DE2818085C2 - Spannungsmeßschaltung - Google Patents
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Description
. Sprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
- eine Bezugsspannungsschaltung (1), Bezugsspannungsschaltung (1) die Bezugsspannung
- eine Meßspannungsschaltung (2), als Differenz der verschiedenen Schwellenspannun-
- eine die Bezugsspannung der Bezugsspan- 10 gen zweier Transistoren (12,15) erzeugt
nungsschaltung (1) mit der Meßspannung der
Meßspannungsschaltung (2) vergleichende Ver-
gleichsschaltung (3),
- einen Spannungsteiler (20 bis 24) zur Einstellung
einer dieser Spannungen, von welchem 15 Die Erfindung betrifft eine Spannungsmeßschaltung
verschiedene Anschlußpunkte (c 1 bis c 4) über nach dem Oberbegriff der Patentansprüche 1 bzw. 2.
Schalttransistoren (33,35,37,39) mit einem ge- Spannungsmeßschaltungen, die dazu dienen festzumeinsamen
Ausgang verbunden sind und stellen, ob die gemessene oder überwachte Spannung
- eine Schaltungsanordnung (4) zur Ansteuerung einen vorgegebenen Grenzwert unter- bzw. überschreider
Schalttransistoren (33,35,37,39) und damit 20 tet, müssen im Hinblick auf diesen Grenzwert eingezur
Einstellung des Teilungsverhältnisses des stellt werden. Hierzu hat man sich früher eines variablen
Spannungsteilers, Widerstandes oder eines entsprechend ausgewählten
Widerstandes bedient und die Einstellung beim oder
dadurch gekennzeichnet, daß die Schal- nach dem Einbau der Spannungsmeßschaltung in ein
tungsanordnung (4) umfaßt: 25 elektronisches Gerät vorgenommen. Die komplizierte
Einstellung war eine Selbstverständlichkeit, und ihre
- einen Speicher (25) aus nicht-flüchtigen Spei- Kosten waren um so höher, je höher die erforderliche
cherelementen, der über externe Anschlüsse Genauigkeit der Grenzspannung war.
(w 1, w 2) der integrierten Schaltung einschreib- Eine Spannungsmeßschaltung der im Oberbegriff der
baristund 30 Patentansprüche 1 bzw. 2 angegebenen Art ist aus der
- ein Schaltnetz (26 bis 32, 34, 36, 38) zwischen US-PS 39 38 316 bekannt. Diese Druckschrift bcden
Ausgängen des Speichers und den Steuer- schreibt eine temperaturkompensierte Schaltung für eieingängen
der Schalttransistoren (33,35,37,39), ne elektronische Uhr. Zum Zwecke der Temperaturweiches das Teilungsverhältnis des Spannungs- kompensation des Oszillators wird dabei abhängig von
tellers nach Maßgabe des Inhalts des Speichers 35 der gemessenen Temperatur das Teilungsverhältnis ei-(25)
einstellt. nes dem Oszillator nachgeschalteten Frequenzteilers
variiert. Zur Messung der Temperatur dient ein Transi-
2. SpannungsmeDschaltung, insbesondere für eine stör dessen Basis-Emitter-Spannung bekannterweise
elektronische Uhr, umfassend in einer integrierten temperaturabhängig ist. Durch Vergleich mit einer Ik-Schaltung
40 zugsspannung wird die relative Größe dieser tempcra-
turabhängägen Basis-Emitter-Spannung automatisch
- eine Bezugsspannungsschaltung (1), periodisch gemessen. Zu diesem Zweck ist ein Span-
- eine Meßspannungsschaltung(2), nungsteiier vorgesehen, dessen Anschlußpunkte über
- eine die Bezugsspannung der Bezugsspan- Schaltglieder mit der Temperaturmeßschaltung verbunnungsschaltung
(1) mit der Meßspannung der 45 den sind. Die Schaltgiieder sind mit den Ausgängen ei-Meßspannungsschaltung
(2) vergleichende Ver- nes Schieberegisters verbunden, so daß die an den Eingleichsschaltung
(3), gang der Temperaturmeßschaltung gelieferte Bezugs-
- einen Spannungsteiler (r 1 bis rn, R)zur Einstel- spannung vom Zustand des Schieberegisters abhängt. In
lung einer dieser Spannungen, dessen Teilungs- der Temperaturmeßschaltung wird diese Bezugsspanverhältnis
mit Hilfe von Schaltgliedern (110 bis 50 nung mit der temperaturabhängigen Basis-Emitter-119)
einstellbar ist und Spannung verglichen. Das Ausgangssignal der Tempe-
- eine ein Schieberegister aufweisende Schal- raturmeßschaltung wechselt seinen Zustand, wenn die
tungsanordnung (120 bis 125) zur Ansteuerung Bezugsspannung größer wird als die temperaturabhänder
Schaltglieder und damit zur Einstellung des gige Basis-Emitter-Spannung. Das Schieberegister wird
Teilungsverhältnisses, wobei jedes Schaltglied 55 periodisch angestoßen und schaltet dann nacheinander
zur Einstellung seines Schaltzustandes mit ei- die einzelnen Schaltglieder des Spannungsteilers ein
nem zugehörigen Ausgang des Schieberegisters Dabei erhöht sich schrittweise die an den Eingang der
(125) verbunden ist, Temperaturmeßschaltung angelegte Spannung. Sobald
sie die temperaturabhängige Basis-Emitter-Spannung
dadurch gekennzeichnet, daß 6o übersteigt, kehrt sich das Ausgangssignal der Tempcra-
turmeßschaltung um, was einerseits zu einer Übertra-
- durch jedes Schaltglied (110 bis 119) jeweils ein gung des Schieberegisterinhalts in einen Speicher und
Teil des Spannungsteilers (r 1 bis rn, R) über- ferner zu einer Rückstellung des Schieberegisters führt,
brückbar ist und Der Ausgang des Speichers steuert über ein Schaltnetz
- daß die Schaltglieder FAMOS-Elemente sind, 65 das Teilungsverhältnis des eingangs erwähnten Frevon
denen jedes über einen Injektionssteue- quenzteilers.
rungstransistor(120 bis 124) mit dem zugehöri- Aus der DE-OS 26 07 042 ist eine Spannungs-Aus-
gen Ausgang des Schieberegisters (125) verbun- wahl-Schaltuiig bekannt, die dazu dient, einer Flüssig-
kristall-Anzeigeeinrichtung, wie sie unter anderem bei
elektronischen Uhren verwendet wird, jeweils eine unter mehreren Spannungen ausgewählte Spaanung zuzuführen.
Zu diesem Zweck ist eine der Anzahl vorhandener Spannungen entsprechende Anzahl von Schalttransistoren
vorgesehen, deren Haupt-Strecken einerseits mit einer der Eingangsspannungen und andererseits mit
dem Ausgang verbunden sind. Die Steuerelektroden der Schaktransistoren sind mit den Ausgängen eines Schaltnetzes
verbunden, das einen Code-Umsetzer zur Umsetzung eines Binärcodes in einen l-aus-3-Code darstellt
Durch Eingabe eines bestimmten binärcodierten Signals kann man auf diese Weise einen der Schalttransistoren
einschalten und die zugeordnete Eingangsspannung an den Ausgangsanschluß anlegen.
Aus der DE-AS 22 56 688 ist ein Verfahren zum Auftrennen
von Leiterbahnen auf integrierten Schaltkreisen bekannt, das zum Abgleich von Widerständen bei
einer integrierten Schaltung verwendet werden kann. Das bekannte Verfahren hat den grundsätzlichen
Nachteil, daß die verschiedenen Widerstandsanschlüsse entweder direkt auf der integrierten Schaltung kontaktiert
werden müssen, was eine außerordentlich komplizierte und genau arbeitende Vorrichtung voraussetzen
würde, oder aber daß alle Anschlüsse herausgeführt werden müßten, damit die der Auftrennung dienenden
Stromimpulse angelegt werden können.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Spannungsmeßschaltung
der eingangs angegebenen Art zu schaffen, bei der die Einstellung des Spannungsteilers möglichst
einfach ist und mit einer geringstmöglichen Anzahl externer Anschlüsse der integrierten Schaltung möglich
ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kennzeichnenden Merkmale des Patentanspruchs 1
bzw. 2 gelöst. Bei den im Patentanspruch 2 genannten FAMOS (floating gate avalanche injection metal oxide
semiconductor) handelt es sich um MOS-Elemente oder MOS-Transistoren mit sogenanntem schwimmendem
Gale und Lawinendurchbruchinjection.
