DE4405500C2 - Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum - Google Patents
Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im VakuumInfo
- Publication number
- DE4405500C2 DE4405500C2 DE19944405500 DE4405500A DE4405500C2 DE 4405500 C2 DE4405500 C2 DE 4405500C2 DE 19944405500 DE19944405500 DE 19944405500 DE 4405500 A DE4405500 A DE 4405500A DE 4405500 C2 DE4405500 C2 DE 4405500C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- recipient
- longitudinal slide
- longitudinal
- door
- electron gun
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/06—Surface hardening
- C21D1/09—Surface hardening by direct application of electrical or wave energy; by particle radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/081—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing particle radiation or gamma-radiation
- B01J19/085—Electron beams only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K5/00—Irradiation devices
- G21K5/10—Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0866—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation
- B29C2035/0877—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using particle radiation using electron radiation, e.g. beta-rays
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/31—Processing objects on a macro-scale
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung, mit welcher im Vakuum
mit dem Elektronenstrahl technologische Prozesse, wie Schweißen
und Modifizieren von Oberflächen (Härten) von Bauteilen, Werk
zeugen und Maschinenelementen durchgeführt werden. Die Einrich
tung ist geeignet als Chargenanlage mehrere zu behandelnde
Werkstücke aufzunehmen.
Zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im
Vakuum sind Einrichtungen bekannt, die im wesentlichen aus einem
zylinderförmigen oder rechteckigen Rezipienten bestehen, auf dem
ein Elektronenstrahlerzeuger (Elektronenkanone) fest angeordnet
ist. Die Elektronenkanone ist so angeordnet, daß der in ihr
erzeugte Elektronenstrahl den Arbeitsbereich im Rezipienten
beaufschlagen kann. In dem Rezipienten sind mehrdimensional
bewegliche Aufnahmevorrichtungen für die Aufnahme und Bewegung
der Werkstücke im Ablenkfeld des Elektronenstrahls angeordnet.
Es können auch zur Behandlung von Kleinteilen großer Stückzahlen
in einer Charge Magazine im Rezipienten angeordnet sein.
An dem Rezipienten sind die entsprechenden Pumpen zur Erzeugung
und Aufrechterhaltung des Vakuums angeordnet. Desweiteren sind
Einrichtungen zur Erzeugung der Hochspannung für die Elektronen
kanone, zur Steuerung und Prozeßführung mit der Einrichtung
verbunden.
Diese bekannten nach dem vorgenannten Prinzip arbeitenden und
aufgebauten Einrichtungen weisen im allgemeinen den Mangel auf,
daß die Be- und Entstückung der Rezipienten apperativ und zeit
lich sehr aufwendig ist. Die dazu erforderlichen Vorrichtungen
müssen automatisch oder manuell ein- und ausgefahren werden und
auf separaten Einrichtungen erfolgt die Be- und Entstückung. Bei
zylinderförmigen Rezipienten ergibt sich durch die Werkstückauf
nahmevorrichtungen bedingt erheblich viel ungenutztes Volumen,
was den apperativen Aufwand vergrößert und hohe Pumpzeiten als
Nebenzeiten erfordert. Auch die bekannten rechteckigen Rezipien
ten beseitigen nur den Mangel unausgenutzten Rezipientenvolu
mens.
