SE446136B - Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsning - Google Patents
Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsningInfo
- Publication number
- SE446136B SE446136B SE7909393A SE7909393A SE446136B SE 446136 B SE446136 B SE 446136B SE 7909393 A SE7909393 A SE 7909393A SE 7909393 A SE7909393 A SE 7909393A SE 446136 B SE446136 B SE 446136B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- pattern
- light
- lacquer layer
- photosensitive lacquer
- workpiece
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/18—Coating curved surfaces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/24—Curved surfaces
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Bending Of Plates, Rods, And Pipes (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Micromachines (AREA)
Description
7909395-6 2 områdena löses upp och avlägsnas medan de ljusexponerade områdena bildar maskeringen.
Med ljuskänsliga lackskikt kan utmärkta etsmaskeringar framställas, varför förutsättningarna för framställning av kvalitativt högvärdiga gravyrer genom etsning är uppfyllda.
Hos de i handeln förekommande och med nämnda mönster tryckta stödfolierna, som kan hanteras som avdragsbilder, åter- finns på den från stödfolien vända sidan av det påtryckta mönstret ett klisterskikt, tack vare vilket färgmönstret på ett fullgott sätt häftar vid arbetsstyckets yta när efter torkningen av klistret stödfolien i sin helhet drages av. Man skulle emellertid även kunna använda stödfolier, som går att lösa upp i vissa lösningsmedel så att endast färgmönstret blir kvar på arbetsstyckets ljuskänsliga lackskikt.
Pâ den mönsterbildande färgen ställs endast kravet att den är ogenomsläpplig för det ljus, varmed det ljuskänsliga lackskiktet exponeras, och i motsats till vad fallet är vid det inledningsvis nämnda, kända förfarandet är det ej nödvändigt att färgen är etsmedelbeständig. _ Som redan nämnts anbringas enligt en föredragen ut- föringsform av uppfinningen mellan stödfolien och det ljus- känsliga lackskiktet ett lösligt klisterskikt för fixering av mönstret på det ljuskänsliga lackskiktet. Detta klisterskikt återfinns lämpligen redan på stödfolien och täcker över färg- mönstret. Kravet på att använda ett t.ex. vattenlösligt klister har sin grund i att klisterskiktet efter ljusexponeringen av det ljuskänsliga lackskiktet måste vara lika lätt att avlägsna som de exponerade eller eventuellt icke exponerade områdena av det ljuskänsliga lackskiktet.
Den färg, som bildar det till arbetsstycket överförda mönstret, skulle i princip kunna få vara kvar på de efter ljus- exponeringen icke avlägsnade områdena av det ljuskänsliga lackskiktet men det är dock lämplígare att avlägsna mönstret efter exponeringen, företrädesvis med hjälp av ett lösnings- medel för den mönsterbildande färgen.
Sättet enligt uppfinningen är.ej begränsat till metallis arbetsstycken utan kan tillämpas på alla etsbara material, t.ex. även på glas och sten. ' Det bör nämnas att vid användning av ett klister för fixering av mönstret på det_ljuskänsliga lackskiktet måste 3, 7909593-6 klistret vara transparent för det ljus, varmed det ljuskänsliga lackskiktet exponeras. I Användningen av ljuskänslig lackskikt som etsmaskering vid framställning av ytgraverade arbetsstycken är visserligen i och för sig förut känt (se t.ex, De-PS 22 H5 288) men fram- ställningen av maskeringar för exponering av de ljuskänsliga lackskiktet har hittills varit väsentligt omständligare och kostsammare än vad som är fallet med tillämpning av sättet en- ligt föreliggande uppfinning. ' -Ytterligare särdrag, fördelar och detaljer hos uppfin- ningen framgår av efterföljande beskrivning av en utföringsform av sättet enligt uppfinningen i anslutning till bifogade rit- ningsfigurer, av vilka _, I figl 1 schematiskt återger ett arbetsstycke och en stödfolie innan denna anbringas på arbetsstycket, fig. 2 visar arbetsstycket under exponeringen av det ljuskäns- liga lackskiktet och fig. 3 visar arbetsstycket efter etsningen men där den av det ljuskänsliga lackskiktet bildade etsmaskeringen fortfarande finns kvar. _ Pig. 1 visar ett arbetsstycke 10 med ett formhâlrum 12, vars yta skall förses med en gravyr. Enligt uppfinningen förses formhâlrumsytan 1H först med ett ljuskänsligt lackskikt 16, som senare får bilda en etsmaskering.
