JPH05337830A - 保護マスク形成液及び刻設方法 - Google Patents
保護マスク形成液及び刻設方法Info
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- JPH05337830A JPH05337830A JP4173896A JP17389692A JPH05337830A JP H05337830 A JPH05337830 A JP H05337830A JP 4173896 A JP4173896 A JP 4173896A JP 17389692 A JP17389692 A JP 17389692A JP H05337830 A JPH05337830 A JP H05337830A
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- engraved
- forming liquid
- stone material
- liquid
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 サンドブラスト加工によって微細な文字や図
柄等を石材等に容易に刻設することのできる刻設方法を
提供する。 【構成】 石材等の表面に文字や図柄等を刻設する際
に、該石材等の刻設面の非刻設部分に、スクリーン印刷
に適した粘度に粘度調整され且つ硬化してゴム物性を呈
する液状化合物が配合された保護マスク形成液をスクリ
ーン印刷によって塗布し硬化せしめて保護マスクを形成
し、次いで、刻設部分に砥粒を吹き付けて刻設するブラ
スト加工を施した後、前記保護マスクを除去することを
特徴とする。
柄等を石材等に容易に刻設することのできる刻設方法を
提供する。 【構成】 石材等の表面に文字や図柄等を刻設する際
に、該石材等の刻設面の非刻設部分に、スクリーン印刷
に適した粘度に粘度調整され且つ硬化してゴム物性を呈
する液状化合物が配合された保護マスク形成液をスクリ
ーン印刷によって塗布し硬化せしめて保護マスクを形成
し、次いで、刻設部分に砥粒を吹き付けて刻設するブラ
スト加工を施した後、前記保護マスクを除去することを
特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は保護マスク形成液及び刻
設方法に関し、更に詳細には石材等の刻設面に砥粒を吹
き付けて文字や図柄等を刻設するブラスト加工を施す際
に、前記刻設面の非刻設部分に保護マスクを形成するた
めに塗布される保護マスク形成液、及び前記保護マスク
形成液を使用した刻設方法に関する。
設方法に関し、更に詳細には石材等の刻設面に砥粒を吹
き付けて文字や図柄等を刻設するブラスト加工を施す際
に、前記刻設面の非刻設部分に保護マスクを形成するた
めに塗布される保護マスク形成液、及び前記保護マスク
形成液を使用した刻設方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、石材の刻設面に砥粒（サンド）を
吹き付けて文字や図柄等を刻設するサンドブラスト加工
を施す場合、先ず、石材の刻設面にゴムシートを接着
し、カーボン紙等によって原稿からゴムシート面に文字
や図柄を転写した後、刻設部分のゴムシートをカッター
等で切り取ってからサンドブラスト加工による刻設を施
し、次いで残存するゴムシートを剥離する。かかる手順
によって、刻設面の必要な部分のみに刻設を施すことが
できる。この場合、非刻設部分に残されたゴムシート
は、サンドブラスト加工中に非刻設部分の保護マスクと
して働く。この様な従来の刻設方法によれば、ゴムシー
トをカッター等で切り取る人手による作業を必要とする
ため、刻設作業が煩雑となり且つ石材に原稿の文字や図
柄等と全く同一形状の文字や図柄を刻設することは極め
て困難であり、特に、細かな模様等を石材に刻設するこ
とは至難のことであった。
吹き付けて文字や図柄等を刻設するサンドブラスト加工
を施す場合、先ず、石材の刻設面にゴムシートを接着
し、カーボン紙等によって原稿からゴムシート面に文字
や図柄を転写した後、刻設部分のゴムシートをカッター
等で切り取ってからサンドブラスト加工による刻設を施
し、次いで残存するゴムシートを剥離する。かかる手順
によって、刻設面の必要な部分のみに刻設を施すことが
できる。この場合、非刻設部分に残されたゴムシート
は、サンドブラスト加工中に非刻設部分の保護マスクと
して働く。この様な従来の刻設方法によれば、ゴムシー