So ist eine Großkammeranlage zum
Schweißen bekannt, deren Rezipient rechteckigen Querschnitt aufweist und stirnseitig mit
einer Schiebetür verschlossen ist. In dem Rezipienten ist ein Werkstückmanipulator in Form
eines längsverfahrbaren Schlittens angeordnet, der zum Be- und Entladen auf eine
Auslenkplattform herausgefahren wird. Die Elektronenkanone ist im Rezipienten unter
Vakuum quer zur Längsachse des Rezipienten verfahrbar, sowie kipp- bzw. schwenkbar
(Prospekt Leybold-Heraeus GmbH Hanau, "Elektronenstrahl-Schweißen, Großkammeranlage
1985"). Diese Anlagen haben den Nachteil, daß das ungenutzte Rezipientenvolumen relativ
groß ist, da der Beaufschlagungsbereich der Elektronenkanone durch ihre Anordnung im
Rezipienten sehr eng begrenzt ist und die Elektronenkanone im Rezipienten zusätzlichen
Raum erfordert. Das Ausfahren des Längsschlittens auf die Auslenkplattform erfordert
insbesondere bei großer Länge und Gewicht eine aufwendige und schwer positionierbare
Führung. Dadurch ist der Bedienaufwand sehr hoch.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Einrichtung zur
Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum
zu schaffen, die eine hohe Produktivität ermöglicht, an beliebi
ge vom zu behandelnden Werkstück abhängige Bewegungen im Vakuum
anpaßbar ist und ein einfaches manuelles oder automatisches Be-
und Entstücken der Rezipienten gewährleistet. Das Ein- und
Ausführen der Werkstückaufnahmevorrichtung soll mit geringem
Aufwand an Zeit bei leichter Handhabung möglich sein. Bei gerin
gem Rezipientvolumen soll ein großes Arbeitsfeld, d. h., ein
großer Beaufschlagungsbereich für den Elektronenstrahl gegeben
sein. Ein weiterer Mangel der bekannten Einrichtung ist damit
begründet, daß die Rezipienten in der Fläche sehr groß sein
müssen, da in der Regel eine zweidimensionale Beaufschlagung des
Werkstückes erfolgt und der mögliche Ablenkbereich des Elektro
nenstrahls begrenzt ist, so daß ein zweidimensionales Bewegen
des Werkstückes im Rezipienten erforderlich ist.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe nach den Merkmalen des Patent
anspruches 1 gelöst. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen sind
in den Patentansprüchen 2 bis 12 beschrieben.
Durch die Kombination neuer und bekannter Elemente und die Aus
bildung und Anwendung derselben wurde gefunden, daß die Einrich
tung eine hohe Produktivität gewährleistet. Die Anordnung der
beweglichen Elektronenkanone in Verbindung mit dem in Längsrich
tung im Rezipienten verfahrbaren Längsschlitten bringt ein
bisher noch nicht erreichtes großes Feld für die Beaufschlagung
mit dem Elektronenstrahl. Die erfindungsgemäße Lösung hat außer
dem zur Folge, daß das Volumen des Rezipienten klein und voll
ständig ausnutzbar ist. Die Kombination der Türbewegung mit dem
Mechanismus zum Verfahren des Längsschlittens ermöglicht ein
schnelles Arbeiten bei hoher Sicherheit und kann außerhalb des
Rezipienten erforderliche Führungen zur Schlittenbewegung erspa
ren.
Das Überraschende der Kombination, Längsschlitten im Rezipien
ten, rechtwinklig zur Rezipientenlängsachse über die gesamte
Palettenbreite verfahrbare Elektronenkanone, Paletten auf dem
Längsschlitten sowie Bedientisch außerhalb des Rezipienten,
ermöglicht ein günstiges Verhältnis der Bearbeitungszeit zu den
unproduktiven Nebenzeiten des Belüftens des Rezipienten, Be- und
Entstücken, bei einem Bearbeitungsfeld, das die gesamte Rezi
pientenbreite ausnutzt.
Durch das Ausnutzen der Strahlablenkung kann in Größenordnung
bis ca. 45° das Arbeitsfeld erweitert werden und dadurch ist es
auch möglich, verdeckt liegende Kanten zu beaufschlagen. Der
verfahrbare Längsschlitten an der Seitenwand hat auch den großen
Vorteil, daß während des Prozesses entstehende Abprodukte, wie
Metallspritzer, Metalldampfniederschlag usw. leicht und ungehin
dert vom Boden des Rezipienten bei ausgefahrenem Längsschlitten
zu entfernen sind.
Durch die Möglichkeit des Entfernens des unteren Schenkels des
Längsschlittens wird Bearbeitungsraum bis zum Boden des Rezi
pienten frei, der in Verbindung mit einem Rundtisch in der
vollen Breite des Bearbeitungsbereiches durch die Verschiebung
der Elektronenkanone gewonnen wird. Der Elektronenstrahl kann
somit jeden Punkt des Mantels eines Rotationsteiles unter belie
big vorgegebenem Winkel erreichen. Bei Schrägstellung der Rota
tionsachse zur Senkrechten können Innenkanten schmelzflüssig
behandelt werden, z. B. beim Umschmelzhärten.
Ein Rezipient mit quadratischem Querschnitt im Arbeitsbereich
des Elektronenstrahls als Vorzugsausführung hat den Vorteil, daß
bei einem Rundtisch mit Drehachse in Längsrichtung
des Rezipienten und demontiertem unteren Schenkel des Längs
schlittens eine optimale Auslastung des Rezipienten erfolgt.
An einem Ausführungsbeispiel wird die Erfindung näher erläutert.
