DE3009472A1 - Verfahren und vorrichtung zum herstellen von reis mit superhohem glanz - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zum herstellen von reis mit superhohem glanz

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DE3009472A1 DE19803009472 DE3009472A DE3009472A1 DE 3009472 A1 DE3009472 A1 DE 3009472A1 DE 19803009472 DE19803009472 DE 19803009472 DE 3009472 A DE3009472 A DE 3009472A DE 3009472 A1 DE3009472 A1 DE 3009472A1
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Toshihiko Satake
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Description

Beschreibung
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Herstellen von besonders hochglänzendem Reis.
Bei einem bekannten Verfahren zum Herstellen von Reis mit superhohem Glanz ohne Zusatz von Talkum oder anderen Glanzmitteln zu den Reiskörnern wird Feuchtigkeit dazu veranlaßt, auf der Reiskornoberfläche zu haften, um die sehr dünnen Oberflächenschichten der Reiskörner zu erweichen. Diese erweichten Oberflächenschichten werden von den Körnern abgerieben, um flüßigkeitshaltige Reishaut zu erzielen, welche mit Hilfe eines Luftstromes vom Reis entfernt wird, wodurch ein Reis mit superhohem Glanz erhalten wird.
Dieses vorstehend beschriebene herkömmliche Verfahren besitzt den Nachteil, daß der erzeugte besonders hochglänzende Reis gelegentlich nicht das angestrebte Aussehen erhält. Insbesondere dann, wenn die Temperatur steigt, treten Schwierigkeiten beim Herstellen von Reis mit dem angestrebten superhohen Glanz auf.
Die Erfindung beseitigt den vorstehend genannten Nachteil des Standes der Technik. Somit verfolgt die Erfindung das Ziel, ein Verfahren zum Herstellen von Reis mit superhohem Glanz sowie eine zum Durchführen des Verfahrens geeigente Vorrichtung zu schaffen. Die Erfindung vermeidet Risse im Reiskorn und erhöht die Affinität der Reiskörner zu Wasser mit der Wirkung, daß sich Reiskörner mit dem angestrebten superhohen Glanz und hoher Qualität mit hohen Ausbeuten dadurch erzeugen lassen, daß die Oberflächenhärte der Reiskörner erhöht wird.
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Erfindungsgemäß wird das vorstehend genannte Ziel der Erfindung erreicht durch ein Verfahren zum Herstellen von "besonders hochglänzendem Reis, welches sich dadurch auszeichnet, daß ein Kühlluft-Strom den Reiskörnern zugeführt wird, welche zuvor auf eine Ausheute von weniger als 96 %, bezogen auf braunen Reis, poliert worden sind, um die Temperatur der polierten Reiskörner auf weniger als 25° C abzusenken. Der polierte Reise wird sodann befeuchtet, wobei der Kühlluftstrahl eine Feuchtigkeit enthält, die geeignet ist, die Reiskörner auf einem Gleichgewichts-Feuchtigkeitsgehalt bei einer Temperatur von weniger als 25, C zu halten. Die oberflächen der Reiskörner werden während fortdauernder Befeuchtung derselben, während auf die Reiskörner eine Luftströmung zur Einwirkung gebracht wird, so daß das Polieren der Reiskörner erfolgt.
Erfindungsgemäß wird das vorstehend erwähnte Ziel erreicht mit Hilfe einer Vorrichtung zum Erzeugen von Reis mit superhohem Glanz, enthaltend eine Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung unter Einschluß eines mit einem Reiskorn-Einlaß und einem Reiskorn-Auslaß versehenen Gefäßes, sowie eine Luftzufuhreinrichtung mit einer Luftkühlungseinrichtung und einer Luftbefeuchtungseinrichtung sowie einer öffnung in einem Reiskorndurchtritt in das Gefäß. Ferner ist eine Reis-Poliereinrichtung vorgesehen, die einen Reiskorn-Zuführabschnitt aufweist, der an den Reiskorn-Auslaß und die Reiskorn-Eühlungs- und Befeuchtungseinrichtung angeschlossen ist. Ferner sind vorgesehen eine zylindrische Lochtrommel, die mit dem Reiskorn-Zuführabschnitt in Verbindung steht, eine Belüftungs- und Reispolierwalze, die drehbar in der Lochtrommel angeordnet ist, sowie eine Entlüftungseinrichtung und eine Einrichtung zum Zuführen von Feuchtigkeit, wobei letztere an eine Reispolierkammer angeschlossen ist, die zwischen der Lochtrommel und der Belüftungs- und Reispolierwalze angeordnet ist.