Ovanför arbetsstycket 10 återfinns en i tvärsnitt visad tunn, böjlig stödfolie 18, som uppbär ettmot den önskade gravyrens form svarande och genom tryckteknik framställt mönster 20, på vilket återfinns ett klisterskikt 22. Då de konventionella ljus- känsliga lackerna skall belysas med ultraviolett ljus används för mönstret 20 en färg, som är ogenomsläpplig för det ultra- violetta ljuset, vilket är fallet för de i handeln förekommande stödfolierna, hos vilka mönstret består av en asfaltfärg.
Vid överförandet av mönstret 20 på det ljuskänsliga lackskiktet 16 fuktas först stödfolien uppbärande nämnda skikt och placeras på formhâlrumsytan 1H. Eftersom den tunna stöd-_ folien 18 är böjlig kan nästan godtyckligt krökta ytor beläggas utan veckbildning. Sedan klisterskiktet 22 torkat dras stöd- folien 18 av, varvid mönstret 20 tack vare klisterskiktet 22 stannar kvar på det ljuskänsliga lackskiktet 16. í79o9s9z-6 H Därefter exponeras det ljuskänsliga lackskiktet 16 genom den av mönstret 20 bildade belysningsmaskeringen med ultraviolett ljus från en ljuskälla 30, varpå tryckfärgen hos mönstret 20 avlägsnas med lämpligt lösningsmedel. Beroende av typen av använd ljuskänslig lack borttvättas därefter de exponerade eller oexponerade områdena av det ljuskänsliga lackskiktet tillsammans med klistret i skiktet 22, så att de kvarvarande områdena 32 av det ljuskänsliga lackskiktet bildar en etsmaskering. Vid den efterföljande behandlingen av formhål- rumsytan 14 med hjälp av ett etsmedel bildas då i formhålrums- ytan spår 36, som utgör den önskade gravyren. Slutligen tvättas resterna av den ljuskänsliga lacken bort. _ I samband med föreliggande uppfinning är det självfallet att under beteckningen "mönster" eller "gravyr" förstås inte enbart en dekor utan även andra mönsterbildningar, isynnerhet škrivtecken, tal och liknande.
Claims (2)
1. Sätt att gravera en godtyckligt krökt yta hos ett arbets- stycke genom etsning under användning av en flexibel bärfolie. som uppbär ett mönster av en ljusogenomsläpplig färg, varvid på arbetsstyckets yta ett ljuskänsligt lackskikt anbringas. det ljuskänslíga lackskiktet bringas i kontakt med mönstret, ljusexponeras genom mönstret och bärfolien avlägsnas, varpå de ljusexponerade eller de icke ljusexponerade områdena av det ljuskänsliga lackskíktet avlägsnas och därefter de av det ljuskänslíga lackskiktet inte längre täckta områdena av arbetsstyckets yta etsas, k ä n n e t e c n a t av att en tunn, böjlig, ett lösgörbart mönster bärande bärfolie med mönstersidan anbringas på det ljuskänslíga lackskiktet, mönstret överföres på den ljuskänslíga lacken och bärfolíen tas bort före ljusexponeringen.
