DE2834353C2 - Vakuumaufdampfvorrichtung - Google Patents
VakuumaufdampfvorrichtungInfo
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- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 59
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 30
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 10
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000563924 Mitu Species 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
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Description
40
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vakuumaufdampfvorrichtung gemäß dem Oberbegriff von Patentanspruch
1.
Eine solche Vakuumaufdampfvorrichtung ist bekannt (DE-OS 24 54 544). Bei dieser bekannten Vorrichtung ist
jedes der Kammerteile als sowohl oben als auch unten offener Rahmen ausgebildet. Dieser Rahmen weist nahe
seinem unteren Rand eine Innenschulter auf, die die Halterung für den Substrathalter bildet, so daß der
Substrathalter von oben in den Rahmen und auf die Schulter gesetzt werden kann. Für alle gegenüber der
Hauptkammer abdichtbaren Behandlungs- oder Schleusenkammern ist jeweils eine Ventilplatte innerhalb der
Hauptkammer vorgesehen, die gegen den Rahmen gedrückt werden kann. Abgedichtete Behandlungs- und
Schleusenkammern werden dadurch herbeigeführt, daß die Welle senkrecht nach unten verschoben wird, so daß
die die Kammerteile bildenden Rahmen gegen die untere Wand der Hauptkammer gedrückt werden,
während gleichzeitig von oben gegen jeden Rahmen eine zugeordnete Ventilplatte gedrückt wird.
Günstig bei der bekannten Vorrichtung ist, daß im Betrieb mehrere voneinander getrennte Behandlungsund
Schleusenkammern zur Verfügung stehen, so daß beispielsweise aus der Schleusenkammer ein Substrathalter
entnommen und ein anderer Substrathalter in die Schleusenkammer eingesetzt werden kann, während
gleichzeitig in Behandlungskammern Quellmaterial aufgedampft wird. Ferner ist günstig, daß nicht jede
öffnen der Schleusenkammer gleichzeitig eine Durch flutung der Behandlungskammern mit atmosphärische
Luft mit sich bringt; vielmehr kann in diesei Behandlungskammern eine gewünschte Atmosphäre
unter niedrigem Druck aufrechterhalten werden. Die Vorrichtung kann so betrieben werden, daß die
Behandlungskammern zur Hauptkammer nur dam offen sind, wenn die Hauptkammer evakuiert ist
Nachteilig bei der bekannten Vorrichtung ist, daß sie
verhältnismäßig kompliziert ist. Insbesondere sind füi
die Antriebe der einzelnen Ventilplatten zahlreich Durchbrüche in der Wand der Hauptkammer erforderlich,
die die Nachteile mit sich bringen, daß sie die Dichtheit der Hauptkammer beeinträchtigen und daß
das notwendige Dichtungsmaterial zu einer Verunreinigung der Atmosphäre in der Hauptkammer führen
kann. Außerdem weist auch jede abgedichtete Behandlungs- oder Schleusenkammer verhältnismäßig viele
Dichtstellen auf, die ebenfalls die Dichtheit beeinträchtigen können.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die gattungsgemäße Vorrichtung derart auszubilden, daß
sie weniger kompliziert und zuverlässiger ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im kennzeichnenden Teil von Patentanspruch
1 gelöst
Bei der erfindungsgemäßen Vakuumaufdampfvorrichtung reicht es zum Herstellen einer abgedichteten
Behandlungs- oder Schleusenkammer aus, die die Kammerteile bildenden Glocken an die Wand der
Hauptkammer zu drücken. Dadurch ist die jeweilige Behandlungs- oder Schleusenkammer bereits gegenüber
der Hauptkammer abgedichtet. Zusätzliche Ventilplatten und Antriebseinrichtungen für diese sind nicht
erforderlich, so daß die dadurch verursachten Nachteile entfallen. Trotz der oben geschlossenen Kammerteile
macht das Beschicken in der Schleusenkammer keine Schwierigkeiten, weil Halterungen vorgesehen sind, an
denen die Substrathalter aufgehängt werden.