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Ein "bevorzugter Gedanke liegt in einem Verfahren zum Herstellen von Reis mit superhohem Glanz, "bei welchem auf eine Ausbeute von weniger als 96 %, bezogen auf braunen Reis, polierte Reiskörner auf eine Temperatur von weniger als 25° C abgekühlt werden, indem den Reiskörnern ein stromkühlender und befeuchtigender Luft mit einer Feuchtigkeit zugeführt wird, welche ausreicht, um die Reiskörner auf einem Gleichgewichts-Feuchtigkeitsgehalt zu halten, worauf die Reiskörner poliert werden, während sie befeuchtet und einem Luftstrom ausgesetzt werden.
Eine Vorrichtung zum Erzeugen von Reis mit superhohem Glanz enthält Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtigungseinrichtungen sowie Reis-Poliereinrichtungen, die an die Reiskorn-Kühlungsund -Befeuchtungseinrichtung angeschlossen ist, um die Reiskörner mittels Reiben zu polieren, während man die Reiskörner befeuchtet und ihnen einen Luftstrom zuführt.
Eine Vorrichtung zum Erzeugen von Reis mit Superhochglanz enthaltend eine Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung sowie eine Reispoliereinrichtung, die an die Reiskornkühlungs- und Befeuchtungseinrichtung angeschlossen ist, um die Reiskörner unter Befeuchtung durch Reiben zu polieren, während den Reiskörnern ein Luftstrom zugeführt wird.
Weitere Merkmale, Vorteile und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispieles anhand der Zeichnung. In dieser zeigt:
Fig. 1 eine teilweise geschnitten dargestellte Vorderansicht einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig. 2 eine Seitenansicht von wichtigen Teilen der in Fig. 1 dargestellten Ausführungsform und
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Fig. 3 ein Diagramm, welches die Beziehung zwischen dem Gleichgewichts-Feuchtigkeitsgehalt der Reiskörner und der relativen Feuchte derselben darstellt.
Wie Fig. 1 zu entnehmen, gehört zu der allgemein mit dem Bezugszeichen 1 "bezeichneten Reis-Poliereinrichtung ein im oberen Abschnitt dieser Einrichtung vorgesehener Reis-Zuführabschnitt 2. Eine perforierte Wandungen aufweisende zylindrische Lochtrommel 3 besitzt eine Belüftungs- und Reispolierwalze 5i die im Inneren der Trommel angeordnet ist und von einer Hohlwelle 4 gehalten und angetrieben wird. Eine Reispolierkammer 6 ist zwischen der Lochtrommel 3 und der Belüftungs- und Reispolierwalze 5 definiert. Die Antriebswelle 4 ist mit einer Vielzahl von Belüftungsöffnungen 7 in einem Abschnitt versehen, in welchem die Belüftungs- und Reispolierwalze 5 darauf befestigt ist. Diese Belüftungs- und Polierrolle 5 ist mit Axialschlitzen 9 im Bereich von Vorsprüngen 8 zum Reiben der Reiskörner versehen, um den Innenraum der Belüftungs- und Polierwalze 5 in StrÖmungsverbindung mit der Reispolierkammer 6 zu halten. Die Drehwelle 4 tragt außerdem eine Reiskornübergabewalze 10, die angrenzend an die Belüftungs- und Polier-r walze 5 angeordnet ist.
