
Folie mit einer auf der polymeren, plastischen Folie liegenden Metallschicht versehen und mit dieser fest verbunden. Die Oberfläche
der thermoplastischen Folie dient in diesem Fall als Haftvermittler zwischen Unterlage und Metallschicht. So kann
eine Metallfolie unter Anwendung von Druck und Hitze mit der mit der thermoplastischen Folie versehenen Unterlage verpresst
werden.
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Ein anderer Weg, die Oberfläche mit einer Metallschicht zu versehen, besteht darin, sie mit einem Quell- und einem
Oxidations-Schritt entsprechend vorzubehandeln, in bekannter
Weise für die stromlose Metallabscheidung zu sensibilisieren und anschließend auf ihr stromlos Metall abzuscheiden.
Als weitere Ausgestaltungsform der Erfindung wurde bereits die Verwendung der erfindungsgemäßen Träger für Mehrebenen-Schaltungen
erwähnt. In diesem Fall wird eine auf mindestens einer Oberfläche mit einer Schaltung versehene Platte mit einer beispielsweise
aus einem Polysulfon bestehenden Kunststoff-Folie überzogen; die Oberfläche der die Schaltung bedeckenden PoIysulfonfolie
wird mit einem organischen Lösungsmittel behandelt und anschließend einem Oxidationsmittel ausgesetzt, wodurch
ihre Oberfläche hydrophil und mikroporös gemacht wird. Anschließend wird nach bekanntem Verfahren stromlos Metall aufgebracht.
Zur Herstellung des erfindungsgemäßen Basismaterials ist jedes wärmeaushärtbares Harz geeignet, vorausgesetzt, daß es bei Anwendung
des erfindungsgemäßen Verfahrens die gewünschten Basismaterial-Eigenschaften aufweist. Zum Beispiel sind folgende
wärmeaushärtbare Harze geeignet: Allylphtalate, Furane, Allylharze,
Glyzerylphtalate, Silikone, Polyakrylsäureester, Phenolformaldehyde
und Phenolfurfurale allein oder in. Verbindung mit Akrylnitrilbutadienstyren, Copolymeren, Ureaformaldehyd, MeIaminformaldehyd,
modifizierten Methakrylaten,Polyester und Epoxidharzen.
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Phenolformaldehyde können verwendet werden, wenn die Anforderungen
nicht sehr hoch sind, während Epoxidharze bei hohen Anforderungen bevorzugt werden. Die Imprägnierung des Fasermaterials
oder des Hartfasergewebes kann nach bekannten Verfahren durchgeführt werden. Die Harze können in jeder Form
verwendet werden, aber in der Regel eignet sich am besten ein Lack, in welchem die Harze durch ein entsprechendes Lösungsmittel
verdünnt vorliegen. Der Harzanteil im Lack ist im allgemeinen nicht kritisch; er liegt im allgemeinen zwischen 35
und 70 Gew.%, vorzugsweise zwischen 35 und 55 Gew.%.
Der Isolierstoffträger für das erfindungsgemäße Verfahren muß nicht aus organische Material bestehen. Anorganische Isolierstoffkörper
wie Tone, Keramik, Ferrite, !Carborundum, Glas und Steatite sind ebenfalls geeignet.
Weiterhin können auch metallische Träger verwendet werden, die mit der erfindungsgemäßen Folie versehen werden, und zwar mit
oder ohne Zwischenschicht aus einem thermoplastischem Harz oder einem harzimprägnierten Material.
Für die thermoplastischen Folien eignen sich" nur die hitzebeständigen
thermoplastischen Polymere aus der aromatischen Reihe, die sich selbst beim Massenlöten bei Temperaturen von 245° C
für die Dauer von 5 Sekunden weder zersetzen noch verändern.
Hierzu eigenen sich besonders Polykarbonate und Polysulfon-Polymerisate,
die aus den folgenden Molekülen bestehen:
:
I
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oder der Polyäthersulfon-Polymerisate aus den folgenden Molekülen:
r
o
ι !
jn
und Polyphenylsulfone.
Wie die oben aufgeführte Formel zeigt, ist in den Polysulfonen
jeder aromatische Ring einem SO- verbunden. (Diese Bindung
wird auch als Sulfonbindung bezeichnet). Die gleiche Sulfonbindung liegt auch in den Polyäthersulfonen vor.
Einige dieser thermoplastischen Materialien in Blatt-, Staboder Folienform können durch eine geeignete Behandlung in ihren
Oberflächeneigenschaften so verändert werden, daß eine stromlos aufgebrachte Metallschicht fest verankert wird. Derart'mit einer
metallischen Oberfläche versehene thermoplastische Materialien haben in der Industrie weite Anwendung gefunden, beispielsweise
im Automobilbau und für elektronische Bauteile, medizinische Geräte und dergleichen. Die Polysulfone werden
allgemein in verschiedene Klassen eingeteilt, die sich durch Festigkeit, Formstabilität und Stabilität gebenüber Temperatur-
und Feuchtigkeitseinflüssen unterscheiden.