Aus der DE-OS 22 07 957 waren bei einer Vakuumaufdampfvorrichtung Halterungen für Substrathalter
bekannt, die eine Aufhängung der Substrathalter ermöglichen. Diese bekannten Halterungen sind ortsfest
an mehreren Arbeitspositionen der Vorrichtung angeordnet. Der Transport der Substrathalter von
Arbeitsposition zu Arbeitsposition erfolgt mit Hilfe von Schlitten auf einer Rollenbahn.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in den Zeichnungen dargestellt und wird im folgenden näher
erläutert. Es zeigt
F i g. 1 einen vertikalen Schnitt gemäß E-F in F i g. 2 durch eine Ausführungsform einer Vorrichtung gemäß
der Erfindung;
Fig.2 einen horizontalen Schnitt gemäß A-B in
Fig. 1:
F i g. 3 einen vertikalen Schnitt gemäß C-D in F i g. 2 zur Darstellung konstruktiver Einzelheiten von Vorwärm-
und Kühlkammern;
F i g. 4 eine perspektivische Ansicht eines kalottenförmigen
Substrathalters mit einer Halterung für diesen;
F i g. 5 eine teilweise geschnittene Darstellung von Einzelheiten der Halterung gemäß F i g. 4;
Fig.6 einen Schnitt durch ein Beispiel einer Zuführeinrichtung für Quellenmaterial;
F i g. 7 eine perspektivische Ansicht zur Darstellune
konstruktiver Einzelheiten einer Überführungseinrichtung des Mechanismus gemäß F i g. 6; und
Fig.8(a) bis (d) ausschnittsweise vier verschiedene
Betriebsstellungen von Elementen der Zuführeinrichtung.
Die in den Figuren dargestellte Vakuumaufdampfvorrichtung dient dazu, dünne Schichten verschiedener
Quellenmaterialien aufeinanderfolgend auf ein Substrat 48, beispielsweise ein optisches Bauteil oder ein
elektrisches Schaltkreisbauteil oder ein magnetisches Bauteil, aufzubringen. Die in den F i g. 1,2 und 3 gezeigte
Vorrichtung umfaßt eine von einer unteren Wand 74 und einem Hauptbehälter 78 begrenzte Kauptkammer
76, wobei der Hauptbehälter 78 auf der Wand 74 mittels einer ringförmigen Gummidichtung 86 abgedichtet ist
In der Hauptkammer 76 sind sechs bewegliche hohle Glocken 32, 34, 36, 38, 40 und 42 (siehe Fig.2)
angeordnet, die mit Hilfe entsprechender, radial sich voti einer Welle 46 erstreckender Arme 44 gehalten
sind, wobei sich die Welle 46 durch die Mitu. der Wand
74 erstreckt und mit der Ausgangsweile eines elektrischen Motors M1 so verbunden ist, daß die Welle
46 in senkrechter Richtung verschoben und gedreht werden kann. Die Glocken 32 bis 42 weisen jeweils
einen sich vom Rand am offenen Ende nach außen erstreckenden Flansch mit einer Aussparung in der
Oberfläche des Flansches zur Aufnahme eines elastischen Dichtungsringes 88 auf. Diese Glocken 32 bis 42
schaffen, wenn sie dichtend auf der Wand 74 über in dieser vorgesehenen, kreisförmigen öffnungen angeordnet
sind, eine luftdichte Schleusenkammer 28, eine Vorwärmkammer 30, drei Verdampfungskammern, von
denen die Verdampfungskammer 22 in F i g. 1 erkennbar ist, und eine Kühlkammer 26 in völlig von der
Hauptkammer 76 isolierter Weise.