トをカッター等で切り取る人手による作業を必要とする
ため、刻設作業が煩雑となり且つ石材に原稿の文字や図
柄等と全く同一形状の文字や図柄を刻設することは極め
て困難であり、特に、細かな模様等を石材に刻設するこ
とは至難のことであった。
【０００３】かかる従来のゴムシートをカットして非刻
設部分の保護マスクの形成を、写真技術を利用して行う
こともなされている。このマスク形成法においては、刻
設面に感光乳液を塗布した後、感光乳液層上に重ねて載
置した透明フィルム上に原稿又はネガフィルムを置いて
露光し、非刻設部分に相当する感光乳液層の部分を感光
させて不溶化する。次いで、感光乳液層の未感光部分を
洗い流すことによって、感光乳液層の感光して不溶化さ
れた部分のみが刻設面に残存し保護マスクを形成する。
このようにして保護マスクが形成された刻設面にサンド
ブラスト加工を施すことによって、非刻設部分を保護マ
スクによって保護しつつ刻設部分を刻設することができ
るため、石材等に文字や図柄等を形成することができ
る。
設部分の保護マスクの形成を、写真技術を利用して行う
こともなされている。このマスク形成法においては、刻
設面に感光乳液を塗布した後、感光乳液層上に重ねて載
置した透明フィルム上に原稿又はネガフィルムを置いて
露光し、非刻設部分に相当する感光乳液層の部分を感光
させて不溶化する。次いで、感光乳液層の未感光部分を
洗い流すことによって、感光乳液層の感光して不溶化さ
れた部分のみが刻設面に残存し保護マスクを形成する。
このようにして保護マスクが形成された刻設面にサンド
ブラスト加工を施すことによって、非刻設部分を保護マ
スクによって保護しつつ刻設部分を刻設することができ
るため、石材等に文字や図柄等を形成することができ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記写真技術を利用し
て保護マスクを形成し、非刻設部分を保護マスクによっ
て保護しつつサンドブラスト加工を施して刻設部分を刻
設する刻設方法によれば、人手でゴムシートを切り取る
従来の刻設方法に比較して、細かな文字や図柄等を石材
等に刻設することができる。しかしながら、刻設面に感
光乳液を塗布するため、透明フィルムを感光乳液層上に
載置しなければならず、感光乳液層に到達する光は原稿
又はネガフィルムと透明フィルムとの二枚のフィルムを
透過することを要する。このため、光が二枚のフィルム
を透過する間に発生するハレーション等によって、感光
乳液層に感光された文字や図柄等の輪郭が惚けることが
あるため、微細な文字や図柄等の刻設には不向きであ
る。また、感光剤含有の乳化液等を使用するため、その
取扱い等に相当な注意を必要とし、刻設作業を煩雑化す
る。そこで、本発明の目的は、サンドブラスト加工によ
って微細な文字や図柄等を石材等に容易に刻設すること
のできる保護マスク形成液及び刻設方法を提供すること
にある。
て保護マスクを形成し、非刻設部分を保護マスクによっ
て保護しつつサンドブラスト加工を施して刻設部分を刻
設する刻設方法によれば、人手でゴムシートを切り取る
従来の刻設方法に比較して、細かな文字や図柄等を石材
等に刻設することができる。しかしながら、刻設面に感
光乳液を塗布するため、透明フィルムを感光乳液層上に
載置しなければならず、感光乳液層に到達する光は原稿
又はネガフィルムと透明フィルムとの二枚のフィルムを
透過することを要する。このため、光が二枚のフィルム
を透過する間に発生するハレーション等によって、感光
乳液層に感光された文字や図柄等の輪郭が惚けることが
あるため、微細な文字や図柄等の刻設には不向きであ
る。また、感光剤含有の乳化液等を使用するため、その
取扱い等に相当な注意を必要とし、刻設作業を煩雑化す
る。そこで、本発明の目的は、サンドブラスト加工によ
って微細な文字や図柄等を石材等に容易に刻設すること
のできる保護マスク形成液及び刻設方法を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記目的を
達成すべく検討を重ねた結果、硬化してゴム弾性を呈す
る液状シリコーンを含有し且つスクリーン印刷に適する
粘度に粘度調整された液体をスクリーン印刷によって石
材の非刻設部分に塗布し、保護マスクを形成してサンド
ブラスト加工を施したところ、原稿と同一形状で且つシ
ャープな文字や図柄を石材の刻設面に形成できることが
判明し、本発明に到達した。即ち、本発明は、石材等の
刻設面に砥粒を吹き付けて文字や図柄等を刻設するブラ