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Gewisse Polysulfone bleiben über Jahre selbst bei Einwirkung von kochendem Wasser oder Dampf unverändert und verändern ihre
Eigenschaften in Temperaturbereichen von-100° bis + 150° C nicht. Sie können bei einer Belastung von 1,8 MPa Temperaturen
bis zu 174 C ausgesetzt werden. Langfristiges Altern bei Temperaturen von 150 - 200°C hat wenig Einfluß auf die physikalischen
und elektrischen Eigenschaften der Polysulfone.
Die Polysulfone werden in der Regel durch eine Kernsubstitutions-Reaktion
zwischen Natrium 2,2-bis (4-Hydroxyphenyl)propan und 4,4'-Dichlordiphenylsulfon hergestellt. Zum Stoppen
des Polymerisationseffektes werden die Natriumphenoxidgruppen mit Methylchlorid zur Reaktion gebracht, wodurch nicht nur
das gewünschte Molekular.gewicht erzielt, sondern gleichzeitig auch die thermische Stabilität verbessert wird.
Die chemische Struktur der Polysulfone ist durch die Diarylgruppe charakterisiert mit einer typischen Resonanz struktur,
in der die Sulfone versuchen, aus den PhenyIringen Elektronen abzuziehen. Die Resonanz wird durch die in ParaStellung befindlichen
Sauerstoffatome noch verstärkt. Aus der Resonanzstruktur, in der die Elektronen durch Resonanz gebunden sind,
ergibt sich die große Oxidationsbeständigkeit der Polysulfone, die dadurch, daß der Schwefel in seiner höchsten Oxidationsstufe vorliegt, noch verstärkt wird.
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/N.
Die hohe Resonanz hat noch zwei weitere Vorteile: sie erhöht die Bindungsfestigkeit zwischen den einzelnen Gruppen und hat
eine ebene Konfiguration zur Folge, wodurch selbst bei hohen Temperaturen die Steifigkeit des Materials gewährleistet wird.
Die Ätherbindung verleiht der Polymerkette eine gewisse Flexibilität
und damit dem Material große Widerstandsfähigkeit.'Die die Benzolringe verbindenden Sulfon- und Ätherbindungen sind
nicht hydrolysierbar, was sich in der hohen Stabilität der Polysulfone gegenüber wässrigen Säuren und· Alkalien zeigt.
Für die vorliegende Erfindung sind beispielsweise Polysulfone mit mittlerem und höherem Molekurlargewicht brauchbar sowie
solche mit noch höherem Molekurlargewicht, die Mineralien-Einschlüsse enthalten; diese eignen sich insbesondere zur Verwendung
bei der Herstellung von Gegenständen mit metallbeschichteten Oberflächen.
Polykarbonate sind lineare, fein-kristalline Polymere mit hohem Molekulargewicht (ca. 18.000) und Karbonatradikalen als
Verbindungsglieder. Polykarbonate weisen eine Reihe sehr wünschenswerter Eigenschaften auf:
(1) sehr hohe Schlag/Biegefestigkeit, verbunden mit großer Duktilität;
(2) ausgezeichnete Dimensions-Stabilität mit gleichzeitig sehr geringem Wasseraufnahmevermögen (0,35
% bei Wasser von Zimmertemperatur; kochendes Wasser verursacht ebenfalls keine größeren Veränderungen
als 1/1000);
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(3) die Erweichungstemperatur liegt bei ca. 135° C;
(4) hervorragende Temperaturbeständigkeit, insbesondere auch bei oxidativem Abbau bei hohen
Temperaturen; und
(5) hohen elektrischen Widerstand.
Polyphenylenoxide können durch oxidative Kupplung von Phenolen hergestellt werden, worunter verstanden werden soll, daß man
Sauerstoff mit aktiven Wasserstoffen zur Reaktion bringt und die Verbindung der einzelnen Monomeren unter Wasserabspaltung
erfolgt. Hat das Monomer einen aktiven Wasserstoff,· so entstehen Dimere, hat es zwei oder mehrere Wasserstoffe, so
setzt sich die Polymerisation fort. Polyphenylenoxid ist durch seine symmetrische Struktur, schwache polare Gruppen, ein widerstandsfähiges
Phenylenoxid-Rückgrat, hohe Glastransformations-Temperatur
von 21° C charakterisiert. (Zwischen - 273°C bis + 2100C treten keine weiteren Transformationen auf). Polyphenylenoxide
weisen eine Reihe positiver Eigenschaften auf wie z.B.:
(1) Temperaturbeständigkeit von - 180° bis + 18O°C;
(2) ausgezeichnete Hydrolyse-Beständigkeit;
(3) hohe Dimensions-Stabilität bei sehr geringer Wasseraufnahme, geringer Kriechdehnung und hohem
Elastizitätsmodul; und
(4) ausgezeichnete dielektrische Eigenschaften im Temperaturbereich zwischen - 180° bis + 180°C.
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Die erfindungsgemäßen auflaminierten thermoplastischen Polymer-FJlme
haben sich für die Herstellung gedruckter Schaltungen als ausgezeichnete Unterlage bewährt; die erfindungsgemäßen Basismaterialien
sind nicht nur zuverlässiger, sondern auch den bisher verwendeten harzreichen, Gummipartikel enthaltenden Haft-Vermittlern
weit überlegen. Die Oberflächen der erfindungsgemäßen Folienmaterialien können nach den in der Technik bekannten
Verfahren vor dem Aufbringen der Metallschicht chemisch vorbehandelt werden, wodurch eine sehr gute Haftfestigkeit
der Metallschicht auf der Oberfläche erzielt wird. Die Schichtdicke der Folien ist weitgehend gleichmäßig.