Die luftdichte Schleusenkammer 28 ist außer von der Glocke 32 von einer luftdicht an der Unterseite der
Wand 74 befestigten, zylindrischen Seitenwand 65 und einer Bodenabdeckung 98 begrenzt, die bezüglich der
Seitenwand 65 mittels einer Ringdichtung 94 abgedichtet ist und die es ermöglicht, daß, wenn die
Bodenabdeckung 98 von der Seitenwand 65 entfernt worden ist, durch die sich ergebende öffnung Substrate
48 auf einem kartenförmigen Substrathalter 50 von außerhalb der Vorrichtung in diese eingebracht werden
und umgekehrt. Eine in einem in der Mitte der Bodenabdeckung 98 ausgebildeten Loch luftdicht und
beweglich eingepaßte Welle 68 trägt einen Untersatz 66, auf den der Substrathalter 50 aufsetzbar ist. An der
Welle 68 greift ein Antrieb 69 an, mit dessen Hilfe der Untersatz 66 und somit der Substrathalter 50 in
senkrechter Richtung auf- und abbewegt werden können. Durch eine in der zylindrischen Seitenwand 65
mündende Leitung 104 kann die Schleusenkammer evakuiert und belüftet werden. Damit das Vakuum in
der Hauptkammer 76 nicht gestört wird, während die Schleusenkammer 28 unter atmosphärischem Druck
steht, ist eine Andrückeinrichtung mit einem Hydraulikmotor 70 und zwei Armen 72 vorgesehen. Während der
Hydraulikmotor 70 arbeitet, wird die Glocke 32 gegen die Wand 74 gedrückt.
Die Verdampfungskammer 22, die als Beispiel für die drei vorhandenen Verdampfungskammern gilt, ist außer
von der Glocke 36 von einer zylindrischen Seitenwand
75 und einer Bodenabdeckung 58 begrenzt, wobei zwischen der Bodenabdeckung 58 und der zylindrischen
Seitenwand 75 eine elastische Ringdichtung angeordnet ist. Die Bodenabdeckung 58 kann mit Hilfe eines
Antriebs 59 von der in' Fig. 1 ucteren öffnung der
Seitenwand 75 entfernt und gegen diese gedrückt werden. Bei geöffneter Verdampfungskammer 22 kann
diese gereinigt werden. Im Inneren der Verdampfungskammer 22 sind eine beheizbare Verdampfungsquelle
60, eine Abschirmeinrichtung 62 zur Steuerung der Verdampfung des Quellenmaterials sowie eine Zuführeinrichtung
61 für Quellenmaterial angeordnet, die noch ausführlicher erläutert werden wird Außerhalb der
ίο Verdampfungskammer 22 sind ein Antrieb 62a für die
Abschirmeinrichtung 62 sowie eine geregelte Gasquelle P für beispielsweise Sauerstoff oder Stickstoff angeordnet,
die über ein nicht beziffertes, einstellbares Durchflußmengenventil mit dem Inneren der Verdampfungskammer
22 verbunden ist Auf ähnliche Weise wie die Schleusenkammer 28 ist auch die Verdampfungskammer
22 über eine Leitung 106 belüftbar und evakuierbar.
In Fig.3 sind die Vorwärmkammer 30 und die Kühlkammer 26 mit entsprechend angeordneten Heiz- und Kühleinrichtungen gezeigt Die Heizeinrichtung der Vorwärmkammer 30 umfaßt ein Heizgerät 54a mit einem zugeordneten Strahlungsreflektor 56a. Außerdem ist in jeder der Glockenschalen 32 bis 42 fest ein Heizgerät 54 zusammen mit einem zugeordneten Strahlungsreflektor 56 angeordnet Die Kühleinrichtungen in der Kühlkammer 26 umfassen eine hohle Platte 110, die von einem Rohr 111 getragen wird, das abgedichtet durch eine in der Bodenabdeckung der
In Fig.3 sind die Vorwärmkammer 30 und die Kühlkammer 26 mit entsprechend angeordneten Heiz- und Kühleinrichtungen gezeigt Die Heizeinrichtung der Vorwärmkammer 30 umfaßt ein Heizgerät 54a mit einem zugeordneten Strahlungsreflektor 56a. Außerdem ist in jeder der Glockenschalen 32 bis 42 fest ein Heizgerät 54 zusammen mit einem zugeordneten Strahlungsreflektor 56 angeordnet Die Kühleinrichtungen in der Kühlkammer 26 umfassen eine hohle Platte 110, die von einem Rohr 111 getragen wird, das abgedichtet durch eine in der Bodenabdeckung der
Kühlkammer 26 ausgebildete öffnung geführt ist In dieser Öffnung kann das Rohr 111 senkrecht verschoben
werden. Am Rohr 111 greift ein Antrieb 112 an, mit dessen Hilfe die Platte 110 relativ zum Substrathalter 50
verschoben werden kann, so daß die Abkühlgeschwindigkeit der Substrate 48 auf dem Substrathalter 50 auf
einen gewünschten Wert eingestellt werden kann.