Eine Luft-Zuführleitung 13 verbindet einen Luftbehälter 12-eines Luftverdichters 11 mit einer Düse 14-, die einem Ende der Drehwelle 4 gegenüberliegend angeordnet ist. Die Düse 14 ist mittels einer Speisewasserleitung 16 mit einem Wasserbehälter 15 verbunden und steht vermittels der hohlen"Drehwelle 4 mit den Belüftungsöffnungen 7 in Strömungsverbindung. Ein Filter 17 und ein elektromagnetisches Steuerventil 18 sind in der Speisewasserleitung 16 vorgesehen. Die vorstehend beschriebenen Teile bilden eine Einrichtung zum Zusetzen von Feuchtigkeit.
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Der Außenumfang der Lochtrommel 3 steht mit einem Luftabzug 20 eines Sauggebläses 19 in Verbindung, welches Luft aus der Reispolierkammer 6 saugt. Diese Teile bilden eine Entlüftungseinrichtung, um die Reishäute zu entfernen und die Reiskorner mittels eines Luftstromes zu entfeuchten, der durch die Schlitze 9 der Belüftungs- und Polierwalze 5 über die Belüftungsöffnungen 7 der Drehwelle 4 eintritt.
Die allgemein mit dem Bezugszeichen 21 bezeichnete Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung umfaßt eine Gefäß 27, welches in seinem oberen Abschnitt einen Reiseinlaß 25 und in seinem unteren Abschnitt einen Reisauslaß 26 besitzt. Das Gefäß 27 enthält eine Vielzahl von in Reihen angeordneten Strömungsbetten 24-, die an ihrem unteren Ende jeweils ein offenes Ende 22 und an ihrer Spitze ein geschlossenes Ende 23 aufweisen. Die Vielzahl von Strömungsbettreihen sind in einer Vielzahl von übereinander angeordneten Schichten so angeordnet, daß die Strömungsbetten 24 benachbarter Schichten relativ zueinander versetzt sind, wobei abwechselnde Schichten der Flußbetten 24 an ihrem einen Ende mit einer Luftzuführeinrichtung 28 in Strömungsverbindung sind, die vermittels einer Luftzuführkammer 30 (Fig. 2) mit einem Luftgebläse 29 verbunden sind, während die übrigen Schichten der Fließbetten 24 an ihrem anderen Ende mit einem Luft-Absaugabschnitt 31 vermittels einer Luftabsaugkammer 32 in Strömungsverbindung sind. Der Reiskornauslaß 26 ist an dem Zuführabschnitt 2 der Reispoliereinrichtung 1 angeschlossen.
Die Luftzufuhreinrichtung 28 enthält einen Wärmetauscher einer darin angeordneten Luftkühlungseinrichtung 33 und ist an eine Luftbefeuchtungseinrichtung 35 angeschlossen, welche einen Wasserbehälter 36 und eine Speisewasserleitung 39 umfaßt, die einen Filter 37 und ein Ventil 38 aufweist, so daß gekühlte und befeuchtete Luft dem Reiskorndurchtritt
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in der Reiskornkühlungs- und Befeuchtungseinrichtung 21 zugeführt werden kann. Im folgenden wird die Arbeitsweise der erfindungsgemäßen Vorrichtung "beschrieben. Die durch den Reiskorneinlaß 25 der Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung 21 in den Behälter 27 eingebrachten Reiskörner werden bei ihrer Abwärtsbewegung durch den Behälter 27 agitiert, indem sie von der Schichtenvielzahl von Strömungsbetten 24, die in versetzter Anordnung zueinander angeordnet sind, geschüttelt und gesammelt werden. Bei diesem Vorgang werden die Reiskörner abgekühlt und befeuchtet. Dieses erfolgt mittels gekühlter und befeuchteter Luft, die von der Luftkühlungseinrichtung 33 gekühlt und von der Luftbefeuchtungseinrichtung 35 befeuchtet ist. Diese Luft wird über die Luftzuführkammer 30 den Strömungsbetten 24 zugeführt und strömt aus den unteren offenen Ende 22 der Strömungsbetten aus. Nachdem sich die Reiskörner durch das Gefaßt 27 bewegt haben und gekühlt und befeuchtet sind, werden die Reiskörner aus dem Behälter 27 vermittels des Reiskornauslasses 26 ausgegeben.