Es ist allgemein bekannt, daß die hitzebeständigen Polymere und insbesondere die Polysulfone eine verhältnismäßig lange,
zweite Ausheizzeit erfordern, um keine Spannungsrisse aufzuweisen. Empfehlenswert ist eine Ausheizzeit von 2-4, vorzugsweise
sogar von 9 Stunden bei 17O°C, vor der Weiterverarbeitung.
Ein weiteres Ausheizen wird vor der chemischen Vorbehandlung der Oberfläche erforderlich. Wie später noch beschrieben wird,
werden erfindungsgemäß das Auflaminieren des Films und das Ausheizen im gleichen Verfahrensschritt vorgenommen. Es wurde
festgestellt, daß das erfindungsgemäße Folienmaterial beim Auflaminieren, insbesondere, wenn es aus Polysulfonen besteht, entspannt
wird, was den oben beschriebenen zweiten Ausheizvorgang überflüssig macht.
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Nach einer erfindungsgemäßen Ausgestaltungsform werden die imprägnierten Platten der Isolierstoffunterlage auf die entsprechend
vorgeformten Folienabschnitte gebracht und mit diesen unter Hitze und Druckeinwirkung verpresst, beispielsweise
bei einer Temperatur von 160°C, einem Druck von 1,4 MPa für eine Zeit von bis zu 60 Minuten. Die Laminierung kann in einer
der üblichen Pressen vorgenommen werden, wie sie auch zur Herstellung harzimgrägnierter Hartpapiere dienen, mit möglichst
plangeschliffenen Pressplatten. Der Vorgang dauert vorzugsweise zwischen 10 und 60 Minuten bei Temperaturen zwischen 120 und
180°C und einem Druck zwischen 1,5 und 10 MPa.
Die erfindungsgemäßen Basismaterialien mit auflaminierter Folie können auch hergestellt werden, indem beispielsweise die
Unterlage in einen Polysulfonkleber getaucht und anschließend mit der vorbereiteten Folie bedeckt wird. Ein derartiger Polysulfonkleber
kann beispielsweise aus einer Lösung von 2-5% Polysulfon in Methylenchlorid bestehen. Die Haftfestigkeit der
Folien auf der Unterlage bei Verwendung derartiger Kleber ist sehr gut. Des weiteren kann eine Polysulfonkleberschicht auch
auf der Unterlage und die Polysulfonfolie aufgebracht werden; nach einer Trocknungszeit von etwa 15 Minuten kann die Laminierung
unter Druck von 500 psi für 5 Minuten erfolgen.
Die nach den oben beschriebenen Verfahren hergestellten Basismaterialien
können beispielsweise für die Herstellung gedruckter Schaltungen verwendet werden.
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Nach einer weiteren Ausgestaltungsform kann auf eine oder mehrere der Folienoberflächen ein dünner Metallfilm aufgebracht/
mit dieser fest verbunden und so ein Laminat gebildet werden. Die erfindungsgemäßen Basismaterialien können
für Ein-, Zwei- oder Mehrebenen-Schaltungen verwendet werden, mit oder ohne durchplattierte Löcher, wie Im folgenden
noch beschrieben wird.
Zur Herstellung von gedruckten Schaltungen nach dem sogenannten "Semi-Additiv"-Verfahren wird das erf'indungsgemäße Basismaterial
zugeschnitten und durch Bohren oder Stanzen mit Löchern versehen. Anschließend wird die Oberfläche vorgeätzt
oder geschmirgelt. Es wird angenommen, daß eine solche Vorbehandlung vor dem eigentlichen Ätzschritt in manchen Fällen
der Vorbehandlung mit einem Lösungsmittel vorzuziehen ist. Ein solches Schmirgeln kann beispielsweise mit einem geeigneten
Schleifmittel wie Quarzsand, !Carborundum oder Aluminiumoxid durchgeführt werden. Die so vorbehandelte Oberfläche wird
dann einem Oxidationsmittel ausgesetzt, wodurch eine Aktivierung der Oberfläche erzielt wird.
Eines der üblichen stromlos Metall abschneidenden Bäder wird zum Herstellen eines dünnen leitenden Kupferniederschlages
auf der aktivierten Oberfläche und gegebenenfalls gleichzeitig auf den Lochwandungen verwendet. Im Seidensiebdruckverfahren
wird eine Resistschicht aufgebracht, die ein Negativbild des erwünschten Schaltbildes darstellt und die leiterzugfre±e.n Bezirke
abdeckt.
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x.
/■". JU t J I oll
Die Resistschicht wird ausgehärtet und die Leiterzüge in den
nichtabgedeckten Bezirken werden galvanisch aufgebaut. Anschließend
wird die Abdeckmaske entfernt und die dünne, darunter liegende Kupferschicht weggeätzt. Als Abdeckmaske kann
auch ein Photoresist verwendet werden.