スト加工を施す際に、前記刻設面の非刻設部分に塗布さ
れて保護マスクを形成する保護マスク形成液であって、
該保護マスク形成液がスクリーン印刷に適する粘度に調
整され、且つ前記保護マスク形成液中に、硬化してゴム
弾性を呈する液状シリコーン等の液状化合物が配合され
ていることを特徴とする保護マスク形成液にある。ま
た、本発明は、石材等の表面に文字や図柄等を刻設する
際に、該石材等の刻設面の非刻設部分に、スクリーン印
刷に適した粘度に粘度調整され且つ硬化してゴム物性を
呈する液状化合物が配合された保護マスク形成液をスク
リーン印刷によって塗布し硬化せしめて保護マスクを形
成し、次いで、刻設部分に砥粒を吹き付けて刻設するブ
ラスト加工を施した後、前記保護マスクを除去すること
を特徴とする刻設方法にある。
達成すべく検討を重ねた結果、硬化してゴム弾性を呈す
る液状シリコーンを含有し且つスクリーン印刷に適する
粘度に粘度調整された液体をスクリーン印刷によって石
材の非刻設部分に塗布し、保護マスクを形成してサンド
ブラスト加工を施したところ、原稿と同一形状で且つシ
ャープな文字や図柄を石材の刻設面に形成できることが
判明し、本発明に到達した。即ち、本発明は、石材等の
刻設面に砥粒を吹き付けて文字や図柄等を刻設するブラ
スト加工を施す際に、前記刻設面の非刻設部分に塗布さ
れて保護マスクを形成する保護マスク形成液であって、
該保護マスク形成液がスクリーン印刷に適する粘度に調
整され、且つ前記保護マスク形成液中に、硬化してゴム
弾性を呈する液状シリコーン等の液状化合物が配合され
ていることを特徴とする保護マスク形成液にある。ま
た、本発明は、石材等の表面に文字や図柄等を刻設する
際に、該石材等の刻設面の非刻設部分に、スクリーン印
刷に適した粘度に粘度調整され且つ硬化してゴム物性を
呈する液状化合物が配合された保護マスク形成液をスク
リーン印刷によって塗布し硬化せしめて保護マスクを形
成し、次いで、刻設部分に砥粒を吹き付けて刻設するブ
ラスト加工を施した後、前記保護マスクを除去すること
を特徴とする刻設方法にある。
【０００６】
【作用】本発明の保護マスク形成液は、スクリーン印刷
によって石材等の刻設面に直接塗布できるため、スクリ
ーン印刷用の版下を写真製版によって作成すると、原稿
に記載された微細な文字や図柄等を石材等の刻設面にそ
のまま写し取ることができる。このため、サンドブラス
ト加工を施すことによって、原稿の微細な文字や図柄等
をそのまま石材等に容易に刻設できるのである。更に、
塗布する保護マスク形成液中には、硬化してゴム弾性を
呈するシリコーン等の化合物が含有されているため、石
材等の刻設面に塗布された保護マスク形成液を硬化した
とき、ゴム弾性を呈する保護マスクが形成される。この
ため、この保護マスクは、サンドブラスト加工中に刻設
面から剥離することがなく、且つ刻設完了後に保護マス
クを容易に剥離できるため、刻設作業の容易化を図るこ
とができる。
によって石材等の刻設面に直接塗布できるため、スクリ
ーン印刷用の版下を写真製版によって作成すると、原稿
に記載された微細な文字や図柄等を石材等の刻設面にそ
のまま写し取ることができる。このため、サンドブラス
ト加工を施すことによって、原稿の微細な文字や図柄等
をそのまま石材等に容易に刻設できるのである。更に、
塗布する保護マスク形成液中には、硬化してゴム弾性を
呈するシリコーン等の化合物が含有されているため、石
材等の刻設面に塗布された保護マスク形成液を硬化した
とき、ゴム弾性を呈する保護マスクが形成される。この
ため、この保護マスクは、サンドブラスト加工中に刻設
面から剥離することがなく、且つ刻設完了後に保護マス
クを容易に剥離できるため、刻設作業の容易化を図るこ
とができる。
【０００７】
【発明の構成】本発明において、保護マスク形成液がス
クリーン印刷に適する粘度に調整され、且つ前記保護マ
スク形成液中に、硬化してゴム弾性を呈するシリコーン
等の液状化合物が配合されていることが大切である。こ
こで、保護マスク形成液の粘度としては、室温における
粘度が５０〜２００ポイズが好適である。５０ポイズ未
満の粘度では、スクリーン印刷機のスクリーンを保護マ
スク形成液が容易に通過できるものの、石材面で広がり
易く文字等を構成する線が滲み易い傾向にある。一方、
２００ポイズを越える粘度では、保護マスク形成液が石
材面で広がって文字等を構成する線が滲むことを防止で
きるものの、スクリーン印刷機のスクリーンを保護マス
ク形成液が通過し難くなる傾向にある。また、本発明の