Die dem Behälter 27 zugeführte gekühlte und befeuchtete Luft strömt durch die unteren offenen Enden 22 der Strömungsbetten 24 alternierender Schichten, um die Reiskörner zu. kühlen und zu befeuchten. Nach dem Kühlen und Befeuchten der Reikörner strömt diese Luft in die unteren Enden 22 der Fließbetten 24 der übrigen Schichten der Strömungsbetten 24, wie in den Fig. 1 und 2 mit Hilfe von Pfeilen veranschaulicht, sodann strömt die Luft durch die Luftabsaugkammer 32 und den Luftabsäugabschnitt 31, um nach außen abgeführt zu werden. Die von der Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung abgekühlten und befeuchteten Reiskörner werden nach Austragen aus dem Gefäß 27 über den Reiskornauslaß 26 dem Reiskornzuführabschnitt 2 zugeführt, der im oberen Abschnitt der Reispoliereinrichtung 1 angeordnet ist. Aus diesem Zuführabschnitt gelangen die Reiskörner mit Hilfe der Reiskornförderwalze
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in die Reispolierkammer 6. In der Reispolierkammer 6 werden die Reiskörner mit Macht bewegt und herumgeschleudert, wenn sich die mit den Vorsprüngen 8 versehene Belüftungs- und Reispolierwalze 5 dreht, so daß die Reiskörner aneinander reiben und durch Reibungskraft poliert werden.
Zu dieser Zeit wird Luft aus dem Luftbehälter 12 des Luftverdichters 11 der Düse 14· zugeführt und aus dieser ausgedüst. Die ausgedüste Luft ist mit Wasser befeuchtet, da in der Düse 14- die zugeführt Luft mit Wasser vermischt wird, welches durch die Speisewasserleitung 16 zugeführt wird, die wiederum mit dem Wasserbehälter 15 verbunden ist· Die befeuchtete Luft strömt durch die hohle Drehwelle 4 und wird durch die in der Drehwelle 4 ausgebildeten Belüftungsöffnungen 7 sowie durch die in der Belüftungs- und Polierwalze 5 ausgebildeten Schlitze 9 in die Polierkammer 6 eingebracht, was mit Hilfe der vorstehend beschriebenen Belüftungseinrichtung erfolgt.
Auf diese Weise wird erreicht, daß die Reiskornoberflächen mit einer Flüßigkeit benetzt werden und daß diese Flüßigkeit von den Reiskornoberflächen absorbiert wird, um die sehr dünnen Oberflächenschichten der Reiskörner zu erweichen, so daß diese Oberflächenschichten durch Reibung in der Reispolierkammer 6 entfernt werden können. Die von den Reiskörnern entfernten Oberflächenschichten (Reishäute) werden durch die Perforationen der Lochtrommel 3 mit Hilfe der Luftabzugseinrichtung 20 unter der Wirkung des Sauggebläses 19 nach außen abgeführt, so daß die Feuchtigkeit und die abgelösten Oberflächenschichten von den Reiskörnern getrennt werden.
Bei den durch den Reiseinlaß 25 der Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung 21 zugeführten Reiskörnern handelt es sich um weißen Reis, der in einem Ausmaß von weniger als
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96 %, bezogen auf braunen Reis, poliert worden ist. Die beispielsweise bei 31 C zugeführten Reiskörner bewegen sich durch die Einrichtung 21 mit einer Durchflußmenge von 4- t/h und werden mit Hilfe von in einer Menge von 50 m-/min herbeiströmender Luft mit einer Temperatur von 12° O und einer Feuchtigkeit von 90 % gekühlt und befeuchtet. Die genannte 90 %ige Feuchtigkeit liegt oberhalb der relativen Feuchtigkeit von 63 %, entsprechend dem Gleichgewichts~ feuchtigkeitsgehalt von 15 % von Reiskörnern (vergleiche Fig. 3), so daß die Reiskörner auf 23° C abgekühlt und befeuchtet werden. Die obigen Daten sind lediglich beispielsweise genannt.