Ein anderes bekanntes Verfahren zur Herstellung von Metallschichten
auf Isolierstoffunterlagen ist das sogenannte "Voll-Additiv "-Verfahr en. Hierbei wird das erfindungsgemäße Basismaterial,
das beispielsweise aus einem mit Epoxidharz imprägnierten Hartpapier und einer Polysulfon-,· Polysulfonäther-
oder Polykarbonatfolie bestehen kann, mit Löchern versehen; die Oberfläche des Materials sowie die Lochwandungen werden,
wie vorstehend beschrieben, vorbehandelt. Anschließend wird die Oberfläche mit einer wässrigen Lösung einer reduzierbaren
Kupferverbinrdung behandelt und getrocknet.
Ein Abbild der gewünschten Schaltung wird vermittels UV-Bestrahlung,
entweder durch Projektion oder Kontaktdruck auf der sensibilisierten Unterlage hergestellt; anschließend wird
eine Metallschicht, beispielsweise Kupfer, stromlos in den durch die UV-Bestrahlung aktivierten Eezirken sowie auf den Lochwandungen abgeschieden. Die stromlose Metallabscheidung wird
solange forgesetzt, bis die Leiterzüge die gewünschte Schichtdicke erreicht haben.
Im allgemeinen ist es ratsam, die Oberfläche des thermoplastischen
Filmes mit einem Lösungsmittel vor oder während des Ätz-
Schrittes vorzubehandeln wie beispielsweise Dimethylformamid,
Azetophenon, Chloroform,Cyclohexanon, Chlorbenzol, Dioxan, Methylenchlorid und Tetrahydrofuran.
Je nach Art des verwendeten Filmmaterials kann es erforderlich sein, zur vorübergehenden Polarisation der Oberfläche weitere
Lösungsmittel zu verwenden, wie beispielsweise saures Natriumfluor id, Chlor- oder Fluorwasserstoffsäure, Chromsäure,' Borate,
Fluoborate und Soda oder Mischungen davon.
Die üblicherweise zum Ätzen von Kunststoffen wie Akrylnitrilbutadienstyren
verwendeten Lösungen eignen sich ebenfalls für Polysulfone; eine typische Chromsäure-Ätzlösung besteht
aus 60% H2SO4; 10% H3PO4; 1% Cr O3 und 29 % H3O. Während des
XtζVorganges wird das Cr+ zu Cr+ reduziert.
Wenn der größte Teil des Chroms reduziert ist, ist die Lösung unbrauchbar, weshalb die Lösung möglichst viel Chrom enthalten
sollte. Wird jedoch Dimethylformamid zur Vorbehandlung verwendet, bewirken Lösungen mit einem Gehalt von Chromsäure über
3% eine sichtbare Rissigkeit der Oberfläche und schlechte Haftfestigkeit des Metalls auf dieser. Vorzugsweise wird deshalb
zur Ätzbehandlung von Polysulfonen die folgende Mischung vorgeschlagen (Angaben in Gewichtsprozent):
55,9 % Schwefelsäure (96 %)
10,4 % Phosphorsäure (85 - 87 %)
3,0 % CrO3
30,7 % Wasser
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In einem weiteren "Voll-Additiv"-Verfahren wird wie folgt vorgegangen:
nachdem die Oberfläche durch entsprechende Vorbehandlung polar und mikroporös gemacht wurde, wird sie nach
einem der üblichen Verfahren mit Zinn(II)chlorid und Palladium (II)chlorid für die Metallabscheidung aus stromlos arbeitenden
Bädern sensibilisiert. Dann wird eine permanente Abdeckmaske aufgedrückt, die die zu metallisierenden Bezirke
frei läßt. Die Maske wird ausgehärtet und anschließend werden die von der Maske nicht bedeckten Bezirke sowie die
Lochwandungen stromlos verkupfert.
Die erfindungsgemäßen Basismaterialien können auch durch katalytisch
wirkende Beimischungen sensibilis'ierend auf die stromlose Metallabscheidung wirken, was einen besonderen Katalysierungsschritt
erübrigt.
Bei der Verwendung des erfindungsgemäßen Basismaterials für gedruckte Schaltungen wird vorzugsweise von einer harzimprägnierten,
faserverstärkten Hartpapierplatte ausgegangen.
Neben den beschriebenen Isolierstoffen eignen sich aber auch Metallplatten als Unterlage für das erfindungsgemäße Basismaterial,
beispielsweise Aluminium- oder Stahlplatten, die entsprechend der Erfindung mit einer Isolierstoffschicht aus
der vorgeformten thermoplastischen Polymer-Folie überzogen werden. Soll eine solche Platte mit Löchern versehen werden, so
ist es zweckmäßig, zunächst die Löcher zu bohren und anschlies· send die Kunststoffschicht aufzubringen.
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Unter anderem sieht die vorliegende Erfindung Schaltungsplatten aus Metall vor, auf denen die stromlos abgeschiedenen Metallschichten
wie beispielsweise Kupfer, Nickel, Gold galvanisch verstärkt werden, und zwar entweder mit dem gleichen
Metall oder mit Kupfer, Nickel, Silber, Gold, Zinn und Rhodium oder auch Legierungen den genannten Metallen . Die galvanischen
Verfahren zur Aufbringung solcher Schichten sind dem Fachmann bekannt.
Die Erfindung wird durch die Beschreibung der Zeichnungen noch deutlicher.