保護マスク形成液中に配合されている、硬化してゴム弾
性を呈する液状化合物としては、硬化してゴム弾性を呈
する液状化合物であればよいが、特に液状シリコーンが
好適である。この液状シリコーンとしては、シール材等
として市販されているものを使用することができる。か
かる液状シリコーンは、風乾することによって硬化する
が、赤外線ランプ等で加熱処理することによって風乾時
間を短縮することができる。
クリーン印刷に適する粘度に調整され、且つ前記保護マ
スク形成液中に、硬化してゴム弾性を呈するシリコーン
等の液状化合物が配合されていることが大切である。こ
こで、保護マスク形成液の粘度としては、室温における
粘度が５０〜２００ポイズが好適である。５０ポイズ未
満の粘度では、スクリーン印刷機のスクリーンを保護マ
スク形成液が容易に通過できるものの、石材面で広がり
易く文字等を構成する線が滲み易い傾向にある。一方、
２００ポイズを越える粘度では、保護マスク形成液が石
材面で広がって文字等を構成する線が滲むことを防止で
きるものの、スクリーン印刷機のスクリーンを保護マス
ク形成液が通過し難くなる傾向にある。また、本発明の
保護マスク形成液中に配合されている、硬化してゴム弾
性を呈する液状化合物としては、硬化してゴム弾性を呈
する液状化合物であればよいが、特に液状シリコーンが
好適である。この液状シリコーンとしては、シール材等
として市販されているものを使用することができる。か
かる液状シリコーンは、風乾することによって硬化する
が、赤外線ランプ等で加熱処理することによって風乾時
間を短縮することができる。
【０００８】また、保護マスク形成液の硬化速度を早め
るため、保護マスク形成液中に市販されている紫外線硬
化剤を配合してもよい。更に、形成される保護マスクを
厚くするため、保護マスク形成液中に「とのこ」を配合
してもよい。この「とのこ」とは、砥石を切り出す際に
生じた砥石の粉末或いは黄土を焼いて粉にした粉末であ
り、漆器の塗下地の原料として使用されているものであ
る。
るため、保護マスク形成液中に市販されている紫外線硬
化剤を配合してもよい。更に、形成される保護マスクを
厚くするため、保護マスク形成液中に「とのこ」を配合
してもよい。この「とのこ」とは、砥石を切り出す際に
生じた砥石の粉末或いは黄土を焼いて粉にした粉末であ
り、漆器の塗下地の原料として使用されているものであ
る。
【０００９】このような本発明の保護マスク形成用液を
使用して石材等に文字や図柄等を刻設するには、先ず、
スクリーン印刷用の版下を作成する。この版下は、原稿
を写真製版することによって、容易に作成することがで
きる。次いで、石材等の刻設面に、作成した版下を装着
したスクリーン印刷機を使用し、本発明の保護マスク形
成液を用いてスクリーン印刷する。かあるスクリーン印
刷によって石材等の刻設面の非刻設部分に本発明の保護
マスク形成液を塗布できる。次いで、塗布した保護マス
ク形成液を硬化せしめて保護マスクを形成する。この際
に、形成された保護マスクのマスク厚が薄い場合には、
再度塗布して保護マスクのマスク厚さを最適厚さとす
る。この場合、塗布した保護マスク形成液の硬化を早め
るため、赤外線ランプ等に因る加熱処理を施すことが好
ましい。また、保護マスク形成液中に紫外線硬化剤が配
合されている場合には、紫外線を照射することによって
保護マスク形成液の硬化速度を早めることができる。更
に、保護マスク形成液に「とのこ」が配合されている
と、一回の塗布で形成される保護マスクのマスク厚を厚
くできるため、再塗布回数を減少することができる。
尚、形成する保護マスクのマスク厚さは、０．５〜１ｍ
ｍ程度とすることが好ましいが、サンドブラスト加工を
施すサンドの粒径等によって最適な厚さが存在するた
め、予め実験等によって保護マスクの最適厚さを確認し
ておくことが好ましい。
使用して石材等に文字や図柄等を刻設するには、先ず、
スクリーン印刷用の版下を作成する。この版下は、原稿
を写真製版することによって、容易に作成することがで
きる。次いで、石材等の刻設面に、作成した版下を装着
したスクリーン印刷機を使用し、本発明の保護マスク形
成液を用いてスクリーン印刷する。かあるスクリーン印
刷によって石材等の刻設面の非刻設部分に本発明の保護
マスク形成液を塗布できる。次いで、塗布した保護マス
ク形成液を硬化せしめて保護マスクを形成する。この際
に、形成された保護マスクのマスク厚が薄い場合には、
再度塗布して保護マスクのマスク厚さを最適厚さとす