Die zugehörigen Zeichnungen zeigen:
Fig. 1: eine Draufsicht auf die gesamte Einrichtung,
Fig. 2: eine Ansicht auf die Rezipientenöffnung.
Die im Prinzip dargestellte Einrichtung dient zum Härten einer
Oberfläche von Werkstücken mittels Elektronenstrahl.
Im Rezipienten 1 mit quadratischem Querschnitt im Arbeitsbereich
ist in der Mitte seiner Länge ein quer zur Längsachse vakuum
dicht während des Strahlbetriebes verschiebbarer Schlitten 2
angeordnet, auf welchem eine Elektronenkanone 3 angeflanscht
ist. Der Bewegungsbereich des Schlittens 2 ist so gewählt, daß
der durch die Elektronenkanone 3 erzeugte Elektronenstrahl mit
oder ohne Ausnutzung seines Ablenkwinkels die gesamte innere
Breite den Arbeitsbereich des Rezipienten 1 beaufschlagen kann.
In dem Rezipienten 1 ist in Längsrichtung verfahrbar mittels
Spindelantrieb bewegbar ein Längsschlitten 4 angeordnet. Der
Längsschlitten 4 ist L-förmig und nur an der Seitenwand des
Rezipienten 1 geführt. Die Führungselemente 5 befinden sich
auch an der Tür 6 des Rezipienten 1, so daß der Längsschlitten 4
bis aus dem Rezipienten 1 sicher geführt ist und damit die
Funktionen der Tür 6 mit der Führung des Längsschlittens 4
gekoppelt sind.
Der Längsschlitten 4 hat eine der halben Rezipientenlänge ent
sprechende Länge, und ist um seine gesamte Länge unter der
Elektronenkanone 3 zu bewegen.
Unmittelbar an den Rezipienten 1, d. h., anschließend an den
ausgefahrenen Längsschlitten 4 schließen sich hintereinander
zwei Bedienstände 7a und 7b an. Neben dem Bedienstand 7a ist der
Bedienstand 7c angeordnet.
Sämtliche Bedienstände 7
haben eine Höhe, die der des Längsschlittens 4 entspricht. Dazu
ist der Rezipient 1 auch auf einem Gestell 8 oder Podest aufge
stellt, um die Paletten 9 auf einer Ebene in und aus dem Rezi
pienten 1 auf dem Längsschlitten 4 und über die Bedienstände 7
auch manuell leicht bewegen zu können.
Die Paletten 9, die auf der Unterseite Kugelrollenelemente 10
sind, sind somit auf dem Längsschlitten 4 und über sämtliche
Bedienstände 7 in Längs- und Querrichtung bewegbar. Auf einer
Palette 9 ist ein um die vertikale Achse drehbarer Rundtisch 11
montiert, auf dem die zu härtenden Werkstücke 12 angebracht
sind. Sie haben etwa halbe Rezipientenlänge und etwa Arbeitsbe
reichsbreite.
Auf dem Rezipienten 1 ist ein Monitor zur Prozeßkontrolle über
an sich bekannte Beobachtungseinrichtungen angeordnet. Desweite
ren ist ein strahlensicheres Beobachtungsfenster 13 am Rezipien
ten 1 angeflanscht.
Über den Anschluß 15 wird der Rezipient 1 mittels geeigneter
Vakuumpumpen evakuiert.
Die Arbeitweise der Einrichtung ist folgende:
Auf dem Rundtisch 11 auf der Palette 9 werden auf dem Bedien stand 7a die Werkstücke 12 befestigt. Die manuell leicht beweg bare Palette 9 wird auf den aus dem Rezipienten 1 ausgefahrenen Längsschlitten 4 geschoben. Der Längsschlitten 4 fährt mittels Spindelantrieb unter gleichzeitigem Schließen der Tür 6 in den Rezipienten 1 in die Arbeitsposition. Nach sofortiger Evakuie rung beginnt die Beaufschlagung der Werkstücke 12 durch den Elektronenstrahl. Dabei wird schrittweise der Rundtisch bewegt. Bei großen Werkstücken wird der Längsschlitten 4 verfahren und gleichzeitig neben der bekannten Strahlablenkung die Elektronen kanone 3 auf dem Schlitten 2 verfahren, wodurch ein außergewöhn lich großes Beaufschlagungsfeld für den Elektronenstrahl erzeugt wird.