In der Reispoliereinrichtung wird Wasser in einer Menge von 2 bis 50 kg/h und Luft in einer Menge von 0,2 bis 15 nr/mi den Reiskörnern zugefügt, die sich mit einer Durchflußmenge von 1 t/h durch die Einrichtung hindurch bewegen. Wasser "und Luft werden, wie angegeben, zugesetzt, um zu erreichen, daß sich Feuchtigkeit in Form von Flüßigkeit an den Reiskornoberflächen ansetzt und von diesen Oberflächen absorbiert wird. Die erweichten Oberflächenschichten der Reiskörner haben eine sehr geringe Dicke und werden unter der Reibungswirkung der Reispolierwalze 5 sowie der gegenseitigen Reibung der Reiskörner aneinander entfernt. Die Feuchtigkeit enthaltenden Reiskornoberflächenschichten (Reishäute) werden durch die in der Wandung der Trommel 3 ausgebildeten Perforationen nach außen abgeführt, so daß Reis mit extremem Hochglanz erzeugt wird.
Aus der vorstehenden Beschreibung geht hervor, daß sich das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Reis mit superhohem Glanz dadurch auszeichnet, daß zuvor bereits in einem Ausmaß von weniger als 96 %, bezogen auf braunen Reis, polierten Reiskörnern Kühl- und Befeuchtigungsluft mit einer
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Temperatur von weniger als 25° C und einer Feuchtigkeit, welche ausreicht, um den Feuchtigkeitsgehalt der Reiskörner auf einem Gleichgewichtswert zu halten, so daß die Temperatur der Reiskörner auf weniger als 25° C abgesenkt wird, zugeführt wird und die Oberflächen der Reiskörner unter fortdauernder Befeuchtung derselben abgerieben werden, so daß die Reiskörner poliert werden können, während ihnen ein Luftstrom zugeführt wird. Der durch die erfindungsgemäße Reisherstellung erreichte Vorteil ist vielfältig. So wird das · Ausbilden von Rissen in den Reiskornoberflächeh beim Trocknen und Kühlen vermieden, wird ein gutes Haften der Feuchtigkeit an den Reiskornoberflächen erreicht, weil die Feuchtigkeit dem Reis nicht bei hohen Temperaturen zugesetzt wird, werden durch das Kühlen verbesserte Oberflächenhärtenerreicht, welche zu einer weichen, superhochglänzenden Oberfläche führen, die erreicht wird, indem sich die Reiskörner scheuernd aneinander reiben. Außerdem wird eine gesteigerte Reisqualität als Folge der bei niedriger Temperatur durchgeführten Behandlung erreicht und wegen der geringen Verluste ein hohes Ausbringen gewährleistet.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zum Erzeugen von Reis mit superhohem Glanz zeichnet sich dadurch aus, daß die eine Luftkühlungseinrichtung und eine Luftbefeuchtungseinrichtung aufweisende Luftzuführeinrichtung an einen Reiskorndurchtritt der Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung angeschlossen ist, daß ein Reiskornauslaß der Reiskornkühlungsund Beleuchtungseinrichtung-angeschlossen ist, welche eine mit perforierten Wandungen ausgestattete Zylindertrommel aufweist, in welcher eine Belüftungs- und Reispolierwalze drehbar gelagert ist, wobei die mit perforierten Wandungen versehene Zylindertrommel und die Belüftungs- und Reispolierwalze zwischen sich eine Reispolierkammer definieren, die mit einer Entlüftungseinrichtung und einer Feuchtigkeitszuführeinrichtung in
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Verbindung steht.
Zusätzlich, zu den "bereits genannten Vorteilen erbringt die erfindungsgemäße Vorrichtung noch die Vorteile, daß die Reiskörner gleichzeitig und gleichförmig gekühlt und befeuchtet werden, daß das Kühlen und Befeuchten der Reiskörner kontinuierlich erfolgt» wie auch das Befeuchten, Reiben und Polieren der Körner kontinuierlich erfolgt. Ferner besitzt die Vorrichtung eine insgesamt kompakte Bauweise und gewährleistet einen hohen Wirkungsgrad.