Die Figuren 1-3 stellen Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schaltungen entsprechend der erfindungsgemäßen Lehre auf Unterlagen
aus Isolierstoffbasis dar.
Fig. 4 stellt eine Vorrichtung dar .zur Herstellung des erfindungsgemäßen
Materials.
Fig. 5 stellt die Vorrichtung zur Herstellung des erfindungsgemäßen
Basismaterials unter Verwendung von Polysulfonfolien dar.
Fig. 1A zeigt eine erfindungsgemäße Basismaterialplatte 10 aus
einem Kern 12 aus warmeaushartbarem Harz und einer Deckschicht
aus vorgeformter Polysulfonfolie 14. Das Kernmaterial 12 enthält eine Beimischung, die katalytisch auf die Abscheidung von
Metall aus stromlos arbeitenden Bädern wirkt; die Deckfolie enthält ebenfalls eine solche Beimischung. In Figur 1B die Platte
10 bereits mit den Löchern 16 und 18 versehen.
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-0"Jt- . . .
Die Platte 10 wird einer Vorbehandlung in einem Lösungsmittel unterzogen und anschließend einer Xtzlösung ausgesetzt, die
aus 20g/l CrO37350 mg/1 H2S04iund 50 g/l NaF bei einer Temperatur
zwischen 45 und 65°C besteht.
Der Ätzschritt dient der Freilegung der katalytisch wirksamen
Partikel sowie der Aktivierung und wird in Fig. 1C dargestellt. In Fig. 1D wird die Platte 10nach dem Aufbringen des Photoresists
24 gezeigt, das zum Abdecken der nicht zu metallisierenden Bezirke dient. Anschließend wird in den nicht abgedeckten
Bezirken sowie auf den Wandungen der Lochungen 16 und 18 der Platte 10 stromlos Kupfer abgeschieden und so die
Leiterzüge 22 hergestellt, deren Schichtdicke etwa 35 um beträgt. (Vgl. Fig. 1E). In Figur 1 F ist die Platte 10 nach
dem Entfernen der Abdeckmaske 24 gezeigt. Auf die soweit fertiggestellten Platte 10 kann eine Lötmaske 30 aufgedruckt werden,
die die Löcher 16 und 18 frei läßt. . (Fig. 1G).
In Figur 2 wird das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung
von Vielebenenschaltungen nach der "Additiv"-Technik dargestellt.
In Figur 2 A wird das Schaltungsmuster 102 auf der Basismaterialplatte
100 festhaftend angebracht.
Eine vorgeformte Polysulfonfolie 104 wird auf die gedruckte Schaltung 102 auflaminiert (Fig. 2B), anschließend wird ein
Loch 106 durch die Polysulfonfolie 104, die gedruckte Schaltung 102 und das Basismaterial 100 gebohrt (Fig.2C).
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Die Oberfläche der Polysulfonfolie 104 wird dann, wie zuvor
beschrieben, einer Vorbehandlung zur Haftverbesserung unterzogen und für die stromlose Metallabscheidung nach bekannten
Verfahren mit einer Lösung aus Sn (II)-Pd (II) chlor id sensibilisiert. Fig. 2D zeigt die so vorbereitete Platte nach dem Aufbringen
einer Abdeckmaske aus Photoresist 110. Die von der Maske freigelassenen
Bezirke 104 sowie die Lochwandungen 106 werden stromlos verkupfert; die Dicke der Kupferschicht 112 beträgt
35 Um (Fig. 2E). Figur 2F zeigt die fertige Mehrebenenschaltung nach dem Entfernen der Abdeckmaske 110.
In Figur 3 wird das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Vielebenen-Schaltungen nach der sogenannten "Semi-Additiv"-Methode
dargestellt. Das erfindungsgemäße Basismaterial 200 ist zweiseitig mit einer Kupferschicht 201 versehen. (Fig.3A).
Nach allgemein bekannten Druck- und Ä'tz-Verfahren wird eine
erste oder innere Schaltung 202 hergestellt und mit einer vorgeformten Polysulfonfolie 204 abgedeckt. (Fig. 3B). In die
Platte 200 wird ein Loch 216 gebohrt und diese anschließend einer Vorbehandlung zur Haftverbesserung unterzogen und für
die Metallabscheidung aus stromlos arbeitenden Bädern katalytisch sensibilisiert. Ein Kupferfilm 211 wird stromlos auf der
Oberfläche 204 und der Lochwandung 216 abgeschieden, wobei die Kupferschichtdicke etwa 2 um beträgt (Fig. 3C). Eine Photoresist-Abdeckmaske
wird aufgedruckt,und in den den Leiterzügen entsprechenden unmaskierten Bezirken wird galvanisch eine
Kupferschicht 212 in einer Schichtdicke von 35 um abgeschieden
(Fig. 3D) ."
0-30 046/0
In Fig. 3E ist die Abdeckmaske entfernt und der 2 \im Kupferfilm
211 unter der Abdeckmaske mit einem geeigneten Ätzmittel weggeätzt.