2. Sätt enligt krav 1. K ä n n e t e c k n a t av att mellan bârfolien och det ljuskänsliga lackskiktet anbringas ett iösligt klísterskikt för fixering av mönstret på det 1juskäns~ liga lackskiktet.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2851101A DE2851101C2 (de) | 1978-11-25 | 1978-11-25 | Verfahren zum Gravieren von Werkstückflachen durch Ätzen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE7909393L SE7909393L (sv) | 1980-05-26 |
SE446136B true SE446136B (sv) | 1986-08-11 |
Family
ID=6055571
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7909393A SE446136B (sv) | 1978-11-25 | 1979-11-14 | Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsning |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4286051A (sv) |
AT (1) | AT373091B (sv) |
AU (1) | AU526727B2 (sv) |
BE (1) | BE880233A (sv) |
CA (1) | CA1122469A (sv) |
CH (1) | CH642401A5 (sv) |
DE (1) | DE2851101C2 (sv) |
DK (1) | DK150644C (sv) |
ES (1) | ES486303A1 (sv) |
FR (1) | FR2442465B1 (sv) |
GB (1) | GB2037004B (sv) |
IT (1) | IT1126379B (sv) |
NL (1) | NL7908492A (sv) |
NO (1) | NO153814C (sv) |
PT (1) | PT70494A (sv) |
SE (1) | SE446136B (sv) |
ZA (1) | ZA796098B (sv) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3514094A1 (de) * | 1985-04-16 | 1986-10-23 | Schering AG, Berlin und Bergkamen, 1000 Berlin | Herstellung metallischer strukturen auf anorganischen nichtleitern |
US4958911A (en) * | 1988-10-19 | 1990-09-25 | Jonand, Inc. | Liquid crystal display module having housing of C-shaped cross section |
US4985116A (en) * | 1990-02-23 | 1991-01-15 | Mint-Pac Technologies, Inc. | Three dimensional plating or etching process and masks therefor |
US5579035A (en) * | 1991-07-05 | 1996-11-26 | Technomarket, L.P. | Liquid crystal display module |
IL106892A0 (en) * | 1993-09-02 | 1993-12-28 | Pierre Badehi | Methods and apparatus for producing integrated circuit devices |
CN1962504B (zh) * | 2005-11-11 | 2011-03-23 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 玻璃切割方法 |
US20130160832A1 (en) * | 2011-12-22 | 2013-06-27 | Andreas Krause | Marking of a substrate of a solar cell |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE908565C (de) * | 1936-04-24 | 1954-04-08 | August Grueninger | Verfahren zur Herstellung von Druckwalzen und Moletten auf photomechanischem Wege |
US2265974A (en) * | 1938-12-17 | 1941-12-09 | Graphic Arts Res Corp | Mechanical overlay |
GB552799A (en) * | 1942-03-09 | 1943-04-23 | Wolverhampton Die Casting Comp | Improvements in the production of pictures, designs, letter-press or other markings on die-castings, mouldings or pressings |
FR1070130A (fr) * | 1952-06-21 | 1954-07-19 | Procédé pour l'obtention de creux et de reliefs superficiels sur des objets obtenus par fusion ou par déformation plastique, et dispositifs pour sa mise en oeuvre | |
DE1071478B (sv) * | 1957-03-01 | |||
US3284197A (en) * | 1961-11-06 | 1966-11-08 | Interchem Corp | Method for making lithographic plates |
US3513010A (en) * | 1966-07-11 | 1970-05-19 | Kalvar Corp | Conversion foil |
US3561337A (en) * | 1966-08-15 | 1971-02-09 | Kalvar Corp | Sheet material for manufacture of transparencies |
US3592649A (en) * | 1967-04-21 | 1971-07-13 | Mead Corp | Color photographic process for producing visually transparent but photographically opaque photomasks |
GB1369431A (en) * | 1971-09-02 | 1974-10-09 | Letraset International Ltd | Production of etched products |
US3892900A (en) * | 1972-11-02 | 1975-07-01 | Daicel Ltd | Masking films |
US4002478A (en) * | 1973-03-15 | 1977-01-11 | Kansai Paint Company, Ltd. | Method for forming relief pattern |
DE2653428C3 (de) * | 1976-11-24 | 1979-05-17 | Claus Koenig Kg, 8520 Erlangen | Farbfolie zum Herstellen einer Vorlage für Werbezwecke |
NO157971C (no) * | 1977-09-12 | 1988-06-22 | Standex Int Corp | Fremgangsmaate for frembringelse av relieffmoenstre paa arbeidsoverflater. |
-
1978
- 1978-11-25 DE DE2851101A patent/DE2851101C2/de not_active Expired
-
1979
- 1979-11-02 GB GB7937999A patent/GB2037004B/en not_active Expired
- 1979-11-09 CA CA339,573A patent/CA1122469A/en not_active Expired
- 1979-11-13 ZA ZA00796098A patent/ZA796098B/xx unknown
- 1979-11-14 SE SE7909393A patent/SE446136B/sv not_active IP Right Cessation
- 1979-11-15 AU AU52859/79A patent/AU526727B2/en not_active Ceased
- 1979-11-19 AT AT0736279A patent/AT373091B/de not_active IP Right Cessation
- 1979-11-20 US US06/096,016 patent/US4286051A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-11-21 NL NL7908492A patent/NL7908492A/nl not_active Application Discontinuation
- 1979-11-22 IT IT27484/79A patent/IT1126379B/it active
- 1979-11-23 ES ES486303A patent/ES486303A1/es not_active Expired
- 1979-11-23 PT PT70494A patent/PT70494A/pt unknown
- 1979-11-23 BE BE0/198262A patent/BE880233A/fr not_active IP Right Cessation
- 1979-11-23 DK DK498079A patent/DK150644C/da not_active IP Right Cessation
- 1979-11-23 CH CH1046579A patent/CH642401A5/de not_active IP Right Cessation
- 1979-11-23 FR FR7928889A patent/FR2442465B1/fr not_active Expired
- 1979-11-23 NO NO793806A patent/NO153814C/no unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7908492A (nl) | 1980-05-28 |
DE2851101B1 (de) | 1980-01-24 |
CA1122469A (en) | 1982-04-27 |
AU5285979A (en) | 1980-05-29 |
GB2037004A (en) | 1980-07-02 |
NO793806L (no) | 1980-05-28 |
PT70494A (de) | 1979-12-01 |
NO153814C (no) | 1986-05-28 |
NO153814B (no) | 1986-02-17 |
DK498079A (da) | 1980-05-26 |
US4286051A (en) | 1981-08-25 |
AT373091B (de) | 1983-12-12 |
ATA736279A (de) | 1983-04-15 |
AU526727B2 (en) | 1983-01-27 |
IT1126379B (it) | 1986-05-21 |
CH642401A5 (de) | 1984-04-13 |
SE7909393L (sv) | 1980-05-26 |
FR2442465B1 (fr) | 1987-03-20 |
ZA796098B (en) | 1980-10-29 |
FR2442465A1 (fr) | 1980-06-20 |
ES486303A1 (es) | 1980-06-16 |
GB2037004B (en) | 1982-10-27 |
DK150644C (da) | 1987-11-02 |
IT7927484A0 (it) | 1979-11-22 |
BE880233A (fr) | 1980-03-17 |
DE2851101C2 (de) | 1980-09-18 |
DK150644B (da) | 1987-05-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE50206327D1 (de) | Fotempfindliches flexodruckelement und verfahren zur herstellung von zeitungsflexodruckplatten | |
US5427890B1 (en) | Photo-sensitive laminate film for use in making the mask comprising a supporting sheet an image mask protection layer which is water insoluble and a water soluble mask forming composition | |
EP0107983A1 (en) | Method for forming patterns in a metal layer | |
GB2371875A (en) | Photo engraving in high definition on metal | |
SE446136B (sv) | Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsning | |
GB2030779A (en) | Improvements in or relating to the manufacture of flexible printed circuits | |
JPH0315543B2 (sv) | ||
EP0627392A1 (fr) | Procédé de gravure chimique sur substrats rocheux | |
JPH0432846A (ja) | 転写用凸版及びその製造方法 | |
GB2248506A (en) | Process for preparing imaged material | |
US5185225A (en) | Letterpress for transferring and method of transferring by use of the letterpress for transferring | |
US20220194121A1 (en) | A method for manufacturing a product of fine and decorative arts | |
JPS58108188A (ja) | 蝕刻用転写紙およびその使用法 | |
JPS6049437B2 (ja) | 蝕刻による図柄作成方法 | |
US10625334B2 (en) | Method of producing a relief image from a liquid photopolymer resin | |
JP3041999U (ja) | スクリ−ン製版におけるスクリ−ン型製作フィルム | |
CN1114615A (zh) | 花纹不锈钢装饰板艺术品及其制作方法 | |
JPH046261A (ja) | 装飾板の製造方法 | |
JPH02124270A (ja) | サンドブラスト法による被加工物表面の彫り加工方法 | |
JPH05337830A (ja) | 保護マスク形成液及び刻設方法 | |
EP0656128A4 (en) | PROCESS FOR PRODUCING A MATERIAL ON WHICH AN IMAGE IS PRODUCED BY ELECTROMAGNETIC RADIATION. | |
JPS6274573A (ja) | サンドブラスト工法 | |
JPH01211763A (ja) | エッチング方法 | |
JPH0560855B2 (sv) | ||
JPS5851150A (ja) | 時計用日車及び曜車の文字印刷方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 7909393-6 Effective date: 19940610 Format of ref document f/p: F |