CH649930A5 - Verfahren und vorrichtung zum erzeugen von reiskoernern mit hohem glanz. - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen von Reiskörnern mit hohem Glanz nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1, sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.
Bei einem bekannten Verfahren zum Herstellen von Reis mit hohem Glanz ohne Zusatz von Talkum oder anderen Glanzmitteln zu den Reiskörnern wird Feuchtigkeit dazu veranlasst, auf der Reiskornoberfläche zu haften, um sehr dünne Oberflächenschichten der Reiskörner zu erweichen. Diese erweichten Oberflächenschichten werden von den Körnern abgerieben, um flüssigkeitshaltige Reishaut zu erzielen, welche mit Hilfe eines Luftstromes vom Reis entfernt wird, wodurch ein Reis mit hohem Glanz erhalten wird.
Dieses vorstehend beschriebene herkömmliche Verfahren besitzt den Nachteil, dass der erzeugte besonders hochglänzende Reis gelegentlich nicht das angestrebte Aussehen erhält. Insbesondere dann, wenn die Temperatur steigt, treten Schwierigkeiten beim Herstellen von Reis mit dem angestrebten hohen Glanz auf, indem der fertigpolierte Reis häufig unansehnlich ist und ein durch Risse und Verfärbungen beeinträchtiges Aussehen aufweist.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung eines Verfahrens sowie einer Vorrichtung zur Erzeugung von Reis mit hohem Glanz, welche den obgenannten Nachteil des Standes der Technik vermeiden.
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs genannten Art erfmdungsgemäss entsprechend dem Kennzeichen des Anspruchs 1 gelöst.
Die Erfindung vermeidet Risse im Reiskorn und erhöht die Affinität der Reiskörner zu Wasser mit der Wirkung,
dass sich Reiskörner mit dem angestrebten hohen Glanz und hoher Qualität mit hohen Ausbeuten dadurch erzeugen lassen, dass die Oberflächenhärte der Reiskörner erhöht wird.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ferner eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens nach Anspruch 1.
Zweckmässige Weiterausgestaltungen der erfindungsgemässen Vorrichtung sind Gegenstand der Ansprüche 3 bis 9.
Nachstehend wird die Erfindung anhand der Zeichnung beispielsweise erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 eine teilweise im Schnitt dargestellte Vorderansicht einer beispielsweisen Ausführungsform einer erfindungsgemässen Vorrichtung;
Fig. 2 eine Seitenansicht von wichtigen Teilen der in Fig. 1 dargestellten Ausführungsform; und
Fig. 3 ein Diagramm, welches die Beziehung zwischen dem Gleichgewichts-Feuchtigkeitsgehalt der Reiskörner und der relativen Feuchte der Luft, welche eine Temperatur von etwa 23 °C aufweist und in Kontakt mit den Reiskörnern steht, darstellt.
Wie Fig. 1 zu entnehmen, gehört zu der allgemein mit dem Bezugszeichen 1 bezeichneten Reis-Poliereinrichtung ein im oberen Abschnitt dieser Einrichtung vorgesehener Reis-Zuführabschnitt 2. Eine perforierte Wandungen aufweisende zylindrische Lochtrommel 3 besitzt eine Belüf-tungs- und Reispolierwalze 5, die im Inneren der Trommel angeordnet ist und von einer Hohlwelle 4 gehalten und angetrieben wird. Eine Reispolierkammer 6 ist zwischen der Lochtrommel 3 und der Belüftungs- und Reispolierwalze 5 definiert. Die Antriebswelle 4 ist mit einer Vielzahl von Belüftungsöffnungen 7 in einem Abschnitt versehen, in welchem die Belüftungs- und Reispolierwalze 5 darauf befestigt ist. Diese Belüftungs- und Polierrolle 5 ist mit Axialschlitzen 9 im Bereich von Vorsprüngen 8 zum Reiben der Reiskörner versehen, um den Innenraum der Belüftungs- und Polierwalze 5 in Strömungsverbindung mit der Reispolierkammer 6 zu halten. Die Drehwelle 4 trägt ausserdem eine Reiskornübergabewalze 10, die angrenzend an die Belüftungs- und Polierwalze 5 angeordnet ist.