Figur 4 zeigt die Herstellung einer erfindungsgemäßen Basismaterialplatte
10. Es sind die Einspeiswalzen 100, 1o2 und 104 dargestellt. Auf der Walze 100 ist ein flexibles Trägermaterial
106 von ca. 1,6 mm Dicke aufgespult. Der Träger kann ein Glasfasergewebe, ein nicht-gewebtes Glas, Dacron,
Rayon oder Zellulosepapier sein, das mit Harz , vorzugsweise mit einem wärmeaushärtbaren Harz wie Epoxidharz, imprägniert
ist. Es können aber auch andere thermoplastische Materialien wie Polyimide und Polykarbonate verwendet werden. Auf der
Walze 102 ist eine 1 - 5 mm dicke thermoplastische Folie 108 aufgespult. Auf der Walze 104 ist ebenfalls eine thermoplastische
Folie in einer Stärke von 1 - 5 mm aufgespult. Die thermoplastische Folie kann beispielsweise aus einem Polysulfon,
einem Polyäthersulfon oder aus Polykarbonat bestehen.
Ebenfalls werden die Iaminierungswalzen 110 gezeigt, die das
Laminiergut mit Druck und Hitze beaufschlagen. Die Laminiertemperatur
liegt zwischen 16O-2OO°C, der Druck bei 30-400 N/mm.
Nach Durchlaufen der Walzen 110 ist das erfindungsgemäße flexible
Basismaterial fertiggestellt.
In Fig. 5 wird die Herstellung einer erfindungsgemäßen Platte aus einem nicht flexiblen Trägermaterial 12, beispielsweise
einem 8 mm dicken faserverstärkten Epoxylaminat gezeigt.
Die Einspeiswalzen 100, 102 und 104 sind dargestellt, wobei auf den Walzen 102 und 104 die thermoplastische Folie 108
in einer Stärke von 1 - 5 mm aufgespult ist. Ebenfalls gezeigt
sind die Laminierungswalzen 110, die das Laminiergut mit Wärme und Druck beaufschlagen. Die Laminiertemperatur
liegt zwischen 160 und 2000C und der Druck zwischen 30.-N/mm.
Das Isolierstoffunterlagematerial 12 wird durch die Walzen 110 geführt und die thermoplatische Folie 108 auf die gegenüberliegenden
Seiten des Trägers 12 auflaminiert; so entsteht das erfindungsgemäße Basismaterial 10. Falls erwünscht,
kann das Trägermaterial 12 vor dem Auflaminieren der
thermoplatischen Folie mit einem Polysulfonkleber beschichtet
werden.
Die nachfolgenden Beispiele zeigen, so weit bisher bekannt, einige der vorteilhaftesten Ausführungsformen zur Herstellung
des erfindungsgemäßen Basismaterials.
Ein 8-schichtiges und mit 45-55% Epoxyharz imprägniertes Glasfasergewebe wird in einer Laminierungspresse beidseitig
mit einer vorgeformten 50 μm dicken Polysulfonfolie
versehen und mit dieser fest verbunden. Die Polysulfonfolie wurde aus Udel P-1700 Polysulfonharz hergestellt. Die
Laminierungstemperatur betrug 175°C und der Druck 600 p.s.i. (4,1 MPa); die Verweildauer in der heißen Presse betrug
15 Minuten. Danach wurde die Presse abgekühlt und die Basismaterialplatte
herausgenommen.
In den folgenden Verfahrensschritten wurde auf diesem Ba-
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sismaterial eine gedruckte Schaltung hergestellt:
(1) In die Platte werden Löcher gebohrt;
(2) Die Bohrrückstände werden durch Bürsten entfernt
(nach dem Bohren war weder ein Entspannungs- noch
Ausbackvorgang erforderlich);
(3) Die Platte wird für 3 bis 6 Minuten in eine wässrige Dimethylformamid-Lösung getaucht (Dichte der
Lösung 0,955 bis 0,965);
(4) Die Platte wird 45 Sekunden in heißem Wasser gespült;
(5) Die Plattenoberfläche wird zur Verbesserung der Haftfestigkeit mit der folgenden Lösung bei 55°C
für 7 Minuten behandelt; | 20 | g/i |
CrO3 | 100 | ml/l |
H-3PO4 | 600 | ml/1 |
H2SO4 | 0,5 | g/i |
FC-98+ | ||
PC-98 ist ein anionischer Perfluoroalkylsulfonat-Benetzer
(6) Die Platte wird in Wasser gespült;
(7) Das 6-wertige Chrom wird mit einer Lösung"aus 10%
H3O2 und 15% H3SO4 neutralisiert;
(8)-(11) Die Platte wird in Wasser gespült und mit einer der üblichen Sensibilisierungslösungen aus Zinn (II)- und
Palladium(II)chlorid behandelt; als Beschleuniger dient eine 5%-ige HBF4~Lösung;
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(12) Kupfer wird stromlos bis zu einer Stärke von 2,5 μΐη abgeschieden;
(13)-(14) Die mit der Kupferschicht versehene Platte wird '
in Wasser gespült und bei 125° C für 10 Minuten getrocknet.
Das so hergestellte Basismaterial wird zum Herstellen einer gedruckten Schaltungsplatte nach einem der bekannten Ver-*
fahren verwendet; beispielsweise wird eine Abdeckmaske aufgedruckt und das Schaltbild durch galvanische Verkupferung
hergestellt; die Abdeckmaske wird anschließend entfernt und die darunter befindliche dünne Kupferschicht weggeätzt.