る。この場合、塗布した保護マスク形成液の硬化を早め
るため、赤外線ランプ等に因る加熱処理を施すことが好
ましい。また、保護マスク形成液中に紫外線硬化剤が配
合されている場合には、紫外線を照射することによって
保護マスク形成液の硬化速度を早めることができる。更
に、保護マスク形成液に「とのこ」が配合されている
と、一回の塗布で形成される保護マスクのマスク厚を厚
くできるため、再塗布回数を減少することができる。
尚、形成する保護マスクのマスク厚さは、０．５〜１ｍ
ｍ程度とすることが好ましいが、サンドブラスト加工を
施すサンドの粒径等によって最適な厚さが存在するた
め、予め実験等によって保護マスクの最適厚さを確認し
ておくことが好ましい。
【００１０】所定厚さの保護マスクが形成された後、刻
設面をサンドブラスト加工して刻設部分に刻設を施す。
この際に、保護マスクが形成された部分は吹き付けられ
るサンドの衝撃から保護されており、刻設されない。本
発明の保護マスク形成液によって形成された保護マスク
は、ゴム弾性を呈するため、サンドの衝撃に耐えること
ができ且つサンドブラスト加工中に刻設面から剥離され
ることがない。一方、サンドブラスト加工によって所定
の文字や図柄等が刻設された後、形成された保護マスク
にエッチング等の化学的処理又は機械的処理を施し剥離
する。このゴム弾性を呈する保護マスクの剥離は容易に
行うことができる。以上、述べてきた本発明は、石材に
文字や図柄等をサンドブラスト加工によって刻設する際
に好適に適用することができるが、陶器に文字や図柄等
を刻設する際にも適用できる。また、例えばエポキシ等
の硬化剤が配合された塗料を刻設した部分に塗布するこ
とによって、耐久性を有する着色を施すことができる。
かかる本発明によれば、原稿に記載された文字や図柄等
を複数個の石材等に容易に刻設することができる。この
ため、多数の模様付き石材等を必要とする壁装飾用石材
を作成する際に、本発明の保護マスク形成液及び刻設方
法を好適に使用することができる。尚、石碑や墓誌等を
刻設する際にも本発明の刻設方法等を適用できることは
勿論のことである。
設面をサンドブラスト加工して刻設部分に刻設を施す。
この際に、保護マスクが形成された部分は吹き付けられ
るサンドの衝撃から保護されており、刻設されない。本
発明の保護マスク形成液によって形成された保護マスク
は、ゴム弾性を呈するため、サンドの衝撃に耐えること
ができ且つサンドブラスト加工中に刻設面から剥離され
ることがない。一方、サンドブラスト加工によって所定
の文字や図柄等が刻設された後、形成された保護マスク
にエッチング等の化学的処理又は機械的処理を施し剥離
する。このゴム弾性を呈する保護マスクの剥離は容易に
行うことができる。以上、述べてきた本発明は、石材に
文字や図柄等をサンドブラスト加工によって刻設する際
に好適に適用することができるが、陶器に文字や図柄等
を刻設する際にも適用できる。また、例えばエポキシ等
の硬化剤が配合された塗料を刻設した部分に塗布するこ
とによって、耐久性を有する着色を施すことができる。
かかる本発明によれば、原稿に記載された文字や図柄等
を複数個の石材等に容易に刻設することができる。この
ため、多数の模様付き石材等を必要とする壁装飾用石材
を作成する際に、本発明の保護マスク形成液及び刻設方
法を好適に使用することができる。尚、石碑や墓誌等を
刻設する際にも本発明の刻設方法等を適用できることは
勿論のことである。
【００１１】
実施例 （１）保護マスク形成液の調整 シリコーン〔信越化学工業株式会社製、ＫＥ４５〕２５
重量部、紫外線硬化剤〔セイコーアドバンス株式会社
製、ソレックス（商標）〕５０重量部、及び「とのこ」
２５重量部を混合して粘調な溶液を調整した。 （２）保護マスクの形成 原稿に記載された唐草模様を写真製版によって版下を作
成し、得られた版下をスクリーン印刷機に装着した。次
いで、前記（１）で得られた保護マスク形成液を使用
し、表面が研磨された石材の表面に唐草模様を直接印刷
した後、紫外線ランプを使用して塗布した保護マスク形
成液に紫外線を照射し保護マスク形成液を硬化した。か
かる印刷及び紫外線の照射作業を４回程繰り返して行い
保護マスクのマスク厚さを約０．６ｍｍとした。保護マ
スクは弾力性を有するものであった。石材の刻設面にお
いて、唐草模様部分に保護マスクが形成されているのみ
であり、その他の部分は石材の表面が露出している。 （３）サンドブラスト加工 粒度１８０〜２３０番のサンドを石材の刻設面に噴射し