Auf dem Rundtisch 11 auf der Palette 9 werden auf dem Bedien stand 7a die Werkstücke 12 befestigt. Die manuell leicht beweg bare Palette 9 wird auf den aus dem Rezipienten 1 ausgefahrenen Längsschlitten 4 geschoben. Der Längsschlitten 4 fährt mittels Spindelantrieb unter gleichzeitigem Schließen der Tür 6 in den Rezipienten 1 in die Arbeitsposition. Nach sofortiger Evakuie rung beginnt die Beaufschlagung der Werkstücke 12 durch den Elektronenstrahl. Dabei wird schrittweise der Rundtisch bewegt. Bei großen Werkstücken wird der Längsschlitten 4 verfahren und gleichzeitig neben der bekannten Strahlablenkung die Elektronen kanone 3 auf dem Schlitten 2 verfahren, wodurch ein außergewöhn lich großes Beaufschlagungsfeld für den Elektronenstrahl erzeugt wird.
Während des Bearbeitungsprozesses wird die nächste Palette 9′ auf
dem Bedientisch 7c bestückt. Nach Prozeßende fährt die Palette 9
nach dem Belüften aus dem Rezipienten 1 vom Längsschlitten 4 auf
den Bedientisch 7b und wird entstückt. Gleichzeitig wird die
bestückte Palette 9′ über den Bedientisch 7a auf den Längsschlit
ten 4 bewegt und der nächste Prozeß beginnt. Eine an sich be
kannte Automatik steuert sämtliche mechanischen und elektrischen
Prozeßschritte.
Die Elektronenkanone 3 ist im Bereich a seitlich verfahrbar und
kann dadurch mit oder ohne Ausnutzung ihres Strahlablenkwinkels
den gesamten Arbeitsbereich beaufschlagen.
Claims (12)
1. Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum,
bestehend aus einem Rezipienten mit rechteckigem Querschnitt, einer an ihm
angeordneten Elektronenkanone mit in beliebiger Richtung ablenkbarem
Elektronenstrahl, Pumpen zur Vakuumerzeugung und Einrichtung zur Erzeugung von
Hochspannung für die Elektronenkanone und Prozeßsteuerung und -überwachung, bei
der die Elektronenkanone auf dem Rezipienten quer zur Längsrichtung des Rezipienten
unter Vakuum verfahrbar angeordnet ist, bei der in dem Rezipienten in Längsrichtung zu
diesem bewegbar ein Längsschlitten zur Aufnahme der zu behandelnden Werkstücke
angeordnet ist und bei der der Rezipient eine stirnseitig angeordnete Tür aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß der Längsschlitten (4) an einer Seitenwand des Rezipienten
(1) geführt ist, daß die Tür (6) als Schwenktür ausgebildet ist und an ihr Führungselemente
(5) zur Führung des Längsschlittens (4) bei geöffneter Tür (6) angeordnet sind und daß der
Längsschlitten (4) etwa die halbe Länge des Rezipienten (1) besitzt.
2. Einrichtung nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß der
Schlitten (2) mit der Elektronenkanone (3) und/oder der
Längsschlitten (4) kugelspindelgetrieben ist.
3. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß an dem Rezipienten (1) ein strahlensicheres Beobach
tungsfenster (13) angeordnet ist.
4. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß mit dem Rezipienten (1) mindestens ein Bedienstand (7)
so verbunden ist, daß Paletten (9) zur Be- und Entstückung
wechselweise in und aus dem Rezipienten (1) auf gleicher
Ebene auf dem Längschlitten (4) bewegbar sind, daß auf den
Paletten (9) die zu behandelnden Werkstücke (12) auf Auf
nahmevorrichtungen für die Werkstücke (12) angeordnet sind,
daß an mindestens einem Bedienstand (7) Mittel zur automa
tischen Prozeßsteuerung angeordnet sind.
5. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Bedienstände (7) so an
geordnet sind, daß die Palette (9) aus dem Rezipienten (1)
auf den Bedienstand (7) so verfahrbar ist, daß eine weitere
bestückte Palette (9) parallel zu dieser seitlich abge
stellt in den Rezipienten (1) einfahrbar ist.
6. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß auf dem Längsschlitten (4) oder den
Paletten (9) wahlweise mindestens ein Rundtisch (11) oder
Magazin zur Werkstückaufnahme oder Einzelvorrichtungen für
Werkstückhalterung angeordnet sind.
7. Einrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
Rundtische (11) horizontal oder vertikal drehbar sind.
8. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
daß mit dem Rezipienten (1) ein Monitor mit Mitteln zur
unmittelbaren Prozeßbeobachtung verbunden ist.
9. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß
die Tür (6) des Rezipienten (1) mittels geeigneter Mittel
im Eilgang benutzbar ist.
10. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet,
daß der Längsschlitten (4) in Verbindung mit der Türbewe
gung im Eilgang verfahrbar ist.
11. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet,
daß an den Paletten (9) Kugelrollenelemente (10) zur Bewe
gung derselben in jeder Richtung auf den Bedienständen (7)
und dem Längsschlitten (4) angeordnet sind.
12. Einrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, daß der untere Schenkel des Längs
schlittens (4) abnehmbar ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944405500 DE4405500C2 (de) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944405500 DE4405500C2 (de) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4405500A1 DE4405500A1 (de) | 1995-08-24 |
DE4405500C2 true DE4405500C2 (de) | 1997-09-04 |
Family
ID=6510775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19944405500 Expired - Fee Related DE4405500C2 (de) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4405500C2 (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19610492A1 (de) * | 1996-03-18 | 1997-10-02 | Viotechnik Ges Fuer Innovative | Elektronenstrahlanlage |
CN108866316A (zh) * | 2017-05-11 | 2018-11-23 | 重庆理工大学 | 一种齿轮表面电子束处理系统 |
CN116197511B (zh) * | 2023-05-06 | 2023-07-28 | 中国航空制造技术研究院 | 一种用于复杂零件焊缝的电子束焊接装置及焊接方法 |
-
1994
- 1994-02-22 DE DE19944405500 patent/DE4405500C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4405500A1 (de) | 1995-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0312694B1 (de) | Vorrichtung nach dem Karussell-Prinzip zum Beschichten von Substraten | |
EP0354294B1 (de) | Vorrichtung nach dem Karussell-Prinzip zum Beschichten von Substraten | |
DE4005956C1 (de) | ||
DE102011120230B4 (de) | Anlage zur Oberflächenbehandlung von Gegenständen | |
DE2812271A1 (de) | Vorrichtung zum chargenweisen beschichten von substraten mit mehreren schleusenkammern | |
CH711291A1 (de) | Anordnung sowie Verfahren zum Beschichten von Werkstücken. | |
DE102006020679B4 (de) | Schutzvorrichtungen | |
DE102017120087A1 (de) | Bandsägemaschine | |
DE102017220934B4 (de) | Bearbeitungsanlage für Platten und dergleichen und mit dieser Anlage verwirklichte Produktionslinie | |
EP3181308B1 (de) | Bearbeitungseinrichtung und bearbeitungsverfahren | |
DE4405500C2 (de) | Einrichtung zur Durchführung elektronenstrahltechnologischer Prozesse im Vakuum | |
CH650030A5 (de) | Vorrichtung fuer die loesungsmittelbehandlung von insbesondere metallischem behandlungsgut. | |
WO2011131171A1 (de) | Vorrichtung zum beschichten von substraten nach dem eb/pvd-verfahren | |
DE2134377C3 (de) | Verfahren zum Abscheiden dünner Schichten auf metallische Werkstücke mittels Kathodenzerstäubung | |
DE3242719A1 (de) | Vorrichtung fuer die loesungsmittelbehandlung von insbes. metallischem behandlungsgut | |
DE1913699C3 (de) | Kammer zum Bearbeiten eines darin befindlichen Werkstücks unter Luftabschluß, insbesondere Vakuumkammer | |
DE10215040B4 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Be- und Entladen einer Vakuumkammer | |
DE3740532C2 (de) | ||
DE4320891A1 (de) | Roboter-Schweißzelle | |
DE10144955B4 (de) | Vorrichtung zum Beschicken von Mikrosystemen | |
DE1921226A1 (de) | Vorrichtung zum Bearbeiten eines Werkstuecks unter Abschluss vom atmosphaerischen Druck | |
EP2776209B1 (de) | Verfahren zum taktweisen abschirmen einer arbeitskammeröffnung sowie eine abschirmvorrichtung zur durchführung des verfahrens | |
DE19821338B4 (de) | Transportsystem und Verfahren zum Transportieren von Gegenständen in einen Arbeitsraum hinein oder aus einem Arbeitsraum heraus | |
DE3515887A1 (de) | Vorrichtung zum reinigen von gegenstaenden mittels fluechtiger loesungsmittel | |
DE19715151A1 (de) | Verfahren zum Be- und Entladen einer evakuierbaren Behandlungskammer und Handlingsvorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8365 | Fully valid after opposition proceedings | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee | ||
8370 | Indication of lapse of patent is to be deleted | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |