SE446136B - Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsning - Google Patents

Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsning

Info

Publication number
SE446136B
SE446136B SE7909393A SE7909393A SE446136B SE 446136 B SE446136 B SE 446136B SE 7909393 A SE7909393 A SE 7909393A SE 7909393 A SE7909393 A SE 7909393A SE 446136 B SE446136 B SE 446136B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
pattern
light
lacquer layer
photosensitive lacquer
workpiece
Prior art date
Application number
SE7909393A
Other languages
English (en)
Other versions
SE7909393L (sv
Inventor
U Wagner
Original Assignee
Standex Int Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Standex Int Gmbh filed Critical Standex Int Gmbh
Publication of SE7909393L publication Critical patent/SE7909393L/sv
Publication of SE446136B publication Critical patent/SE446136B/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02Local etching
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/18Coating curved surfaces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/24Curved surfaces

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Bending Of Plates, Rods, And Pipes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

7909395-6 2 områdena löses upp och avlägsnas medan de ljusexponerade områdena bildar maskeringen.
Med ljuskänsliga lackskikt kan utmärkta etsmaskeringar framställas, varför förutsättningarna för framställning av kvalitativt högvärdiga gravyrer genom etsning är uppfyllda.
Hos de i handeln förekommande och med nämnda mönster tryckta stödfolierna, som kan hanteras som avdragsbilder, åter- finns på den från stödfolien vända sidan av det påtryckta mönstret ett klisterskikt, tack vare vilket färgmönstret på ett fullgott sätt häftar vid arbetsstyckets yta när efter torkningen av klistret stödfolien i sin helhet drages av. Man skulle emellertid även kunna använda stödfolier, som går att lösa upp i vissa lösningsmedel så att endast färgmönstret blir kvar på arbetsstyckets ljuskänsliga lackskikt.
Pâ den mönsterbildande färgen ställs endast kravet att den är ogenomsläpplig för det ljus, varmed det ljuskänsliga lackskiktet exponeras, och i motsats till vad fallet är vid det inledningsvis nämnda, kända förfarandet är det ej nödvändigt att färgen är etsmedelbeständig. _ Som redan nämnts anbringas enligt en föredragen ut- föringsform av uppfinningen mellan stödfolien och det ljus- känsliga lackskiktet ett lösligt klisterskikt för fixering av mönstret på det ljuskänsliga lackskiktet. Detta klisterskikt återfinns lämpligen redan på stödfolien och täcker över färg- mönstret. Kravet på att använda ett t.ex. vattenlösligt klister har sin grund i att klisterskiktet efter ljusexponeringen av det ljuskänsliga lackskiktet måste vara lika lätt att avlägsna som de exponerade eller eventuellt icke exponerade områdena av det ljuskänsliga lackskiktet.
Den färg, som bildar det till arbetsstycket överförda mönstret, skulle i princip kunna få vara kvar på de efter ljus- exponeringen icke avlägsnade områdena av det ljuskänsliga lackskiktet men det är dock lämplígare att avlägsna mönstret efter exponeringen, företrädesvis med hjälp av ett lösnings- medel för den mönsterbildande färgen.
Sättet enligt uppfinningen är.ej begränsat till metallis arbetsstycken utan kan tillämpas på alla etsbara material, t.ex. även på glas och sten. ' Det bör nämnas att vid användning av ett klister för fixering av mönstret på det_ljuskänsliga lackskiktet måste 3, 7909593-6 klistret vara transparent för det ljus, varmed det ljuskänsliga lackskiktet exponeras. I Användningen av ljuskänslig lackskikt som etsmaskering vid framställning av ytgraverade arbetsstycken är visserligen i och för sig förut känt (se t.ex, De-PS 22 H5 288) men fram- ställningen av maskeringar för exponering av de ljuskänsliga lackskiktet har hittills varit väsentligt omständligare och kostsammare än vad som är fallet med tillämpning av sättet en- ligt föreliggande uppfinning. ' -Ytterligare särdrag, fördelar och detaljer hos uppfin- ningen framgår av efterföljande beskrivning av en utföringsform av sättet enligt uppfinningen i anslutning till bifogade rit- ningsfigurer, av vilka _, I figl 1 schematiskt återger ett arbetsstycke och en stödfolie innan denna anbringas på arbetsstycket, fig. 2 visar arbetsstycket under exponeringen av det ljuskäns- liga lackskiktet och fig. 3 visar arbetsstycket efter etsningen men där den av det ljuskänsliga lackskiktet bildade etsmaskeringen fortfarande finns kvar. _ Pig. 1 visar ett arbetsstycke 10 med ett formhâlrum 12, vars yta skall förses med en gravyr. Enligt uppfinningen förses formhâlrumsytan 1H först med ett ljuskänsligt lackskikt 16, som senare får bilda en etsmaskering.
Ovanför arbetsstycket 10 återfinns en i tvärsnitt visad tunn, böjlig stödfolie 18, som uppbär ettmot den önskade gravyrens form svarande och genom tryckteknik framställt mönster 20, på vilket återfinns ett klisterskikt 22. Då de konventionella ljus- känsliga lackerna skall belysas med ultraviolett ljus används för mönstret 20 en färg, som är ogenomsläpplig för det ultra- violetta ljuset, vilket är fallet för de i handeln förekommande stödfolierna, hos vilka mönstret består av en asfaltfärg.
Vid överförandet av mönstret 20 på det ljuskänsliga lackskiktet 16 fuktas först stödfolien uppbärande nämnda skikt och placeras på formhâlrumsytan 1H. Eftersom den tunna stöd-_ folien 18 är böjlig kan nästan godtyckligt krökta ytor beläggas utan veckbildning. Sedan klisterskiktet 22 torkat dras stöd- folien 18 av, varvid mönstret 20 tack vare klisterskiktet 22 stannar kvar på det ljuskänsliga lackskiktet 16. í79o9s9z-6 H Därefter exponeras det ljuskänsliga lackskiktet 16 genom den av mönstret 20 bildade belysningsmaskeringen med ultraviolett ljus från en ljuskälla 30, varpå tryckfärgen hos mönstret 20 avlägsnas med lämpligt lösningsmedel. Beroende av typen av använd ljuskänslig lack borttvättas därefter de exponerade eller oexponerade områdena av det ljuskänsliga lackskiktet tillsammans med klistret i skiktet 22, så att de kvarvarande områdena 32 av det ljuskänsliga lackskiktet bildar en etsmaskering. Vid den efterföljande behandlingen av formhål- rumsytan 14 med hjälp av ett etsmedel bildas då i formhålrums- ytan spår 36, som utgör den önskade gravyren. Slutligen tvättas resterna av den ljuskänsliga lacken bort. _ I samband med föreliggande uppfinning är det självfallet att under beteckningen "mönster" eller "gravyr" förstås inte enbart en dekor utan även andra mönsterbildningar, isynnerhet škrivtecken, tal och liknande.

Claims (2)

s 7909393-6 Patentkrav
1. Sätt att gravera en godtyckligt krökt yta hos ett arbets- stycke genom etsning under användning av en flexibel bärfolie. som uppbär ett mönster av en ljusogenomsläpplig färg, varvid på arbetsstyckets yta ett ljuskänsligt lackskikt anbringas. det ljuskänslíga lackskiktet bringas i kontakt med mönstret, ljusexponeras genom mönstret och bärfolien avlägsnas, varpå de ljusexponerade eller de icke ljusexponerade områdena av det ljuskänsliga lackskíktet avlägsnas och därefter de av det ljuskänslíga lackskiktet inte längre täckta områdena av arbetsstyckets yta etsas, k ä n n e t e c n a t av att en tunn, böjlig, ett lösgörbart mönster bärande bärfolie med mönstersidan anbringas på det ljuskänslíga lackskiktet, mönstret överföres på den ljuskänslíga lacken och bärfolíen tas bort före ljusexponeringen.
2. Sätt enligt krav 1. K ä n n e t e c k n a t av att mellan bârfolien och det ljuskänsliga lackskiktet anbringas ett iösligt klísterskikt för fixering av mönstret på det 1juskäns~ liga lackskiktet.
SE7909393A 1978-11-25 1979-11-14 Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsning SE446136B (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2851101A DE2851101C2 (de) 1978-11-25 1978-11-25 Verfahren zum Gravieren von Werkstückflachen durch Ätzen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE7909393L SE7909393L (sv) 1980-05-26
SE446136B true SE446136B (sv) 1986-08-11

Family

ID=6055571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE7909393A SE446136B (sv) 1978-11-25 1979-11-14 Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsning

Country Status (17)

Country Link
US (1) US4286051A (sv)
AT (1) AT373091B (sv)
AU (1) AU526727B2 (sv)
BE (1) BE880233A (sv)
CA (1) CA1122469A (sv)
CH (1) CH642401A5 (sv)
DE (1) DE2851101C2 (sv)
DK (1) DK150644C (sv)
ES (1) ES486303A1 (sv)
FR (1) FR2442465B1 (sv)
GB (1) GB2037004B (sv)
IT (1) IT1126379B (sv)
NL (1) NL7908492A (sv)
NO (1) NO153814C (sv)
PT (1) PT70494A (sv)
SE (1) SE446136B (sv)
ZA (1) ZA796098B (sv)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3514094A1 (de) * 1985-04-16 1986-10-23 Schering AG, Berlin und Bergkamen, 1000 Berlin Herstellung metallischer strukturen auf anorganischen nichtleitern
US4958911A (en) * 1988-10-19 1990-09-25 Jonand, Inc. Liquid crystal display module having housing of C-shaped cross section
US4985116A (en) * 1990-02-23 1991-01-15 Mint-Pac Technologies, Inc. Three dimensional plating or etching process and masks therefor
US5579035A (en) * 1991-07-05 1996-11-26 Technomarket, L.P. Liquid crystal display module
IL106892A0 (en) * 1993-09-02 1993-12-28 Pierre Badehi Methods and apparatus for producing integrated circuit devices
CN1962504B (zh) * 2005-11-11 2011-03-23 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 玻璃切割方法
US20130160832A1 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 Andreas Krause Marking of a substrate of a solar cell

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE908565C (de) * 1936-04-24 1954-04-08 August Grueninger Verfahren zur Herstellung von Druckwalzen und Moletten auf photomechanischem Wege
US2265974A (en) * 1938-12-17 1941-12-09 Graphic Arts Res Corp Mechanical overlay
GB552799A (en) * 1942-03-09 1943-04-23 Wolverhampton Die Casting Comp Improvements in the production of pictures, designs, letter-press or other markings on die-castings, mouldings or pressings
FR1070130A (fr) * 1952-06-21 1954-07-19 Procédé pour l'obtention de creux et de reliefs superficiels sur des objets obtenus par fusion ou par déformation plastique, et dispositifs pour sa mise en oeuvre
DE1071478B (sv) * 1957-03-01
US3284197A (en) * 1961-11-06 1966-11-08 Interchem Corp Method for making lithographic plates
US3513010A (en) * 1966-07-11 1970-05-19 Kalvar Corp Conversion foil
US3561337A (en) * 1966-08-15 1971-02-09 Kalvar Corp Sheet material for manufacture of transparencies
US3592649A (en) * 1967-04-21 1971-07-13 Mead Corp Color photographic process for producing visually transparent but photographically opaque photomasks
GB1369431A (en) * 1971-09-02 1974-10-09 Letraset International Ltd Production of etched products
US3892900A (en) * 1972-11-02 1975-07-01 Daicel Ltd Masking films
US4002478A (en) * 1973-03-15 1977-01-11 Kansai Paint Company, Ltd. Method for forming relief pattern
DE2653428C3 (de) * 1976-11-24 1979-05-17 Claus Koenig Kg, 8520 Erlangen Farbfolie zum Herstellen einer Vorlage für Werbezwecke
NO157971C (no) * 1977-09-12 1988-06-22 Standex Int Corp Fremgangsmaate for frembringelse av relieffmoenstre paa arbeidsoverflater.

Also Published As

Publication number Publication date
IT1126379B (it) 1986-05-21
CA1122469A (en) 1982-04-27
GB2037004A (en) 1980-07-02
NO153814C (no) 1986-05-28
FR2442465B1 (fr) 1987-03-20
DE2851101C2 (de) 1980-09-18
AU5285979A (en) 1980-05-29
DK498079A (da) 1980-05-26
US4286051A (en) 1981-08-25
SE7909393L (sv) 1980-05-26
CH642401A5 (de) 1984-04-13
NO153814B (no) 1986-02-17
NO793806L (no) 1980-05-28
ZA796098B (en) 1980-10-29
FR2442465A1 (fr) 1980-06-20
NL7908492A (nl) 1980-05-28
ATA736279A (de) 1983-04-15
GB2037004B (en) 1982-10-27
DK150644C (da) 1987-11-02
PT70494A (de) 1979-12-01
IT7927484A0 (it) 1979-11-22
DK150644B (da) 1987-05-11
DE2851101B1 (de) 1980-01-24
AU526727B2 (en) 1983-01-27
AT373091B (de) 1983-12-12
ES486303A1 (es) 1980-06-16
BE880233A (fr) 1980-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE322704T1 (de) Fotempfindliches flexodruckelement und verfahren zur herstellung von zeitungsflexodruckplatten
US5427890B1 (en) Photo-sensitive laminate film for use in making the mask comprising a supporting sheet an image mask protection layer which is water insoluble and a water soluble mask forming composition
SE446136B (sv) Sett att gravera en godtyckligt krokt yta hos ett arbetsstycke genom etsning
JPH11226874A (ja) 凹溝加工方法
US4834833A (en) Mask for etching, and method of making mask and using same
US3179729A (en) Method of making sandblast stencils
GB2030779A (en) Improvements in or relating to the manufacture of flexible printed circuits
JPH0315543B2 (sv)
JPH0432846A (ja) 転写用凸版及びその製造方法
GB2248506A (en) Process for preparing imaged material
KR940007799B1 (ko) 전사용 볼록판 및 이 전사용 볼록판에 의한 전사방법
EP0627392A1 (fr) Procédé de gravure chimique sur substrats rocheux
US20220194121A1 (en) A method for manufacturing a product of fine and decorative arts
EP3610326B1 (en) Method of producing a relief image from a liquid photopolymer resin
JPS58108188A (ja) 蝕刻用転写紙およびその使用法
JPS6049437B2 (ja) 蝕刻による図柄作成方法
CN1114615A (zh) 花纹不锈钢装饰板艺术品及其制作方法
JPH046261A (ja) 装飾板の製造方法
JPH0430969A (ja) ブラスト刻削用マスクの製造方法
JPH05337830A (ja) 保護マスク形成液及び刻設方法
JPH02198899A (ja) 部分着色法
WO1992021065A1 (en) Process for preparing electromagnetic radiation imaged material
JPH04175198A (ja) 彫刻方法
JPH0564871A (ja) 印刷版の製造法
JPH0560855B2 (sv)

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed

Ref document number: 7909393-6

Effective date: 19940610

Format of ref document f/p: F