てブラスト加工を施し、石材の露出面を刻設した。かか
るサンドブラスト加工を施した後、保護マスクを金属片
で擦って剥離したところ、保護マスクは容易に剥離でき
た。石材の刻設面には、唐草模様の微細な模様が鮮明に
浮き出されており、その形状も原稿に記載された形状と
ほぼ同一のものであった。
重量部、紫外線硬化剤〔セイコーアドバンス株式会社
製、ソレックス（商標）〕５０重量部、及び「とのこ」
２５重量部を混合して粘調な溶液を調整した。 （２）保護マスクの形成 原稿に記載された唐草模様を写真製版によって版下を作
成し、得られた版下をスクリーン印刷機に装着した。次
いで、前記（１）で得られた保護マスク形成液を使用
し、表面が研磨された石材の表面に唐草模様を直接印刷
した後、紫外線ランプを使用して塗布した保護マスク形
成液に紫外線を照射し保護マスク形成液を硬化した。か
かる印刷及び紫外線の照射作業を４回程繰り返して行い
保護マスクのマスク厚さを約０．６ｍｍとした。保護マ
スクは弾力性を有するものであった。石材の刻設面にお
いて、唐草模様部分に保護マスクが形成されているのみ
であり、その他の部分は石材の表面が露出している。 （３）サンドブラスト加工 粒度１８０〜２３０番のサンドを石材の刻設面に噴射し
てブラスト加工を施し、石材の露出面を刻設した。かか
るサンドブラスト加工を施した後、保護マスクを金属片
で擦って剥離したところ、保護マスクは容易に剥離でき
た。石材の刻設面には、唐草模様の微細な模様が鮮明に
浮き出されており、その形状も原稿に記載された形状と
ほぼ同一のものであった。
【００１２】比較例 石材の刻設面に感光剤が配合された乳化液を塗布して乳
化液層を形成した後、前記乳化液層上に載置した透明シ
ート上に唐草模様が記載された上記実施例の原稿と同一
原稿を載置し、原稿の上から光を照射して乳化液層を露
光した。次いで、水洗して未露光の部分を洗浄すること
によって、唐草模様の部分に保護マスクが形成された
が、唐草模様の微細な部分が不鮮明となっていた。この
ようにして保護マスクが形成された石材に対し、上記実
施例と同様にサンドブラスト加工を施した。サンドブラ
スト加工後に保護マスクを除去すると、唐草模様が石材
面に浮き出されていたが、上記実施例において刻設され
た唐草模様に比較して、微細な箇所が不鮮明な模様であ
った。
化液層を形成した後、前記乳化液層上に載置した透明シ
ート上に唐草模様が記載された上記実施例の原稿と同一
原稿を載置し、原稿の上から光を照射して乳化液層を露
光した。次いで、水洗して未露光の部分を洗浄すること
によって、唐草模様の部分に保護マスクが形成された
が、唐草模様の微細な部分が不鮮明となっていた。この
ようにして保護マスクが形成された石材に対し、上記実
施例と同様にサンドブラスト加工を施した。サンドブラ
スト加工後に保護マスクを除去すると、唐草模様が石材
面に浮き出されていたが、上記実施例において刻設され
た唐草模様に比較して、微細な箇所が不鮮明な模様であ
った。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、原稿等に記載された微
細な文字や図柄をそっくり石材等に刻設することがで
き、且つその刻設作業を容易に行うことができる。ま
た、本発明によれば、一枚の原稿に記載された文字や図
柄を複数個の石材等の刻設面に容易に刻設できるため、
多数の模様付き石材を必要とする壁装飾用石材を作成す
る際に好適である。
細な文字や図柄をそっくり石材等に刻設することがで
き、且つその刻設作業を容易に行うことができる。ま
た、本発明によれば、一枚の原稿に記載された文字や図
柄を複数個の石材等の刻設面に容易に刻設できるため、
多数の模様付き石材を必要とする壁装飾用石材を作成す
る際に好適である。
Claims (2)
- 【請求項１】 石材等の刻設面に砥粒を吹き付けて文字
や図柄等を刻設するブラスト加工を施す際に、前記刻設
面の非刻設部分に塗布されて保護マスクを形成する保護
マスク形成液であって、 該保護マスク形成液がスクリーン印刷に適する粘度に調
整され、且つ前記保護マスク形成液に、硬化してゴム弾
性を呈する液状シリコーン等の液状化合物が配合されて
いることを特徴とする保護マスク形成液。 - 【請求項２】 石材等の表面に文字や図柄等を刻設する
際に、 該石材等の刻設面の非刻設部分に、スクリーン印刷に適
した粘度に粘度調整され且つ硬化してゴム物性を呈する
液状化合物が配合された保護マスク形成液をスクリーン
印刷によって塗布し硬化せしめて保護マスクを形成し、 次いで、刻設部分に砥粒を吹き付けて刻設するブラスト
加工を施した後、前記保護マスクを除去することを特徴
とする刻設方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4173896A JPH05337830A (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 保護マスク形成液及び刻設方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4173896A JPH05337830A (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 保護マスク形成液及び刻設方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337830A true JPH05337830A (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=15969102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4173896A Pending JPH05337830A (ja) | 1992-06-08 | 1992-06-08 | 保護マスク形成液及び刻設方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05337830A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016039280A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5429285A (en) * | 1977-08-08 | 1979-03-05 | Kanagawa Prefecture | Method of etching material for craftwork |
| JPS54152294A (en) * | 1978-05-23 | 1979-11-30 | Sakata Shokai Ltd | Pattern preparing method |
| JPS5565072A (en) * | 1978-11-02 | 1980-05-16 | Asaka Shokai:Kk | Harmless sandblasting method |
| JPS6020860A (ja) * | 1983-07-12 | 1985-02-02 | Hayakawa Rubber Co Ltd | サンドブラスト彫刻法 |
-
1992
- 1992-06-08 JP JP4173896A patent/JPH05337830A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5429285A (en) * | 1977-08-08 | 1979-03-05 | Kanagawa Prefecture | Method of etching material for craftwork |
| JPS54152294A (en) * | 1978-05-23 | 1979-11-30 | Sakata Shokai Ltd | Pattern preparing method |
| JPS5565072A (en) * | 1978-11-02 | 1980-05-16 | Asaka Shokai:Kk | Harmless sandblasting method |
| JPS6020860A (ja) * | 1983-07-12 | 1985-02-02 | Hayakawa Rubber Co Ltd | サンドブラスト彫刻法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016039280A (ja) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
| US10115636B2 (en) | 2014-08-08 | 2018-10-30 | Disco Corporation | Processing method for workpiece |
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