In den F i g. 4 und 5 ist ein Mechanismus zum lösbaren Aufhängen eines Substrathalters 50 in einer der
Glocken dargestellt In der Mitte der oberen Wand 52 einer jeden Glocke 32 bis 42 ist eine stangenförmige
Halterung 132 befestigt, die an ihrem unteren Ende einen Flansch 133 aufweist. Diese Halterungen 132 sind
in den F i g. 1 und 3 lediglich schematisch dargestellt. Der Mechanismus umfaßt eine innere Platte 121 und
eine äußere Platte 120, die die Wand des Substrathalters 50 an dessen Spitze einschließen und daran mit Hilfe
nicht bezeichneter Schrauben befestigt sind. Auf der Außenseite der Platte 120 ist ein Klammerlager 124
befestigt, an dem drei Klammern 128, jeweils um 120° versetzt, schwenkbar gelagert sind. Durch die beiden
Platten 120 und 121 sowie das Klammerlager 124 verläuft mittig eine Welle 122, die an ihren in Fig.5
oberen Enden zwei radiale Flansche aufweist, zwischen denen Ansätze 126 der Klammern 128 angeordnet sind.
An der Welle 122 greift eine Feder 130 an, die die Welle 122 in F i g. 5 nach unten zu schieben versucht, so daß die
Welle 122 die Klammern 128 in die in Fig.5 dargestellte Stellung zu bringen sucht, in der diese den
Flansch 133 hintergreifen, sofern die Halterung 132 und der Substrathalter 50 die in F i g. 5 dargestellte
Relativstellung einnehmen. Indem (in F i g. 5) von unten gegen die Welle 122 gedrückt wird, werden die
Klammern 128 derart nach außen geschwenkt, daß sie vom Flansch 133 freikommen, so daß der Substrathalter
50 von der Halterung 132 gelöst ist und (in F i g. 5) nach unten bewegt werden kann. F i g. 4 zeigt den Substrathalter
50 und die Halterung 132 in voneinander getrenntem Zustand.
Die F i g. 6 bis 8 zeigen die Zuführeinrichtung 61 für Quellenmaterial, die sicherstellt, daß die der Verdampfungsquelle
60 zugeführte Menge an Quellenmaterial so eingestellt ist, daß die Ausbildungsgeschwindigkeit des
Dampfes konstant gehalten wird. Das Quellenmaterial liegt in Form kleiner Stäbe bzw. Stifte vor, die in
vorbestimmter Menge der Verdampfungsquelle 60 zugeführt werden. Bei dem in den F i g. 6 bis 8 gezeigten
Beispiel ist das stabförmige Quellenmaterial, das beispielsweise aus Silber, Kupfer oder Gold besteht, in
einem nicht dargestellten Behälter innerhalb der Verdampfungskammer 22 gelagert. Zusätzlich zu
diesem Behälter umfaßt die Zuführeinrichtung 61 eine Leitung 212, durch die das stabförmige Quellenmaterial
214 vom genannten Behälter einem Zuführbauteil 216 is zugeführt wird, zwei Steuerstangen 218 und 210, die im
Zuführbauteii 216 verschiebbar sind und in ihrer (in F i g. 6) nach rechts verschobenen Stellung die Leitung
212 blockieren, sowie eine Nockenplatte 222, an der die beiden Steuerstangen 218 und 220 mit Hilfe von Federn
228 und 230 über nichtbezifferte Rollen in Anlage gehalten werden. Wenn sich die Nockenplatte 222 in der
in F i g. 8(a) dargestellten untersten Stellung befindet, ist die erste Steuerstange 218 aus der Leitung 212
zurückgezogen, wogegen die zweite Steuerstange 220 die Leitung 212 blockiert, so daß zwei Stäbe des
Quellenmaterials den Raum zwischen den beiden Steuerstangen 218 und 220 in der Leitung 212 (b)
einnehmen. Wenn dann die Nockenplatte 222 mit Hilfe eines Antriebs 227 nach oben, in die Stellung gemäß