Die so hergestellte Schaltung weist eine Haftfestigkeit (Abzugsfestigkeit)
von 1,7 N/mm auf der Unterlage auf. Beim Löt-Test wurde die Schaltung für 10 Sek. mit geschmolzenem Lötzinn
von 260 "c in Kontakt gebracht. Bei der anschließenden genauen Untersuchung konnte festgestellt werden, daß weder
Blasenbildung noch ein Ablösen der Schicht von der Unterlage eingetreten war; die Schaltung war von einwandfreier
Beschaffenheit.
Das Beispiel 1 wird mit verringertem Druck in der Lamlnierungspresse
(nur 400 p.s.i (2,8MPa)) und längerer Verweilzeit (1 Stunde) unter sonst gleichen Bedingungen wiederholt. Die
Abzugsfestigkeit (Haftfestigkeit) beträgt 2,4 N/mm, das Ergebnis der Lötprobe war, bei mehr als 10 Sek., ebenso einwandfrei
wie bei der nach Beispiel 1 hergestellten Schaltplatte.
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-3t .
30131
Seispiel 3
Das Beispiel 1 wird mit nochmals verringertem Druck von nur 200 p.s.i. (1,4 MPa) und einer Verweilzeit in der Laminierüngspresse
von 5 Minuten durchgeführt; anschließend wurde die Platte für eine Stunde in einem Heißluftofen getempert. Die Abzugsfestigkeit
(Haftfestigkeit) auf der Unterlage betrug in diesem Fall 1,9 N/mm.
Ein glasfaserverstärktes Epoxidhartpapier mit einer beidseitig aufkaschierten Kupferfolie von 35 μπι Dicke wird zum Herstellen
einer gedruckten Schaltung nach konventionellem Druck- und Ätzverfahren verwendet.
Auf das so hergestellte Schaltbild wird ein Polysulfonkleber aufgebracht und luftgetrocknet; anschließend wird die Oberfläche
mit einer vorgeformten 75 um dicken Polysulfonfolie
beidseitig abgedeckt und die Folie in einer Laminierungspresse unter Einwirkung von Druck (200 p.s.i.)(1,4 MPa) bei 175°C
und einer Verweilzeit in der Presse von 10 Min.auflaminiert.
In die so vorbereitete Platte werden Löcher gebohrt und der Bohrstaub abgebürstet. Auf den mit der Polysulfonfolie abgedeckten
Oberflächen werden gemäß dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren Vielebenen-Schaltungen hergestellt.
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■ Seispiel 5
Auf ein mit Epoxidharz imprägniertes Glasfasergewebe wird beidseitig eine 25 um dicke Polysulfonfolie in einer Laminierungspresse
bei 400 p.s.i. (2,8 MPa) und 175°C und einer Verweilzeit in der Presse von 10 Minuten auflaminiert.
Das so hergestellte flexible Basismaterial eignet sich ausgezeichnet für die Herstellung flexibler gedruckter
Schaltungen.
Ein Basismaterial, beispielsweise aus einem glasfaserverstärkten Hartpapier und einer hitzebeständigen thermoplastischen
Folie, welche mindestens eine Oberfläche des Unterlagematerials bedeckt und deren Dicke zwischen 10 und 500
μΐη liegt, und die weiterhin so beschaffen, ist, daß sie chemisch
behandelt und für die stromlose Metallabscheidung aktiviert werden kann. Die auf der vorbehandelten Oberfläche
abgeschiedenen Metallniederschläge zeichnen sich durch besonders gute Haftfestigkeit auf der Unterlage aus.
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Leerseite
Claims (15)
- PC-198 APatentansprüche:{ 1. J Verfahren zum Herstellen eines Basismaterials für gedruckte Schaltungen, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens auf eine der Oberflächen der Unterlage aus Metall oder Isolierstoffmaterial eine thermoplastische Folie festhaftend aufgebracht wird, und daß diese Folie aus einem aromatischen Polymer besteht, das soweit temperaturbeständig ist, daß es sich bei den im Massenlötverfahren auftretenden Temperaturen weder zersetzt noch verformt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die aufgebrachte und festhaftende Folie eine Schichtdicke zwischen 10 und 500 μΐη und vorzugsweise unter 125 μπι aufweist.
- 3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Unterlagematerial aus einem faserverstärkten harzimprägnierten Hartpapier besteht.
- 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Aushärtung des Unterlagematerials gleichzeitig mit der Verbindung der thermoplastischen Folie mit der Unterlage erfolgt.030046/0644
- 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Aushärtung des Unterlagematerials und die Verbindung der thermoplastischen Folie mit der Unterlage bei einer Temperatur von 120 bis 180° C und einem Druck von 1,5 bis 10 MPa erfolgt.
- 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der mit der Unterlage fest verbundenen Folie zum Quellen mit einem polaren Lösungsmittel behandelt wird; daß die so behandelte Oberfläche einem starken Oxydationsmittel ausgesetzt wird; und daß, zumindest inbestimmten Bezirken, die so vorbehandelte Oberfläche für die stromlose Metallabscheidung aus geeigneten Bädern sensibilisiert wird; und daß auf den sensibilisierten Bezirken stromlos Metall abgeschieden wird.