Ein möglicher Anwendungsfall dieser Spannungsmeßschaltung
liegt in der Überwachung der Batteriespannung bei einer elektronischen Uhr. Wenn bei einer
solchen elektronischen Uhr die Batteriespannung unter einen für verschiedene Uhren verschiedenen Grenzwert
sinkt, dann läuft zwar die Uhr noch, die Ganggenauigkeit ist aber nicht mehr gewährleistet. Viele Uhren sehen
daher eine Warnanzeige vor, die ihren Benutzer auf diesen Zustand aufmerksam macht. Diejenige Batteriespannung,
bei deren Erreichen bzw. Unterschreiten eine solche Warnanzeige erfolgen soll, muß jeweils gesondert
eingestellt werden.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezug auf die Zeichnungen näher
erläutert. F.s zeigt
F i g. 1 ein Blockschaltbild einer Spannungsmeßschaltung,
F i g. 2 eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Spannungsmeßschaltung,
F i g. 3 eine Ausführungsform eines C-MOS-Transistoren
aufweisenden Operationsverstärkers,
F i g. 4 eine Schnittansicht einer integrierten MOS-Schaltung,
Fig.5-a eine Ausführungsform der Steuerschaltung
der Regulierschaltung,
F i g. 5-b eine Schnittansicht einer integrierten Schaltung mit einem MOS und einem FAMOS,
F i g. 5-c eine Draufsicht auf die integrierte Schaltung der Steuerschaltung in F i g. 5-a,
F i g. 6 eine Ausführungsform eines Schieberegisters oder Flipflop,
F i g. 7-a eine Zeitfolgedarstellung von Impulsen zum
Abtasten und Halten in einer Impulsgeneratorschaltung der Spannungsmeßschaltung,
F i g. 7-b eine andere Ausführungsform der Impulsgeneratorschaltung
der Spannungsmeßschaltung,
F i g. 7-c eine Zeitfolgedarstellung von Impulsen zum ίο Abtasten und Halten in der Impulsgeneratorschaltung
nach F i g. 7-b,
F i g. 8 eine Ausführungsform der Erfindung mit einer automatischen Regulierschaltung für die Einstellspannung,
Fig.9 eine Ausführungsform eines automatischen
Einstellsystems, das die Ausführungsform der Fig.8 umfaßt,
Fig. 10 eine weitere Ausführungsform der Einstellvorrichtung
in der erfindungsgemäßen Spannungsmeßschaltung,
Fig. 11 eine Ausführungsform, bei der die erfindungsgemäße
Spannungsmeßschaltung, in einer elektronischen Uhr untergebracht ist,
Fig. 12-a eine Ausführungsform, in der die Spannungsmeßschaltung
die Spannung zweier Pegel feststellt,
Fig. 12-b eine Zeitfolgedarstellung von Impulsen zum Abtasten und Halten in der Spannungsmeßschaltung,
welche die Spannung zweier Pegel feststellt. Der grundsätzliche Aufbau der integrierten Spannungsmeßschaltung
ist in Blockdarstellung in F i g. 1 gezeigt. Eine Bezugsspannungsschaltung 1 erzeugt eine
Bezugsspannung Vst, die von der zu überwachenden Meßspannung im wesentlichen unabhängig ist. Eine
Meßspannungswandlerschaltung 2 erzeugt eine Ausgangsspannung Vd, bei der es sich um die Meßspannung
selbst oder um eine ihr proportionale Spannung handelt. Eine Vergleichsschaltung 3 vergleicht die Bezugsspannung
Vst mit der Ausgangsspannung Vd und liefert ein Ausgangssignal Vcomp, das sich in Abhängigkeit davon
ändert, ob die Ausgangsspannung Vd größer oder kleiner als die Bezugsspannung Vsf ist. Als Einstellspannung
oder Grenzspannung sei derjenige Wert der Meßspannung bezeichnet, bei dem eine Änderung des Ausgangssignals
Vcomp der Vergleichsschaltung 3 auftritt. Das bedeutet, wenn die Ausgangsspannung der Meßspannungswandlerschaltung
2 die Meßspannung selbst ist, dann ist die Bezugsspannung Vsf gleich der Einstellspannung.
Wenn dagegen die Ausgangsspannung Vd eine der Meßspannung proportionale Spannung ist,
dann muß die Bezugsspannung Vst ebenfalls eine der gewünschten Einstellspannung entsprechend proportionale
Spannung sein. Der tatsächliche Wert der Einstellspannung läßt sich dann durch diese Proportionalitätsfaktoren
vorgeben. Hierzu dient eine Regulierschaltung 4 zur Einstellung der Ausgangsspannung Vd und/oder
der Bezugsspannung Vst. Wie diese Einstellung im einzelnen erfolgt, wird später erläutert. Zum Zwecke der
Energieeinsparung werden die genannten Schaltungen 1, 2, 3 und 4 nicht ständig, sondern nur periodisch kurzzeitig,
das heißt in einer Abtastbetriebsweise, an eine Stromquelle angeschlossen. Zu diesem Zweck erzeugt
eine Impulsgeneratorschaltung 5 Impulse Φι. Diese Impulse
bewirken einen impulsartigen Betrieb der Schaltungen 1 bis 4. Da das Ausgangssignal Vcomp der Vergleichsschaltung
3 in der Regel als andauerndes Signal benötigt wird, ist eine Halteschaltung 6 vorgesehen, die
unter der Steuerung von Impulsen Φι, Φ-,, Φβ, Φι, Φλ von
der Impulsgeneratorschaltung 5 das impulsartig erzeugte Ausgangssignal Vcomp der Vergleichsschaltung 3 bis
zum jeweils nächsten impulsartigen Ausgangssignal Vcomp speichert und als Signal V/, zur Verfugung stellt.
Die Bezugsspannungsschaltung I1 die Meßspannungswandlerschaltung
2 und die Vergleichsschaltung 3 bilden den eigentlichen Kern der Spannungsmeßschaltung
und sind jeweils so aufgebaut, daß ihre Eigenschaften weitgehend unabhängig von ihren jeweiligen Schaltation
dotiert. Denn wie bei einer Differenz in der Gateschichtdicke oder bei einer unterschiedlichen Subslratkonzentration
bewirken die Temperaturabhängigkeilen von Schwellenspannung und Leitwertkoeffizient (cc Beweglichkeiten)
für die Charakterisierung eines MOS einen großen Unterschied zwischen MOS mit unterschiedlichen
Schwellenwerten. Das Dotieren des Gate, das Dotieren von Donatorionen in einen PT oder von
Akzeptorionen in einen NT, hat ebenfalls eine große
tungselementen bestimmt sind, so daß die Einstellspan- io Wirkung auf die Temperatureigenschaften, gleichermanung
(Grenzspannung), deren über-oder unterschreiten Ben wie die Differenz der Substratkonzentrationen,
durch die Spannungsmeßschaltung festgestellt werden
soll, tatsächlich nur von der Einstellung durch die Regu
soll, tatsächlich nur von der Einstellung durch die Regu
lierschaltung 4 abhängt
Ein Ausführungsbeispiel der im Patentanspruch 1 gekennzeichneten Spannungsmeßschaltung ist in F i g. 2
gezeigt Die dort durch strichpunktierte Linien eingegrenzten Blöcke entsprechen gleich numerierten Blökken
in Fig. 1. Als aktive Elemente sind in Fig.2 beispielhaft
MOSFET dargestellt.
Als erstes folgt eine Erläuterung der Impulsgeneratorschaltung 5. Diese setzt sich aus einem Schieberegister
7 und einer NAND-Schaltung 8 zusammen. Wenn Signale, wie sie in Fig.7-a gezeigt sind, in Anschlüsse
Nach allem ist es beim Kanaldotieren das Beste, Akzeptorionen in einen PT und Donatorionen in einen NT zu
dotieren.