F i g. 8(b) verschoben wird, wird dadurch die erste Steuerstange 218 nach rechts geschoben, so daß sie den
rechts vor ihr befindlichen Stab aus Quellenmaterial 214 festklemmt Durch eine weitere Aufwärtsbewegung der
Nockenplatte 224 wird die zweite Steuerstange 220 nach links (in Fig.8) verschoben, so daß die beiden
zwischen den Steuerstangen 218 und 220 befindlichen Stangen des Quellenmaterials nach unten in eine
Uberführungseinrichtung 232 (siehe Fig.6 und 7)
herausfallen können. Wenn dabei die Nockenplatte 222 *o erneut nach unten geschoben wird, wird die zweite
Steuerstange 220 wiederum in ihre Blockierstellung gebracht (siehe F i g. 8(d)), wonach die erste Steuerstange
218 sich nach links bewegt, so daß wiederum der Zustand gemäß F i g. 8(a) herbeigeführt ist
Die Ausbildung der Überführungseinrichtung 232 ist in den F i g. 6 und 7 gezeigt Die Überführungseinrichtung
232 umfaßt einen Zylinder 233, in dem eine in Umfangsrichtung des Zylinders und diametral durch
diesen hindurchgehenden Kammer 234 in Form eines so Schlitzes ausgebildet ist Die Kammer 234 hat solche
Abmessungen, daß sie die Stäbe aus Quellenmaterial 214 aufnehmen kann. Der Zylinder 233 ist fest an einer
Zahnstange 236 so angebracht, daß die vertikal (c) ausgerichtete Kammer 234 mit der Leitung 212 im
Zuführbauteil 216 ausgerichtet ist, wenn die Zahnstange 236 sich in ihrer in Fig.6 dargestellten linken
Endstellung befindet Auf dem Zylinder 233 ist drehbar eine Hülse 237 gelagert, die zwei öffnungen 238 und 239
aufweist, deren freier Öffnungsquerschnitt im wesentli- «>
(d) chen dem freien Querschnitt der Kammer 234 gleicht, wobei die beiden öffnungen 238 und 239 in Umfangsrichtung
einen solchen Winkelabstand haben, daß dann, wenn die öffnung 238 mit der Kammer 234 fluchtet, die
Öffnung 239 nicht mit der Kammer 234 fluchtet so daß dann die Hülse 237 die Kammer 234 unten geschlossen
hält Über ein nicht beziffertes Ritzel sowie ein ebenfalls nicht beziffertes Getriebe steht die Zahnstange 236 in
Verbindung mit einem Antrieb 240. Wenn die Überführungseinrichtung 232 in die in F i g. 6 gestrichelt
dargestellte Stellung bewegt worden ist, wird ein elektrischer Motor 248 eingeschaltet, wodurch eine
Stange 246 nach oben geschoben wird, die wiederum an einem Vorsprung 247 der Hülse 237 angreifen und
dadurch die Hülse drehen kann. Dadurch wird die öffnung 239 mit der Kammer 234 ausgerichtet, so daß
das Quellenmaterial aus der Kammer 237 in die Verdampfungsquelle 60 fallen kann. Um zu verhindern,
daß sich das Quellenmaterial an den verschiedenen Vorrichtungsteilen und insbesondere an der Überführungseinrichtung
232 niederschlägt, sind die Abschirmeinrichtung 62 sowie eine zweite Abschirmeinrichtung
vorgesehen. Die Arbeitsweise der in den Fig.! bis 8 dargestellten Vorrichtung soll im folgenden unter
Bezugnahme auf ein kontinuierliches Verfahren zum Aufbringen einer Dreilagenbeschichtung auf ein optisches
oder elektrisches Substrat beschrieben werden.
Vorbereitung: Die Behandlungs- und Schleusenkammern unter den sechs Glocken 32 bis 42 sowie
die Hauptkammer 76 werden während einer gewissen Zeitdauer mit Hilfe von nicht weiter
erläuterten und nicht bezeichneten Vakuumpumpen evakuiert. Zum Belüften und Evakuieren der
Hauptkammer 76 dient eine Leitung 108.