Gegebenenfalls kann eine Glasiertrommel vorgesehen sein, um den aus der Reispoliereinrichtung ausgetragenen Reiskörnern eine zusätzliche Behandlung zuteil werden zu lassen, die zu einer weiteren Steigerung des Reisglanzes führt.
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Claims (3)

PATtISi TA N W/r. '-TF. A. C-iRÜNECKER W. STOCKMAtR K. SCHUMANN DR ΛΒΙ NAT. ■ OPL-I1HYS. P. H. JAKOB cm-ma G. BEZOLD Olt HER WX'! 8 MÜNCHEN 22 lUANSTRASSK 43 866 SATAKE ENGIMEEEIFG CO., LTD. 19-10, Ueno-1-chome, Taito-ku, Tokyo Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Reis mit superhohem Glanz
1. Verfahren zum Erzeugen von Reis mit superhohem Glanz, dadurch gekennzeichnet , daß ein Kühlluftstrom zu zuvor auf ein Ausmaß von weniger als 96 %, "bezogen auf braunen Reis, polierten Reiskörnern geleitet wird, um die Temperatur der Reiskörner auf weniger als 25° O abzusenken und dieselben zu befeuchten, wobei dieser Kühlluftstrom eine Feuchtigkeit enthält, die imstande ist, die Reiskörner auf einem Gleichgewichtsfeuchtigkeitsgehalt bei einer Temperatur von weniger als 25° C zu halten, und daß die Oberflächen der Reiskörner unter weiterer Befeuchtung derselben gerieben werden, während die Reiskörner dem Luftstrom ausgesetzt werden, um die Reiskörner zu polieren.
2. Vorrichtung zum Erzeugen von Reis mit superhohem Glanz, gekennzeichnet durch eine Reiskorn-Kühlungsund Befeuchtungseinrichtung (21), die ein mit einem Reis~ korneinlaß (25) und einem Reiskornauslaß (26) versehenes Gefäß (27) enthält, eine Luftzuführeinrichtung (28), welche eine Luftkühlungseinrichtung (33) und eine Luftbe-
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TELEFON (OSO) 39 28 02 TELEX OB-OOSBO TgLEGRAMME MONAPAT TELEKOPIERER
feuchtungseinrichtung (35) enthält und in einem Reiskorndurchtritt in dem Gefäß mündet und durch eine Reispoliereinrichtung (1), enthaltend einen Reiskorn-Zuführabschnitt (2), der an den Reiskornauslaß des Gefäßes der Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung angeschlossen ist,
einen mit dem Reiskornzuführäbschnitt in Strömungsverbindung stehenden Zylinder (3) mit perforierter Wandung,
eine drehbar in diesen Zylinder gelagerte Belüftungs- und Reispolierwalze (5), und eine Entlüftungseinrichtung (19, 20) sowie eine Feuchtigkeits-Zusetzeinrichtung (14· - 18), welche an eine Reispolierkammer (6) angeschlossen ist,
die zwischen dem Zylinder mit perforierter Wandung und
der Belüfungs- und Reispolierwalze ausgebildet ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß das Gefäß (27) der Reiskorn-Kühlungsund Befeuchtungseinrichtung (21) eine Vielzahl von Reihen von Strömungsbetten (24) aufweist, wobei jedes der Strömungsbetten eine geschlossene Spitze (23) und ein offenes Bodenende (22) aufweist und die Strömungsbetten in einer Vielzahl von Schichten derart angeordnet sind, daß die Strömungsbetten benachbarter Schichten relativ zueinander versetzt angeordnet sind, wobei alternatierende Schichten dieser
Strömungsbetten in Strömungsverbindung mit der Luftzufuhreinrichtung (28) stehen und die übrigen Schichten der
Strömungsbetten in Strömungsverbindung mit einem Luft-Absaugabschnitt (31) des Gefäßes (27) stehen.
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