Die Versicherungsspannung des durch Dotieren abgesenkten Schwellenwertes ist durch eine Formel
q Nnet r ox
εοεοχ
gegeben, wobei q die resultierende Ladungsmenge ist, εοχ die relative Dielektrizitätskonstante der Gateisolierschicht,
so die Vakuum-Dielektrizitätskonstante, rox die Dicke der Gateisolierschicht und Nnet die Menge
Φ\ und Φ2 einlaufen, dann wird Signal Φ2 mittels des 25 der implantierten Ionen, da man sagen kann, daß keine
Schieberegisters 7 (FHpflop) um die halbe Periode des Temperaturabhängigkeit der verschiebenden Größe
Signals Φ\ verschoben, und bei Q tritt ein Signal Φ'2 aus. selbst besteht. Auch was den Leitwertkoeffizienten (rx-Demgemäß
erscheint aus Ausgang Φ3 der NAND- Beweglichkeit) betrifft, kann die Veränderung von desSchaltung
8 ein Differenzimpuls, wie er in F i g. 7-a ge- sen absolutem Wert in derselben geometrischen Dimcnzeigt
ist Wenn beispielsweise Φ\ eine Frequenz von 30 sion experimentell korrigiert werden und ist eine Ände-64
Hz und Φ2 eine Frequenz von V2Hz besitzt, dann rung der Temperatureigenschaften ebenfalls viel kleiner
als in oben erwähnten anderen Fällen. Das Akzeptorion zum PT-Dotieren ist beispielsweise 11B+, und das Donatorion
zum NT-Dotieren ist beispielsweise 31P+. In den
Figuren nach F i g. 2 sind Transistoren mit Schwellenwerten, die durch derartige Kanaldotierung verschoben
sind, durch zusätzliche gestrichelte Linien unter den Gates gezeigt. Da die Dotierung bei der vorliegenden Ausführungsform
lediglich für PT verwendet wird, ist NT gegenüber seiner Substratkonzentration bestimmt, um
zur Schwellenspannung des dotierten PT zu passen. Zur Erläuterung: gemäß F i g. 4 ist bei einem gewöhnlichen
komplementären MOS-(nachstehend als C-MOS bezeichnet)
IC eine P--Mulde 56 auf einem N--Silicium-
gen die statischen Eigenschaften der Bezugsspannungs- 45 substrat 55 gebildet Eine Isolierschicht 63 für NT ist
schaltung 1 zu dieser Zeit nicht von den Transistoren 10 durch eine P-Diffusion oder Ionenimplantation zusammen
oder getrennt mit bzw. von einer Source 57 und einer Drain 58 für PT gebildet Eine Isolierschicht 62 für
PT ist durch eine N-Diffusion oder Ionenimplantation 50 zusammen mit oder getrennt von einer Source 60 und
einer Drain 61 für NT gebildet 59 ist eine reine Gateiso
erscheinen bei Impulse Φ3 niedrigen Pegels von nur
'/i28 s Länge mit Abständen von (2—^Im) s. Die einzelnen
Schaltungen 1, 2, 3, 4 und 6 werden mit einem solchen Differenzimpuls betrieben.
Nur wenn Φι niedrig ist, fließt Strom durch die einzelnen
Schaltungen 1,2,3 und 4, die für den erforderlichen Zweck betrieben werden. Aus dem obigen Beispiel kann
man ersehen, daß für jede dieser Schaltungen ein niedriger Stromverbrauch erreicht wird.
Als nächstes folgt eine Erläuterung der Bezugsspannungsschaltung 1. NT 10 ist aus, wenn Φ3 niedrig ist und
PT 11 ist dann aus, da ?3 aufgrund des Inverters 9 hoch
(nachstehend mit H bezeichnet) liegt Demgemäß hän-
und 11 ab. Auch ein Operationsverstärker 16 ist unbeeinflußt von Transistoren NT 42 und PT 54, da diese
gesperrt sind, wie F i g. 3 zeigt. Wenn Φι dagegen auf H
ist ist PT !2 aus und ist NT !0 ein und dessen Drainpo
tential niedrig (nachstehend mit L bezeichnet), und NT 14 ist aus und PT 11 ein. Dann fließt kein Strom
durch leitende Wege. Im Operationsverstärker 16 ist PT 43 aus und ist NT 42 ein, und deshalb sind NT 44,45
und 50 aus, woraufhin kein Strom fließt Gleichzeitig ist PT 54 ein und daher PT 51 aus, und gleichermaßen fließt
kein Strom durch Widerstände 17 und 18.
Die Bezugsspannung, die erzeugt wird, wenn Φ3 auf L
ist muß so gebildet werden, daß sie in keinem näheren Verhältnis zur Meßspannung und zur Versorgungsspannung
(Vpo) steht und derart daß sie keine Temperaturabhängigkeiten
aufweist Aus diesem Grund wird bei der vorliegenden Ausführungsform die Differenz der
MOS-Schwellenspannungen als Bezugsspannung be-Iierschicht 64 ist eine Feldisolierschicht bei 65 handelt
es sich um eine Gateelektrode, eine Substrat-Source-Drain-Elektrode
oder Verdrahtungsmetalle, beispielsweise aus Aluminium. Nachdem die Gateisolierschicht
59 erzeugt ist, werden alle Kanäle bis auf einen mit Maskierlack bedeckt, um sie einer Dotierungsbehandlung
auszusetzen, und es werden in den gewünschten Kanal durch die geöffnete Gateisolierschicht hindurch
Ionen dotiert wodurch der Transistor mit einer zuvor erwähnten niedrigen Schwellenspannung geschaffen
werden kann, und die mit Maskierungslack bedeckten Transistoren werden keiner Änderung unterzogen. Natürlich
ist es auch möglich, diese Kanaldotierung zu
stimmt Um unterschiedliche MOS-Schwellenspannun- 65 nächst an allen Kanälen von Transistoren gleicher PoIa-
gen mit geringer Temperaiurabhängigkeit zu erzeugen, rität durchzuführen und dann nur am gewünschten
macht man die Schwellenspannungen verschieden, in- Transistor. Worauf es ankommt ist lediglich die Diffe-
dem man den Gateteil des Kanals mittels lonenimplan- renz zwischen den Schwellenspannungen.
Um den Schwellenwert von NT so zu bestimmen, daß er zum PT mit einem niedrigen Schwellenwert paßt,
besteht eine gute Möglichkeit darin, lediglich die Konzentration der P--Mulde 56 geeignet herabzusetzen,
wenn diese gebildet wird, oder eine gute Möglichkeit besieht auch darin, allen NT-Kanälen eine Donatorionendotierung
zu verpassen, nachdem die Gateisolierschicht gebildet ist, trotz der Tatsache, daß die P--MuI-de
56 eine vergleichsweise hohe Konzentration besitzt. In jedem Fall liegt der Vorteil dann, wenn die Differenz
der Schwellenspannungen durch Kanaldotierung als Bezugsspannung gebildet ist, zum einen in der Stabilität
gegenüber Temperaturänderungen und Energiequellenänderungen und zum anderen darin, daß man aufgrund
des Herstellungsverfahrens eine gleichförmige Spannung als Bezugsspannung erhält, wenn man nur die
Stabilität lediglich von Nnet und vox sicherstellt, da lediglich die Differenz problematisch ist.
Grundvoraussetzung bei der erfindungsgemäßen Spannungsmeßschaltung ist, daß die Bezugsspannung
stabil ist gegen Temperaturschwankungen, Energieversorgungsschwankungen und Herstellungsverfahrensschwankungen.
Als nächstes wird eine Erläuterung der Schaltung gegeben. Ein Verhältnis des Leitwertkoeffizienten
am Punkt C2: Vc2 =
Vd,
= Beweglichkeit χ
εο εοχ Kanalbreite
TOX
Kanallänge
im PT 12 zum Leitwertkoeffizienten im PT 15 wird gleich dem Verhältnis des Leitwertkoeffizienten im
NT 13 zum Leif.vertkoeffizienten im NT 14 gemacht, und NT 13 und NT 14 sind nebeneinander auf dem IC-Chip
angeordnet. Dann sind die Schwellenwerte in hoher Anpassung verbessert. Als Folge erhält man die
Differenz VTP - VGTP = Vst zwischen der Schwellenspannung VTP von PT 12 und der Schwellenspannung
VGTPvon PT 15 in positiver Richtung gegenüber Massepotential als ein Normal. Beispielsweise kann
m;in das Verhältnis dieses Leitwertkoeffizienten als 1
nehmen. Natürlich werden die Kanallängen von PT 12 und PT 15 sowie NT 13 und NT 14 gleich gemacht
Sonst ist es schwierig, das Verhältnis der Leitwertkoeffizienten in Übereinstimmung zu bringen, da unterschiedliche
Tiefenschwankungen bestehen, die von unterschiedlichcn Diffusions?rten usw. herrühren. Die solchermaßen
erhaltene Bezugsspannung Vst wird generell durch den Spannungsfolger 16 gepuffert dessen
Ausgangssignal theoretisch gleich Vif ist Da dieses
durch Widerstände 17 und 18 hohen Widerstandswertes geteilt wird, erhält man letztlich eine Bezugsspannung
Vst =
Ri+R2
Vst
55
Der den Spannungsfolger bildende Operationsverstärker
ist gemäß F i g. 3 aufgebaut
Als nächstes folgt eine Erläuterung der Meßspannungswandlerschaltung
2. Der Verstärker 19 arbeitet im wesentlichen, wenn Φ3 niedrig (L) ist und wenn Φ3 hoch
(H) ist fließt kein Strom durch die einzelnen Strom führenden Wege und Widerstände 20, 21, 22,23 und 24.19
ist ein Spannungsfolger. Wenn r\ +r2+r3+r4 = r ist, unterliegen
die Meßspannungen linearen Umwandlungen in folgender Weise:
am Punkt C3: Vc3 =
am Punkt C4: Vc4 =
R + r
R+r
Vd
Vd
am Punkt Ci: Vc\ —
R + r
Vd,
Der Grund dafür, daß die vier Punkte C\, c2, c3 und C4
vorgesehen sind, liegt darin, daß bei der Ausführungsform nach F i g. 2 eine Regulierschaltung vorgesehen ist,
in der die Einstellung, Einstellspannung oder Spannungsschwelle, bei zwei Bits durchgeführt wird. Die
Meßspannungswandlerschaltung wandelt die zu messende Spannung linear durch ein Widerstandsverhältnis
um. Wenn R = O ist, ist Vc4 = Vd, und die zu messende
Spannung selbst kann in den Schalter 39 gegeben werden. Somit können die Bezugsspannung und die umgewandelte
Meßspannung vom Komparator 40 der Vergleichsschaltung 3 verglichen werden.
Als nächstes folgt eine Erläuterung der Regulierschaltung. 4 ist eine Vergleichsspannungsregulierschaltung
zum Einstellen einer oder beider Vergleichsspannungen, die dem Komparator 40 eingegeben werden. Die Ausführungsform
gemäß F i g. 2 ist eine Einrichtung, mit der die Meßspannungswandlerschaltung 2 reguliert wird.
Durch zwei Bits besteht die Möglichkeit, die vier Zustände von I) bis IV) digital in Abhängigkeit vom Zustand
von Signalen (b\, b2) zu regulieren. 0 bedeutet
niedrig (L) und 1 bedeutet hoch (H).
I) (bub2) = (U\), Vd= Vc,
II) (bhb2) = (1,0), Vd= Vc2
III) 0,,£>2) = (O,1), Vd= Vc3
IV) (bub2) = (0,0), Vd = Vc4
Im Fall von I) sind die Eingänge eines NAN D-Gatters 28 (1, 1). Deshalb ist dessen Ausgangssignal 0, und das
Eingangssignal des PT-Gates des Übergabeschalters 33 ist 0, das Eingangssignal des NT-Gates ist 1, und zwar
aufgrund eines Inverters 32, so daß der Schalter 33 ein wird und das Potential Vci an Vd übertragen wird. Die
Eingabe für ein NAND-Gatter 29 wird SI=O, d. h., (1,0),
und zwar aufgrund eines Inverters 27 seine Ausgabe ist somit 1, und das Eingangssignal des PT-Gates eines
Übergabeschalters 35 ist 1, und das Eingangssignal des NT-Gates ist aufgrund eines inverters 34 0, so daß der
Schalter 35 aus wird. Aufgrund eines Inverters 26 wird die Eingabe eines NAND-Gatters 30 zu TT1=O, d. h.(0,1),
und dessen Ausgabe ist 1. Daher ist das Eingangssignal des PT-Gates eines Übergabeschalters 37 1, und der
Schalter 37 ist aus, da das Eingangssignal des NT-Gates aufgrund eines Inverters 36 0 ist Und die Eingabe eines
NAND-Gatters 31 wird TJT=O, Si=O, d.h. (0, 0), aufgrund
der Inverter 26, 27, und dessen Ausgabe ist 1. Daher ist das Eingangssignal des PT-Gates eines Übergabeschalters
39 1, und aufgrund eines Inverters 38 ist das Eingangssignal von dessen NT-Gate 0. Daher ist der
Schalter 39 aus. Schließlich wird nur das Potential Vq
vom Schalter 33 übertragen, wenn dieser eingeschaltet ist Im Fall II) ist gleicherweise nur der Schalter 35 ein,
und dann wird Vc2 übertragen. Gleichermaßen ist im Fall von III) lediglich Schalter 37 ein und wird Vc3 übertragen.
Und im Fall von IV) ist lediglich Schalter 9 ein
und wird Vc* übertragen.
Um solche Einstellungen innerhalb eines IC durchführen zu können, ist die Steuerschaltung 25 in F i g. 2 erfindungsgemäß
unter Verwendung nicht-flüchtiger Speicherelemente gemäß F i g. 5-a aufgebaut. 76, 77, 81 und
82 sind FAMOS. Die Gates der FAMOS weisen anfänglich keine Elektroneninjektion auf, bei einer Schaltungsanordnung
mit FAMOS umgekehrter Polarität keine Löcherinjektion, und ferner ist Vc gleich ~Φι. Wenn Φ3
auf L ist, dann sind NT 79 und NT 84 eingeschaltet und werden (a\, a2) = (0, 0), und deren Ausgaben werden
von Invertern 80,85 invertiert. Daher ist Vd = Vc\, wie es (b\, b2) = (1, 1) entspricht. Wenn Φ3 auf H ist, sind
PT 78 und PT 83 ein, was (au a2) - (1, 1) bedeutet, und
dann findet in den Strom führenden Wegen der einzelnen Schaltungen 1, 2, 3, wie sie in den Fig.2 gezeigt
sind, kein Stromfluß statt, und deren eigentliche Operationen werden nicht ausgelöst. Es wird nun die Regulierschaltung
4 für die obengenannten Fälle I) bis IV) betrachtet. Für den Fall I) ist (ah a2) = (0, 0), welches der
Zustand ist, in welchem die Gateelektroden der FAMOS 76,77,81,82 mit Doppelgates keiner Elektroneninjektion
unterlagen. Im Fall II) ist (au a2) = (0,1), welches
der Zustand ist, in dem die Gateelektroden der FAMOS 81, 82 einer Elektroneninjektion unterlegen
haben. Im Fall III) ist (au a2) = (1, 0), welches der Zustand
ist, in dem Elektronen in die Gateelektroden der FAMOS 76, 77 injiziert wurden. Im Fall IV) ist (au
a2) = (1, 1), welches der Zustand ist, in dem die Gateelektroden
der FAMOS 76, 77, 81, 82 zusammen einer Elektroneninjektion unterlagen.
Der Aufbau eines solchen FAMOS ist in Fig.5-b gezeigt. Dabei bedeuten: 55 ein N--Siliciumsubstrat,57
und 58 P-leitende Schichten für Source und Drain eines PT187 und 88 P-leitende Schichten für Source und Drain
eines FAMOS. Weiterhin bedeuten: 62 N-leitende Schichten, die als Isolierung und Substratkontaktierung
dienen, 89 reine Isolierschichten im Gate, 64 feldisolierende Schichten und 65 Gateelektroden, Source-Drain-Substrat-Elektroden
oder Metallschichten zur Verdrahtung, beispielsweise aus Aluminium. 90 ist eine schwebende
(floating) Gateelektrode des FAMOS, die mit P- oder N-leitend dotiertem polykristallinem Silicium oder
nicht dotiertem polykristallinen Silicium aufgebaut ist. Die Elektroneninjektion in die Gateelektroden des FAMOS
wird durchgeführt, indem ein Lawinendurchbruch bewirkt wird zwischen 65 (62) und 88, d. h, in der Verarmungsschicht
(gestrichelter Bereich in der Figur) zwischen Substrat und Drain des FAMOS zum Schreiben,
und indem die dann erzeugten Elektronen durch das Beschieunigungsfeld (in der Zeichnung durch einen Pfeil
angedeutet) in die Gateelektroden injiziert werden. Aus diesem Grund muß der Abstand 92 zwischen Isolierzone
86 und Drain 88 des FAMOS zum Schreiben größer gemacht werden als der Abstand 91 zwischen Drain 58
und Isolierzone 86 des gewöhnlichen MOS, so daß die Lawinendurchbruchsspannung am PN-Übergang zwischen
Drain und Substrat des FAMOS zum Schreiben nicht durch die Sperrdurchbruchsspannung des PN-Übergangs
zwischen Drain und dessen Isolierzone gehindert wird. Natürlich ist es möglich, die Länge von 91
der von 92 anzupassen. Was 90 betrifft, so kann das polykristalline Silicium für eine Vielschichtverdrahtung
als schwebende Gateelektrode verwendet werden, und umgekehrt kann das polykristalline Silicium für das
schwebende Gate für eine Vielschichtverdrahtung benutzt werden. Und in Fig.5-a unterliegt FAMOS 77
und/oder 82 einer Injektion, und die Impedanz von 79, 84 ist so ausgelegt, daß sie hoch ist, während 79 und 84
ein sind, so daß die Potentiale von a\, a2 hoch werden,
wenn Φ3 auf L ist und 79,84 ein sind. Die Impedanz von 77 und 82 wird genügend niedrig, selbst für den Fall, daß
77, 82 die gleiche Größe (gleiche Kanallänge, gleiche Kanalbreite und gleiche Gateisoüerschichidicke) wie
79, 84 aufweisen, wenn ausreichend Elektronen in 77 und 82 injiziert wurden. Fig. 5-c zeigt ein Musterbeispiel
für 76, 77, 78 unter Berücksichtigung dieser Absichten. Das in der Figur gezeigte Muster ist das gleiche
wie in Fig.5-b. Der schräg schraffierte Teil ist eine
N-leitende Schicht, die als Isolierung und Substratkontaktierung dient, der weiß gelassene Teil ist eine P-leitende
Schicht oder das Substrat, der kreuzschraffierte Teil ist eine Gateelektrode des FAMOS, beispielsweise
polykristallines Silicium, und der punktierte Bereich zeigt Metallschichten, beispielsweise aus Aluminium, die
als Elektroden für Gate, Source, Drain und Substrat dienen, isa zeigt den Kontakt zwischen Metallschichten
und P- oder N-leitenden Schichten. Im FAMOS 76 für das Schreiben ist der Abstand 92 zwischen Drain und
Isolierung größer gemacht als der Abstand 91 zwischen Drain und Isolierung beim FAMOS zum Lesen oder
gewöhnliches MOS 78.
Die Verwendung nicht-flüchtiger Speicherelemente wie FAMOS oder dergleichen in der Regulierschaltung
eröffnet auf diese Weise einen Vorteil beim Herstellungsverfahren als fünftes Merkmal der vorliegenden
Erfindung, da eine Einstellung oder Regulierung im Fall der Spannungsmeßschaltung direkt von einem Tester
durchgeführt wird, wenn er die integrierte Schaltung im Zustand auf dem Wafer (Halbleiterscheibe) überprüft,
und da hinsichtlich dieser integrierten Schaltung b/w. Spannungsmeßschaltung keine weitere Einstellung erforderlich
ist
Es folgt eine Erläuterung im Hinblick auf die Vergleichsschaltung 3. Die einen Komparator 40 aufweisende
Schaltung 3 beginnt ihren wesentlichen Betrieb, wenn Φ3 auf (L) niedrig ist. Der Komparator 40 ist mit
einem Differenzverstärker (Operationsverstärker) gemäß F i g. 3 aufgebaut und vergleicht eine invertierte
Eingabe V; mit einer nicht-invertierten Eingabe VNt. im
Fall von V1 > Vn, ist Vo = L (0), und bei Vt
< Vn, ist Vo = H(I).
Das Auflösungvermögen ist bestimmt durch die offene Verstärkung (mit offener Schleife) des in F i g. 3 gezeigten
Verstärkers. Da die Verstärkung typischerweise bei 70 dB bis 80 dB liegt, können sehr kleine Spannungen
von V3000 bis V10 000 der Versorgungsspannung vcrglichen
werden.
In dieser Ausführungsform ist nun die Vergleichsspannung V/ = Vd Vni = Vst Wenn sich die Regulicrschaltung
4 im Zustand I) befindet, ist
Vd-
R+r
Vd und Vst =
i+ R2
VsL
Mit Vd*
R2
R+r
Ri +R2
Vst
als Grenze wird das Ausgangssignal des Komparators bei Vd* >
Vd* niedrig (Massepotential), und es wird hoch (VDD) bei Vt?
< Vd1. Das Verhältnis von R2IRy,
ri/R+r(i = 1,2,...) und Vst(= VVp- Vereist so eingestellt,
daß VS= ViJ'gegeben ist, wenn die Meßspannung
der gewünschten Feststellspannung (Grenzspannung) entspricht.
Schließlich ist die Halteschaltung 6 mit einem Daten-
Schließlich ist die Halteschaltung 6 mit einem Daten-
Halte-Flipflop (Schieberegister) 41 gemäß F i g. 6 aufgebaut.
Es handelt sich dabei um eine Speicherschaltung zum Einschreiben einer Ausgabe Vcomp des !Comparators
40, wenn Φι auf L ist, und zum Halten der Ausgabe, wenn Φ3 auf H ist. Vcomp wird ferner auf ein Ausgangssignal
Vh verstärkt, und zwar durch Inverter in der Halteschaltung, beispielsweise 96 und 97 oder 102 und 103.
In der Halteschaltung 6 in Fig.2 sind der Impuls Φι
zum Betreiben der einzelnen Schaltungen 1, 2, 3, 4 für die Messung von Spannungen und der Taktimpuls für
die Halteschaltung mit demselben o3 ausgedrückt.
Wenn das Ausgangssignal dieser Halteschaltung ständig zu allen Zeiten benötigt wird, bereiten die dynamischen
Eigenschaften der einzelnen Schaltungen dann, wenn der impuls Φι von H auf L wechselt, nämlich die Übergangseigenschaften,
Schwierigkeiten. In diesem Fall wird beispielsweise die Zeit rd, die vergeht, bis die einzelnen
Schaltungen 1,2,3,4 für die Spannungsmessung
statisch gleichförmig werden können, von Φι abgezogen.
Dann wird die Halteschaltung durch einen in F i g. 7-c gezeigten Impuls Φ$ getrieben. Φ$ ist ein Impuls,
bei dem das Impulsäquivalent zu einer Zeit rb (> rd) für einen Halbtakt von Φα von IPi abgezogen,
und er wird gemäß Fig. 7-b durch ein Schieberegister (Flipflop) 104 und ein NOR-Gatter 105 erzeugt.
Neben dem Erwähnten verursacht das Übergangsverhalten der Spannungsmeßschaltung und der Halteschaltung
dann, wenn der Impuls Φι von L nach H wechselt,
in ähnlicher Weise Schwierigkeiten, in welchem Fall die Halteschaltung mit Φ6 getrieben wird, bei dem das
Impulsäquivalent zu einer bestimmten festen Zeit ra (für einen Takt von Φ4) von Φ$ subtrahiert wird. Φβ kann
gemäß F i g. 7-b durch ein Schieberegister (Flipflop) 106, ein NAND-Gatter 107 und einen Inverter 108 erzeugt
werden. Die Schaltung gemäß F i g. 7-b ist in der Impulsgeneratorschaltung 5 untergebracht. Obwohl bei der in
F i g. 2 gezeigten Ausführungsforro der Erfindung Einstellungen unter Verwendung der Schaltung 2 durchgeführt
werden, kann die Einstellung auch unter Verwendung der Schaltung 1 erzielt werden. Dies ist eine Art,
um Vst einzustellen, beispielsweise dadurch, daß die Widerstände 17 und 18 anstelle der Widerstände 20,21,22,
23 und 24 mit dem Ausgang des Verstärkers 19 verbunden und auf
Vd =
Ri
i+R2
Vd
festgelegt werden, und daß umgekehrt die Widerstände 20,21,22,23 und 24 anstelle der Widerstände 17 und 18
angeschlossen werden und die Regulierschaltung 4 mit dem Ausgang des Verstärkers 16 verbunden wird.
Was die Spannungsmeßschaltung betrifft, so ist es
überdies in Abhängigkeit von der Genauigkeit der Spannungen möglich, ohne Einstellung zu arbeiten.
Wenn man F i g. 2 betrachtet, so geschieht das, indem man die Schaltung 4 wegläßt, den Wert des an den Ausgang
des Verstärkers 19 angeschlossenen Widerstandes festlegt und das Ausgangssignal Vd vorsiehL Hierfür
besteht das einzige darin, beispielsweise /"2 = r3 = r4 = 0 zu machen, R/n geeignet zu bestimmen
und den Ausgang C\ als Vd direkt mit dem invertierten Eingang des Komparators 40 zu verbinden. Wie
bereits erwähnt, ist es für das IC für die Spannungsmeßschaltung der Erfindung charakteristisch, daß sie zusammen
mit anderen Schaltungen vorhanden ist, die das elektronische Gerät bilden und leicht integriert sind.
Was jedoch den Fall betrifft, in dem die erfindungsgemäße
Einstellung durchgeführt wird, so ist die vorliegende Erfindung insoweit charakteristisch dafür, daß die
Einstellung innerhalb der integrierten Schaltung in einfacher Weise vor deren Einbau durchgeführt wird und
daß für eine solche Einstellung nicht-flüchtige Speicherelemente als praktikable Vorrichtung verwendet werden.
Überdies kann die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Einstellung der integrierten Schaltung deren automatische
Einstellung erlauben.
Die integrierte Schaltung (IC) für die Spannungsmeßschaltung gemäß Erfindung kann ebenfalls ein automatisches
Einstellsystem für die Meßeinstellspannungen zu lassen, wie nun ausgeführt wird. Die in F i g. 8 gezeigte
Schaltung ist aufgebaut mit nicht-flüchtigen Speicherelementen 110 bis 114,115 bis 119 (die im vorliegenden
Fall mit FAMOS bezeichnet werden), mit Injektionssteuerungstransistoren 120 bis 124 zur EIN- oder AUS-Steuerung
der FAMOS und mit einem Schieberegister 125, mit dem die FAMOS durch diese Steuertransistoren
leitend gemacht werden, und zwar über den Taktimpulse aufweisenden Eingang Cl. Der Anschluß Vd, der
als ein zu vergleichender Eingang für den Komparator dient, unterliegt dann einer variablen Spannung, wenn
von den Widerständen r-i bis r„ einige oder alle kurzgeschlossen
werden, nachdem die entsprechenden FAMOS ihrerseits ein sind. Es handelt sich um eine
Doppelgatekonstruktion, wie bereits erwähnt, wie bei den FAMOS 110 und 115 oder 111 und 116. Der An-Schluß
Vp ist ein Schreibeingang zum Zweck einer Ladungsinjektion in die FAMOS, und es werden Spannungen
von etwa —30 bis —50 V in Impulsform angelegt.
F i g. 9 zeigt ein Beispiel eines wirklichen Systems zur automatischen Einstellung unter Verwendung der automatischen
Regulierschaltung 109 in Fig.8. Dieses Beispiel
betrifft das Feststellen der Versorgungsspannung beim Erreichen einer gewünschten Spannung, demgemäß
ist Vdo = Vdd- Als erstes wird die Versorgungsspannung Vdd etwas niedriger als die überwachte Ein-
Stellspannung oder Spannungsschwelle festgelegt Dann wird das Ausgangssignal Vcomp des Komparators 3 auf
einen hohen Wert gebracht. Eine Steuervorrichtung 127 bestätigt dies, hebt die Rücksetzung auf, gibt das Eingangssignal
Cl vom Eingang des Taktes Ck über einen Zähler 126 auf die Regulierschaltung 109 und betätigt
das Schieberegister 125. Dann gehen die Ausgänge Q\
bis Qn des Registers auf niedrige Pegel, und wenn zu
dieser Zeit der Injektionsimpuls auf Vp gegeben wird, schalten die FAMOS 110 bis 114 ein. Genau dann verringen
sich das Potential der zu messenden Spannung Vd schrittweise synchron mit den Taktimpulsen und
wenn es den Wert des Bezugspotentials Vst durchläuft wechselt das Ausgangssignal Vcomp des Komparators
zu niedrigem Pegel. Dann beendet die Steuervorrichtung 127 unverzüglich die Takt- und Injektionsimpulse
und beendet damit die Einstellung. Wenn diese Schaltung gewöhnlich verwendet wird, stellt der Komparator
3 demgemäß unmittelbar fest wenn die Versorgungsspannung die eingestellte Spannung oder Spannungs-
schwelle erreicht Die Regulierelemente, die in einer solchen integrierten Schaltung verwendet werden können,
umfassen Elemente vom Tunnelinjektionstyp, wie MNOS, usw. und sind nicht speziell auf FAMOS begrenzt
Die Einstellvorrichtung gemäß vorliegender Erfindung kann auch folgendes umfassen. F i g. 10 zeigt eine
Regulierschaltung, bei der eine Sicherung 130 (aus Metall oder Silicium usw. hergestellt) verwendet wird.
13 14
durch weiche die überwachte Spannung eingestellt normalerweise ist nun die Bereitschaft zur Messung
wird, indem eine thermische Trennung durchgeführt oder Überwachung gegeben. Das Datenhalte-Flipflop
»ird oder nicht, und zwar mit einem hohen Strom zwi- 41 wird durch ~Φ\ schreibbereit gemacht und liefert den
sehen einem Eingang 134 und Vdd- Diese Regulierschal- gemessenen Datenwert als Ausgangssignal durch das
tung gemäß Fig. 10 umfaßt einen Widerstand 131 und 5 Gatter 148 an O1. Danach ändert sie die Versorgungseinen
Inverter 132. Wenn der Stromverbrauch stark be- spannung Vdd, bestimmt eine geeignete Meßeinstellgrenzt
ist, besteht eine gute Praxis darin, die Abtastmes- spannung oder Oberwachungsspannungsschwelle aus
sung durch NT 133 vorzunehmen, wobei der Differenz- der Spannung, bei der das Ausgangssigna] von O\ zu
impuls wie ^ verwendet wird. Andere Einrichtungen ändern ist, und schreibt über die Anschlüsse W1 und W2
sind möglich, wenn der der Sicherung 130 entsprechen- io in FAMOS eia Danach wird die Energiequelle wieder in
de Teil entfernt wird, unter Verwendung eines Lasers ihren ursprünglichen Zustand gebracht und der Anusw.
Das heißt, alle Elemente wie FAMOS, MNOS, Si- Schluß »Rückstellung« wird offengelassen, die Rückstelcherung
usw. sind nicht-flüchtig, und die erfindungsge- lung wird aufgehoben und Treibimpulse werden als
mäße Einstellvorrichtung ist mit allen nichtflüchtigen Ausgangssignale in jeder Sekunde abwechselnd auf O,
Speicherelementen realisierbar. Überdies erlauben alle 15 und O2 gegeben. Da der Dateneingang W des Flipflops
genannten Vorrichtungen eine Einstellung vor dem Ein- (Schieberegisters) 7 ein Leitsignal M16 der 16. Stufe bebau
der integrierten Schaltung oder wenn diese erst im nutzt, wird der Abtastimpuls Φ3 mit einer Zeitnachei-Wafer-(Scheiben)
oder Chip-Zustand vorliegt Aller- lung von 0,5 Sekunden gegenüber dem obigen Motordings
ist die Einstellung auch durch eine Anschlußan- treibsignal erzeugt, wobei die Spannungsmessung in eisteuerung
möglich, selbst beim oder nach dem Bonden 20 ner sehr kurzen Zeit je einmal in zwei Sekunden durch-(Anbringen
von Zuleitungsdrähten) oder dem mechani- geführt und der Datenwert im Flipflop 41 gespeichert
sehen Kontaktieren. wird. Wenn die Batteriespannung abnimmt und die fest-F
i g. 11 ist eine Ausführungsform, bei der die interne gesetzte Spannung ei reicht, wird der Ausgang des
Einstellvorrichtung für die integrierte Schaltung bei ei- !Comparators invei tiert, woraufhin das Gatter 141 aktiner
Spannungsmeßschaltung bei einer elektronischen 25 viert wird, wodurch das Signal des Eingangs Wdes Flip-Uhr
angewendet wird. In F i g. 11 bedeuten: flops 143 ein Signal mit kleinem Einschalttastverhältnis
wird, das durch den Takt Si 2 bestimmt ist Folglich lie-
Pf: Rückkopplungswiderstand eines Oszillatorin- fern die Ausgänge O\ und O2 derartige Zeitbasissignale,
verters bei denen es sich nicht um in jeder Sekunde wechselnde
Rd: Ausgangswiderstand des Oszillatorinverters 30 Signale handelt, bei denen der Sekundenzeiger der Uhr
Cd, Cc: Kondensatoren der Oszillatorschaltung sich in jeder Sekunde bewegt, daß der Sekundenzeiger
Rr. Ableitungswiderstand eines Rücksetzanschlus- augenscheinlich am Ende von je zwei Sekunden zwei
ses Schritte durchführt, wodurch der Benutzer der Uhr ge-
144,146,151,153,157,159,162: Inverter warnt wird.
142,145,155: NAND-Schaltungen 35 Ferner vermag die erfindungsgemäße Spannungs-
149,161: UND-Schaltungen meßschaltung zwei oder mehr Pegel zu überwachen.
150,160: NOR-Schaltungen Fi g. 12-a, in der 166 ein Inverter und 167 eine NAND-
147,152: Motortreiberinverter Schaltung ist, zeigt eine Schaltung zur Überwachung
5i: Ausgang der 9. Stufe einer Frequenzteilerschal- zweier Spannungspegel. Φι und Φ& sind Signale, die zu-
tungmit 16Binärzählerstufen 40 einander phasenverschoben sind, wie Fig. 12-b zeigt.
Die Spannungsmeßschaltung arbeitet bei jeder Zeitfol-
F i g. 11 zeigt eine Schaltung, die eine Verringerung gesteuerung gleichermaßen. Da bei der Eingabe von Φκ
der Batteriespannung feststellt und den Benutzer der ein Transistor 165 ausgeschaltet ist, wird Vsto als Be-
Uhr das Ende der Batteriebetriebslebensdauer durch zugspotential verwendet, und wenn ΦΊ eingegeben wird,
eine geeignete Anzeige wissen läßt, durch welche die 45 wird Transistor 165 eingeschaltet und man hat dann als
Aufmerksamkeit des Benutzers darauf gelenkt wird, daß Bezugspotential
die Batterie ersetzt werden muß. Die Regulierschaltung
die Batterie ersetzt werden muß. Die Regulierschaltung
4 mit den Bezugsspannungserzeugungsschaltungen (10 (R2IRx+R2) ■ Vsto,
bis 15), der Komparator 3, ein Datenhalte-Flipflop 41.
bis 15), der Komparator 3, ein Datenhalte-Flipflop 41.
Schaltungen 7 und 8 zur Erzeugung des Abtastimpulses 50 so daß eine Zwei-Pegel-Überwachung möglich ist. Die
Φζ und äußere Verbindungsanschlüsse W\ und W2 sind Ausgangssignale des Komparators 3, die bei jedem Takt
nahezu wie in F i g. 2 aufgebaut. In diesem Fall wird die gemessen werden, werden im Speicher durch Flipflops
Bezugsspannung Vsto direkt zum Komparator 3 gelie- 163 bzw. 164 gespeichert. Erforderlichenfalls wird für
fert, und die gemessene Spannung ist die Versorgungs- das zu messende Potential Vd eine Regulierschaltung
spannung. 154 ist ein Inverter für eine Quarzkristall- 55 zugefügt, wie zuvor beschrieben. Die Schaltung gemäß
schwingung und 156 ist eine Frequenzteilerschaltung Fig. 12-a wird für eine Uhr verwendet, beispielsweise
mit 16 Binärzählerstufen. Eine Einstellung dieser Schal- für eine mit Solarzellen versehene aufladbare Uhr. Ein
tung wird folgendermaßen durchgeführt. Zunächst wird Taktsignal Φι ermittelt das Absinken der Spannung eider
Anschluß »Rückstellung« auf Η-Wert gebracht. So- ner Sekundärbatterie, und über den Ausgang Q5 wird
bald die Niederfrequenzstufen der Frequenzteilerschal- 60 dem Benutzer rechtzeitig die Warnung gegeben, daß
tung zurückgesetzt sind, gehen die Flipflops (Schiebere- eine Aufladung erforderlich ist. Dagegen ermittelt ein
gister) 7; 140 und 143 alle auf W = ~Qi(i =1,2,4), da sie Taktsignal Φ% einen Spannungsanstieg der Sekundärais
1/2-Bit-Elemente aufgebaut sind, und demgemäß ge- batterie aufgrund einer Überladung und beendet das
hen die Ausgangssignale O\ und O2 des Motors zum Aufladen durch das Ausgangssignal am Ausgang Q^.
Drehen der Zeiger auf Η-Werte. Wenn der Anschluß O2 65 Die zu überwachende Spannung bedeutet in dieser mit
von außerhalb auf L gezwungen wird, werden die Gat- Solarzellen versehenen elektronischen Uhr die Spanter
148 und 158 geöffnet, und die Abtastimpulse Φι und nung der Sekundärbatterie.
ί?3 der Spannungsmeßschaltung öffnen alle Gatter, und Die integrierte Schaltung mit der erfindungsgemäßen
ί?3 der Spannungsmeßschaltung öffnen alle Gatter, und Die integrierte Schaltung mit der erfindungsgemäßen
15
Einstellvorrichtung, die vorzugsweise in der erfindungsgemäßen SpannungsmeBschaltung vorgesehen ist, ist
auf einem monolithischen IC untergebracht und kann, speziell wie die integrierte Schaltung für eine Uhr, zusammen
mit anderen Funktionen auf einem einzigen Chip (Halbleiterplättchen) integriert sein. Die Regulierschaltung
der Meßspannung erlaubt auch ein Trimmen der integrierten Schaltung, beispielsweise in der SpannungsmeBschaltung,
in dem Sinn, daß Schwankungen gemessener Spannungen zwischen den integrierten Schaltungen kompensiert werden.
Die erfindungsgemäße abstimmbare integrierte Schaltung, und insbesondere die erfindungsgemäße
Spannungsmeßschaltung, ist bahnbrechend im Hinblick darauf, daß keinerlei Trimmvorrichtung wie ein extern
montierter, platzraubender Widerstand usw. erforderlich ist, und charakteristischerweise ist sie sehr stabil
gegen Temperaturänderungen und Versorgungsspannungsänderungen.
Bei Verwendung in der integrierten Schaltung für eine Uhr hilft sie bei der Miniaturisierung
und Kostenreduzierung aufgrund der Möglichkeit, daß extern zu montierende Justierelemente wegfallen können,
was von besonderer Bedeutung ist.
Hierzu 11 Blatt Zeichnungen
30
35
40
45
50
55
60
65
Claims (1)
1. Spannungsmeßschaltung, insbesondere für eine verbundenen Schreibeingang in den Ein-Za-
elektronische Uhr, umfassend in einer integrierten 5 stand oder den Aus-Zustand versetzbar ist
Schaltung 3 Spannungsmeßschaltung nach einem der An-
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4829177A JPS6035627B2 (ja) | 1977-04-26 | 1977-04-26 | 電圧検出回路 |
JP4829077A JPS53132980A (en) | 1977-04-26 | 1977-04-26 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2818085A1 DE2818085A1 (de) | 1978-11-09 |
DE2818085C2 true DE2818085C2 (de) | 1986-05-22 |
Family
ID=26388529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2818085A Expired DE2818085C2 (de) | 1977-04-26 | 1978-04-25 | Spannungsmeßschaltung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US4258310A (de) |
CH (1) | CH639810B (de) |
DE (1) | DE2818085C2 (de) |
FR (2) | FR2412850A1 (de) |
GB (1) | GB1602898A (de) |
HK (1) | HK52284A (de) |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5363057A (en) * | 1976-11-18 | 1978-06-06 | Seiko Epson Corp | Electronic wristwatch |
JPS5643575A (en) * | 1979-09-18 | 1981-04-22 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Electronic clock |
DE3071642D1 (en) * | 1979-12-19 | 1986-07-24 | Seiko Epson Corp | A voltage regulator for a liquid crystal display |
CH627612B (de) * | 1980-03-07 | Bulova Watch Co Inc | Elektronisches miniaturgeraet, insbesondere elektronische armbanduhr. | |
JPS5854830A (ja) * | 1981-09-29 | 1983-03-31 | 日産自動車株式会社 | 車両用電子回路の電源監視装置 |
AU8831982A (en) * | 1981-10-09 | 1983-04-14 | Toowoomba Foundry Pty. Ltd. | Regulating solar generator output |
US4495405A (en) * | 1982-09-23 | 1985-01-22 | Coulter Electronics, Inc. | Automatic control system including error processing loop |
JPS6093531A (ja) * | 1983-10-27 | 1985-05-25 | Nec Corp | 基準電圧発生回路 |
US4617473A (en) * | 1984-01-03 | 1986-10-14 | Intersil, Inc. | CMOS backup power switching circuit |
JPS6159688A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-27 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
US4719600A (en) * | 1986-02-18 | 1988-01-12 | International Business Machines Corporation | Sense circuit for multilevel storage system |
CH681928A5 (de) * | 1989-04-26 | 1993-06-15 | Seiko Epson Corp | |
US5146151A (en) * | 1990-06-08 | 1992-09-08 | United Technologies Corporation | Floating voltage reference having dual output voltage |
US5329193A (en) * | 1992-11-12 | 1994-07-12 | Lu Chao Cheng | Computer controller |
US5534770A (en) * | 1992-12-17 | 1996-07-09 | Texas Instruments Incorporated | Method and device for resistive load compensation |
FR2706620B1 (fr) * | 1993-06-11 | 1995-07-21 | Sgs Thomson Microelectronics | Circuit intégré comportant un circuit de détection du niveau d'une tension de service. |
DE59309986D1 (de) * | 1993-09-21 | 2000-04-27 | Siemens Ag | Schaltungsanordnung zum Versorgen von elektrischen Verbrauchern mit einer konstanten Spannung |
US5847552A (en) * | 1995-01-24 | 1998-12-08 | Dell Usa, L.P. | Integrated circuit with determinate power source control |
US5787014A (en) * | 1996-03-29 | 1998-07-28 | Intel Corporation | Method and apparatus for automatically controlling integrated circuit supply voltages |