Einbringen eines Substrathalters: Mittels des Hydraulikmotors 70 wird die Glocke 32 gegen die Wand 74 gedrückt Danach wird ein Druckausgleich zwischen der Umgebung und der Schleusenkammer 28 durch die Leitung 104 herbeigeführt. Dann wird die Bodenabdeckung 98 mittels der Welle 68 nach unten gefahren, so daß eine Bedienperson einen ersten Substrathalter 50 auf den Untersatz 66 setzen kann. Nachdem der Substrathalter 50 auf den Untersatz 66 gesetzt worden ist, werden der Untersatz 66 und die Bodenabdeckung 98 mittels des Antriebs 69 hochgefahren. Nachdem die Bodenabdeckung 98 durch eine weitere leichte Aufwärtsbewegung der Welle 68 in dichtende Anlage an der Seitenwand 65 gebracht worden ist, wird die Welle 122 (siehe F i g. 5) mittels des oberen Endes der Welle 68 nach oben geschoben, wodurch alle Klammern 128 zur Aufnahme des Flansches 133 geöffnet werden. Während der Untersatz 66 zunächst in der erreichten Stellung verharrt, wird die Welle 68 nach untan bewegt wodurch sich die Klammern 128 unter der Wirkung der Feder 130 schließen. Daraufhin wird der Untersatz 66 ebenfalls nach unten bewegt, um ihn aus dem Bewegungsbereich der Glocke 32 herauszubringen.
Evakuieren: Durch die Leitung 104 wird die Schleusenkammer 28 auf ein Druckniveau evakuiert das ungefähr gleich dem Vakuum in der Hauptkammer 76 ist Im Anschluß daran wird das Heizgerät 54 oberhalb des Substrathalters 50 eingeschaltet
Einbringen eines Substrathalters: Mittels des Hydraulikmotors 70 wird die Glocke 32 gegen die Wand 74 gedrückt Danach wird ein Druckausgleich zwischen der Umgebung und der Schleusenkammer 28 durch die Leitung 104 herbeigeführt. Dann wird die Bodenabdeckung 98 mittels der Welle 68 nach unten gefahren, so daß eine Bedienperson einen ersten Substrathalter 50 auf den Untersatz 66 setzen kann. Nachdem der Substrathalter 50 auf den Untersatz 66 gesetzt worden ist, werden der Untersatz 66 und die Bodenabdeckung 98 mittels des Antriebs 69 hochgefahren. Nachdem die Bodenabdeckung 98 durch eine weitere leichte Aufwärtsbewegung der Welle 68 in dichtende Anlage an der Seitenwand 65 gebracht worden ist, wird die Welle 122 (siehe F i g. 5) mittels des oberen Endes der Welle 68 nach oben geschoben, wodurch alle Klammern 128 zur Aufnahme des Flansches 133 geöffnet werden. Während der Untersatz 66 zunächst in der erreichten Stellung verharrt, wird die Welle 68 nach untan bewegt wodurch sich die Klammern 128 unter der Wirkung der Feder 130 schließen. Daraufhin wird der Untersatz 66 ebenfalls nach unten bewegt, um ihn aus dem Bewegungsbereich der Glocke 32 herauszubringen.
Evakuieren: Durch die Leitung 104 wird die Schleusenkammer 28 auf ein Druckniveau evakuiert das ungefähr gleich dem Vakuum in der Hauptkammer 76 ist Im Anschluß daran wird das Heizgerät 54 oberhalb des Substrathalters 50 eingeschaltet
Vorwärmung: Das Andrücken der Glocke 32 mittels des Hydraulikmotors 70 und der Arme 72
gegen die Wand 74 wird beendet Die Welle 46 wird etwas nach oben verschoben und mittels des
Motors Mi gedreht, bis alle Glocken um den Abstand zwischen zwei benachbarten Kammern
weitergedreht worden sind, so daß die Glocke 32 die Position der Glocke 34 in F i g. 3 einnimmt und
die Vorwärmkammer 30 begrenzt. In dieser wird
das Heizgerät 54a zur weiteren Temperaturerhöhung der Substrate 48 eingeschaltet, wodurch
absorbiertes Gas und Staub von der Substratoberfläche entfernt werden und sich eine für die
Aufnahme einer Dünnschicht eines Quellenmaterials geeignete Substratoberfläche ergibt.