Eine Luft-Zuführleitung 13 verbindet einen Luftbehälter 12 eines Luftverdichters 11 mit einer Düse 14, die einem Ende der Drehwelle 4 gegenüberliegend angeordnet ist. Die Düse 14 ist mittels einer Speisewasserleitung 16 mit einem Wasserbehälter 15 verbunden und steht vermittels der hohlen Drehwelle 4 mit den Belüftungsöffnungen 7 in Strömungsverbindung. Ein Filter 17 und ein elektromagnetisches Steuerventil 18 sind in der Speisewasserleitung 16 vorgesehen.
Die vorstehend beschriebenen Teile bilden eine Einrichtung zum Zusetzen von Feuchtigkeit.
Der Aussenumfang der Lochtrommel 3 steht mit einem Lufttabzug 20 eines Sauggebläses 19 in Verbindung, welches Luft aus der Reispolierkammer 6 saugt. Diese T/sile bilden eine Entlüftungseinrichtung, um die Reishäute zu entfernen und die Reiskörner mittels eines Luftstromes zu entfeuchten, der durch die Schlitze 9 der Belüftungs- und Polierwalze 5 über die Belüftungsöffnungen 7 der Drehwelle 4 eintritt.
Die allgemein mit dem Bezugszeichen 21 bezeichnete Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung umfasst ein Gefäss 27, welches in seinem oberen Abschnitt einen Reiseinlass 25 und in seinem unteren Abschnitt einen Reis-auslass 26 besitzt. Das Gefäss 27 enthält eine Vielzahl von in Reihen angeordneten Fliessbetten 24, die an ihrem unteren Ende jeweils ein offenes Ende 22 und an ihrer Spitze ein geschlossenes Ende 23 aufweisen. Die Vielzahl von Fliessbett-reihen sind in einer Vielzahl von übereinander angeordneten Schichten so angeordnet, dass die Fliessbetten 24 benachbarter Schichten relativ zueinander versetzt sind, wobei abwechselnde Schichten der Fliessbetten 24 an ihrem einen Ende mit einer Luftzuführeinrichtung 28 in Strömungsverbindung sind, die vermittels einer Luftzuführkammer 30 (Fig. 2) mit einem Luftgebläse 29 verbunden sind, während die übrigen Schichten der Fliessbetten 24 an ihrem anderen Ende mit einem Luft-Absaugabschnitt 31 vermittels einer Luftabsaugkammer 32 in Strömungsverbindung sind. Der Reiskornaus-lass 26 ist an dem Zuführabschnitt 2 der Reispoliereinrichtung 1 angeschlossen.
Die Luftzuführeinrichtung 28 enthält einen Wärmetauscher 34 einer darin angeordneten Luftkühlungseinrichtung 33 und ist an eine Luftbefeuchtungseinrichtung 35 angeschlossen, welche einen Wasserbehälter 36 und eine Speisewasserleitung 39 umfasst, die einen Filter 37 und ein Ventil 38 aufweist, so dass gekühlte und befeuchtete Luft dem Reiskorndurchtritt in der Reiskornkühlungs- und Befeuchtungseinrichtung 21 zugeführt werden kann. Im folgenden wird die Arbeitsweise der Vorrichtung beschrieben. Die durch den Reiskorneinlass 25 der Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung 21 in den Behälter 27 eingebrachten Reiskörner werden bei ihrer Abwärtsbewegung durch den Behälter 27 agitiert, indem sie von der Schichtenvielzahl von Fliessbetten 24, die in versetzter Anordnung zueinander angeordnet sind, geschüttelt und gesammelt werden. Bei diesem Vorgang werden die Reiskörner abgekühlt und befeuchtet. Dieses erfolgt mittels gekühlter und befeuchteter Luft, die von der Luftkühlungseinrichtung 33 gekühlt und von der Luftbefeuch5
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Die dem Behälter 27 zugeführte gekühlte und befeuchtete Luft strömt durch die unteren offenen Enden 22 der Fliessbetten 24 alternierender Schichten, um die Reiskörner zu kühlen und zu befeuchten. Nach dem Kühlen und Befeuchten der Reiskörner strömt diese Luft in die unteren Enden 22 der Fliessbetten 24 der übrigen Schichten der Fliessbetten 24, wie in den Fig. 1 und 2 mit Hilfe von Pfeilen veranschaulicht. Sodann strömt die Luft durch die Luftabsaugkammer 32 und den Luftabsaugabschnitt 31, um nach aussen abgeführt zu werden. Die von der Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung 21 abgekühlten und befeuchteten Reiskörner werden nach Austragen aus dem Gefass 27 über den Reis-kornauslass 26 dem Reiskornzuführabschnitt 2 zugeführt, der im oberen Abschnitt der Reispoliereinrichtung 1 angeordnet ist. Aus diesem Zuführabschnitt gelangen die Reiskörner mit Hilfe der Reiskornförderwalze 10 in die Reispolierkammer 6. In der Reispolierkammer 6 werden die Reiskörner mit Macht bewegt und herumgeschleudert, wenn sich die mit den Vorsprüngen 8 versehene Belüftungs- und Reispolierwalze 5 dreht, so dass die Reiskörner aneinander reiben und durch Reibungskraft poliert werden.
Zu dieser Zeit wird Luft aus dem Luftbehälter 12 des Luftverdichters 11 der Düse 14 zugeführt und aus dieser aus-gedüst. Die ausgedüste Luft ist mit Wasser befeuchtet, da in der Düse 14 die zugeführte Luft mit Wasser vermischt wird, welches durch die Speisewasserleitung 16 zugeführt wird, die wiederum mit dem Wasserbehälter 15 verbunden ist. Die befeuchtete Luft strömt durch die hohle Drehwelle 4 und wird durch die in der Drehwelle 4 ausgebildeten Belüftungsöffnungen 7 sowie durch die in der Belüftungs- und Polierwalze 5 ausgebildeten Schlitze 9 in die Polierkammer 6 eingebracht, was mit Hilfe der vorstehend beschriebenen Belüftungseinrichtung erfolgt.
Auf diese Weise wird erreicht, dass die Reiskornoberflächen mit einer Flüssigkeit benetzt werden und dass diese Flüssigkeit von den Reiskornoberflächen absorbiert wird, um die sehr dünnen Oberflächenschichten der Reiskörner zu erweichen, so dass diese Oberflächenschichten durch Reibung in der Reispolierkammer 6 entfernt werden können. Die von den Reiskörnern entfernten Oberflächenschichten (Reishäute) werden durch die Perforationen der Lochtrommel 3 mit Hilfe der Luftabzugseinrichtung 20 unter der Wirkung des Sauggebläses 19 nach aussen abgeführt, so dass die Feuchtigkeit und die abgelösten Oberflächenschichten von den Reiskörnern getrennt werden.
Bei den durch den Reiseinlass 25 der Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung 21 zugeführten Reiskörnern handelt es sich um weissen Reis, der einen Feuchtigkeitsgehalt von 15% aufweist, und in einem Ausmass von weniger als 96%, bezogen auf braunen Reis, poliert worden ist. Die beispielsweise bei 31 °C zugeführten Reiskörner bewegen sich durch die Einrichtung 21 mit einer Durchflussmenge von 4 t/h und werden mit Hilfe von in einer Menge von 50 m3/'min herbeiströmender Luft mit einer Temperatur von 12 °C und einer Feuchtigkeit von 90% gekühlt und befeuchtet. Die genannte 90%ige Feuchtigkeit liegt oberhalb der relativen Feuchtigkeit von 63%, entsprechend dem Gleichgewichtsfeuchtigkeitsgehalt von 15% von Reiskörnern (vergleiche Fig. 3), so dass die Reiskörner auf 23 °C abgekühlt und befeuchtet werden. Die obigen Daten sind lediglich beispielsweise genannt.
In der Reispoliereinrichtung wird Wasser in einer Menge von 2 bis 50 kg/h und Luft in einer Menge von 0,2 bis 15 m3/ min den Reiskörnern zugefügt, die sich mit einer Durchflussmenge von 1 t/h durch die Einrichtung hindurch bewegen. Wasser und Luft werden, wie angegeben, zugesetzt, um zu erreichen, dass sich Feuchtigkeit in Form von Flüssigkeit an den Reiskornoberflächen ansetzt und von diesen Oberflächen absorbiert wird. Die erweichten Oberflächenschichten der Reiskörner haben eine sehr geringe Dicke und werden unter der Reibungswirkung der Reispolierwalze 5 sowie der gegenseitigen Reibung der Reiskörner aneinander entfernt. Die Feuchtigkeit enthaltenden Reiskornoberflächenschichten (Reishäute) werden durch die in der Wandung der Trommel 3 ausgebildeten Perforationen nach aussen abgeführt, so dass Reis mit extremem Hochglanz erzeugt wird.
Aus der vorstehenden Beschreibung geht hervor, dass sich das erfindungsgemässe Verfahren zur Herstellung von Reis mit superhohem Glanz dadurch auszeichnet, dass zuvor bereits in einem Ausmass von weniger als 96%, bezogen auf braunen Reis, polierten Reiskörnern Kühl- und Befeuchti-gungsluft mit einer Temperatur von weniger als 25 °C und einer Feuchtigkeit, welche ausreicht, um den Feuchtigkeitsgehalt der Reiskörner auf einem Gleichgewichtswert zu halten, so dass die Temperatur der Reiskörner auf weniger als 25 °C abgesenkt wird, zugeführt wird und die Oberflächen der Reiskörner unter fortdauernder Befeuchtung derselben abgerieben werden, so dass die Reiskörner poliert werden können, während ihnen ein Luftstrom zugeführt wird. Der durch die erfindungsgemässe Reisherstellung erreichte Vorteil ist vielfältig. So wird das Ausbilden von Rissen in den Reiskornoberflächen beim Trocknen und Kühlen vermieden, wird ein gutes Haften der Feuchtigkeit an den Reiskornoberflächen erreicht, weil die Feuchtigkeit dem Reis nicht bei hohen Temperaturen zugesetzt wird, werden durch das Kühlen verbesserte Oberflächenhärten erreicht, welche zu einer weichen, superhochglänzenden Oberfläche führen, die erreicht wird, indem sich die Reiskörner scheuernd aneinander reiben. Ausserdem wird eine gesteigerte Reisqualität als Folge der bei niedriger Temperatur durchgeführten Behandlung erreicht und wegen der geringen Verluste ein hohes Ausbringen gewährleistet.
Die Vorrichtung zum Erzeugen von Reis mit superhohem Glanz zeichnet sich dadurch aus, dass die eine Luftkühlungseinrichtung und eine Luftbefeuchtungseinrichtung aufweisende Luftzuführeinrichtung an einen Reiskorndurchtritt der Reiskorn-Kühlungs- und Befeuchtungseinrichtung angeschlossen ist, dass ein Reiskornauslass der Reiskornküh-lungs- und Befeuchtungseinrichtung angeschlossen ist, welche eine mit perforierten Wandungen ausgestattete Zylindertrommel aufweist, in welcher eine Belüftungs- und Reispolierwalze drehbar gelagert ist, wobei die mit perforierten Wandungen versehene Zylindertrommel und die Belüftungsund Reispolierwalze zwischen sich eine Reispolierkammer definieren, die mit einer Entlüftungseinrichtung und einer Feuchtigkeitszuführeinrichtung in Verbindung steht.
Zusätzlich zu den bereits genannten Vorteilen erbringt diese Vorrichtung noch die Vorteile, dass die Reiskörner gleichzeitig und gleichförmig gekühlt und befeuchtet werden, dass das Kühlen und Befeuchten der Reiskörner kontinuierlich erfolgt, wie auch das Befeuchten, Reiben und Polieren der Körner kontinuierlich erfolgt. Ferner besitzt die Vorrichtung eine insgesamt kompakte Bauweise und gewährleistet einen hohen Wirkungsgrad.
Gegebenenfalls kann eine Glasiertrommel vorgesehen sein, um den aus der Reispoliereinrichtung ausgetragenen Reiskörnern eine zusätzliche Behandlung zuteil werden zu lassen, die zu einer weiteren Steigerung des Reisglanzes führt.
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1. Verfahren zum Erzeugen von Reis mit hohem Glanz, bei dem man auf ein Ausmass von weniger als 96%, bezogen auf braunen Reis, vorpolierte Reiskörner durch Reiben fertigpoliert während man ihre Oberflächen gleichzeitig mittels eines feuchten Luftstromes befeuchtet, dadurch gekennzeichnet, dass man unmittelbar vor dem Fertigpoliervorgang die vorpolierten Reiskörner auf weniger als 25 °C abkühlt und gleichzeitig befeuchtet durch direkten Kontakt eines feuchten Kühlluftstromes, wobei die feuchte Kühlluft eine Feuchtigkeit aufweist, die genügend ist, um einen Gleichge-wichtsfeuchtigkeitsgehalt der Reiskörner bei der Temperatur der feuchten Kühlluft auf ein Niveau zu bringen, das gleich oder über dem aktuellen Feuchtigkeitsgehalt der vorpolierten Reiskörner liegt, um dadurch zu verhindern, dass die vorpolierten Reiskörner durch deren Kühlung getrocknet werden.
2. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch ein mit einer Einlassöffnung (25) und einer Auslassöffnung (26) versehenes Gefass (27), welches in seinem Innern einen Transportkanal mit stromauf- und stromabwärts sich befindenden Enden, die mit der Ein- bzw. Auslassöffnung (25, 26) in Verbindung stehen, bildet; wobei dieser Transportkanal dem auf ein Ausmass von weniger als 96%, bezogen auf braunen Reis, vorpolierten Reis erlaubt, von der Einlassöffnung (25) des Gefässes (27) bis zu dessen Auslassöffnung (26) zu passieren und über die letztere aus dem Gefass (27) abgegeben zu werden; mit dem Transportkanal in Verbindung stehende Zufuhrmittel (28, 33, 35) zur Zufuhr von kühlender und befeuchtender Luft in diesen Transportkanal, um die kühlende und befeuchtende Luft in direkten Kontakt mit den durch den Transportkanal strömenden Reiskörnern zu bringen und dadurch die Reiskörner zu ihrer Erhärtung abzukühlen und gleichzeitig die Reiskörner zu befeuchten, um zu verhindern, dass sich in den Reiskörnern infolge deren durch ihre Kühlung bewirkten Trocknung Risse bilden; einen Rahmen; einen auf diesem Rahmen angeordneten, durchlöcherten zylindrischen Teil (3); eine drehbar auf dem Rahmen und innerhalb des durchlöcherten zylindrischen Teils (3) konzentrisch zu diesem angeordnete Polierwalze (5), welche zusammen mit dem durchlöcherten zylindrischen Teil (3) eine dazwischenliegende Polierkammer (6) bildet, die mit der Auslassöffnung (26) des Gefässes (27) in Verbindung steht, so dass die während ihrem Passieren des Transportkanals gekühlten und befeuchteten Reiskörner in diese Polierkammer (6) eingeleitet werden; mit der Polierkammer (6) in Verbindung stehende Feuchtigkeitszufuhrmittel (11-18) zur Zufuhr von Feuchtigkeit in die Polierkammer (6) zur Befeuchtung der erhärteten Reiskörner, um dadurch eine Oberflächenschicht der einzelnen Reiskörner aufzuweichen; und wobei eine Rotation der Polierwalze (5) bewirkt, dass die erhärteten Reiskörner innerhalb der Polierkammer (6) poliert werden, wodurch die aufgeweichte Oberflächenschicht der einzelnen Reiskörner von diesen entfernt und dadurch Reiskörner mit hohem Glanz erzeugt werden.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die durch die Feuchtigkeitszufuhrmittel (11-18) zugeführte Feuchtigkeit ein Luft-/Feuchtigkeitsgemisch ist, bei welchem die Feuchtigkeit in flüssigem Zustand der Luft zugemischt ist, wobei diese Feuchtigkeitszufuhrmittel (11-18) das Luft-/Feuchtigkeitsgemisch in die Polierkammer (6) leiten, um zu bewirken, dass die Feuchtigkeit nur auf der Oberflächenschicht der einzelnen Reiskörner anhaftet und nur durch diese aufgenommen wird.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass sie innerhalb des Gefässes (27) angeordnete
Ablenkmittel (24) zur Ablenkung der Reiskörner während ihrem Passieren durch den Transportkanal aufweist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass sie mit dem Gefäss (27) vereinigte Mittel zur Bildung einer mit den Zufuhrmitteln zur Zufuhr von kühlender und befeuchtender Luft verbundenen Luftzufuhrkammer (30) und mit dem Gefäss (27) vereinigte Mittel zur Bildung einer Luftaustrittskammer (32) aufweist, dass die Ablenkmittel eine Vielzahl von länglichen Fliessbett-Teilen (24) aufweisen, welche sich über den Transportkanalquerschnitt erstrecken, wobei jeder dieser Fliessbett-Teile (24) einen mindestens annähernd der Form eines umgekehrten V entsre-chenden Querschnittes aufweist, und diese Fliessbett-Teile (24) in einer Mehrzahl von Reihen, parallel und distanziert voneinander angeordnet sind, wobei einige dieser Fliessbett-Teile (24) an ihren einen Stirnseiten geschlossen und mit ihren anderen Stirnseiten mit der Luftzufuhrkammer (30) in Verbindung stehen, während die übrigen Fliessbett-Teile (24) an ihren einen Stirnseiten geschlossen und mit ihren anderen Stirnseiten in Verbindung mit der Luftaustrittskammer (32) stehen, und der Transportkanalquerschnitt durch die zwischen benachbarten Fliessbett-Teilen (24) gebildeten Spalten gebildet wird.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass einander benachbarte Reihen von Fliessbett-Teilen (24) relativ zueinander versetzt angeordnet sind, wobei alternierende Reihen von Fliessbett-Teilen (24) mit ihren offenen Stirnseiten in Verbindung mit der Luftzufuhrkammer (30) und die übrigen alternierenden Reihen von Fliessbett-Teilen (24) mit ihren offenen Stirnseiten in Verbindung mit der Luftaustrittskammer (32) stehen.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch.gekennzeichnet, dass sie mit der Polierkammer (6) verbundene Mittel (19) zur Absaugung von Luft zusammen mit entfernten Oberflächenschichten aus der Polierkammer (6), über Öffnungen im perforierten zylindrischen Teil (3), aufweist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Zufuhrmittel (28, 33,35) zur Zufuhr von kühlender und befeuchtender Luft einen Zufuhrkanal aufweisen, dessen eines Ende mit der Luftzufuhrkammer (30) und dessen anderes Ende mit einem Gebläse (29) zur zwangsweisen Zufuhr von Luft durch diesen Zufuhrkanal in die Luftzufuhrkammer (30) verbunden ist, dass dem Zufuhrkanal Mittel (34) zur Abkühlung der durchströmenden Luft zugeordnet sind, und dass Mittel (35) zur Zufuhr von Wasser in die durch den Zufuhrkanal durchströmende Luft zur Bildung der kühlenden und befeuchtenden Luft mit dem Zufuhrkanal verbunden sind.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Polierwalze (5) hohl ausgebildet ist und in ihrer Wandung mit Öffnungen versehen ist, dass die Vorrichtung ferner eine drehbar im Rahmen gelagerte Hohlwelle (4) aufweist, deren eines Ende verschlossen und deren anderes Ende offen ist, dass die Polierwalze konzentrisch zur Hohlwelle (4) und drehbar auf dieser angeordnet ist, dass die Hohlwelle einen durchlöcherten Wandungsabschnitt aufweist, der im hohlen Teil der Polierwalze angeordnet ist, so dass der hohle Teil der Hohlwelle über seine Offnungen (7) im durchlöcherten Wandungsabschnitt und die Öffnungen in der Wandung der Polierwalze in Verbindung mit der Polierkammer steht, dass die Feuchtigkeitszufuhrmittel (11-18) eine Druckluftquelle (12), eine erste Leitung (13), deren eines Ende mit der Druckluftquelle (12) verbunden ist, eine Wasserzufuhr (15), eine zweite Leitung (16) deren eines Ende mit der Wasserzufuhr (15) verbunden ist, und eine im offenen Ende der Hohlwelle (4) angeordnete Düse (14), aufweist, dass die Düse (14) mit den entsprechend anderen Enden der ersten und zweiten Leitung verbunden ist, um die Luft von der Druckluftquelle
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und das Wasser von der Wasserzufuhr zur Bildung eines Luft-Feuchtigkeits-Gemisches zu vermischen und über den hohlen Teil der Hohlwelle, die Öffnungen im durchlöcherten Wandungsteil der Hohlwelle und die Öffnungen in der Wandung der hohlen Polierwalze in die Polierkammer einzuspritzen.
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1982
- 1982-05-20 US US06/380,123 patent/US4488481A/en not_active Expired - Lifetime
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PL | Patent ceased |