KR100239692B1 (ko) * | 1996-07-27 | 2000-01-15 | 김영환 | 반도체 장치의 출력회로 |
FR2757711B1 (fr) * | 1996-12-19 | 2000-01-14 | Sgs Thomson Microelectronics | Dispositif de decalage de niveau |
US6262567B1 (en) | 1997-08-01 | 2001-07-17 | Lsi Logic Corporation | Automatic power supply sensing with on-chip regulation |
US6271693B1 (en) * | 1997-12-12 | 2001-08-07 | United Microelectronics Corp. | Multi-function switched-current magnitude sorter |
JP3139542B2 (ja) * | 1998-01-28 | 2001-03-05 | 日本電気株式会社 | 参照電圧発生回路 |
US6054847A (en) * | 1998-09-09 | 2000-04-25 | International Business Machines Corp. | Method and apparatus to automatically select operating voltages for a device |
US6384723B1 (en) * | 1998-11-02 | 2002-05-07 | Pittway Corporation | Digital communication system and method |
US6772356B1 (en) | 2000-04-05 | 2004-08-03 | Advanced Micro Devices, Inc. | System for specifying core voltage for a microprocessor by selectively outputting one of a first, fixed and a second, variable voltage control settings from the microprocessor |
US7049855B2 (en) * | 2001-06-28 | 2006-05-23 | Intel Corporation | Area efficient waveform evaluation and DC offset cancellation circuits |
DE10162766A1 (de) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Koninkl Philips Electronics Nv | Schaltungsanordnung zur Spannungsversorgung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung |
US6919811B1 (en) * | 2003-05-30 | 2005-07-19 | National Semiconductor Corporation | Charger detection and enable circuit |
US7016249B2 (en) * | 2003-06-30 | 2006-03-21 | Intel Corporation | Reference voltage generator |
TWI279133B (en) * | 2005-06-14 | 2007-04-11 | Uniwill Comp Corp | A digital video receiving system and its method |
US7752391B2 (en) * | 2006-01-20 | 2010-07-06 | Apple Inc. | Variable caching policy system and method |
JP4533328B2 (ja) * | 2006-02-28 | 2010-09-01 | 株式会社リコー | 充電制御用半導体集積回路、その充電制御用半導体集積回路を使用した充電装置及び2次電池接続検出方法 |
JP2007327804A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Nec Electronics Corp | 電圧降下測定回路 |
US7564292B2 (en) * | 2007-09-28 | 2009-07-21 | Alpha & Omega Semiconductor, Inc. | Device and method for limiting Di/Dt caused by a switching FET of an inductive switching circuit |
US8878511B2 (en) * | 2010-02-04 | 2014-11-04 | Semiconductor Components Industries, Llc | Current-mode programmable reference circuits and methods therefor |
US8188785B2 (en) | 2010-02-04 | 2012-05-29 | Semiconductor Components Industries, Llc | Mixed-mode circuits and methods of producing a reference current and a reference voltage |
US8680840B2 (en) * | 2010-02-11 | 2014-03-25 | Semiconductor Components Industries, Llc | Circuits and methods of producing a reference current or voltage |
JP5554134B2 (ja) * | 2010-04-27 | 2014-07-23 | ローム株式会社 | 電流生成回路およびそれを用いた基準電圧回路 |
US9819271B2 (en) * | 2013-09-30 | 2017-11-14 | O2Micro, Inc. | Power converters |
CN105723617B (zh) * | 2013-11-15 | 2018-07-31 | 旭化成微电子株式会社 | 电压检测器、基准电压设定方法以及存储介质 |
JP6385176B2 (ja) * | 2014-07-16 | 2018-09-05 | エイブリック株式会社 | アナログ電子時計 |
CN107478992B (zh) * | 2016-06-08 | 2020-04-24 | 比亚迪股份有限公司 | 电压检测与判断电路和具有其的动力电池系统 |
JP6431135B1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-11-28 | ファナック株式会社 | 比較器の閾値を調整する機能を有するエンコーダ及びエンコーダの制御方法 |
JP6431136B1 (ja) * | 2017-06-13 | 2018-11-28 | ファナック株式会社 | 比較器の閾値を調整する機能を有するエンコーダ及びエンコーダの制御方法 |
US11171640B2 (en) * | 2018-05-02 | 2021-11-09 | Texas Instruments Incorporated | Temperature-sensitive transistor gate driver |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3416004A (en) * | 1966-08-08 | 1968-12-10 | Hughes Aircraft Co | Temperature stable trigger circuit having adjustable electrical hysteresis properties |
US3805145A (en) * | 1969-04-01 | 1974-04-16 | Gordon Eng Co | Operational amplifier stabilized power supply |
GB1308573A (en) * | 1970-03-03 | 1973-02-21 | Krone Kg | Pulse-code modulator |
US3832644A (en) * | 1970-11-30 | 1974-08-27 | Hitachi Ltd | Semiconductor electronic circuit with semiconductor bias circuit |
US3786344A (en) * | 1971-10-04 | 1974-01-15 | Motorola Inc | Voltage and current regulator with automatic switchover |
DE2256688B2 (de) * | 1972-11-18 | 1976-05-06 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zum auftrennen von leiterbahnen auf integrierten schaltkreisen |
US3938316A (en) * | 1973-02-10 | 1976-02-17 | Citizen Watch Co., Ltd. | Temperature compensated electronic timepiece |
US3881175A (en) * | 1973-12-26 | 1975-04-29 | Lsi Systems Inc | Integrated circuit SOS memory subsystem and method of making same |
US3943380A (en) * | 1974-07-26 | 1976-03-09 | Rca Corporation | Keyed comparator |
US3991553A (en) * | 1974-10-31 | 1976-11-16 | Time Computer, Inc. | Low voltage battery indicator for a solid state watch |
JPS5196275A (de) * | 1975-02-20 | 1976-08-24 | ||
US3984620A (en) * | 1975-06-04 | 1976-10-05 | Raytheon Company | Integrated circuit chip test and assembly package |
US3975648A (en) * | 1975-06-16 | 1976-08-17 | Hewlett-Packard Company | Flat-band voltage reference |
US4021718A (en) * | 1975-08-21 | 1977-05-03 | General Electric Company | Battery monitoring apparatus |
US4011471A (en) * | 1975-11-18 | 1977-03-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Surface potential stabilizing circuit for charge-coupled devices radiation hardening |
US4017744A (en) * | 1975-12-22 | 1977-04-12 | Westinghouse Electric Corporation | Digital firing pulse generator for thyristor power converters |
JPS5291472A (en) * | 1976-01-28 | 1977-08-01 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Voltage detection circuit |
US4100437A (en) * | 1976-07-29 | 1978-07-11 | Intel Corporation | MOS reference voltage circuit |
US4217535A (en) * | 1976-12-25 | 1980-08-12 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Constant-voltage circuit with a diode and MOS transistors operating in the saturation region |
DE2708021C3 (de) * | 1977-02-24 | 1984-04-19 | Eurosil GmbH, 8000 München | Schaltungsanordnung in integrierter CMOS-Technik zur Regelung der Speisespannung für eine Last |
US4158804A (en) * | 1977-08-10 | 1979-06-19 | General Electric Company | MOSFET Reference voltage circuit |
-
1978
- 1978-04-25 DE DE2818085A patent/DE2818085C2/de not_active Expired
- 1978-04-25 FR FR7812180A patent/FR2412850A1/fr active Granted
- 1978-04-25 GB GB16301/78A patent/GB1602898A/en not_active Expired
- 1978-04-26 US US05/900,214 patent/US4258310A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-04-26 CH CH452678A patent/CH639810B/fr unknown
- 1978-12-18 FR FR7835531A patent/FR2412851A1/fr active Granted
-
1980
- 1980-05-16 US US06/150,485 patent/US4377781A/en not_active Expired - Lifetime
-
1982
- 1982-11-30 US US06/445,402 patent/US4498040A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-07-05 HK HK522/84A patent/HK52284A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4498040A (en) | 1985-02-05 |
FR2412851B1 (de) | 1983-08-19 |
FR2412851A1 (fr) | 1979-07-20 |
FR2412850A1 (fr) | 1979-07-20 |
GB1602898A (en) | 1981-11-18 |
HK52284A (en) | 1984-07-13 |
US4258310A (en) | 1981-03-24 |
CH639810B (fr) | |
CH639810GA3 (de) | 1983-12-15 |
DE2818085A1 (de) | 1978-11-09 |
US4377781A (en) | 1983-03-22 |
FR2412850B1 (de) | 1983-10-07 |
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