Gleichzeitig wird der Schritt (b) in der Schleusenkammer 28 wiederholt, um einen zweiten Substrathalter 50 einzubringen, wobei zu diesem Zeitpunkt die Glocke 42 die Schleusenkammer 28 oben abschließt. Für den zweiten Substrathalter 50 folgt dann ebenfalls der Schritt (c) auf den Schritt (b). Nachdem die Andrückeinrichtung die Krafteinwirkung auf die Glocke 42 beendet hat, wird die Welle 46 wiederum angetrieben, um die Glocke einen oder mehrere Schritte weiterzubewegen, wodurch der erste Substrathalter und der zweite Substrathalter in die erste Verdampfungskammer bzw. in die Vorwärmkammer gelangen. Während dieser Bewegung bleibt die den ersten Substrathalter 50 umgebende Atmosphäre unbeeinträchtigt, da die Leckage von der umgebenden Atmosphäre in die Hauptkammer auf ein sehr geringes Maß begrenzt ist.
Gleichzeitig wird der Schritt (b) in der Schleusenkammer 28 wiederholt, um einen zweiten Substrathalter 50 einzubringen, wobei zu diesem Zeitpunkt die Glocke 42 die Schleusenkammer 28 oben abschließt. Für den zweiten Substrathalter 50 folgt dann ebenfalls der Schritt (c) auf den Schritt (b). Nachdem die Andrückeinrichtung die Krafteinwirkung auf die Glocke 42 beendet hat, wird die Welle 46 wiederum angetrieben, um die Glocke einen oder mehrere Schritte weiterzubewegen, wodurch der erste Substrathalter und der zweite Substrathalter in die erste Verdampfungskammer bzw. in die Vorwärmkammer gelangen. Während dieser Bewegung bleibt die den ersten Substrathalter 50 umgebende Atmosphäre unbeeinträchtigt, da die Leckage von der umgebenden Atmosphäre in die Hauptkammer auf ein sehr geringes Maß begrenzt ist.
(e) Aufdampfen einer ersten Schicht: Die Verdampfungskammer,
in der sich der erste Substrathalter 50 befindet, wird auf ein niedrigeres Druckniveau
als das der Hauptkammer 76 durch die Leitung 106 evakuiert. Daraufhin wird der Verdampfungsquelle
60 mittels der Zuführeinrichtung 61 Quellenmaterial 214 in einer von der gewünschten Ausbildungsgeschwindigkeit der Verdampfung gewünschten
Menge zugeführt Während der Verdampfung wird der Substrathalter 50 mittels eines Drehantriebs, zu
dem ein Motor 80, ein Ritzel 82 und ein Zahnrad 84 gehören, um den Pol bzw. die Mitte des
Substrathalters gedreht, damit auf diese Weise sichergestellt ist, daß die Dicke der ersten
Schichten auf den verschiedenen Substraten ungefähr gleich ist Wenn die Dicke der auf die *"
Substrate aufgebrachten ersten Schicht ein mittels eines nicht gezeigten Überwachungsgerätes gemessenes,
vorbestimmtes Maß erreicht hat, wird die Aufdampfung entweder durch Abschalten der
Energiezufuhr zur Verdampfungsquelle 60 oder mittels der Abschirmeinrichtung 62 unterbrochen.
Während der erste Substrathalter in der ersten Verdampfungskammer behandelt wird, werden der
zweite Substrathalter und der dritte Substrathalter in der Vorwärmkammer bzw. der Schleusenkam- Μ
mer behandelt
(f) Aufdampfen einer zweiten Schicht: Alle Glocken werden um einen Schritt weiterbewegt Während
der gleichzeitigen Behandlung in den durch die Glocken definierten Kammern wird ein weiterer
Substrathalter auf gleiche Weise, wie dies anhand der Schritte (b) und (c) vorstehend erläutert ist, in
die Schleusenkammer eingebracht. Die zuvor mit einer ersten Schicht beschichteten Substrate
werden in der zweiten Verdampfungskammer mit einer zweiten dünnen Schicht versehen.
(g) Aufdampfen einer dritten Schicht: Alle Glocken werden um einen weiteren Schritt weitergedreht,
so daß ein weiterer Substrathalter in die Schleusenkammer eingebracht werden kann und auf die
zuvor erzeugte Schicht in der dritten Verdampfungskammer eine dritte Schicht aufgebracht
werden kann.