- 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Quellmittel Dimethylformamid und als Oxydationsmittel Chromsäure verwendet wird.
- 8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf mindestens eine Seite der mit der thermoplastischen Folie versehenen Unterlage nach bekannten Verfahren ein erstes elektrisches Schaltungsmuster aufgebracht wird, und daß dieses mit einer weiteren, thermoplastischen Folie abgedeckt und auf dieser Folie ein zweites elektrisches Schaltungsmuster nach bekannten Verfahren aufgebracht wird, und daß dieser Vorgang beliebig oft wiederholt wird.030046/0844
- 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Leiterzüge der verschiedenen Ebenen durch Lochungen miteinander verbunden werden, deren Wandungen metallisiert sind.
- 10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Leiterzüge der verschiedenen Ebenen miteinander verbunden werden, indem an den Verbindungsstellen die thermoplastische Folie so vorgeformt ist, daß die Kontaktstellen frei bleiben.
- 11. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Leiterzüge der verschiedenen Ebenen durch stromlose Metallabscheidung auf der hierfür sensibilisierten thermoplastischen Folie hergestellt werden.
- 12. Verfahren nach Anspruch 8 und 11, dadurch gekennzeichnet, daß die stromlos aufgebrachten Leiterzüge galvanisch verstärkt werden.
- 13. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf der thermoplastischen Folie eine Metallschicht nach bekannten Verfahren aufgebracht wird, und daß Leiterzüge nach der ebenfalls bekannten Druck- und Ätz-Technik hergestellt werden, indem die Leiterzüge durch Aufdrucken einer Abdeckmaske vor dem Ätzmittel geschützt werden.
- 14. Verfahren nach den Ansprüchen 10 und 11, dadurch gekennzeichnet, daß die thermoplastische Folie einen Stoff ent-030046/0844hält, der katalytisch auf die Metallabscheidung aus stromlos arbeitenden Bädern wirkt.
- 15. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Unterlagematerial einen Stoff enthält, der katalytisch auf die Metallabscheidung aus stromlos arbeitenden Bädern wirkt.030046/OeU
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US3481179A | 1979-04-30 | 1979-04-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3013130A1 true DE3013130A1 (de) | 1980-11-13 |
DE3013130C2 DE3013130C2 (de) | 1983-01-20 |
Family
ID=21878759
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3012889A Expired DE3012889C2 (de) | 1979-04-30 | 1980-03-31 | Basismaterial für die Herstellung gedruckter Schaltungen |
DE3013130A Expired DE3013130C2 (de) | 1979-04-30 | 1980-04-02 | Verfahren zur Herstellung eines Basismaterials für gedruckte Schaltungen |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3012889A Expired DE3012889C2 (de) | 1979-04-30 | 1980-03-31 | Basismaterial für die Herstellung gedruckter Schaltungen |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS564460A (de) |
AT (1) | AT384144B (de) |
AU (1) | AU539984B2 (de) |
CA (1) | CA1157622A (de) |
CH (1) | CH657571A5 (de) |
DE (2) | DE3012889C2 (de) |
DK (1) | DK184980A (de) |
FR (1) | FR2455616A1 (de) |
GB (1) | GB2057351B (de) |
IT (1) | IT1146956B (de) |
NL (1) | NL188674C (de) |
SE (1) | SE454125B (de) |
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- 1980-04-24 AU AU57777/80A patent/AU539984B2/en not_active Ceased
- 1980-04-25 AT AT0224680A patent/AT384144B/de not_active IP Right Cessation
- 1980-04-25 CA CA000350711A patent/CA1157622A/en not_active Expired
- 1980-04-28 CH CH3278/80A patent/CH657571A5/de not_active IP Right Cessation
- 1980-04-28 SE SE8003203A patent/SE454125B/sv not_active IP Right Cessation
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AU539984B2 (en) | 1984-10-25 |
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SE454125B (sv) | 1988-03-28 |
AT384144B (de) | 1987-10-12 |
ATA224680A (de) | 1987-02-15 |
DE3012889A1 (de) | 1980-11-06 |
NL188674C (nl) | 1992-08-17 |
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DE3012889C2 (de) | 1984-01-12 |
GB2057351B (en) | 1983-04-07 |
SE8003203L (sv) | 1980-10-31 |
FR2455616B1 (de) | 1983-12-09 |
IT1146956B (it) | 1986-11-19 |
GB2057351A (en) | 1981-04-01 |
DK184980A (da) | 1980-10-31 |
CH657571A5 (de) | 1986-09-15 |
CA1157622A (en) | 1983-11-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAP | Request for examination filed | ||
OD | Request for examination | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: PFENNING, J., DIPL.-ING. MEINIG, K., DIPL.-PHYS., PAT.-ANW., 1000 BERLIN |
|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: KOLLMORGEN CORP., SIMSBURY, CONN., US |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: PFENNING, J., DIPL.-ING., 1000 BERLIN MEINIG, K., DIPL.-PHYS. BUTENSCHOEN, A., DIPL.-ING. DR.-ING.,PAT.-ANWAELTE, 8000 MUENCHEN BERGMANN, J., DIPL.-ING., PAT.- U. RECHTSANW., 1000 BERLIN NOETH, H., DIPL.-PHYS., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |