DE2851101C2 - Verfahren zum Gravieren von Werkstückflachen durch Ätzen - Google Patents

Verfahren zum Gravieren von Werkstückflachen durch Ätzen

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DE2851101C2 DE2851101A DE2851101A DE2851101C2 DE 2851101 C2 DE2851101 C2 DE 2851101C2 DE 2851101 A DE2851101 A DE 2851101A DE 2851101 A DE2851101 A DE 2851101A DE 2851101 C2 DE2851101 C2 DE 2851101C2
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    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Gravieren einer beliebig gekrümmten Fläche eines Werkstücks durch Ätzen unter Verwendung einer flexiblen Trägerfolie, welche eii, Muster aus einer lichtundurchlässigen Farbe trägt, wobei auf die Werkstückoberfläche eine Fotolackschicht aufgetragen, die Fololackschicht in Kontakt mit dem Muster gebraci-*, durch das Muster hindurch belichtet und die Trägerfolie entfernt wird, worauf die belichteten bzw. unbelichteten Bereiche der Fotolackschicht entfernt werden und dann die von der Fotolackschichl nicht mehr abgedeckten Bereiche der Werkstückoberfläche geätzt werden.
Bei einem bekannten Verfahren dieser Art (DE-OS 22 45 288) wird die das Muster tragende Trägerfolie lose auf die Fotolackschicht aufgelegt und während de.\ Belichtens durch einen lichtdurchlässigen Druckkörper opcen die Fotolackschicht gepreßt. Sollen nicht-ebene Werkstückflächen graviert werden, ist die das Muster tragende Trägerfolie nach dieser bekannten Lehre so zuzuschneiden, daß sie sich in die Form der zu gravierenden Werkstückfläche bringen läßt; außerdem muß ein lichtdurchlässiger Druckkörper hergestellt werden, dessen Form der Negativform der zu gravierenden Werkstückflächc entspricht. Das bekannte Verfahren ist demnach verhältnismäßig umständlich und kostspielig, und außerdem können die Schnittkanten in der das Muster tragenden Trägerfolie zu Linien in der belichteten und entwickelten Fololackschichi führen, die wegretuschiert werden müssen. Schließlich muß die Fotolackschicht durch den lichtdurchlässigen Druckkörper hindurch belichtcl werden, was wegen der verhältnismäßig geringen Lichtempfindlichkeit der üblichen Fotolackschichten und wegen der unvermeidlichen Streuung, die das Licht beim Durchgang durch den Druckkörper erfährt, nachteilig ist, da sich beides auf die Qualität der herzustellenden Gravur negativ auswirkt.
Es ist ferner schon bekannt, /um Ätzgravieren beliebig gekrümmter Werkstückflächen eine dünne, flexible Trägerfolie zu verwenden, welche nach Art eines Abzugsbilds ein von einer wasserlöslichen Klebstoffschicht überdecktes, ablösbares Muster aus einer lichtundurchlässigen, ätzmittelbeständigen Farbe trägt. Überträgt man dieses Muster wie ein Abzugsbild auf die zu gravierende Werkstückfläche, so erhält man auf dieser unmittelbar eine Ätzmaske. Solche Trägerfolien, die mit den vielfältigsten Mustern bedruckt sind und sich wie Abziehbilder handhaben lassen, befinden sich im Handel. In der Praxis haben sich jedoch zahlreiche Nachteile dieses bekannten Verfahrens gezc'gt: Für
ίο eine optimale Klebehaftung des von der ätzmittelbeständigen Farbe gebildeten Musters sind spiegelglatte Oberflächen erforderlich, die sich an metallischen Werkstücken nur mit beträchtlichem Arbeitsaufwand herstellen lassen; hei Formen für die Kunststoffverar-
iü beitung sind spiegelpolierte Flächen nur in Sonderfällen üblich. Ferner führt das für die Übertragung des Farbmusters erforderliche Einweichen der Trägerfolie in Wasser bei aus Stahl bestehenden Werkstücken zu Roststellen, welche die Klebehaftung vermindern.
Retuschierarbeiten außerordentlich erschweren und den Ätzvorgang beeinträchtigen. Außerdem lösen zahlreiche, für das Ätzgravieren verwendete Säuren den für die Haftung des Farbmusters auf der Werkstückfläche notwendigen Klebstoff der bekannten Trägerfolien schon nach kürzester Zeit soweit an, daß die Klebchaftung verloren gehl. Schließlich hinterläßt die Klebstoffschichi auf der zu ätzenden Werkstückfläche häufig einen nicht sichtbaren Klebstoffilm, welcher Retuschierarbeiten unsicher macht und einen glcichmä-
JO ßigen Ätzangriff an den vom Farbmuster nicht abgedeckten Werkstückflächenbercichcn beeinträchtigt. Auch sind die für die Muster der bekannten Trägerfolien verwendeten Druckfarben beim Tauchätzen nur kurzzeitig älzmilielbesiändig. wobei das zu
V) ätzende Werkstück im Ätzmittel nicht bewegt werden darf; Tiefätzungen in Metallen erfordern jedoch längeres Ätzen und eine Bewegung zwischen Ätzmittel und Werkstück.
Der Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, das an erster .Stelle beschriebene bekannte Verfahren der eingangs erwähnten Art so zu verbessern, cl.iß es sich einfacher und billiger durchführen läßt, ohne daß dabei auf den Vorteil verzichtet werden muß. daß metallische Werkstücke mit geeigneten Ätzmitteln auch iicfgeäi/i
v, werden können. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß eine dünne, flexible, ein ablösbares Muster tragende Trägerfolie mit der Musterseite auf die Fotolackschicht aufgebracht, das Muster auf den Fotolack übertragen und die Trägerfolie vor dem Belichten entfernt wird. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren können also alle durch die Verwendung von Fotolackschichten crzielbaren Vorteile beibehalten werden, ohne daß eine das Muster tragende Folie zugeschnitten werden muß und mehrere Folicnstiickc gehandhabt werden müssen; auch entfallen durch Schnittkanten der Trägerfolie bedingte Reluschicrarbcitcn. Schließlich kann die l'otolaekschicht nach Knifernen der Trägerfolie unmittelbar belichtet werden, so dal) die durch den Druckkörper des bekannten
M) Verfahrens hervorgerufene Streuung und Schwächling des Lichts nicht auftreten können. Gegenüber dem vorstehend an /weiter Stelle beschriebenen bekannten Verfahren weist das erfindungsgemäße Vorgehen die Vorteile auf. daß die bekannten Fotolacke auch auf
h5 nicht-spiegelglatten Oberflächen aus beliebigem Mate rial gut haften, daß die Fololackschieht das für das Übertragen des Musters verwendete Wasser von der Werkslückfläche abhält und deshalb das Inistehen von
Roststellen verhindert, daß Fotojackschichten auch unter der Einwirkung bewegter Ätzmittel sehr viel besser und dauerhafter haften als die wasserlöslichen Klebstoffe der bekannten Trägerfolien mit übertragbaren Mustern, und daß sich die bekannten Fotolacke nach dem Belichten in den belichteten bzw. unbelichteten Bereichen z. B. mit bekannten Lösungsmitteln ohne Schwierigkeiten vollständig entfernen lassen, wobei die dunkle Farbe der bekannten Fotolacke eine Sichtkontrolle auf vollständiges Entfernen der belichteten bzw. unbelichteten Bereiche gestaltet. Da bei dem erfindungsgemäßen Verfahren das von der Trägerfolie nach An eines Abziehbildes auf die Fotolackschicht übertragbare Muster lediglich als Belichtungsmaske für die Fotolackschicht dienen muß und die letztere dann als Ätzmaske für die zu gravierende Werkstückfläche dient, ist an die das Muster bildende Farbe nur die Forderung zu stellen, daß sie für das Licht, mit dem die Fotolackschicht belichtet wird, undurchlässig ist, so daß die Farbe nicht ätzmittclbeständig sein muß.
Es soll noch darauf hingewiesen werden, daß es sowohl Fotolacke gibt, bei denen sich ncch dein Belichten die belichteten Bereiche leicht auswaschen lassen, als auch Fotolacke, bei denen anschließend die unbelichteten Bereiche aufgelöst und entfernt werden, während die belichteten Bereiche die Ätzmaske bilden.
Die das von der Trägerfolie ablösbare Muster bildende Farbe könnte bei Verwendung eines Fotolacks, dessen belichtete Bereiche aufgelöst und entfernt werden können, grundsätzlich auf den nach dem Belichten nicht entfernten Bereichen der Fotolackschicht verbleiben. Zweckmäßiger ist es jedoch, das Muster nach dem Belichten zu entfernen, vorzugsweise durch ein Lösungsmittel für die das Muster bildende Farbe.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zwischen der Trägerfolic und der Fololackschicht eine lösliche Klcbstoffschicht zum Fixieren des Musters auf der Fotolackschichl vorgesehen. Mierfür können die vorstehend erwähnten, im I Inndcl befindlichen dünnen Trägerfolien verwendet werden, die sich wie Abziehbilder verarbeiten lassen, da sie auf der von der Trägcrfol'c abgewandten Seite des aufgedruckten Musters bereits mit einer Klcbmiltclschicht versehen sind. Die Träger· folien selbst werden nach dem Bcfcu.-.-htcn mit Wasser und dem Anlegen mit der das Farbmuster tragenden Seite gegen die l'otolackschicht als Ganzes abgezogen, wenn der Klebstoff angetrocknet ist. Man könnte aber auch Trägerfolien verwenden, die sich in bestimmten w Lösungsmitteln auflösen, während das Farbmuster auf der Fotolackschiehl des Werkstücks zurückbleibt.
Wird zum Fixieren des Musters auf der Fololackschicht eine Klcbsioffschicht verwendet, so muß diese löslich, z. B. wasserlöslich, sein, um zumindest die zwischen der Farbe des Musters gelegenen Bereiche der Klcbstoffschichl spätestens nach dem Belichten der Fololackschichl ebenso entfernen zu können wie die belichteten bzw. unbelichteten Bereiche der Fotolackschicht. Wird der Klebstoff zwischen der Farbe des bo Muslers nicht vor dem Belichten entfernt, so muß der Klebstoff für das Licht, mit dem die Fololackschichl belichtet wird, selbstverständlich transparent sein.
Das erfindungsgcmäBc Verfahren ist nichl aiii Werkstöcke aus metallischen Werkstoffen beschränkt, sondern kann auf alle ätzfähigen Materialien angewandt werden, z, 3. auch auf Glas und Stein, Ferner versteht e» sich von selbst, daß unter einer beliebig gekrümmten Werkstückflache auch eine ebene Fläche zu verstehen ist.
Im folgenden soll die Erfindung anhand einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens noch näher erläutert werden; in der Zeichnung zeigt
F i g. I eine schematische Schnittdarstellung durch ein Werkstück und eine Trägerfolie vor deren Aufbringen auf das Werkstück;
F i g. 2 das Werkstück während des Belichtens der Fotolackschicht;
F i g. 3 das Werkstück nach dem Ätzen, jedoch bei noch vorhandener, von der Fotolackschicht gebildeten Ätzmaske.
Die Fig. I zeigt ein Werkstück 10 mit einem Formhohlraum 12, dessen Oberfläche 14 mit einer Gravur versehen werden soll. Erfiniäungsgemäß wird die Formhohlraumoberfläche 14 zunäciist mit einer Fotolackschicht 16 versehen, die dann späler eine Ätzmaske bildet.
Über dem Werkstück 10 zeigt die Fig. 1 im Schnitt eine dütiiie, flexible Trägerfolie 18, welche ein der Gestalt der gewünschten Gravur entsprechendes und im Druckverfahren hergestelltes Muster 20 trägt, auf dem sich eine Klehmittelschicht 22 befindet. Da die üblichen Fotolacke mit ultraviolettem Licht zu belichten sind, wird für das Muster 20 eine Farbe verwendet, die für ultraviolettes Licht undurchlässig ist, was auf die im Handel befindlichen Trägerfolien zutrifft, bei denen das Muster aus einer Asphaltfarbe besteht.
Zum Übertragen des Musters 20 auf die Fotolaekschichl 16 wird die Trägerfoüc mit den von ihr getragenen Schichten befeuchtet und auf die Formhohlraumoberfläche 14 aufgelegt. Da die dünne Trägerfolic 18 flexibel ist, lassen sich mit ihr nahezu beliebig gekrümmte Oberflächen falicnfrei überziehen. Nach dem Trocknen der Klcbniittelsehichi 22 wird die Trägerfolie 18 abgezogen, wobei das Muster 20 dank der Klcbmittelschichl 22 auf der Fololackschichl 16 zurückbleibt.
Anschließend wird die FoiolacksehicM 16 dun-h die vom Muster 20 gebildete Bclichlungsmaskc hindurch mit ultraviolettem Licht aus einer Lichtquelle 30 belichtet, worauf die Druckfarbe des Musters 20 mit einem geeigneten Lösungsmittel entfernt wird. Anschließend werden je nach verwendetem Fotolack die belichteten oder unbelichteten Bereiche der Fololackschicht zusammen mit dem Klcbmittel der Schicht 22 abgewaschen, so daß die zurückbleibenden Bereiche 32 de," t-otolackschicht eine Ätzmaske bilden. Bei der anschließenden Behandlung der Formhohlraumoberrläche 14 mit Hilfe eines Al/mittels entstehen dann in der Formhchlraumobcrflächc Ausnehmungen 36, die die gewünschte Gravur bilden. Schließlich wird der restliche Fotolack ahgcwaschcn.
Es ist selbstverständlich, daß unter der Bezeichnung »Muster« oder »Gravur« nicht nur ein Dekor, sondern auch andere Musterungen, insbesondere auch Schriftzeichen, Zahlen und dergl. /11 vorstehen sind.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Gravieren einer beliebig gekrümmten Fläche eines Werkstücks durch Ätzen unter Verwendung einer flexiblen Trägerfolie, welche ein Muster aus einer lichtundurchlässigen Farbe trägt, wobei auf die Werkstückoberfläche eine Fotolackschicht aufgetragen, die Fotolackschicht in Kontakt mit dem Muster gebracht, durch das Muster hindurch belichtet und die Trägerfolie entfernt wird, worauf die belichteten bzw. unbelichteten Bereiche der Fotolackschicht entfernt werden und dann die von der Fotolackschicht nicht mehr abgedeckten Bereiche der Werkstückoberfläche geätzt werden, dadurch gekennzeichnet, daß eine dünne, flexible, ein ablösbares Muster tragende Trägerfolie mit der Musterseite auf die Fotolackschicht aufgebracht, das Muster auf den Fotolack übertragen und die Trägerfolie vordem Belichten entfernt wird
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Trägerfolie und der Fotolackschicht eine lösliche Klebstoffschicht zum Fixieren des Musters auf der Fotolackschicht vorgesehen wird.
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Priority Applications (17)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2851101A DE2851101C2 (de) 1978-11-25 1978-11-25 Verfahren zum Gravieren von Werkstückflachen durch Ätzen
GB7937999A GB2037004B (en) 1978-11-25 1979-11-02 Method of engraving workpiece surfaces by etching
CA339,573A CA1122469A (en) 1978-11-25 1979-11-09 Method of engraving workpiece surfaces by etching
ZA00796098A ZA796098B (en) 1978-11-25 1979-11-13 Method of engraving workpiece surfaces by etching
SE7909393A SE446136B (sv) 1978-11-25 1979-11-14 Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsning
AU52859/79A AU526727B2 (en) 1978-11-25 1979-11-15 Engraving
AT0736279A AT373091B (de) 1978-11-25 1979-11-19 Verfahren zum gravieren von werkstueckflaechen durch aetzen
US06/096,016 US4286051A (en) 1978-11-25 1979-11-20 Methods of engraving workpiece surfaces by etching
NL7908492A NL7908492A (nl) 1978-11-25 1979-11-21 Werkwijze voor het door etsen graveren van werkstuk- vlakken.
IT27484/79A IT1126379B (it) 1978-11-25 1979-11-22 Procedimento per l'incisione di superfici di pezzi mediante attacco chimico
PT70494A PT70494A (de) 1978-11-25 1979-11-23 Verfahren zum gravieren von werkstuckflachen durch atzen
DK498079A DK150644C (da) 1978-11-25 1979-11-23 Fremgangsmaade til gravering af en plan eller vilkaarligt krum overflade af et emne ved aetsning
ES486303A ES486303A1 (es) 1978-11-25 1979-11-23 Un procedimiento para grabar una superficie de una pieza de trabajo, curvada de una forma cualquiera o plana
BE0/198262A BE880233A (fr) 1978-11-25 1979-11-23 Procede de gravure de surfaces de pieces usinees par action corrosive
FR7928889A FR2442465B1 (fr) 1978-11-25 1979-11-23 Procede de gravure de surfaces de pieces usinees par action corrosive
CH1046579A CH642401A5 (de) 1978-11-25 1979-11-23 Verfahren zum gravieren von werkstueckflaechen durch aetzen.
NO793806A NO153814C (no) 1978-11-25 1979-11-23 Fremgangsmaate ved gravering av en krum eller rett flate av et av etsbart materiale bestaaende arbeidsstykke ved etsing.

Applications Claiming Priority (1)

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DE2851101A DE2851101C2 (de) 1978-11-25 1978-11-25 Verfahren zum Gravieren von Werkstückflachen durch Ätzen

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Publication Number Publication Date
DE2851101B1 DE2851101B1 (de) 1980-01-24
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US (1) US4286051A (de)
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SE (1) SE446136B (de)
ZA (1) ZA796098B (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3514094A1 (de) * 1985-04-16 1986-10-23 Schering AG, Berlin und Bergkamen, 1000 Berlin Herstellung metallischer strukturen auf anorganischen nichtleitern
US4958911A (en) * 1988-10-19 1990-09-25 Jonand, Inc. Liquid crystal display module having housing of C-shaped cross section
US4985116A (en) * 1990-02-23 1991-01-15 Mint-Pac Technologies, Inc. Three dimensional plating or etching process and masks therefor
US5579035A (en) * 1991-07-05 1996-11-26 Technomarket, L.P. Liquid crystal display module
IL106892A0 (en) * 1993-09-02 1993-12-28 Pierre Badehi Methods and apparatus for producing integrated circuit devices
CN1962504B (zh) * 2005-11-11 2011-03-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 玻璃切割方法
US20130160832A1 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 Andreas Krause Marking of a substrate of a solar cell

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE908565C (de) * 1936-04-24 1954-04-08 August Grueninger Verfahren zur Herstellung von Druckwalzen und Moletten auf photomechanischem Wege
US2265974A (en) * 1938-12-17 1941-12-09 Graphic Arts Res Corp Mechanical overlay
GB552799A (en) * 1942-03-09 1943-04-23 Wolverhampton Die Casting Comp Improvements in the production of pictures, designs, letter-press or other markings on die-castings, mouldings or pressings
FR1070130A (fr) * 1952-06-21 1954-07-19 Procédé pour l'obtention de creux et de reliefs superficiels sur des objets obtenus par fusion ou par déformation plastique, et dispositifs pour sa mise en oeuvre
BE565270A (de) * 1957-03-01
US3284197A (en) * 1961-11-06 1966-11-08 Interchem Corp Method for making lithographic plates
US3513010A (en) * 1966-07-11 1970-05-19 Kalvar Corp Conversion foil
US3561337A (en) * 1966-08-15 1971-02-09 Kalvar Corp Sheet material for manufacture of transparencies
US3592649A (en) * 1967-04-21 1971-07-13 Mead Corp Color photographic process for producing visually transparent but photographically opaque photomasks
GB1369431A (en) * 1971-09-02 1974-10-09 Letraset International Ltd Production of etched products
US3892900A (en) * 1972-11-02 1975-07-01 Daicel Ltd Masking films
US4002478A (en) * 1973-03-15 1977-01-11 Kansai Paint Company, Ltd. Method for forming relief pattern
DE2653428C3 (de) * 1976-11-24 1979-05-17 Claus Koenig Kg, 8520 Erlangen Farbfolie zum Herstellen einer Vorlage für Werbezwecke
NO157971C (no) * 1977-09-12 1988-06-22 Standex Int Corp Fremgangsmaate for frembringelse av relieffmoenstre paa arbeidsoverflater.

Also Published As

Publication number Publication date
NL7908492A (nl) 1980-05-28
IT1126379B (it) 1986-05-21
ES486303A1 (es) 1980-06-16
DK150644B (da) 1987-05-11
GB2037004A (en) 1980-07-02
FR2442465A1 (fr) 1980-06-20
ZA796098B (en) 1980-10-29
NO153814B (no) 1986-02-17
DK498079A (da) 1980-05-26
AU5285979A (en) 1980-05-29
CH642401A5 (de) 1984-04-13
NO153814C (no) 1986-05-28
BE880233A (fr) 1980-03-17
US4286051A (en) 1981-08-25
DE2851101B1 (de) 1980-01-24
CA1122469A (en) 1982-04-27
NO793806L (no) 1980-05-28
SE446136B (sv) 1986-08-11
GB2037004B (en) 1982-10-27
PT70494A (de) 1979-12-01
AU526727B2 (en) 1983-01-27
FR2442465B1 (fr) 1987-03-20
SE7909393L (sv) 1980-05-26
AT373091B (de) 1983-12-12
IT7927484A0 (it) 1979-11-22
ATA736279A (de) 1983-04-15
DK150644C (da) 1987-11-02

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