(h) Abkühlung: Nachdem der erste Substrathalter 50 die Kühlkammer 26 erreicht hat, wird die Platte 110
in Berührung mit dem unteren Rand des Substrathalters 50 gebracht, so daß die Wärme der
Substrate über den Substrathalter zur Platte 110 abgeleitet wird. Während des Kühlens werden der
zweite, dritte, vierte und fünfte Substrathalter der dritten, zweiten bzw. ersten Beschichtung bzw. der
Vorwärmung unterworfen und wird ein weiterer Substrathalter in die Schleusenkammer eingebracht
(i) Ausbringung: Nachdem die Temperatur des ersten Substrathalters auf einen vorbestimmten Wert
vermindert worden ist und die gleichzeitige Behandlung der übrigen Substrathalter in den
übrigen Kammern beendet ist, werden alle Glocken einen Schritt vorwärtsbewegt, so daß die erste
Glocke 32 innerhalb der Hauptkammer 76 eine vollständige Umdrehung ausgeführt hat und wieder
die Schleusenkammer 28 bildet. Die Glocke 32 wird dann mittels des Hydraulikmotors 70 und der Arme
72 gegen die Wand 74 gedrückt, wonach durch die Leitung 104 eine Belüftung erfolgt, um den Druck in
der Schleusenkammer 28 auf ungefähr 760 mm Hg zu erhöhen. Der Untersatz 66 und die Welle 68
werden zum Trennen des ersten Substrathalters 50 von der Halterung 132 etwas nach oben bewegt, so
daß danach der erste Substrathalter 50 aus der Schleusenkammer entnommen werden kann. Daraufhin
wird ein siebenter Substrathalter in die Schleusenkammer eingebracht, der seinerseits auch
die vorstehend beschriebenen Schritte durchläuft
Vorstehend ist die Erfindung anhand eines typischen Beispiels für eine Vakuumaufdampfvorrichtung beschrieben,
die eine Schleusenkammer, eine Vorwärmkammer, drei Verdampfungskammern sowie eine
Kühlkammer aufweist Dieser Aufbau ist jedoch nicht unbedingt notwendig. Bei der Verwendung der Vakuumaufdampfvorrichtung
zur Aluminium- oder Silberbeschichtung eines Reflexionsspiegel für eine Kamera ist
die Verwendung von Vorwärm- und Kühlkammern nicht notwendig.
Hierzu 6 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Vakuumaufdampfvorrichtung mit einer Hauptkammer, einer abgedichtet in die Hauptkammer
geführten Welle und mehreren, mit der Welle dreh- und schiebefest verbundenen Kammerteilen, die
jeweils unten offen sind und eine Halterung für einen Substrathalter für zu beschichtende Substrate
aufweisen, wobei durch Drehen sowie Anheben und Absenken der Welle in Axialrichtung die Kammerteile
in der Hauptkammer gedreht sowie vertikal bewegt werden und durch die Vertikalbewegung
nach unten jedes Kammerteil an eine Wand der Hauptkammer dichtend derart andrückbar ist, daß
das Kammerteil zusammen mit anderen Teilen eine gegenüber der Hauptkammer abgedichtete Behandlungs-
oder Schleusenkammer bildet, dadurch gekennzeichnet, da3 jedes der Kammerteile
als oben geschlossene Glocke (32,34,36,38,40,42)
ausgebildet ist und daß die Halterung (132) mittig bezüglich der jeweiligen Glocke an deren oberer
Wand (52) derart angeordnet und ausgebildet ist, daß der Substrathalter (50) daran aufhängbar ist.
2. Vakuumaufdampfvorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Drehantrieb (80,82,84)
zum Drehen des Substrathalters (50) in der jeweiligen Glocke (32,34,36,38,40,42).
3. Vakuumaufdampfvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest eine
der Behandlungskammern eine Verdampfungskammer
(22) mit einer abnehmbaren Bodenabdeckung (58) ist und auf der Bodenabdeckung der Verdampfungskammer
eine Zuführeinrichtung (61) für Quellenmaterial, eine Verdampfungsquelle (60) und eine
die Verdampfungsquelle wahlweise abschirmende Abschirmeinrichtung (62,63) angeordnet sind.
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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8125 | Change of the main classification |
Ipc: C23C 13/08 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
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